JPH01157976A - (4s,5s)−4,5−シクロヘキシリデンジオキシ−2−シクロペンテン−1−オンとその鏡像体及びそれらの合成中間体並びにそれらの製造方法 - Google Patents
(4s,5s)−4,5−シクロヘキシリデンジオキシ−2−シクロペンテン−1−オンとその鏡像体及びそれらの合成中間体並びにそれらの製造方法Info
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- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- 230000006103 sulfonylation Effects 0.000 description 1
- 238000005694 sulfonylation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002088 tosyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 230000024883 vasodilation Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)
- Saccharide Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は(45,5S) −4,5−シクロヘキシリデ
ンジオキシ−2−シクロペンテン−1−オンとその鏡像
体である(4R,5R)−4,5−シクロヘキシリデン
ジオキシ−2−シクロペンテン−1−オン及びそれらの
合成中間体並びにそれらの製造方法に関する。
ンジオキシ−2−シクロペンテン−1−オンとその鏡像
体である(4R,5R)−4,5−シクロヘキシリデン
ジオキシ−2−シクロペンテン−1−オン及びそれらの
合成中間体並びにそれらの製造方法に関する。
(4S、5S)−4,5−シクロヘキシリデンジオキシ
−2−シクロペンテン−1−オン(7a) (以下JI
Lに〔7a〕で表わすことがある;他の化合物について
も同様、)及びその鏡像体である(4R,5R) −4
,5−シクロヘキシリデンジオキシ−2−シクロペンテ
ン−1−オン(12a)は次に示す構造式を有する。
−2−シクロペンテン−1−オン(7a) (以下JI
Lに〔7a〕で表わすことがある;他の化合物について
も同様、)及びその鏡像体である(4R,5R) −4
,5−シクロヘキシリデンジオキシ−2−シクロペンテ
ン−1−オン(12a)は次に示す構造式を有する。
(7a) (12a)
プロスタグランジンや抗生物質等には〔7a〕又は(1
2a)の物質の構造(4,5−ジヒドロキシ−2−シク
ロペンテン−1−オン)を含むものが多く、従って〔7
a〕又は(12a)は、これらのプロスタグランジンや
抗生物質等を合成する場合の有力な中間原料となる。
2a)の物質の構造(4,5−ジヒドロキシ−2−シク
ロペンテン−1−オン)を含むものが多く、従って〔7
a〕又は(12a)は、これらのプロスタグランジンや
抗生物質等を合成する場合の有力な中間原料となる。
例えば血管拡張、血圧降下等の生理作用を有するプロス
タグランジン、抗癌剤のネプラノシンA、抗生物質のペ
ンテノミシン、アリストロミシンや酵素阻害剤としての
ヌクレオシドQ1アロサミジン、アデシペノール等の構
造中に上記〔7a〕又は(12a)の構造が含まれ、こ
の構造を更に誘導することによりこれらの物質を合成す
ることができる。
タグランジン、抗癌剤のネプラノシンA、抗生物質のペ
ンテノミシン、アリストロミシンや酵素阻害剤としての
ヌクレオシドQ1アロサミジン、アデシペノール等の構
造中に上記〔7a〕又は(12a)の構造が含まれ、こ
の構造を更に誘導することによりこれらの物質を合成す
ることができる。
(従来の技術及びその問題点)
4.5−ジヒドロキシ−2−シクロペンテン−1−オン
の誘導体を合成する方法としてシクロペンタジェンを原
料とする方法〔ジャーナル オブアメリカン ケミカル
ソサエティ(Journal ofAmerican
Chemical 5ociety) 10B (1
986) 5655−5656)やD−リボースを原料
とする方法〔アグリカルチュラル バイオロジカル ケ
ミストリー(Agricultural Biolog
ical Chemistry) 51 (21+(1
987) 625−626)等が報告されているが、
不斉炭素を有するD−リボースを使用することがその立
体構造を利用できることから有利である。
の誘導体を合成する方法としてシクロペンタジェンを原
料とする方法〔ジャーナル オブアメリカン ケミカル
ソサエティ(Journal ofAmerican
Chemical 5ociety) 10B (1
986) 5655−5656)やD−リボースを原料
とする方法〔アグリカルチュラル バイオロジカル ケ
ミストリー(Agricultural Biolog
ical Chemistry) 51 (21+(1
987) 625−626)等が報告されているが、
不斉炭素を有するD−リボースを使用することがその立
体構造を利用できることから有利である。
前記のアグリカルチュラル バイオロジカルケミストリ
ー、立上(2+、 (1987) 625−626に
おいてはD−リボースから誘導される2、3−〇−イソ
プロピリデンー5−0−トルエンスルホニル−D−リボ
フラノース〔2b〕を出発原料とし、下記に示す反応工
程で(4S、5S)−4,5−イソプロピリデンジオキ
シ−2−シクロペンテン−1−オン〔6b〕を合成して
いる。
ー、立上(2+、 (1987) 625−626に
おいてはD−リボースから誘導される2、3−〇−イソ
プロピリデンー5−0−トルエンスルホニル−D−リボ
フラノース〔2b〕を出発原料とし、下記に示す反応工
程で(4S、5S)−4,5−イソプロピリデンジオキ
シ−2−シクロペンテン−1−オン〔6b〕を合成して
いる。
LCCH3LCCHi
(2b) (3b)
!IzCCHs HsCCH3(4b)
(5b) LCCH3 (上記式中、Ar、はアセチル、TSはトルエンスルホ
ニルの意味である。) しかしながら、前記合成方法においては〔5b〕から〔
6b〕への収率が60%と極めて低いという欠点がある
。それは保護基がイソプロピリデン基であるため、溶媒
に対する溶解性が高く生成物〔6b)を結晶として収率
よく得られないことに起因する。
(5b) LCCH3 (上記式中、Ar、はアセチル、TSはトルエンスルホ
ニルの意味である。) しかしながら、前記合成方法においては〔5b〕から〔
6b〕への収率が60%と極めて低いという欠点がある
。それは保護基がイソプロピリデン基であるため、溶媒
に対する溶解性が高く生成物〔6b)を結晶として収率
よく得られないことに起因する。
保護基をイソプロピリデン基にしてこの合成を行う場合
、〔2b〕を得るのにD−リボースをアセトンと縮合し
て2.3−0−イソプロピリデン−D−リボフラノース
〔1b〕 とし、次いでトシル化する。
、〔2b〕を得るのにD−リボースをアセトンと縮合し
て2.3−0−イソプロピリデン−D−リボフラノース
〔1b〕 とし、次いでトシル化する。
従来知られているD−リボースのアセトン化はD−リボ
ースとアセトンを酸の存在下で加熱する方法で、2.3
−0−イソプロピリデン体の他に3.6−〇−イソプロ
ピリデン体等の副生物が生成し収率が約35%と低かっ
た〔ジャーナル オブ バイオロジカル ケミストリー
(Journal ofBiological C
hesistry) 102 (1933) 18
7−189〕。従って、2.3−又は3.6−のイソプ
ロピリデン体を経由せず、分離等の点で扱い易い中間体
及びそれを経由した収率の高い合成方法の開発が望まれ
ていた。
ースとアセトンを酸の存在下で加熱する方法で、2.3
−0−イソプロピリデン体の他に3.6−〇−イソプロ
ピリデン体等の副生物が生成し収率が約35%と低かっ
た〔ジャーナル オブ バイオロジカル ケミストリー
(Journal ofBiological C
hesistry) 102 (1933) 18
7−189〕。従って、2.3−又は3.6−のイソプ
ロピリデン体を経由せず、分離等の点で扱い易い中間体
及びそれを経由した収率の高い合成方法の開発が望まれ
ていた。
(問題点を解決するための手段)
本発明の合成工程を下記に示す。
(2a)(3a)
(4al (5a)(6a)
(7a)(8a)
(9a)(10a)
(lla)(上記式中、TSはトルエンスルホニル
、R4はトリアルキルシリル、EEは1−エトキシエチ
ル、MSはメタンスルフェニルの意味である。)本発明
の目的は各種薬品等の原料となる4、5−ジヒドロキシ
−2−シクロペンテン−1−オンを製造するうえで有用
な合成中間体である新規物質〔1a〕〜〔7a〕を提供
すること及びそれらを合成する方法を提供することにあ
る。
(7a)(8a)
(9a)(10a)
(lla)(上記式中、TSはトルエンスルホニル
、R4はトリアルキルシリル、EEは1−エトキシエチ
ル、MSはメタンスルフェニルの意味である。)本発明
の目的は各種薬品等の原料となる4、5−ジヒドロキシ
−2−シクロペンテン−1−オンを製造するうえで有用
な合成中間体である新規物質〔1a〕〜〔7a〕を提供
すること及びそれらを合成する方法を提供することにあ
る。
本発明の第一の特徴はD−リボフラノースの2.3−〇
−位の保護基をシクロへキシリデン基とじたことにある
。
−位の保護基をシクロへキシリデン基とじたことにある
。
本発明で使用する2、3−0−シクロへキシリデン−リ
ボフラノース誘導体例えば1−シリル−2,3−〇−シ
クロへキシリデン−5−デオキシ−4,5−デヒドロ−
D−リボフラノシド〔5a〕 は2,3−〇−イソプロ
ピリデンーリボフラノースKm体に比較して非常に結晶
性が良く、前の反応の結果、共に有用なα:β=1:4
の混合物を生成するにも拘らず両方共に混合した結晶と
なり、従って一回の結晶化で純度の高い結晶が得られ、
しかも結晶収率が高いという特徴がある。
ボフラノース誘導体例えば1−シリル−2,3−〇−シ
クロへキシリデン−5−デオキシ−4,5−デヒドロ−
D−リボフラノシド〔5a〕 は2,3−〇−イソプロ
ピリデンーリボフラノースKm体に比較して非常に結晶
性が良く、前の反応の結果、共に有用なα:β=1:4
の混合物を生成するにも拘らず両方共に混合した結晶と
なり、従って一回の結晶化で純度の高い結晶が得られ、
しかも結晶収率が高いという特徴がある。
本発明の第二の特徴はD−リポースをシクロヘキシリデ
ン化する際にシクロヘキサノントリメチルシリルエノー
ルエーテルなどのシクロヘキサンのエノール化物を使用
したことにある。
ン化する際にシクロヘキサノントリメチルシリルエノー
ルエーテルなどのシクロヘキサンのエノール化物を使用
したことにある。
従来、D−リボフラノースの2.3−0−シクロへキシ
リデン体が合成されたという文献はなく、本発明の方法
が最初の合成例であるが、本発明の方法では2.3−0
−シクロヘキシリデン体が選択的に生成し、はとんど異
性体を生成しない。
リデン体が合成されたという文献はなく、本発明の方法
が最初の合成例であるが、本発明の方法では2.3−0
−シクロヘキシリデン体が選択的に生成し、はとんど異
性体を生成しない。
一方、本発明の他の目的は(4S、5S)−4,5−シ
クロヘキシリデンジオキシ−2−シクロペンテン−1−
オン〔7a〕の鏡像体である(4R,5R) −4,5
−シクロヘキシリデンジオキシ−2−シクロペンテン−
1−オン(12a)を提供すること及びその合成中間体
である〔8a〕〜(lla)並びにそれらを合成する方
法を提供することにある。
クロヘキシリデンジオキシ−2−シクロペンテン−1−
オン〔7a〕の鏡像体である(4R,5R) −4,5
−シクロヘキシリデンジオキシ−2−シクロペンテン−
1−オン(12a)を提供すること及びその合成中間体
である〔8a〕〜(lla)並びにそれらを合成する方
法を提供することにある。
本発明では(2S、3S)−2,3−シクロヘキシリデ
ンジオキシ−4−ヒドロキシシクロペンタノン〔6a〕
を出発原料として(12a)を合成するが、〔6a〕の
2位の水酸基をエトキシエチル化して保護した後ケトン
基を還元して(2S、3S)−シクロヘキシリデンジオ
キシ−4−(1−エトキシエチルオキシ)−1−シクロ
ペンタノール(9a) とし、〔9a〕の水酸基をアル
キルスルホニル化又はアリルスルホニル化した後エトキ
シエチル基をはずし、水酸基を酸化すると同時にアルキ
ルオキシ基又はアリルオキシ基を脱離させ(4R,5R
)−4,5−シクロヘキシリデンジオキシ−2−シクロ
ペンテン−1−オン(12a)を得る。
ンジオキシ−4−ヒドロキシシクロペンタノン〔6a〕
を出発原料として(12a)を合成するが、〔6a〕の
2位の水酸基をエトキシエチル化して保護した後ケトン
基を還元して(2S、3S)−シクロヘキシリデンジオ
キシ−4−(1−エトキシエチルオキシ)−1−シクロ
ペンタノール(9a) とし、〔9a〕の水酸基をアル
キルスルホニル化又はアリルスルホニル化した後エトキ
シエチル基をはずし、水酸基を酸化すると同時にアルキ
ルオキシ基又はアリルオキシ基を脱離させ(4R,5R
)−4,5−シクロヘキシリデンジオキシ−2−シクロ
ペンテン−1−オン(12a)を得る。
以下に本発明を更に詳細に説明する。
まず(4S、5S)−4,5−シクロヘキシリデンジオ
キシ−2−シクロペンテン−1−オン〔7a〕の合成方
法を説明する。
キシ−2−シクロペンテン−1−オン〔7a〕の合成方
法を説明する。
■ D−リボースに触媒としてトルエンスルホン酸など
の酸の存在下にシクロヘキサノンのシリルエノール化物
を反応させ2.3−0−シクロへキシリデン−D−リボ
フラノース〔1a〕を得る。反応は室温以下で2〜5時
間で進行し、シクロヘキサノンのシリルエノール化物と
してはトリメチルシリルエノール−シクロヘキサノン、
トリエチルシリルエノール−シクロヘキサノン等が使用
できる。
の酸の存在下にシクロヘキサノンのシリルエノール化物
を反応させ2.3−0−シクロへキシリデン−D−リボ
フラノース〔1a〕を得る。反応は室温以下で2〜5時
間で進行し、シクロヘキサノンのシリルエノール化物と
してはトリメチルシリルエノール−シクロヘキサノン、
トリエチルシリルエノール−シクロヘキサノン等が使用
できる。
■ これにハロゲン化トルエンスルホン酸を5℃以下に
氷冷して24〜48時間反応させ2.3−〇−シクロへ
キシリデン−5−0−トシル−D−リボフラノース〔2
a〕を得る。
氷冷して24〜48時間反応させ2.3−〇−シクロへ
キシリデン−5−0−トシル−D−リボフラノース〔2
a〕を得る。
ハロゲン化トルエンスルホン酸としてはクロロトルエン
スルホン酸、ブロモトルエンスルホン酸等が使用できる
。
スルホン酸、ブロモトルエンスルホン酸等が使用できる
。
■ これを30〜50℃、30分〜3時間の条件でシリ
ル化してシリル化物例えば1−シリル−2,3−0−シ
クロへキシリデン−5−〇−トシルーD−リボフラノシ
ド〔3a〕を得る。シリル化剤としてはトリメチルクロ
ロシラン、t−ブチルジメチルクロロシラン等のトリア
ルキルシランが使用できるが、後工程でのシリル基の脱
離のしやすさと安定さからt−ブチルジメチルシリル化
が好ましい。
ル化してシリル化物例えば1−シリル−2,3−0−シ
クロへキシリデン−5−〇−トシルーD−リボフラノシ
ド〔3a〕を得る。シリル化剤としてはトリメチルクロ
ロシラン、t−ブチルジメチルクロロシラン等のトリア
ルキルシランが使用できるが、後工程でのシリル基の脱
離のしやすさと安定さからt−ブチルジメチルシリル化
が好ましい。
■ 次にこれにヨウ化金属塩を100〜150℃、30
分〜2時間の条件で作用せしめて1−シリル−2,3−
0−シクロへキシリデン−5−デオキシ−5−イオドー
D−リボフラノシド〔4a〕を得る。
分〜2時間の条件で作用せしめて1−シリル−2,3−
0−シクロへキシリデン−5−デオキシ−5−イオドー
D−リボフラノシド〔4a〕を得る。
ヨウ化金属塩としてはヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウ
ム等が使用できる。
ム等が使用できる。
■ 更に、これに1.5−ジアザビシクロ−〔5゜4.
0〕 −ウンデセン−5のような脱ハロゲン化水素剤を
加熱還流下・1〜4時間作用せしめて1−シリル−2,
3−0−シクロへキシリデン−5−デオキシ−4,5−
デヒドロ−D−リボフラノシド〔5a〕を得る。
0〕 −ウンデセン−5のような脱ハロゲン化水素剤を
加熱還流下・1〜4時間作用せしめて1−シリル−2,
3−0−シクロへキシリデン−5−デオキシ−4,5−
デヒドロ−D−リボフラノシド〔5a〕を得る。
■ これにフン化テトラ−n−ブチルアンモニウムのよ
うなフン化テトラアルキルアンモニウムを室温以下で、
更に好ましくは一50℃以下で3〜20分間反応させて
(2S、3S) −2,3−シクロヘキシリデンジオキ
シ−4−ヒドロキシシクロペンタノン〔6a)を得る。
うなフン化テトラアルキルアンモニウムを室温以下で、
更に好ましくは一50℃以下で3〜20分間反応させて
(2S、3S) −2,3−シクロヘキシリデンジオキ
シ−4−ヒドロキシシクロペンタノン〔6a)を得る。
■ これに酸又は脱水剤を5℃以下、10〜24時間作
用せしめて(45,5S)−4,5−シクロヘキシリデ
ンジオキシ−2−シクロペンテン−1−オン〔7a〕を
得る。
用せしめて(45,5S)−4,5−シクロヘキシリデ
ンジオキシ−2−シクロペンテン−1−オン〔7a〕を
得る。
酸又は脱水剤としては無水酢酸、カンファースルホン酸
等が使用できる。
等が使用できる。
上記■〜■の各工程の反応条件の低温側及び■〜■の短
時間側の条件はいずれも反応の進行が不十分で好ましく
なく、上記■〜■の反応条件の高温側、長時間側はいず
れも反応が過度に進行してしまい目的物の分解や副生物
の生成がおこ、り好ましくない。
時間側の条件はいずれも反応の進行が不十分で好ましく
なく、上記■〜■の反応条件の高温側、長時間側はいず
れも反応が過度に進行してしまい目的物の分解や副生物
の生成がおこ、り好ましくない。
次に(4R,5R)−4,5−シクロヘキシリデンジオ
キシ−2−シクロペンテン−1−オン(12a)の合成
方法を説明する。
キシ−2−シクロペンテン−1−オン(12a)の合成
方法を説明する。
■(2S、 3S) −2,3−シクロヘキシリデンジ
オキシ−4−ヒドロキシシクロペンタン〔6a〕にエチ
ルビニルエーテル又はジヒドロビランを温度0〜−20
℃更に好ましくは−5〜−10℃、時間30分〜5時間
の条件で作用せしめて例えば(2S、3S)−2,3−
シクロヘキシリデンジオキシ−4−(1−エトキシエチ
ルオキシ)シクロペンクン−1−オン〔8a〕を得る。
オキシ−4−ヒドロキシシクロペンタン〔6a〕にエチ
ルビニルエーテル又はジヒドロビランを温度0〜−20
℃更に好ましくは−5〜−10℃、時間30分〜5時間
の条件で作用せしめて例えば(2S、3S)−2,3−
シクロヘキシリデンジオキシ−4−(1−エトキシエチ
ルオキシ)シクロペンクン−1−オン〔8a〕を得る。
■ これを還元して例えば(2S、3S)−シクロヘキ
シリデンジオキシ−4−(1−エトキシエチルオキシ)
−1−シクロペンタノール〔9a〕を得る。
シリデンジオキシ−4−(1−エトキシエチルオキシ)
−1−シクロペンタノール〔9a〕を得る。
還元剤としては水素化リチウムアルミニウム、ホウ素化
水素ナトリウム等が使用できるが、これらの還元触媒を
使用した場合は、室温以下、15分〜2時間程度の条件
で還元することが好ましい。
水素ナトリウム等が使用できるが、これらの還元触媒を
使用した場合は、室温以下、15分〜2時間程度の条件
で還元することが好ましい。
■ これをアルキルスルホニル化又はアリルスルホニル
化して例えば(2S、3S)−2,3−シクロヘキシリ
デンジオキシ−4−(1−エトキシエチルオキシ)−1
−シクロペンチルメタンスルホネート〔10a〕を得る
。アルキル又はアリルスルホニル化するにはメタンスル
ホニルクロリドやp−トルエンスルホニルクロリド等一
般的ナスルホニル化剤が使用でき、反応条件はスルホニ
ル化剤の種類により変化するが、例えばメタンスルホニ
ルクロリドの場合には5℃以下、5分〜30分間の条件
が好ましく、p−)ルエンスルホニルクロリドの場合に
は10℃以下、2〜7時間の条件が好ましい。
化して例えば(2S、3S)−2,3−シクロヘキシリ
デンジオキシ−4−(1−エトキシエチルオキシ)−1
−シクロペンチルメタンスルホネート〔10a〕を得る
。アルキル又はアリルスルホニル化するにはメタンスル
ホニルクロリドやp−トルエンスルホニルクロリド等一
般的ナスルホニル化剤が使用でき、反応条件はスルホニ
ル化剤の種類により変化するが、例えばメタンスルホニ
ルクロリドの場合には5℃以下、5分〜30分間の条件
が好ましく、p−)ルエンスルホニルクロリドの場合に
は10℃以下、2〜7時間の条件が好ましい。
■ 次に、加水分解によりエトキシエチル基をはずして
例えば(2S、3S) −2,3−シクロヘキシリデン
ジオキシ−4−メタンスルホニルオキシ−1=シクロペ
ンタノール(11a )を得るが、この際の反応条件は
35℃以下、15〜30時間で行うことが好ましい。
例えば(2S、3S) −2,3−シクロヘキシリデン
ジオキシ−4−メタンスルホニルオキシ−1=シクロペ
ンタノール(11a )を得るが、この際の反応条件は
35℃以下、15〜30時間で行うことが好ましい。
■ これを室温以下、30分〜2時間の条件で酸化して
(4R,5R) −4,5−シクロヘキシリデンジオキ
シ−2−シクロペンテン−1−オン(12a)を得る。
(4R,5R) −4,5−シクロヘキシリデンジオキ
シ−2−シクロペンテン−1−オン(12a)を得る。
酸化剤としてピリジニウムクロロクロメートやピリジニ
ウムジクロメートなどが使用できる。
ウムジクロメートなどが使用できる。
(実施例)
次に実施例を掲げて本発明の内容を更に詳細に説明する
が、本発明は以下の実施例によって限定されるものでは
ない。
が、本発明は以下の実施例によって限定されるものでは
ない。
実施例−1
il+ 2.3−0−シクロへキシリデン−D−リポ
フラノース〔1a〕の調製 300111のアセトニトリルに27g(0,18M)
のD−リボース及び0.5gのトルエンスルホン酸を加
え、攪拌下、シクロヘキサノン−トリメチルシリル−エ
ノールエーテル35g(0,27M)を50m1のアセ
トニトリルに?容解したものを約1時間で滴下した。更
に2時間攪拌した後、ろ過して、ろ液を減圧下で濃縮し
溶媒を除去した。
フラノース〔1a〕の調製 300111のアセトニトリルに27g(0,18M)
のD−リボース及び0.5gのトルエンスルホン酸を加
え、攪拌下、シクロヘキサノン−トリメチルシリル−エ
ノールエーテル35g(0,27M)を50m1のアセ
トニトリルに?容解したものを約1時間で滴下した。更
に2時間攪拌した後、ろ過して、ろ液を減圧下で濃縮し
溶媒を除去した。
次に、それを100mj!のエーテルで3回抽出し、更
に硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で濃縮乾固して、
39.7gの粗〔1a〕を得た。
に硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で濃縮乾固して、
39.7gの粗〔1a〕を得た。
+21 2.3−0−シクロヘキシリデン−5−〇−ト
シルーD−リボフラノース〔2a〕の調製粗(la)
39.5 g、及び塩化トシル35.6 g(1,87
M)を200mnのピリジンに溶解せしめ、5“Cで4
8時間攪拌した。反応終了後、氷及び良く冷却した濃塩
酸10I111を加え、100mj!のエーテルで3回
抽出し、飽和食塩水で良く洗った後、硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下で濃縮乾固し51.6gの反応生成物
を得た。これをシリカゲルカラム(ガラスカラム内径5
cm、高さ80cI11)及び混合溶媒(ヘキサン:酢
酸エチル−2;1)を使用し、常法によりカラムクロマ
トグラフィにかけ〔2a〕部分を集め濃縮乾固し40.
4 gの粗〔2a〕を得た(D−リポースからの収率6
0.1%)。
シルーD−リボフラノース〔2a〕の調製粗(la)
39.5 g、及び塩化トシル35.6 g(1,87
M)を200mnのピリジンに溶解せしめ、5“Cで4
8時間攪拌した。反応終了後、氷及び良く冷却した濃塩
酸10I111を加え、100mj!のエーテルで3回
抽出し、飽和食塩水で良く洗った後、硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下で濃縮乾固し51.6gの反応生成物
を得た。これをシリカゲルカラム(ガラスカラム内径5
cm、高さ80cI11)及び混合溶媒(ヘキサン:酢
酸エチル−2;1)を使用し、常法によりカラムクロマ
トグラフィにかけ〔2a〕部分を集め濃縮乾固し40.
4 gの粗〔2a〕を得た(D−リポースからの収率6
0.1%)。
リボフラノシド〔3a〕の調製
DMF (ジメチルホルムアミド)75mlに粗(2a
) 37.5 g (0,0947M)、 イミダゾー
ル19、3 g (0,284M) 、t−ブチルジメ
チルクロロシラン21.4 g (0,142M)を加
え、40℃で1時間攪拌した。反応終了後、水100m
j2を加えた後、エーテル100mfで3回抽出・水洗
し、飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥後減圧
濃縮乾固し、粗(3a) 51.5 gを得た。
) 37.5 g (0,0947M)、 イミダゾー
ル19、3 g (0,284M) 、t−ブチルジメ
チルクロロシラン21.4 g (0,142M)を加
え、40℃で1時間攪拌した。反応終了後、水100m
j2を加えた後、エーテル100mfで3回抽出・水洗
し、飽和食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥後減圧
濃縮乾固し、粗(3a) 51.5 gを得た。
DMF300mlに粗(3a) 50.8 g、ヨウ化
ナトリウム88.2 g (0,588M)及び炭酸水
素ナトリウム32.9 g (0,392M)を加え攪
拌下、1時間加熱還流し、反応終了後、水を加え100
IIIlのエーテルで3回抽出した。
ナトリウム88.2 g (0,588M)及び炭酸水
素ナトリウム32.9 g (0,392M)を加え攪
拌下、1時間加熱還流し、反応終了後、水を加え100
IIIlのエーテルで3回抽出した。
これをチオ硫酸ナトリウム飽和水溶液で、次いで飽和食
塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮乾固
し、シリカゲルカラム及び混合溶媒(ヘキサン:酢酸エ
チル4:1)でカラムクロマトグラフィに供し、〔4a
〕部分を集め濃縮乾固した結果34.1 gの粗〔4a
〕を得た。
塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮乾固
し、シリカゲルカラム及び混合溶媒(ヘキサン:酢酸エ
チル4:1)でカラムクロマトグラフィに供し、〔4a
〕部分を集め濃縮乾固した結果34.1 gの粗〔4a
〕を得た。
(511−t−ブチルジメチルシリル−2,3−0−デ
ヒドロ−D−リボフラノシド〔5a〕の調製トルエン3
00mj!、(4a)33.6g及び1,5−ジアザビ
シクロ−(5,4,0)−ウンデセン−521、5g
(0,142M)を加え撹拌、加熱下、2時間還流し、
反応終了後、冷却し、ヘキサン300m1を加え攪拌し
た後、ろ過した。
ヒドロ−D−リボフラノシド〔5a〕の調製トルエン3
00mj!、(4a)33.6g及び1,5−ジアザビ
シクロ−(5,4,0)−ウンデセン−521、5g
(0,142M)を加え撹拌、加熱下、2時間還流し、
反応終了後、冷却し、ヘキサン300m1を加え攪拌し
た後、ろ過した。
ろ液を減圧下で濃縮乾固し、シリカゲルカラム及び混合
溶媒(ヘキサン:酢酸エチル4;1)でカラムクロマト
グラフィに供し、〔5a〕部分を集め、濃縮乾固し、粗
(5a) 21.2 gを得た(〔4a)よりの収率8
7%)。
溶媒(ヘキサン:酢酸エチル4;1)でカラムクロマト
グラフィに供し、〔5a〕部分を集め、濃縮乾固し、粗
(5a) 21.2 gを得た(〔4a)よりの収率8
7%)。
尚、反応経過のチエツクはガスクロマトグラフィ (島
津製作所製GC−9A:カラム5%5R−30)で行っ
た。
津製作所製GC−9A:カラム5%5R−30)で行っ
た。
の=用型
(5a) 9.8 gをテトラヒドロフラン400s+
Aに溶解し、アルゴン雰囲気下で一78℃に冷却し、こ
れにフン化テトラ−n−ブチルアンモニウム18、1
gをテトラヒドロフラン140m1に熔解した液を反応
溶液の温度が上がらない程度の速度で滴下した。更に5
分間放置した後、10%塩化アンモニウム水溶液50I
111及びエーテル50+wj!を加え、室温にもどし
た。
Aに溶解し、アルゴン雰囲気下で一78℃に冷却し、こ
れにフン化テトラ−n−ブチルアンモニウム18、1
gをテトラヒドロフラン140m1に熔解した液を反応
溶液の温度が上がらない程度の速度で滴下した。更に5
分間放置した後、10%塩化アンモニウム水溶液50I
111及びエーテル50+wj!を加え、室温にもどし
た。
エーテル50111で3回抽出した後、エーテル層を炭
酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥し、?1m乾固して粗(6a)
8.2 gを得た。上記新規物質(la〕から〔6a
〕の同定根拠は下記の表−1に示した( (2a)は除
く)。
酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥し、?1m乾固して粗(6a)
8.2 gを得た。上記新規物質(la〕から〔6a
〕の同定根拠は下記の表−1に示した( (2a)は除
く)。
(以下余白)
表−1
(71(4S、5S) −4,5−シクロへキシリデ
ンジオキ調製 粗(6a) 8.2 gにピリジン4 ml及び無水酢
酸4 mlを加え、5℃で一夜撹拌し、反応終了後水5
Ilj!を加え攪拌した後エーテル100mj!で3回
抽出した。エーテル層を5%硫酸銅水溶液で、次いで飽
和食塩水で洗った後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
下で濃縮乾固する。次にシリカゲルカラム及び混合溶媒
(ヘキサン:酢酸エチル=2:1)でカラムクロマトグ
ラフィに供し、〔7a〕の部分を集め濃縮乾固した結果
、4.7gの粗〔7a〕を得た(〔5〕よりの収率79
%)。
ンジオキ調製 粗(6a) 8.2 gにピリジン4 ml及び無水酢
酸4 mlを加え、5℃で一夜撹拌し、反応終了後水5
Ilj!を加え攪拌した後エーテル100mj!で3回
抽出した。エーテル層を5%硫酸銅水溶液で、次いで飽
和食塩水で洗った後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
下で濃縮乾固する。次にシリカゲルカラム及び混合溶媒
(ヘキサン:酢酸エチル=2:1)でカラムクロマトグ
ラフィに供し、〔7a〕の部分を集め濃縮乾固した結果
、4.7gの粗〔7a〕を得た(〔5〕よりの収率79
%)。
更に、粗〔7a〕をイソプロピルエーテルで再結晶し、
84%の回収率で〔7a〕の針状結晶を得た。
84%の回収率で〔7a〕の針状結晶を得た。
この結晶の分析値は次の通りであった。
融点 96.5〜97.5℃
〔α)o 79.5(C=1 メタノール)I
Rr (XBr)max 1720.1580.7B
0.1160.1120゜UVλ (メタノール)ma
x 21 lnm=8270G= 1.305
x 1 0 M NMR(CDCIt 3) 1.5〜1.7(10)1.bs)。
Rr (XBr)max 1720.1580.7B
0.1160.1120゜UVλ (メタノール)ma
x 21 lnm=8270G= 1.305
x 1 0 M NMR(CDCIt 3) 1.5〜1.7(10)1.bs)。
4.46(IH,d、J=5.8Hz)。
5.76(lL3d、J=5.81(z、2.5Hz、
0.8Hz)6.20(IH,2d、J=5.8Hz、
0.8Hz)7.61(IH,2d、J=5.8Hz、
2.5Hz)実施例−2 $11 C6a’J 8 gを60m1のりooホルム
に溶解せしめ、p−トルエンスルホン酸400■と20
m1のエチルビニルエーテルを加え、 −10〜−5℃
で1.5時間攪拌した後、冷たい炭酸水素ナトリウム水
溶液にあける。50ml1のエーテルで3回抽出した後
エーテル層を硫酸マグネシウムで乾燥して次の反応を行
った。
0.8Hz)6.20(IH,2d、J=5.8Hz、
0.8Hz)7.61(IH,2d、J=5.8Hz、
2.5Hz)実施例−2 $11 C6a’J 8 gを60m1のりooホルム
に溶解せしめ、p−トルエンスルホン酸400■と20
m1のエチルビニルエーテルを加え、 −10〜−5℃
で1.5時間攪拌した後、冷たい炭酸水素ナトリウム水
溶液にあける。50ml1のエーテルで3回抽出した後
エーテル層を硫酸マグネシウムで乾燥して次の反応を行
った。
!21 (2s、3S)−2,3−シクロヘキシリデン
ジオキシ−4−(1−エトキシエチルオキシ)−1−前
記il+で得られたエーテル抽出液をテトラヒドロフラ
ン100I111と水素化リチウムアルミニウムの混合
液に少量ずつ滴下した後45分攪拌した。
ジオキシ−4−(1−エトキシエチルオキシ)−1−前
記il+で得られたエーテル抽出液をテトラヒドロフラ
ン100I111と水素化リチウムアルミニウムの混合
液に少量ずつ滴下した後45分攪拌した。
更に水30m1を加え、次いで15%水酸化ナトリウム
水溶液15n+j!を加え撹拌した後、100m1のエ
ーテルを加え、ろ過した。得られたろ液を硫酸マグネシ
ウムで乾燥して濃縮乾固した結果、粗〔9a〕を得た。
水溶液15n+j!を加え撹拌した後、100m1のエ
ーテルを加え、ろ過した。得られたろ液を硫酸マグネシ
ウムで乾燥して濃縮乾固した結果、粗〔9a〕を得た。
の調製
前記(2)で得られた〔9a〕を直ちにクロロホルム6
0mj!に溶解し、メタンスルホニルクロリド4ml、
トリエチルアミン14m1を加えて、0℃で10分間撹
拌し、更に氷水を加えエーテル50m1tで3回抽出し
た。エーテル層を炭酸水素ナトリウム水溶液で、次いで
食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して濃縮乾固し
て、粗〔loa)17gを得た。これをシリカゲルカラ
ム及び混合溶媒 (ヘキサン:酢酸エチル=371)を
用いてカラムクロマトグラフィに供し、(10a)部分
を集め?74m1乾固した結果8.9gの(10a )
を得た。
0mj!に溶解し、メタンスルホニルクロリド4ml、
トリエチルアミン14m1を加えて、0℃で10分間撹
拌し、更に氷水を加えエーテル50m1tで3回抽出し
た。エーテル層を炭酸水素ナトリウム水溶液で、次いで
食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥して濃縮乾固し
て、粗〔loa)17gを得た。これをシリカゲルカラ
ム及び混合溶媒 (ヘキサン:酢酸エチル=371)を
用いてカラムクロマトグラフィに供し、(10a)部分
を集め?74m1乾固した結果8.9gの(10a )
を得た。
ペンタノール(11a )の調製
前記(3ンで得られた(10a)を酢酸20tsl!、
テトラヒドロフラン20mj!及び水10n+j!の混
合溶媒に溶かし、室温で24時間攪拌した。更に冷却し
ながら15%水酸化ナトリウム水溶液78nlを加えた
後50mAのエーテルで3回抽出し、エーテル層を食塩
水で洗った後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃
縮乾固した結果、粗(lla)7gを得た。
テトラヒドロフラン20mj!及び水10n+j!の混
合溶媒に溶かし、室温で24時間攪拌した。更に冷却し
ながら15%水酸化ナトリウム水溶液78nlを加えた
後50mAのエーテルで3回抽出し、エーテル層を食塩
水で洗った後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃
縮乾固した結果、粗(lla)7gを得た。
次いでシリカゲルカラム及び混合溶媒(ヘキサン:酢酸
エチル=2 : 1)を用いてカラムクロマトグラフィ
に供し、(lla)部分を集め、濃縮乾固した結果、4
.6gの(lla)を得た。
エチル=2 : 1)を用いてカラムクロマトグラフィ
に供し、(lla)部分を集め、濃縮乾固した結果、4
.6gの(lla)を得た。
上記の〔8a〕から(lla)の同定根拠は下記の表−
2に示した。
2に示した。
表−2
の調製
前記(4)で得られた(Ila)4.5gを50m1の
ジクロルエタンに溶解し、ピリジニウムクロロクロメー
ト10g1モレキユラーシーブ3A33g。
ジクロルエタンに溶解し、ピリジニウムクロロクロメー
ト10g1モレキユラーシーブ3A33g。
酢酸ナトリウム1.8gを加え、室温で1時間攪拌した
。反応終了後、エーテル50m1を加えろ過し、ろ液を
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮乾固した。こ
れをシリカゲルカラム及び混合溶媒(ヘキサン:酢酸エ
チル=3 : 1)を用いてカラムクロマトグラフィに
供し、(12a)の部分を集め濃縮乾固した結果、2.
12 gの(12a)を得た(収率は〔8a〕より 3
4%、D−リボースより14%)。
。反応終了後、エーテル50m1を加えろ過し、ろ液を
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮乾固した。こ
れをシリカゲルカラム及び混合溶媒(ヘキサン:酢酸エ
チル=3 : 1)を用いてカラムクロマトグラフィに
供し、(12a)の部分を集め濃縮乾固した結果、2.
12 gの(12a)を得た(収率は〔8a〕より 3
4%、D−リボースより14%)。
又、(12a)をイソプロピルエーテルで再結晶化し、
86%の回収率で(12a)の針状結晶を得た。
86%の回収率で(12a)の針状結晶を得た。
この結晶の分析値は次の通りであった。
融点 96.8〜97.4℃
〔α〕。 −77゜6(C=1 メタノール)111
r(KBr)max 1720.15B0.780.
1160.1120゜UVλ(メタノール)wax
211nm=8274C= 1.037 Xi
OM NMR(CDC12) 1.5〜1.7(IOH,bs)。
r(KBr)max 1720.15B0.780.
1160.1120゜UVλ(メタノール)wax
211nm=8274C= 1.037 Xi
OM NMR(CDC12) 1.5〜1.7(IOH,bs)。
4.46 (LH,d、J=5.8Hz)。
5.74(18,3d、J=5.8Hz、2.5To、
0.8Hz)6.18(IH,2d、J=5.8Hz、
0.8Hz)7.60(IH,2d、J=5.8Hz、
2.5Hz)特許出願人 東和化成工業株式会社 代 理 人 太 1) 恵 −
0.8Hz)6.18(IH,2d、J=5.8Hz、
0.8Hz)7.60(IH,2d、J=5.8Hz、
2.5Hz)特許出願人 東和化成工業株式会社 代 理 人 太 1) 恵 −
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次式で表される化合物〔(4S,5S)−4,5−
シクロヘキシリデンジオキシ−2−シクロペンテン−1
−オン〕。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔7a〕 2 次式で表される化合物(式中、EEは1−エトキシ
エチルの意味である)。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔8a〕 3 次式で表される化合物(式中、(1)R_1はMS
O−、R_2は−OH、(2)R_1はMSO−、R_
2は−OEE、又は(3)R_1はHO−、R_2は−
OEEのいずれか一つを示す;ここでMSはメタンスル
フェニル、EEは前記した意味である)。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 4 次式で表される化合物〔(4R,5R)−4,5−
シクロヘキシリデンジオキシ−2−シクロペンテン−1
−オン〕。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔12a〕 5 次式で表される化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔1a〕 6 次式で表される化合物(式中R_3はTSO−又は
1−を、R_4はトリアルキルシリル基をそれぞれ示す
;ここでTSはトルエンスルホニルの意味である)。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 7 次式で表される化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔5a〕 8 次式で表される化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔6a〕 9 D−リボースを酸の存在下でシクロヘキサンのエノ
ール化物と反応させることを特徴とする2,3−O−シ
クロヘキシリデン−D−リボフラノースの製造法。 10 2,3−O−シクロヘキシリデン−D−リボフラ
ノースに塩化トシルを反応させることを特徴とする2,
3−O−シクロヘキシリデン−5−O−トシル−D−リ
ボフラノースの製造法。 11 2,3−O−シクロヘキシリデン−5−O−トシ
ル−D−リボフラノースにトリアルキルシランを反応さ
せることを特徴とする1−シリル−2,3−O−シクロ
ヘキシリデン−5−O−トシル−D−リボフラノシドの
製造法。 12 トリアルキルシランがt−ブチルジメチルクロロ
シラン又はトリメチルクロロシランである特許請求の範
囲第11項記載の1−シリル−2,3−O−シクロヘキ
シリデン−5−O−トシル−D−リボフラノシドの製造
法。 13 1−シリル−2,3−O−シクロヘキシリデン−
5−O−トシル−D−リボフラノシドにヨウ化金属塩を
作用させることを特徴とする1−シリル−2,3−O−
シクロヘキシリデン−5−デオキシ−5−イオド−D−
リボフラノシドの製造法。 14 1−シリル−2,3−O−シクロヘキシリデン−
5−デオキシ−5−イオド−D−リボフラノシドに脱ハ
ロゲン化剤を作用させることを特徴とする1−シリル−
2,3−O−シクロヘキシリデン−5−デオキシ−4,
5−デヒドロ−D−リボフラノシドの製造法。 15 脱ハロゲン化剤が1,5−ジアザビシクロ−〔5
,4,0〕−ウンデセン−5である特許請求の範囲第1
4項記載の1−シリル−2,3−O−シクロヘキシリデ
ン−5−デオキシ−4,5−デヒドロ−D−リボフラノ
シドの製造法。 16 1−シリル−2,3−O−シクロヘキシリデン−
5−デオキシ−4,5−デヒドロ−D−リボフラノシド
にフッ化テトラアルキルアンモニウムを反応させること
を特徴とする(2S,3S)−2,3−シクロヘキシリ
デンジオキシ−4−ヒドロキシシクロペンタノンの製造
法。 17 フッ化テトラアルキルアンモニウムがフッ化テト
ラ−n−ブチルアンモニウムである特許請求の範囲第1
6項記載の(2S,3S)−2,3−シクロヘキシリデ
ンジオキシ−4−ヒドロキシシクロペンタノンの製造法
。 18 (2S,3S)−2,3−シクロヘキシリデンジ
オキシ−4−ヒドロキシシクロペンタノンに酸又は脱水
剤を作用させることを特徴とする(4S,5S)−4,
5−シクロヘキシリデンジオキシ−2−シクロペンテン
−1−オンの製造法。 19 (2S,3S)−2,3−シクロヘキシリデンジ
オキシ−4−ヒドロキシシクロペンタノンにエチルビニ
ルエーテルを反応させることを特徴とする(2S,3S
)−2,3−シクロヘキシリデンジオキシ−4−(1−
エトキシエチルオキシ)シクロペンタン−1−オンの製
造法。 20 (2S,3S)−2,3−シクロヘキシリデンジ
オキシ−4−(1−エトキシエチルオキシ)シクロペン
タン−1−オンを還元することを特徴とする(2S,3
S)−シクロヘキシリデンジオキシ−4−(1−エトキ
シエチルオキシ)−1−シクロペンタノールの製造法。 21 (2S,3S)−シクロヘキシリデンジオキシ−
4−(1−エトキシエチルオキシ)−1−シクロペンタ
ノールにアルキルスルホニルハロゲニドを反応させるこ
とを特徴とする(2S,3S)−2,3−シクロヘキシ
リデンジオキシ−4−(1−エトキシエチルオキシ)−
1−シクロペンチルアルキルスルホネートの製造法。 22 アルキルスルホニルハロゲニドがメタンスルホニ
ルクロリドである特許請求の範囲第21項記載の(2S
,3S)−2,3−シクロヘキシリデンジオキシ−4−
(1−エトキシエチルオキシ)−1−シクロペンチルア
ルキルスルホネートの製造法。 23 (2S,3S)−シクロヘキシリデンジオキシ−
4−(1−エトキシエチルオキシ)−1−シクロペンタ
ノールにアリルスルホニルハロゲニドを反応させること
を特徴とする(2S,3S)−2,3−シクロヘキシリ
デンジオキシ−4−(1−エトキシエチルオキシ)−1
−シクロペンチルアリルスルホネートの製造法。 24 (2S,3S)−2,3−シクロヘキシリデンジ
オキシ−(1−エトキシエチルオキシ)−1部シクロペ
ンチルアルキルスルホネートを加水分解することを特徴
とする (2S,3S)−2,3−シクロヘキシリデン
ジオキシ−4−アルキルスルホニルオキシ−1−シクロ
ペンタノールの製造法。 25(2S,3S)−2,3−シクロヘキシリデンジオ
キシ−4−(1−エトキシエチルオキシ)−1−シクロ
ペンチルアリルスルホネートを加水分解することを特徴
とする(2S,3S)−2,3−シクロヘキシリデンジ
オキシ−4−アリルスルホニルオキシ−1−シクロペン
タノールの製造法。 26 (2S,3S)−2,3−シクロヘキシリデンジ
オキシ−4−アルキルスルホニルオキシ−1−シクロペ
ンタノール又は(2S,3S)−2,3−シクロヘキシ
リデンジオキシ−4−アリルスルホスルホニルオキシ−
1−シクロペンタノールを酸化することを特徴とする(
4R,5R)−4,5−シクロヘキシリデンジオキシ−
2−シクロペンテン−1−オンの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31608587A JPH01157976A (ja) | 1987-12-16 | 1987-12-16 | (4s,5s)−4,5−シクロヘキシリデンジオキシ−2−シクロペンテン−1−オンとその鏡像体及びそれらの合成中間体並びにそれらの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31608587A JPH01157976A (ja) | 1987-12-16 | 1987-12-16 | (4s,5s)−4,5−シクロヘキシリデンジオキシ−2−シクロペンテン−1−オンとその鏡像体及びそれらの合成中間体並びにそれらの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01157976A true JPH01157976A (ja) | 1989-06-21 |
Family
ID=18073082
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31608587A Pending JPH01157976A (ja) | 1987-12-16 | 1987-12-16 | (4s,5s)−4,5−シクロヘキシリデンジオキシ−2−シクロペンテン−1−オンとその鏡像体及びそれらの合成中間体並びにそれらの製造方法 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01157976A (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4980038A (ja) * | 1972-12-08 | 1974-08-02 | ||
JPS5116642A (en) * | 1974-08-01 | 1976-02-10 | Meiji Seika Co | 3** deokishineamin oyobi sonokanrenkoseibutsushitsuno seizoho |
JPS51127046A (en) * | 1975-04-24 | 1976-11-05 | Microbial Chem Res Found | Novel process for preparing 11nn* substitutedd aminoacyl**3** deoxy ribostamycins* |
JPS6069092A (ja) * | 1983-09-27 | 1985-04-19 | Takeda Chem Ind Ltd | 糖ケタ−ルの製造法 |
-
1987
- 1987-12-16 JP JP31608587A patent/JPH01157976A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4980038A (ja) * | 1972-12-08 | 1974-08-02 | ||
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JPS6069092A (ja) * | 1983-09-27 | 1985-04-19 | Takeda Chem Ind Ltd | 糖ケタ−ルの製造法 |
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