JPH08231469A - シクロペンタンカルボン酸誘導体及びその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】抗ウイルス剤等の医薬品の製造中間体として有
用な、シクロペンタンカルボン酸誘導体、及びその製造
方法を提供する。 【構成】一般式（Ｉ）で示されるシクロペンタンカルボ
ン酸誘導体は、一般式（ＩＩＩ）で表されるシクロペン
タン誘導体を加水分解した後に、所望により光学分割す
ることにより得られる。このシクロペンタンカルボン酸
誘導体（Ｉ）より、数工程を経て式（ＩＶ）で示される
抗ウイルス性化合物が製造される。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば抗ウイルス薬と
して期待される化合物（ＩＶ）

【０００２】

【化７】

【０００３】で表される光学活性なヌクレオシド誘導
体、９−［（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ）−２，３−ビス（ヒド
ロキシメチル）シクロペンチル］アデニン（特開平５−
１０４４）の製造過程に於ける新規な製造中間体及びそ
の製造法を提供するものである。

【０００４】

【従来の技術】特開平５−１０４４は９−［（１Ｒ，２
Ｒ，３Ｓ）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）シクロ
ペンチル］アデニン（化合物式（ＩＶ））製造の中間体
として、（２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ビス（ｔ−ブチルジ
フェニルシリルオキシメチル）シクロペンタノン（化合
物（ＶＩａ））を開示し、下記式

【０００５】

【化８】

【０００６】［式中、ＴＰＳはｔ−ブチルジフェニルシ
リル基を示す］に示すような、光学活性なシクロブタノ
ン誘導体（Ｖ）をジアゾメタンで環拡大する製造法を開
示している。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この製
造法は異性体である化合物（ＶＩＩ）が副生し化合物
（ＶＩａ）の収率が低いこと、及び爆発の危険性が高い
ジアゾメタンを用いていることから、優れた工業的製造
法とは言えない。このため、より安価で安全な化合物式
（ＩＶ）の製造法が望まれていた。公知である化合物
（ＩＩＩａ）

【０００８】

【化９】

【０００９】は文献（例えばＷ．Ｌ．Ｗｈｉｔｅ，
Ｐ．Ｂ．Ａｎｚｅｖｅｎｏ， ａｎｄＦ．Ｊｏｈｎｓｏ
ｎ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４７，２３７９（１９８
２））記載の方法により、比較的容易に製造できる。本
化合物はラセミ体であるがこれが容易に光学分割できれ
ば、抗ウイルス薬として期待される化合物（ＩＶ）の有
用な製造中間体となり得るが、その方法は全く知られて
いなかった。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者らは新規な製造
法を種々検討してきた結果、一般式（ＩＩＩ）

【００１１】

【化１０】

【００１２】［式中、Ｒ¹ はエステル残基を示す]で表
わされるラセミ体のシクロペンタン誘導体を加水分解処
理することにより、２個存在するエステル基のうちの一
方のみが加水分解された一般式（Ｉ）

【００１３】

【化１１】

【００１４】［式中、Ｒ¹ はエステル残基を示す]で表
わされるラセミ体のシクロペンタンカルボン酸誘導体が
選択的に生成することを見いだした。

【００１５】また、ここに得られた一般式（Ｉ）で表さ
れる化合物を光学活性アミン誘導体等を用いて光学分割
を行うことにより、効率よく一般式（ＩＩ）及び（ＩＩ
Ｂ）

【００１６】

【化１２】

【００１７】［式中、Ｒ¹ はエステル残基を示す]で表
わされる光学活性シクロペンタンカルボン酸誘導体が製
造できることを見いだした。

【００１８】ここで、Ｒ¹ で示されるエステル残基は特
に限定されず、例えば、置換基を有していてもよい、炭
素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルケニル
基、又はアリール基等が挙げられる。炭素数１〜６のア
ルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル
基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、シクロヘキシル基等が
挙げられ、炭素数１〜６のアルケニル基としては、アリ
ル基等が挙げられ、これらは、反応に影響を与えないア
ルコキシ基、アミノ基、アリール基（フェニル基、メチ
ルフェニル基等）等の置換基を有していてもよい。アリ
ール基としては、フェニル基などが挙げられ、これは、
反応に影響を与えないアルキル基、アルコキシ基、アミ
ノ基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子等の置換基を
有していてもよい。好ましくは、メチル基、エチル基、
イソプロピル基、ｔ−ブチル基等の炭素数１〜６のアル
キル基またはベンジル基等のアリール置換アルキル基が
挙げられる。また、より好ましくはメチル基、エチル
基、ベンジル基等が挙げられる。

【００１９】また、光学分割を行なうに際に用いる光学
活性アミン誘導体としては、特に制限がなく、不斉中心
を１つ以上有する塩基性物質であれば良い。例えば、ブ
ルシン、キニーネ等のアルカロイド誘導体や一般式（Ｖ
ＩＩＩＡ）または（ＶＩＩＩＢ）

【００２０】

【化１３】

【００２１】［式中、Ｒ² 及びＲ³ は、それぞれ独立
に、水素または炭素数１〜６のアルキル基を示す］で示
されるα−メチルベンジルアミン誘導体が挙げられる。
好ましくは一般式（ＶＩＩＩＡ）または（ＶＩＩＩＢ）
で示されるα−メチルベンジルアミン誘導体が挙げら
れ、より好ましくは、（Ｓ）−（−）−α−メチルベン
ジルアミン及び（Ｒ）−（＋）−α−メチルベンジルア
ミンが挙げられる。

【００２２】一般式（Ｉ）或いは一般式（ＩＩ）で表さ
れる化合物としては、例えば以下のようなシクロペンタ
ンカルボン酸誘導体が挙げられる。 １．トランス−３−ヒドロキシカルボニル−２−メトキ
シカルボニルシクロペンタノン ２．トランス−２−エトキシカルボニル−３−ヒドロキ
シカルボニルシクロペンタノン ３．トランス−３−ヒドロキシカルボニル−２−イソプ
ロポキシカルボニルシクロペンタノン ４．トランス−２−ブトキシカルボニル−３−ヒドロキ
シカルボニルシクロペンタノン ５．トランス−２−ｔ−ブトキシカルボニル−３−ヒド
ロキシカルボニルシクロペンタノン ６．トランス−３−ヒドロキシカルボニル−２−ペント
キシカルボニルシクロペンタノン ７．トランス−２−シクロヘキシルオキシカルボニル−
３−ヒドロキシカルボニルシクロペンタノン ８．トランス−２−アリルオキシカルボニル−３−ヒド
ロキシカルボニルシクロペンタノン ９．トランス−３−ヒドロキシカルボニル−２−フェノ
キシカルボニルシクロペンタノン １０．トランス−２−ベンジルオキシカルボニル−３−
ヒドロキシカルボニルシクロペンタノン

【００２３】１１．（２Ｒ，３Ｓ）−３−ヒドロキシカ
ルボニル−２−メトキシカルボニルシクロペンタノン １２．（２Ｒ，３Ｓ）−２−エトキシカルボニル−３−
ヒドロキシカルボニルシクロペンタノン １３．（２Ｒ，３Ｓ）−３−ヒドロキシカルボニル−２
−イソプロポキシカルボニルシクロペンタノン １４．（２Ｒ，３Ｓ）−２−ブトキシカルボニル−３−
ヒドロキシカルボニルシクロペンタノン １５．（２Ｒ，３Ｓ）−２−ｔ−ブトキシカルボニル−
３−ヒドロキシカルボニルシクロペンタノン １６．（２Ｒ，３Ｓ）−３−ヒドロキシカルボニル−２
−ペントキシカルボニルシクロペンタノン １７．（２Ｒ，３Ｓ）−２−シクロヘキシルオキシカル
ボニル−３−ヒドロキシカルボニルシクロペンタノン １８．（２Ｒ，３Ｓ）−２−アリルオキシカルボニル−
３−ヒドロキシカルボニルシクロペンタノン １９．（２Ｒ，３Ｓ）−３−ヒドロキシカルボニル−２
−フェノキシカルボニルシクロペンタノン ２０．（２Ｒ，３Ｓ）−２−ベンジルオキシカルボニル
−３−ヒドロキシカルボニルシクロペンタノン

【００２４】本発明方法の詳細を次に示す。一般式
（Ｉ）の化合物は一般式（ＩＩＩ）の化合物を穏和な条
件で加水分解することにより得ることができる。例え
ば、 一般式（ＩＩＩ）で表わされるラセミ体のシクロ
ペンタン誘導体を、水、メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ア
セトン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメチルホル
ムアミド（ＤＭＦ）等の水溶性溶媒中、またはこれらの
混合溶媒中、好ましくは水−メタノール混合溶媒中、水
酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、炭
酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム等のアルカ
リ、好ましくは水酸化リチウムを１当量から大過剰、よ
り好ましくは２当量から５当量加え、０℃から溶媒の沸
点付近、好ましくは０℃から５０℃の温度で撹拌するこ
とにより、一般式（Ｉ）で表されるシクロペンタンカル
ボン酸誘導体が生成する。この反応液を、塩酸、硫酸、
硝酸、硫酸水素カリウム、硫酸水素ナトリウム等の酸で
酸性にした後、ヘキサン、トルエン、酢酸エチル、塩化
メチレン、ブタノール、ＴＨＦ等の溶媒、またはこれら
の混合溶媒、好ましくは酢酸エチルで抽出し、乾燥後、
溶媒を溜去することによって一般式（Ｉ）で表されるラ
セミ体のシクロペンタンカルボン酸誘導体が単離され
る。本化合物は必要に応じて、精製後、または未精製の
まま次の反応に用いる。

【００２５】一般式（Ｉ）で表されるラセミ体のシクロ
ペンタンカルボン酸誘導体を、例えばメタノール、エタ
ノール、プロパノール、イソプロパノール等のアルコー
ル系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノール、イ
ソプロパノール等のアルコール系溶媒とジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、ＴＨＦ等のエーテル系溶
媒との組み合わせ溶媒または混合溶媒中、好ましくはエ
タノールとジエチルエーテルとの組み合わせ溶媒または
混合溶媒中、あるいはエタノールとジイソプロピルエー
テルとの組み合わせ溶媒または混合溶媒中、−２０〜５
０℃の温度で、好ましくは０℃〜室温下において、光学
活性アミン誘導体をシクロペンタノン誘導体に対し０．
１から２当量、好ましくは０．５から１当量作用させ、
析出する結晶を濾取し、得られた結晶を酸性水溶液、好
ましくは塩酸水溶液に溶解させ、その水層をヘキサン、
トルエン、酢酸エチル、塩化メチレン、ブタノール、Ｔ
ＨＦ等の溶媒、またはこれらの混合溶媒、好ましくは酢
酸エチルで抽出し、乾燥、濃縮後得られた結晶を、メタ
ノール、エタノール、プロパノール等のアルコール系溶
媒とジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ＴＨ
Ｆ等のエーテル系溶媒との組み合わせ溶媒または混合溶
媒中、好ましくはエタノールとジエチルエーテルとの組
み合わせ溶媒または混合溶媒中、あるいはエタノールと
ジイソプロピルエーテルとの組み合わせ溶媒または混合
溶媒中、−２０から５０℃の温度で、好ましくは０℃〜
室温下において、光学活性アミン誘導体０．１から２当
量、好ましくは０．７から１．０当量作用させ、析出す
る結晶を濾取し、得られた結晶を酸性水溶液、好ましく
は塩酸水溶液に溶解させ、その水層をヘキサン、トルエ
ン、酢酸エチル、塩化メチレン、ブタノール、ＴＨＦ等
の溶媒、またはこれらの混合溶媒、好ましくは酢酸エチ
ルで抽出し、乾燥、濃縮後得られた結晶を酢酸エチル、
イソプロパノール、酢酸エチルとヘキサンとの組み合わ
せ溶媒、あるいはイソプロパノールとジイソプロピルエ
ーテルとの組み合わせ溶媒、好ましくは酢酸エチルとヘ
キサンとの組み合わせ溶媒を用いて再結晶することによ
りそれぞれ一般式（ＩＩ）または（ＩＩＢ）で表される
化合物が得られる。

【００２６】これら反応の際、一般式（ＩＩＩ）で表さ
れる化合物として、Ｒ¹ がメチル基であるラセミ体のト
ランス−２，３−ビス（メトキシカルボニル）シクロペ
ンタノン（ＩＩＩａ）を用いれば、一般式（Ｉ）で表さ
れる化合物として、Ｒ¹ がメチル基であるラセミ体のト
ランス−３−ヒドロキシカルボニル−２−メトキシカル
ボニルシクロペンタノン（Ｉａ）が得られ、さらに、光
学活性アミン誘導体として、（Ｓ）−（−）−α−メチ
ルベンジルアミンを用い光学分割を行えば、Ｒ¹ がメチ
ル基である一般式（ＩＩ）で表される化合物（２Ｒ，３
Ｓ）−３−ヒドロキシカルボニル−２−メトキシカルボ
ニルシクロペンタノン（ＩＩａ）が得られる。また、光
学活性アミン誘導体として、（Ｒ）−（＋）−α−メチ
ルベンジルアミンを用い光学分割を行えば、Ｒ¹ がメチ
ル基である一般式（ＩＩＢ）で表される化合物（２Ｓ，
３Ｒ）−３−ヒドロキシカルボニル−２−メトキシカル
ボニルシクロペンタノン（ＩＩＢａ）が得られる。

【００２７】

【化１４】

【００２８】このようにして得られる本発明化合物を用
いれば、例えば以下のようにして、重要中間体である化
合物（ＶＩ）、さらには、化合物（ＩＶ）が容易に製造
できる。

【００２９】

【化１５】

【００３０】［式中、Ｒ¹ 、Ｒ⁴ はそれぞれエステル残
基（例えば、前記Ｒ¹ として例示した基等）、Ｒ⁵ はそ
れぞれ炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアル
ケニル基、アリール基、またはアリール置換アルキル基
等の前記Ｒ¹ として例示した基を示すか、又は２つのＲ
⁵ が結合して例えば炭素数２〜５のアルキレン基を示
し、Ｒ⁶ は保護基を、Ｘは脱離基を示す］

【００３１】例えば、本発明化合物である一般式（Ｉ
Ｉ）で表される化合物を、順次エステル化及びケタール
化を行うか、または一挙にエステル化及びケタール化を
行い、一般式（ＩＸ）で表される化合物へ誘導し、エス
テル部分を還元し、生じたアルコールを保護した後、ケ
タール基を脱保護する事により、一般式（ＶＩ）で表さ
れる重要中間体が製造できる。この化合物は、ケトンを
還元し、生じたアルコールを脱離基に変換した後、アデ
ニンを縮合させ、最後に保護基を脱保護することによ
り、化合物（ＩＶ）が製造できる。以上のように、本発
明化合物及びその製造法は、抗ウイルス薬として期待さ
れる化合物（ＩＶ）の重要合成中間体であり、一般式
（ＶＩ）で表される化合物の、安全でかつ簡便な工業化
規模での製造法を提供するものである。

【００３２】

【実施例】

実施例１ トランス−３−ヒドロキシカルボニル−２−メトキシカ
ルボニルシクロペンタノン（ラセミ体）の製造 ２００ｍＬ一頚フラスコに、トランス−２，３−ビス
（メトキシカルボニル）シクロペンタノン（１０．００
ｇ，４９．９５ｍｍｏｌ）、メタノール（５０ｍＬ）を
加え室温で溶解した後、水（２５ｍＬ）を加え、溶液を
氷水で冷却した後、水酸化リチウム一水和物（６．２９
ｇ，１４９．９０ｍｍｏｌ）を加え、反応液を室温にも
どし終夜撹拌する。反応溶液を再び氷水で冷却し、６Ｎ
塩酸（２５ｍＬ）を注意深く加え液性を酸性とする。こ
の溶液を酢酸エチル（５０ｍＬ）で抽出し、更に水層を
酢酸エチル（５０ｍＬ）で２回抽出（総抽出操作計３
回）した後、酢酸エチル層を飽和食塩水（３０ｍＬ）で
洗浄し、更に水層を酢酸エチル（５０ｍＬ）で抽出す
る。得られた酢酸エチル溶液を無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、減圧濃縮することによりトランス−３−ヒドロキ
シカルボニル−２−メトキシカルボニルシクロペンタノ
ン（８．８７ｇ，収率９５．４％）を得る。これは精製
すること無しに次工程に用いる。得られたトランス−３
−ヒドロキシカルボニル−２−メトキシカルボニルシク
ロペンタノンの物理化学的性質は次のとおり。¹ Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃)δ：２．０５
（１Ｈ，ｍ），２．２０−２．８７（３Ｈ，ｍ），３．
５０−３．７５（２Ｈ，ｍ），３．７７（０．４８Ｈ，
ｓ），３．８０（２．５２Ｈ，ｓ），８．３０（ＩＨ，
ｂｒｓ）．¹³ Ｃ−ＮＭＲ（５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃)δ：２４．１６
６，２４．４５１，３１．６２１，３７．８１６，４
４．３３３，４５．１１５，５１．４５４，５２．９５
８，５７．１２５，９９．５７７，１６８．００１，１
７８．２３８，１８１．０６９，２０８．１１０． ＭＳ（ＦＡＢ，ＰＯＳ）ｍ／ｚ：１８７〔Ｍ＋Ｈ〕⁺ ．

【００３３】実施例２−１ （２Ｒ，３Ｓ）−３−ヒドロキシカルボニル−２−メト
キシカルボニルシクロペンタノンの製造 １０Ｌの４頚フラスコ（塩化カルシウム管、１Ｌ等圧滴
下ロ−ト、温度計）に実施例１で得たラセミ体のトラン
ス−３−ヒドロキシカルボニル−２−メトキシカルボニ
ルシクロペンタノン（１８０．８７ｇ，０．９７１６ｍ
ｏｌ）とエタノール（９００ｍＬ）とを加え撹拌する
（内温２５℃）。次にここへ（Ｓ）−（−）−α−メチ
ルベンジルアミン（８７．７ｍＬ，０．６８０３ｍｏ
ｌ）のジエチルエーテル（１８００ｍＬ）溶液を室温下
約１時間で滴下する（途中結晶析出）。滴下終了１５分
後、反応溶液を氷水で３０分間冷却した後、ジエチルエ
ーテル（１８００ｍＬ）を約１時間で滴下する。このサ
スペンジョン液を同温下約１時間撹拌した後、析出した
結晶を濾取し、結晶をジエチルエーテルで洗浄する。こ
の結晶を３Ｎ塩酸（６８０ｍＬ）に溶解させ、酢酸エチ
ル（６８０ｍＬ）を加え抽出する。水層を更に酢酸エチ
ル（６８０ｍＬ）で抽出を行い（更にもう１回行う。抽
出計３回）、得られた酢酸エチル溶液を飽和食塩水（５
００ｍＬ）で洗浄し、水層を更に酢酸エチル（６８０ｍ
Ｌ）で抽出を行う。得られた酢酸エチル溶液を無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、濾過後減圧濃縮を行い結晶を得る
（５４．８２ｇ，光学純度（方法１）７２．８％ｄ．
ｅ．）。更に得られた結晶（５４．８２ｇ，０．２９４
５ｍｏｌ）を、５Ｌの４頚フラスコ（塩化カルシウム
管、１Ｌ等圧滴下ロ−ト、温度計）に移し、エタノール
（５４８ｍＬ）を加え撹拌する（内温２３．５℃）。次
にここへ（Ｓ）−（−）−α−メチルベンジルアミン
（３４．２ｍＬ，０．２６５３ｍｏｌ）のジエチルエー
テル（５４８ｍＬ）溶液を室温下約１時間で滴下する
（途中結晶析出）。滴下終了後、反応溶液を氷水で１０
分間冷却し、ジエチルエーテル（５４８ｍＬ）を約４０
分で滴下する。このサスペンジョン液を同温下約２時間
撹拌した後、析出した結晶を濾取し、結晶をジエチルエ
ーテルで洗浄する。この結晶を３Ｎ塩酸（２７０ｍＬ）
に溶解させ、酢酸エチル（２７０ｍＬ）を加え抽出す
る。水層を更に酢酸エチル（２７０ｍＬ）で抽出を行い
（更にもう１回行う。抽出計３回）、得られた酢酸エチ
ル溶液を飽和食塩水（２００ｍＬ）で洗浄し、水層を更
に酢酸エチル（２００ｍＬ）で抽出を行う。得られた酢
酸エチル溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過後減
圧濃縮を行い結晶を得る（４２．０８ｇ，光学純度（方
法１）９６．２％ｄ．ｅ．）。得られた結晶（３３．７
０ｇ）に酢酸エチル（１００ｍＬ）を加え約５０℃下で
溶解させる。この溶液へ同温下ヘキサン（１００ｍＬ）
を加え、その後室温まで放冷撹拌する（途中結晶析
出）。次に室温下ヘキサン（５０ｍＬ）を追加した後、
サスペンジョン液を氷水で３０分冷却し、その後、析出
した結晶を濾取し、ヘキサンで洗浄し乾燥することによ
り（２Ｒ，３Ｓ）−３−ヒドロキシカルボニル−２−メ
トキシカルボニルシクロペンタノン（２６．３１ｇ，収
率７８．１％，光学純度（方法１）＞９９％ｄ．ｅ．，
光学純度（方法２）＞９９％ｅ．ｅ．）を得る。

【００３４】再結晶濾液濃縮物（７．５６ｇ）をエタノ
ール（７５．６ｍＬ）に溶解させ、（Ｓ）−（−）−α
−メチルベンジルアミン（４．７１ｍＬ，０．０３６５
ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル（７５．６ｍＬ）溶液を
室温下約１時間で滴下する（途中結晶析出）。滴下終了
後、反応溶液を氷水で１０分間冷却した後、ジエチルエ
ーテル（７５．６ｍＬ）を約２５分で滴下する。このサ
スペンジョン液を同温下約１時間撹拌した後、析出した
結晶を濾取し、結晶をジエチルエーテルで洗浄する。こ
の結晶を３Ｎ塩酸（３６ｍＬ）に溶解させ、酢酸エチル
（３６ｍＬ）を加え抽出する。水層を更に酢酸エチル
（３５ｍＬ）で抽出を行い（更にもう１回行う。抽出計
３回）、得られた酢酸エチル溶液を飽和食塩水（３５ｍ
Ｌ）で洗浄し、水層を更に酢酸エチル（３５ｍＬ）で抽
出操作を行う。得られた酢酸エチル溶液を無水硫酸ナト
リウムで乾燥し、減圧濃縮を行い、得られた結晶（５．
５１ｇ）に酢酸エチル（１６．５ｍＬ）を加え約５０℃
下で溶解させる。この溶液へ同温下ヘキサン（１６．５
ｍＬ）を加え、その後室温まで放冷撹拌する（途中結晶
析出）。つぎに室温下ヘキサン（８ｍＬ）を追加した
後、サスペンジョン液を氷水で３０分冷却し、その後析
出した結晶を濾取し、ヘキサンで洗浄し乾燥することに
より（２Ｒ，３Ｓ）−３−ヒドロキシカルボニル−２−
メトキシカルボニルシクロペンタノン（４．４６ｇ，光
学純度（方法２）＞９９％ｅ．ｅ．）を得る。通算収率
２０．９％。

【００３５】¹Ｈ−ＮＭＲ （２００ＭＨｚ，ＣＤＣ
ｌ₃)δ：２．０３（１Ｈ，ｍ），２．２０−２．８０
（３Ｈ，ｍ），３．５０−３．７２（２Ｈ，ｍ），３．
７７（０．２９Ｈ，ｓ），３．８０（２．７１Ｈ，
ｓ），７．７５（ｂｒｓ，１Ｈ）． ＩＲ （ｎｅａｔ） ｃｍ^-1： ３２００（ＯＨ），１
７２０（Ｃ＝Ｏ） 旋光度：［α］_D −２６．０゜（Ｃ１．０６５，メタノ
ール） 融点：８６．５〜８８℃

【００３６】トランス−３−ヒドロキシカルボニル−２
−メトキシカルボニルシクロペンタノンの光学純度測定
法 方法１ トランス−３−ヒドロキシカルボニル−２−メトキシカ
ルボニルシクロペンタノンと（Ｓ）−（−）−α−メチ
ルベンジルアミンの塩をメタノールに溶解させ、約５０
℃で３時間撹拌するか、あるいは室温で終夜放置し、エ
ナミンとした後、溶液を減圧濃縮し分析サンプルとす
る。光学純度はジアステレオマー過剰率（ｄ．ｅ．）で
表した。 分析サンプル：１ｍｇ／ｍＬを２μＬ注入 カラム：ＭＱ Ｐａｃｋ ＯＤＳ−Ｍ−１５，５μｍ，
４．６ｍｍφ×２５０ｍｍ 展開溶媒：アセトニトリル：水：１％リン酸水＝３０：
７０：１ カラム温度：３５℃ 流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ 保持時間： Ｎ−［（３Ｓ）−３−ヒドロキシカルボニル−２−メト
キシカルボニルシクロペンタ−１−エン−１−イル］−
Ｎ−［（Ｓ）−α−メチルベンジル］アミン：約３２分 Ｎ−［（３Ｒ）−３−ヒドロキシカルボニル−２−メト
キシカルボニルシクロペンタ−１−エン−１−イル］−
Ｎ−［（Ｓ）−α−メチルベンジル］アミン：約３５．
５分

【００３７】方法２ トランス−３−ヒドロキシカルボニル−２−メトキシカ
ルボニルシクロペンタノン（１００ｍｇ，０．５３７ｍ
ｍｏｌ）をメタノール（１ｍＬ）に溶解させ、この溶液
にオルトギ酸メチル（０．１７ｍＬ）、ｐ−トルエンス
ルホン酸一水和物（５．１ｍｇ）を加え室温にて３時間
撹拌する。反応終了後、この反応溶液に１Ｎ塩酸（０．
１ｍＬ）を加え、同温にてさらに２０分間撹拌する。反
応溶液に水（１０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１０ｍ
Ｌ）にて３回抽出する。得られた酢酸エチル層を飽和食
塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥、減圧
溜去することにより、トランス−２，３−ビス（メトキ
シカルボニル）シクロペンタノン体（定量的）を得る。
これをイソプロパノール：ヘキサン＝１：１に溶解し分
析サンプルとする。光学純度はエナンチオマー過剰率
（ｅ．ｅ．）で表した。 分析サンプル：１ｍｇ／ｍＬを２０μＬ注入 カラム：Ｃｈｉｒａｌｐａｋ ＡＳ，４．６ｍｍφ×２
５０ｍｍ 展開溶媒：ヘキサン：イソプロパノール＝９０：１０ カラム温度：３０℃ 流速：０．５ｍＬ／ｍｉｎ 保持時間： （２Ｒ，３Ｓ）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）
シクロペンタノン：約２２分 （２Ｓ，３Ｒ）−２，３−ビス（メトキシカルボニル）
シクロペンタノン：約２６分

【００３８】実施例２−２ （２Ｒ，３Ｓ）−３−ヒドロキシカルボニル−２−メト
キシカルボニルシクロペンタノンの製造 ２００ｍＬ１頚フラスコに実施例１で得たラセミ体のト
ランス−３−ヒドロキシカルボニル−２−メトキシカル
ボニルシクロペンタノン（３．００ｇ，１６．１２ｍｍ
ｏｌ）をイソプロパノール（１５ｍＬ）に加え、３５℃
に加熱し溶解させ、溶解後ジイソプロピルエーテル（１
５ｍＬ）を加え撹拌する。この溶液を室温まで冷却し、
ここへ（Ｓ）−（−）−α−メチルベンジルアミン
（１．４４ｍＬ，１１．１７ｍｍｏｌ）のイソプロパノ
ール（７．５ｍＬ）とジイソプロピルエーテル（７．５
ｍＬ）の混合溶液を室温下５分で滴下する（２分後結晶
析出）。滴下終了３０分後、サスペンジョン液を氷水で
冷却し３０分撹拌する。析出した結晶を濾取し、結晶を
ジイソプロピルエーテルで洗浄する。この結晶を３Ｎ塩
酸（１６ｍＬ）に溶解させ、酢酸エチル（３２ｍＬ）を
加え抽出する。水層を更に酢酸エチル（３２ｍＬ）で抽
出を行い（更にもう１回行う。抽出計３回）、得られた
酢酸エチル溶液を飽和食塩水（１６ｍＬ）で洗浄し、水
層を更に酢酸エチル（１６ｍＬ）で抽出を行う。得られ
た酢酸エチル溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
濃縮を行い結晶を得る（０．５９６ｇ，光学純度（方法
１）８３．６％ｄ．ｅ．）。

【００３９】更に得られた結晶（０．５９６ｇ）を、エ
タノール（３ｍＬ）で溶解し、ジイソプロピルエーテル
（３ｍＬ）を加え撹拌する（内温２２．５℃）。次にこ
こへ（Ｓ）−（−）−α−メチルベンジルアミン（０．
３６ｍＬ，２．７９ｍｍｏｌ）のエタノール（１．５ｍ
Ｌ）とジイソプロピルエーテル（１．５ｍＬ）の混合溶
液を室温下３分で滴下する（途中結晶析出）。滴下終了
３０分後、サスペンジョン液を氷水で冷却し３０分撹拌
する。析出した結晶を濾取し、結晶をジイソプロピルエ
ーテルで洗浄する。析出した結晶を濾取し、結晶をジイ
ソプロピルエーテルで洗浄する。この結晶を３Ｎ塩酸
（３．２ｍＬ）に溶解させ、酢酸エチル（６．４ｍＬ）
を加え抽出する。水層を更に酢酸エチル（６．４ｍＬ）
で抽出を行い（更にもう１回行う。抽出計３回）、得ら
れた酢酸エチル溶液を飽和食塩水（３．２ｍＬ）で洗浄
し、水層を更に酢酸エチル（６．４ｍＬ）で抽出を行
う。得られた酢酸エチル溶液を無水硫酸ナトリウムで乾
燥し、濾過後減圧濃縮を行い結晶を得る（０．４４２
ｇ，光学純度（方法１）９４．７％ｄ．ｅ．）。得られ
た結晶（０．４４２ｇ）に酢酸エチル（１．３ｍＬ）を
加え約５０℃下で溶解させる。この溶液へ同温下ヘキサ
ン（１．３ｍＬ）を加え、その後室温まで放冷撹拌す
る。次に室温下ヘキサン（０．６５ｍＬ）を追加した
後、サスペンジョン液を氷水で３０分冷却し、その後結
晶を濾取し、ヘキサンで洗浄し乾燥することにより（２
Ｒ，３Ｓ）−３−ヒドロキシカルボニル−２−メトキシ
カルボニルシクロペンタノン（０，３２４ｇ，光学純度
（方法１）９７．６％ｄ．ｅ．）を得る。通算収率１
０．８％。

【００４０】参考例１ （２Ｒ，３Ｓ）−１，１−ジメトキシ−２，３−ビス
（メトキシカルボニル）シクロペンタンの製造 （２Ｒ，３Ｓ）−３−ヒドロキシカルボニル−２−メト
キシカルボニルシクロペンタノン（３４．２９ｇ，０．
１８４２ｍｏｌ）をメタノール（１８４ｍＬ）に溶解
し、オルトギ酸メチル（５０．４ｍＬ，０．４６０７ｍ
ｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（１．７５
ｇ，０．００９２ｍｍｏｌ）を順次加え、室温下終夜撹
拌する。反応溶液に炭酸水素ナトリウム水（８．９２
％，１３ｍＬ）を加え減圧濃縮し、残渣をトルエン（１
７０ｍＬ）で希釈した後、飽和炭酸水素ナトリウム水
（４０ｍＬ）にて２回洗浄し、次いで飽和食塩水（５０
ｍＬ）にて洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
濃縮することにより（２Ｒ，３Ｓ）−１，１−ジメトキ
シ−２，３−ビス（メトキシカルボニル）シクロペンタ
ン（４４．５８ｇ，収率９８．３％）を得る。これは精
製すること無しに次工程に用いる。¹ Ｈ−ＮＭＲ （２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃） δ：１．
８２−１．９６（２Ｈ，ｍ），２．０４（１Ｈ，ｍ），
２．１６（１Ｈ，ｍ），３．２１（３Ｈ，ｓ），３．２
９（３Ｈ，ｓ），３．３４−３．４２（２Ｈ，ｍ），
３．６９（３Ｈ，ｓ），３．７３（３Ｈ，ｓ）．

【００４１】参考例２ （２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−
１，１−ジメトキシシクロペンタンの製造 ジエチルエーテル（１６０ｍＬ）に水素化リチウムアル
ミニウム（１２．１８ｇ，０．３２０９ｍｏｌ）を加え
約０℃に冷却する。このサスペンジョン液に参考例１で
得た（２Ｒ，３Ｓ）−１，１−ジメトキシ−２，３−ビ
ス（メトキシカルボニル）シクロペンタン（３９．５２
ｇ，０．１６０５ｍｏｌ）のジエチルエーテル（３２ｍ
Ｌ）溶液を約１時間で滴下し、同温下３０分撹拌する。
反応液に水（１２．２ｍＬ）を約３０分かけて滴下し、
更に１５％水酸化ナトリウム水（１２．２ｍＬ）、水
（２４．５ｍＬ）を順次滴下した後３０分撹拌する。次
いで無水硫酸ナトリウム（３８．６ｇ）を加え約１時間
撹拌した後、ジエチルエーテル（１６０ｍＬ）、ハイフ
ロスーパーセル（２３ｇ）を加え１５分撹拌する。不均
一物質を濾取し（濾液１）、イソプロパノール（１２０
ｍＬ）に残渣を加え６０℃下１５分撹拌した後、不均一
物質を濾取し（濾液２）、更にイソプロパノール（１２
０ｍＬ）に残渣を加え５０℃下３０分撹拌した後、不均
一物質を濾取する（濾液３）。濾液（濾液１，２，３）
を合わせ減圧濃縮することにより（２Ｓ，３Ｓ）−２，
３−ビス（ヒドロキシメチル）−１，１−ジメトキシシ
クロペンタン（２９．８９ｇ，収率９７．９％）を得
る。これは精製すること無しに次工程に用いる。¹ Ｈ−ＮＭＲ （２００ＭＨｚ，ＣＤ₃ ＯＤ） δ：
１．２９（１Ｈ，ｍ），１．６３−２．０７（５Ｈ，
ｍ），３．１９（３Ｈ，ｓ），３．２２（３Ｈ，ｓ），
３．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１１．２Ｈ
ｚ），３．４３−３，６２（２Ｈ，ｍ），３．７１（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１１．２Ｈｚ）． ＩＲ（ｎｅａｔ）ｃｍ^-1：３３５０（ＯＨ）．

【００４２】参考例３ （２Ｓ，３Ｓ）−１，１−ジメトキシ−２，３−ビス
［（４−メチルベンゾイル）オキシメチル］シクロペン
タンの製造。 参考例２で得た（２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ビス（ヒドロ
キシメチル）−１，１−ジメトキシシクロペンタン
（５．００ｇ，２６．２８ｍｍｏｌ）をピリジン（４０
ｍＬ）に溶解し、氷冷下にてトルオイルクロライド
（７．６５ｍＬ，５７．８５ｍｍｏｌ）を加え、同温に
て２時間撹拌する。反応溶液に水（１００ｍＬ）を加
え、ジエチルエーテル（１００ｍＬ）にて３回抽出を行
う。得られたジエチルエーテル層を、１Ｎ塩酸（５０ｍ
Ｌｘ６）、飽和炭酸水素ナトリウム水（５０ｍＬ）、水
（５０ｍＬ）、飽和食塩水（５０ｍＬ）にて順次洗浄し
た後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥、減圧溜去するこ
とにより（２Ｓ，３Ｓ）−１，１−ジメトキシ−２，３
−ビス［（４−メチルベンゾイル）オキシメチル］シク
ロペンタン（１１．６２ｇ）を得る。これは、精製する
こと無しに次工程へ用いる。

【００４３】参考例４ （２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ビス［（４−メチルベンゾイ
ル）オキシメチル］シクロペンタノンの製造。 参考例３で得た（２Ｓ，３Ｓ）−１，１−ジメトキシ−
２，３−ビス［（４−メチルベンゾイル）オキシメチ
ル］シクロペンタン（１１．６２ｇ）をアセトン（５０
ｍＬ）に溶解させ、次いで水（２．５ｍＬ）及び１Ｎ塩
酸（２．５ｍＬ）を加え、室温にて３０分間撹拌する。
反応溶液を冷却し、１Ｎ水酸化ナトリウム水（２．５ｍ
Ｌ）で中和した後、アセトンを減圧溜去する。得られた
残渣に飽和食塩水（１００ｍＬ）を加え、ジエチルエー
テル（１００ｍＬ）にて２回抽出する。得られたジエチ
ルエーテル層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥、減圧溜
去し、得られた残渣（１０．２０ｇ）をジエチルエーテ
ル−ヘキサンにて再結晶を行うことにより（２Ｓ，３
Ｓ）−２，３−ビス［（４−メチルベンゾイル）オキシ
メチル］シクロペンタノン（６．０４ｇ）を得る。ま
た、再結晶母液（４．１４ｇ）をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（シリカゲル１２０ｇ、ヘキサン：酢酸
エチル＝５：１）にて精製し、得られる結晶（１．５９
ｇ）をジエチルエーテル−ヘキサンにて再結晶を行うこ
とにより（２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ビス［（４−メチル
ベンゾイル）オキシメチル］シクロペンタノン（０．９
０ｇ，合計６．９４ｇ，２工程収率６９．４％）を得
る。¹ Ｈ−ＮＭＲ （２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃) δ：１．
７９（１Ｈ，ｍ），２．１８−２．７９（５Ｈ，ｍ），
２．３９（３Ｈ，ｓ），２．４１（３Ｈ，ｓ），４．５
１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），４．５６（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１１．４Ｈｚ），４．７１（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１１．４Ｈｚ），７．２０
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．２２（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈ
ｚ），７．８９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）． ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ^-1：１７４５（Ｃ＝Ｏ），１７１０
（Ｃ＝Ｏ）．

【００４４】参考例５ （１Ｓ，２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ビス［（４−メチルベ
ンゾイル）オキシメチル］シクロペンタノールの製造。 参考例４で得た（２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ビス［（４−
メチルベンゾイル）オキシメチル］シクロペンタノン
（１．００ｇ，２．６３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１０ｍ
Ｌ）に溶解させ、外温−７８℃にてＬ−セレクトライド
のＴＨＦ溶液（３．１５ｍＬ，３．１５ｍｍｏｌ）を加
え、同温にて１５分間撹拌する。反応溶液に、メタノー
ル（２ｍＬ）を加え、同温にて１０分間撹拌した後、氷
冷下にて飽和炭酸水素ナトリウム水（１０ｍＬ）及び３
０％過酸化水素水（１．３４ｍＬ）を加え、室温にて１
５分間撹拌する。次いでこの反応溶液に飽和食塩水（３
０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）にて３回抽出
を行う。得られた酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウム
にて乾燥、減圧溜去することにより（１Ｓ，２Ｓ，３
Ｓ）−２，３−ビス［（４−メチルベンゾイル）オキシ
メチル］シクロペンタノール（０．９６ｇ）を得る。こ
れは、精製すること無しに次工程に用いる。

【００４５】参考例６ （１Ｓ，２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ビス［（４−メチルベ
ンゾイル）オキシメチル］シクロペンチル メタンスル
ホネートの製造。 参考例５で得た（１Ｓ，２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ビス
［（４−メチルベンゾイル）オキシメチル］シクロペン
タノール（０．９６ｇ）を塩化メチレン（１０ｍＬ）に
溶解させ、トリエチルアミン（０．５５ｍＬ，３．９４
ｍｍｏｌ）を加え氷冷する。次いで、氷冷下にてメタン
スルホニルクロリド（０．２４ｍＬ，３．１０ｍｍｏ
ｌ）を加え、同温にて３０分間撹拌する。反応溶液に、
リン酸緩衝液（ｐＨ７，３０ｍＬ）を加え、酢酸エチル
（３０ｍＬ）にて３回抽出を行う。得られた酢酸エチル
層を飽和食塩水（３０ｍＬ）にて洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムにて乾燥、減圧溜去し、残渣（１．２９ｇ）を
シリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル６ｇ，塩化
メチレン）にて精製を行う。得られた結晶（１．１７
ｇ）をジエチルエーテル−ヘキサンにて再結晶を行うこ
とにより（１Ｓ，２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ビス［（４−
メチルベンゾイル）オキシメチル］シクロペンチル メ
タンスルホネート（４９８．９ｍｇ）を得る。また、母
液（０．６３ｇ）をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（シリカゲル３０ｇ，ヘキサン−酢酸エチル＝４：１
〜３：１）にて精製を行い、得られた結晶（４４５．２
ｍｇ）をジエチルエーテル−ヘキサンにて再結晶を行う
ことにより（１Ｓ，２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ビス［（４
−メチルベンゾイル）オキシメチル］シクロペンチル
メタンスルホネート（１９４．９ｍｇ，合計６９３．８
ｍｇ，２工程収率５７．３％）を得る。¹ Ｈ−ＮＭＲ （２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）δ：１．７
１（１Ｈ，ｍ），２．０５（１Ｈ，ｍ），２．１４−
２．３５（２Ｈ，ｍ），２．３５−２．５７（２Ｈ，
ｍ），２．４０（３Ｈ，ｓ），２．４１（３Ｈ，ｓ），
２．９７（３Ｈ，ｓ），４．３７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．
５Ｈｚ），４．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１
１．２Ｈｚ），４．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１Ｈ
ｚ，１１．２Ｈｚ），５．３５（１Ｈ，ｍ），７．２３
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．２４（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．９２（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈ
ｚ）． ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ^-1：１７１０（Ｃ＝Ｏ）．

【００４６】参考例７ ９−［（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ）−２，３−ビス［（４−メ
チルベンゾイル）オキシメチル］シクロペンチル］アデ
ニンの製造。 ＤＭＦ（２ｍＬ）に油性６０％水素化ナトリウム（４
１．１ｍｇ，１．０２７５ｍｍｏｌ）及びアデニン（１
３９．０ｍｇ，１．０２８６ｍｍｏｌ）を加え、室温に
て１時間撹拌する。ついで、この懸濁液に参考例６で得
た（１Ｓ，２Ｓ，３Ｓ）−２，３−ビス［（４−メチル
ベンゾイル）オキシメチル］シクロペンチル メタンス
ルホネート（２３６．８ｍｇ，０．５１４２ｍｍｏｌ）
のＤＭＦ（１ｍＬ）溶液を外温１３０〜１４０℃にて２
３分かけて加え、同温にて４０分間撹拌する。反応溶液
を室温まで冷却した後、この溶液にリン酸緩衝液（ｐＨ
７，３０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０ｍＬ）にて３
回抽出を行う。得られた酢酸エチル層を水（３０ｍＬ）
にて３回、飽和食塩水（３０ｍＬ）にて１回洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥、減圧溜去し、得ら
れた残渣（２８０．１ｍｇ）をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（シリカゲル１０ｇ，塩化メチレン〜塩化
メチレン：メタノール＝３０：１〜２５：１〜２０：
１）にて精製することにより９−［（１Ｒ，２Ｒ，３
Ｓ）−２，３−ビス［（４−メチルベンゾイル）オキシ
メチル］シクロペンチル］アデニン（６０．５ｍｇ，収
率２３．６％）を得る。また、上記化合物を有する混合
物（４１．９ｍｇ）をプレパレイティブＴＬＣ（塩化メ
チレン：メタノール＝２０：１ｘ２）にて精製すること
により９−［（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ）−２，３−ビス
［（４−メチルベンゾイル）オキシメチル］シクロペン
チル］アデニン（３０．１ｍｇ，収率１２．０％，合計
９１．５ｍｇ，収率３５．６％）を得る。¹ Ｈ−ＮＭＲ （２００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃)δ：２．０
０−２．６０（５Ｈ，ｍ），２．３７（３Ｈ，ｓ），
２．４１（３Ｈ，ｓ），３．０４（１Ｈ，ｍ），４．４
１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，１２．４Ｈｚ），
４．４９（１Ｈ，ｄｄ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ ｗｉｔ
ｈ ｏｔｈｅｒ ｐｅａｋｓ），４．５２（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝５．９Ｈｚ），４．８３（１Ｈ，ａｐｐａｒｅｎｔ
ｑ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），５．８０（２Ｈ，ｂｒｓ），
７．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２５（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）７．５９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．１Ｈｚ），７．８６（１Ｈ，ｓ），７．９８（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．２７（１Ｈ，ｓ）．

【００４７】参考例８ ９−［（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ）−２，３−ビス（ヒドロキ
シメチル）シクロペンチル］アデニンの製造。 参考例７で得られた９−［（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ）−２，
３−ビス［（４−メチルベンゾイル）オキシメチル］シ
クロペンチル］アデニン（６０．５ｍｇ，０．１２１１
ｍｍｏｌ）をメタノール（６ｍＬ）と塩化メチレン（１
ｍＬ）の混合溶液に溶解させ、この溶液にナトリウムメ
チラートのメタノール溶液（０．２５４ｍＬ，０．２５
４ｍｍｏｌ）を加え、室温にて５時間撹拌する。反応溶
液に１Ｎ塩酸（０．２５ｍＬ）を加え、減圧濃縮をす
る。この残渣に水（１５ｍＬ）を加え、ジエチルエーテ
ル（１５ｍＬ）にて洗浄する。得られたジエチルエーテ
ル層を水（１０ｍＬ）にて抽出を行い、水層を合わせて
減圧濃縮を行う。得られた残渣をダイアニオンＨＰ−２
０（５ｍＬ）にて精製することにより９−［（１Ｒ，２
Ｒ，３Ｓ）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）シクロ
ペンチル］アデニン（３１．８ｍｇ，収率９９．７％，
光学純度＞９９％ｄ．ｅ．）を得る。この物は、標品
（特開平５−１０４４）と一致。¹ Ｈ−ＮＭＲ （２００ＭＨｚ，ＣＤ₃ＯＤ） δ：１．
７４−２．４８（６Ｈ，ｍ），３．５６（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５．１Ｈｚ），３．６９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈ
ｚ），４．７７（１Ｈ，ａｐｐａｒｅｎｔ ｑ，Ｊ＝
８．６Ｈｚ）（１Ｈ，ｍ），８．２０（１Ｈ，ｓ），
８．２４（１Ｈ，ｓ）． 光学純度測定法（ＨＰＬＣ法） 分析サンプル：１ｍｇ／ｍＬを２μＬ注入 カラム：Ｃｈｉｒａｌｐａｋ ＡＳ，４．６ｍｍφ×２
５０ｍｍ 展開溶媒：ヘキサン：エタノール＝９２：８ カラム温度：３７℃ 流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ 保持時間： ９−［（１Ｒ，２Ｒ，３Ｓ）−２，３−ビス（ヒドロキ
シメチル）シクロペンチル］アデニン：約２３分 ９−［（１Ｓ，２Ｓ，３Ｒ）−２，３−ビス（ヒドロキ
シメチル）シクロペンチル］アデニン：約２７分

【００４８】

【発明の効果】本発明によれば、抗ウイルス薬として有
用な式（ＩＶ）の化合物の合成中間体として使用できる
式（Ｉ）又は（ＩＩ）の化合物を好収率で安全に合成で
き、該合成中間体を提供したことにより、式（ＩＶ）の
化合物の合成が容易となる。

フロントページの続き (72)発明者 新妻 節子 東京都北区王子本町２−８−16 三玉コー ポ101

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｒ¹ はエステル残基を示す。]で表わされるシ
   クロペンタンカルボン酸誘導体。
2. 【請求項２】 一般式（ＩＩ） 【化２】 ［式中、Ｒ¹ はエステル残基を示す。]で表わされる光
   学活性な請求項１記載のシクロペンタンカルボン酸誘導
   体。
3. 【請求項３】Ｒ¹ が置換基を有していてもよい、炭素数
   １〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルケニル基又は
   アリール基である請求項１又は２記載のシクロペンタン
   カルボン酸誘導体。
4. 【請求項４】Ｒ¹ がアリール基で置換されていてもよい
   炭素数１〜６のアルキル基である光学活性な請求項２記
   載のシクロペンタンカルボン酸誘導体。
5. 【請求項５】Ｒ¹ がメチル基、エチル基又はベンジル基
   である光学活性な請求項２記載のシクロペンタンカルボ
   ン酸誘導体。
6. 【請求項６】一般式（ＩＩＩ） 【化３】 ［式中、Ｒ¹ はエステル残基を示す。]で表される化合
   物を加水分解し、所望により光学分割をすることを特徴
   とする一般式（Ｉ） 【化４】 ［式中、Ｒ¹ はエステル残基を示す。] で表わされるシ
   クロペンタンカルボン酸誘導体の製造法。
7. 【請求項７】一般式（ＩＩＩ） 【化５】 ［式中、Ｒ¹ はエステル残基を示す]で表される化合物
   を加水分解し、光学分割をすることを特徴とする一般式
   （ＩＩ） 【化６】 ［式中、Ｒ¹ はエステル残基を示す]で表わされる光学
   活性シクロペンタンカルボン酸誘導体の製造法。