JPH08506695A - 無線周波数遮蔽を具備する熱伝導性集積回路パッケージ - Google Patents

無線周波数遮蔽を具備する熱伝導性集積回路パッケージ

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JPH08506695A
JPH08506695A JP6518075A JP51807594A JPH08506695A JP H08506695 A JPH08506695 A JP H08506695A JP 6518075 A JP6518075 A JP 6518075A JP 51807594 A JP51807594 A JP 51807594A JP H08506695 A JPH08506695 A JP H08506695A
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circuit
heat
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ジャスキー・フランク・ジェイ
スペルサ，アンソニー・ビー
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Abstract

(57)【要約】 半導体デバイス・パッケージは、基板（１０），フリップ・チップ（１６），アンダフィル接着剤（２５）および熱伝導・導電性プラスチック材料（２０）によって構成される。リードレス回路を搭載する基板は、第１面（１５）上に金属化パターン（１３）を有し、この金属化パターンの一部は回路接地である。第２面は、基板を介して少なくとも１つの導電性穴（２６）によって金属化パターンに電気的に接続された表面実装半田パッド（２４）のアレイを有する。半導体デバイス（１６）は、金属バンプ（２２）によって金属化パターンにフリップチップ実装される。アンダフィル接着剤（２５）は、半導体デバイスと基板との間のギャップを埋める。金属粒子を含有する熱伝導・導電性プラスチック材料（２０）は、半導体デバイスと、アンダフィル接着剤と、リードレス回路搭載基板の第１面の一部とを封入するためトランスファ成形され、カバーを形成する。熱伝導性・導電性プラスチック材料は、半導体デバイスを無線周波数エネルギから遮蔽するため回路接地に電気的に接続され、かつ熱を放散するため半導体デバイスに機械的に取り付けられる。フィン（２８）は、熱放散機能をさらに向上させるため、導電プラスチック材料内に成形してもよい。

Description

【発明の詳細な説明】 無線周波数遮蔽を具備する熱伝導性集積回路パッケージ 技術分野 本発明は、一般に、半導体デバイス・パッケージに関し、さらに詳しくは、熱 伝導性無線周波数遮蔽型半導体デバイス・パッケージに関する。 背景 半導体デバイス・パッケージまたは集積回路（ＩＣ）チップ・キャリアは、さ まざまな高密度電子用途で用いられる。集積回路または半導体デバイスは、熱硬 化または熱可塑性樹脂をこのデバイスの周辺にトランスファ成形することにより 外部環境から一般に保護される。このパッケージは、ほこり，湿気およびデリケ ートな回路を破壊する他の環境要因から保護する。 これらの種類のパッケージに伴う主な問題点は、パッケージが無線周波数干渉 （ＲＦＩ：radio frequency interfcrcnce）または電磁干渉（ＥＭＩ：electro ｍagnetlc radiatlon）などの電磁放射からの遮蔽を行わないことである。特に 双方向無線装置などの電子機 器において、高周波数回路を遮蔽する能力は重要である。従来の遮蔽システムは 、一般に、遮蔽されるデバイスを取り囲むように構成された金属エンクロージャ によって特徴づけられる。このエンクロージャは、電気機器を外部ＲＦＩまたは ＥＭＩから保護するか、あるいはデバイスが発生するＲＦＩまたはＥＭＩ信号が 逃げることを防ぐように機能する。一般に、これらの遮蔽エンクロージャは、適 切な接地に電気的に結合された導電材料からなる。従来、遮蔽エンクロージャは 、トランスファ成形されたパッケージ上に延伸金属ケース（drawn metallic cas ing）を取り付け、デバイスに接続された基板にこの金属ケースを半田付けする ことによって作られた。残念ながら、この遮蔽方法はコストが高く、扱いにくい 。なぜならば： Ａ）金属遮蔽をデバイスに取り付ける半田付け工程中に発生する高温のため。 半田付け工程によって発生する熱は、ＩＣに直接伝わり、破壊することがある。 半田付け工程を制御してＩＣの品質を損なうことを防ぐため、慎重を要する。 Ｂ）金属エンクロージャを追加することにより厚くなるまたはかさばるため。 遮蔽パッケージの寸法全体の増加は、遮蔽の余分な厚さのために大きくなる。そ の結果、パッケージは最適寸法よりも大きくなる。 Ｃ）半田付け工程に伴う追加コストのため。遮蔽を半田付けする工程は、余分 な組立時間および労力を必要とし、 最終パッケージのコストに加算する。このように集積回路の遮蔽を行うことは、 遮蔽およびＩＣパッケージのため特殊な実装および保持用固定具（holding fixt ure）を必要とする。 従来の遮蔽システムは、デバイスが発生する熱エネルギの放散をも行わない。 多くの放熱（heat sinking）方法が当技術分野で知られるが、一般に金属ヒート ・シンクをＩＣパッケージに取り付けることからなる。この方法は、熱エネルギ が金属ヒート・シンクに達する前に絶縁プラスチック成形材料中を移動しなけれ ばならないので最適ではない。増幅器などの無線周波数（ＲＦ）パワーＩＣには 、従来技術によって対処できない特別な遮蔽および熱放散問題がある。 その結果、経済的で、過剰な温度を発生せず、薄型・高密度パッケージ化が可 能な、高密度集積回路パッケージにＲＦＩ遮蔽および高熱伝導性を提供する方法 が必要とされる。 なお、本出願は、１９９２年１０月６日に発行されたGuzik等による米国特許 第５，１５３，３７９号”Shielded Low-Profile Electronic Component As sembly”および１９９３年８月３１日に発行されたMullen等による米国特許第５ ，２４１，１３３号”Leadless Pad Array ChiP Carrier”ならびに真空被 着金属層で被覆された封入半導体デバイス（encapsｕlatcd seｍiconductor device）に関する１９９１年１月３１日に出願された米国特許 出願第６５０，３２６号に関連し、これらはすべてMotorola，Inc.に譲渡される 。 発明の概要 簡単には、本発明により、基板，フリップ・チップ（flip-chip），アンダフ ィル接着剤（underfill adhesive），熱伝導・導電性プラスチック材料とによっ て構成される半導体デバイス・パッケージが提供される。リードレス回路を搭載 した基板は、第１面に金属化パターンを有し、この金属化パターンの一部は回路 接地である。基板の他方の面は、少なくとも１つの穴（via）または貫通穴（thr ough-hole）によって金属化パターンに電気的に接続された表面実装半田パッド のアレイを有する。半導体デバイスは、金属バンプによって金属化パターンにフ リップ・チップ実装される。アンダフィル接着剤は、半導体デバイスと基板との 間のギャップを充填する。熱伝導・導電性プラスチック材料は、半導体デバイス ，アンダフィル接着剤および基板の第１側の一部を封入するためトランスファ成 形され、カバーを形成する。熱伝導・導電性プラスチック材料は、半導体デバイ スを無線周波数エネルギから遮蔽するため回路接地に電気的に接続され、また熱 を放散するため半導体デバイスに機械的に取り付けられる。 本発明の別の実施例では、熱放散を向上させるため、熱伝導フィンが熱伝導・ 導電性プラスチック材料内に成形される。 図面の簡単な説明 第１図は、本発明による集積回路の切り欠き等角図である。 第２図は、本発明による線２−２から見た第１図の部分的な断面図である。 第３図は、本発明の別の実施例の断面図である。 第４図は、本発明のさらに別の実施例の断面図である。 第５図は、本発明の代替実施例の断面図である。 第６図は、本発明による無線装置のブロック図である。 好適な実施例の詳細な説明 本明細書の最後には、新規と思われる本発明の特徴を定める請求の範囲が記さ れるが、本発明については図面と共に以下の説明から理解を深めることができよ う。ただし、図中では同様な参照番号を用いる。 第１図を参照して、基板１０は回路キャリア（circuit carrier）として設け られる。、基板は、エボキシ，ポリエステル，ポリイミド，ポリエーテルイミド ，ポリテトラフル オロエチレン（Polytetrafluoroethylenc），ガラス繊維強化（glass-reinforce d）プリント回路板材料，金属，セラミックなど、当技術分野で一般に用いられ る多数の材料のうち任意の１つから作ることができ、硬質でも軟質でもよい。基 板厚さは約０．０２ｍｍ〜７ｍｍの範囲であり、０．１ｍｍ〜２ｍｍの範囲の厚 さが好ましい。基板１０は、上面または第１面１５上に金属化パターン１３を有 する。この金属化パターン１３は、集積回路（ＩＣ）１６上のボンド・パッドに 相当するボンディング・パッド１２によって構成される。金属化パターン１３の 一部は、回路接地をなす接地パッド１７である。 第２図を参照して、基板１０の第２面には、表面実装半田パツド２４の共面ア レイ（coPlanar array）がある。ボンディング・パッド１２は、導電貫通穴２６ によって表面実装半田パッド２４に電気的に接続される。半田パッド２４は、半 導体デバイス・パッケージ５をマザー・ボードなどのより大きな基板に表面実装 するための取り付け手段をなす。表面実装パッドを利用する表面実装技術は当業 者に周知であり、リードレス（leadless）技術ともいう。よって、半導体デバイ ス・パッケージ５は、リードレス・パッケージともいう。半田バンプ２３は、パ ッケージを大きな基板または回路板に半田付けしやすくするため、半田パッド２ ４に取り付けてもよい。本発明の別の実施例では、ピン１８はリード付きパッケ ージを形成するように半田パッド２ ４に取り付けてもよく、あるいは半田パッドは、基板の穴に嵌入するピンで代用 してもよく、金属化パターン１３に電気的に接続される。かかるパッケージは、 基板１０の表面の下から突出するピン１８のアレイを有し、ピン・グリッド・ア レイ（ＰＧＡ）パッケージを形成する。 半導体ダイまたはチップなどＩＣ１６は、ボンディング・パッド１２および基 板１０にフリップ・チップ・ボンディングされる。金属化パターン１３に対する この機械的および電気的な取り付けは、金属バンプ２２によって一般に行われる 。金属バンプ２２は、一般に半田バンプであり、ＩＣ１６はＣ４（controlled-C ollapsc-chip-connection）技術を利用して取り付けられる。金属バンプは半田 でもよく、あるいは金，インジウム，錫，鉛，またはこれらの材料の合金などの 他の材料でもよい。ＩＣ１６が基板１０にフリップ・チツプ・ボンディングされ ると、ＩＣの活性面は基板に向く。このとき、ＩＣ１６と基板１０の上面１５と の間には小さなギャップが存在する。このギャップは、ＩＣと基板との間の機械 的な接続をより強固にし、かつＩＣの活性面に対して環境保護および絶縁を施す ため、アンダフィル材料２５によって充填される。アンダフィル材料２５は、一 般に、エポキシまたはアクリルなどの接着剤であり、ダイおよび／または基板の 熱膨張係数に近い熱膨張係数を有する。アンダフィル材料の例は文献に示される 。 ここで、アセンブリは、トランスフア成形キャビティに入れて、熱可塑性また は熱硬化成形材料２０をトランスファ成形することによって封入される。この工 程中に、成形材料２０はＩＣ１６の周りに流れて、これを封入する。成形材料２ ０は、アンダフィル材料２５も封入して、基板１０の上面１５の一部または実質 的にすべてを被覆する。成形材料２０は、エポキシなど熱伝導・導電性材料から なり、少なくとも１つのフィラ（filler）、例えば、金属元素または合金を有し 、これが成形材料の熱伝導・導電性に実質的に寄与する。。成形材料２０は、導 電性および熱伝導性を提供するため、銅，アルミニウム，ニッケル，金，銀また は同様な種類の材料で約７０％〜７５％まで一般に充填される。適切な封入材料 は、Nitto，Sumitomo（1033-B），Nippon Steel，Shinetsｕ，Ciba-Geigy，Hita chi（ＥＮ ４２７４またはＥＮ ４０７２），Dexter-Hysol，DowChemicalまた はShcll Chemicalから販売される。 成形材料２０は、接地パッド１７と、接地される場合が多いＩＣ１６の背面と に電気的および機械的に接触するように、基板１０の上に配置される。また、第 ２図および第３図に示すように、接地パッド１７は、導電貫通穴または穴２１に よって、基板１０の底面上の表面実装半田パッド２４にも電気的に接続される。 このように、導電性成形材料２０は、ＩＣ１６の被覆を形成するだけでなく、遮 蔽パッケージを形成するためＥＭＩ／ＲＦＩ遮蔽をＩＣの周 りに施す。このようにパッケージを遮蔽することにより、従来技術で教示される ような外部金属遮蔽は必要なくなる。これにより、遮蔽取り付け工程中にＩＣに 伝わる高温や、遮蔽に伴う余分な厚さまたはかさといった従来の問題が解決され る。 成形材料２０は大量の金属フィラを含むので、成形材料は熱伝導性も有する。 成形材料２０とＩＣ１６との間の密な接触により、ＩＣから熱を放散するための 良好な熱経路が得られる。従来のパッケージは、熱絶縁体（thermal insulator ）からなるアンフィル成形材料（unfilled molding compound）でＩＣ１６を封 入した。本発明のパッケージは、ＩＣ１６の改善された熱管理を行う。 第３図を参照して、成形材料２０は、パッケージの上面で表面積を大きくする ように形成できることがわかる。フィンまたは突起２８などの形状は、トランス ファ成形工程中に成形材料２０内に直接成形できる。、フィン２８は、パッケー ジ５の放熱機能をさらに向上させる、パッケージの上部に広い表面積を設ける。 第３図は、フィン２８が可能な多くの構成の１つを示すにすぎない。パッケージ ５の上部の表面積を大きくする他の種類の構成は、同様な熱性能を提供できる。 第４図を参照して、鋳造，打抜または押出金属構造など、従来のヒート・シン ク２９は、パッケージ５の上部に取り付け可能なことがわかる。，ヒート・シン ク２９は、熱グリ ース（thermal grease）または半田などの熱伝導性材料２７によって一般に取り 付けられる。オーバモールド材料（overmold compound）２０は大量の金属フィ ラを有するので、金属ヒート・シンク２９は成形材料２０に直接半田付けまたは 溶接できる。 本発明のさらに別の実施例では、本明細書で説明する電子パッケージは携帯通 信用途で特に採用される。第６図を参照して、本発明のＲＦ遮蔽・熱伝導性集積 回路パッケージ５は、受信モードまたは送信モードのいずれかで動作できる、Mo torola Inc．製の携帯双方向無線装置など、任意の周知な無線装置からなる無線 装置３０において用いられる。無線装置３０は、通信手段、すなわち、無線装置 の通信信号を送信または受信する手段をなす受信部３１および送信部３２を含む 。 受信モードでは、携帯無線装置３０は、アンテナ３３を介して通信信号を受信 する。送信／受信（Ｔ／Ｒ）スイッチ３４は、受信された通信信号を受信機３１ に結合する。受信機３１は、この受信された通信信号を受信・復調し、その音声 成分をスピーカ３６に与える。本明細書で説明しない他の機能も、無線装置３０ の動作全体を制御するコントローラ手段（図示せず）を含む、任意の適切な手段 によって提供されることを当業者には理解されたい。 送信モードでは、音声メッセージはマイクロフォン３７から結合され、ここで 音声メッセージは、当技術分野で周 知なように、キャリア信号を変調するために用いられる。変調されたキャリア信 号は、通信信号を送信するため、Ｔ／Ｒスイッチ３４を介してアンテナ３３に印 加される。本発明の原理によるＲＦ遮蔽・熱伝導性集積回路パッケージ５は、そ れぞれ送信部３２または受信部３１の適切な部分で利用できることを理解された い。 要するに、半導体パッケージから不要な無線周波数エネルギの伝達を低減する ため、少なくとも１つの半導体デバイスまたは集積回路を封入する熱伝導・導電 性エポキシからなるモノリシック集積回路パッケージが形成される。さらに、熱 伝導性材料は、パワーＲＦダイのフリツプ・チップ実装のための改善されたパッ ケージを提供するため、高い放熱機能を提供する。導電性成形材料は、接地面に 相当する回路基板上の点に電気的に結合され、そしてＩＣに過剰な熱を発生させ ずにＲＦ遮蔽を形成する。改善された冷却を施すため、フィンまたは他の突起を 熱伝導・導電性成形材料内に容易に成形できる。 以上、本発明について図説したが、本発明は制限されないことは明白である。 請求の肺囲に定められる本発明の精神および範囲から逸脱せずに、多くの修正， 変更，変形，置換，同等は当業者に想起される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 23/12 23/29 23/31 23/34 Ａ 7220−4Ｅ 【要約の続き】 的に取り付けられる。フィン（２８）は、熱放散機能を さらに向上させるため、導電プラスチック材料内に成形 してもよい。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １．半導体装置パッケージにおいて： ２つの対置する向を有する、リードレス回路を搭載する基板であっで、金属化 パターンを有する第１面、前記金属化パターンの一部は回路接地であり、表面実 装半田パッドの実質的に共面的なアレイを有する第２面、前記金属化パターンは 、前記リードレス回路を搭叔する基板を介して少なくとも１つの導電性穴によっ て前記表面実装半田パッドに電気的に接続されるリードレス回路を搭載する基板 ； 前記金属化パターンと、前記リードレス回路搭載基板の前記第１面との上にフ リップ・チップ実装される集積回路ダイ； 前記集積回路ダイと前記リードレス回路搭載基板の前記第１面との間のアンダ フィル接着剤；および カバーを形成するためにトランスファ成形され、前記集積回路ダイと、前記リ ードレス回路搭載基板の前記第１面の一部とを封入する熱伝導・導電性プラスチ ック材料であって、前記熱伝導・導電性プラスチック材料は前記回路接地に電気 的に結合され、前記集積路ダイの周りに無線周波数エネルギ遮蔽を形成し、また 前記集積回路ダイに機械的に結合され、前記ダイから熱を放散するヒート・シン クを形成する熱伝導・導電性プラスチック材料； によって構成されることを特徴とする半導体デバイス・ パッケージ。 ２．前記カバーは、前記リードレス回路搭載基板よりも小さく、それにより前記 カバーの周辺で前記リードレス回路搭載基板の前記第１面の一部を露出すること を特徴とする請求項１記載の半導体デバイス・パッケージ。 ３．前記熱伝導・導電性プラスチック材料は、金属を充填した熱硬化桐脂からな ることを特徴とする請求項１記載の半導体デバイス・パッケージ。 ４．前記リードレス回路搭挨基板は、ポリイミド，ポリエステルまたはポリエー テルイミドからなるグループから選択される軟質膜であることを特徴とする請求 項１記載の半導体デバイス・パッケージ。 ５．表面実装半導体パッドは、半田バンプであることを特徴とする請求項１記載 の半導体デバイス・パッケージ。 ６．前記表面実装半田パッドに取り付けられた金属ピンをさらに含んで・構成さ れることを特徴とする請求項１記載の半導体デバイス・パッケージ。 ７．無線周波数遮蔽を具備する熱伝導性集積回路であって： ２つの対置する面を有するプリント回路基板であって、金属化パターンを有す る第１面、前記金属化パターンの一部は回路接地であり、表面実装パッドの実質 的に共面的なアレイを有する第２面、前記金属化パターンは、前記プリント回路 基板を介して少なくとも１つの導電性穴によって前記表面実装半田パッドに電気 的に接続されるプリント回 路基板； 金属バンプにより、前記金属化パターンと、前記プリント回路基板の前記第１ 面との上にフリップ・チップ実装される集積回路ダイ； 前記集積回路ダイと前記プリント回路基板の前記第１面との間のアンダフィル 接着剤；および 前記集積回路ダイと、前記プリント回路基板の前記第１面の一部とを封入し、 カバーを形成するためトランスファ成形された、金属粒子を充填したプラスチッ ク材料であって、前記カバーの周辺における前記プリント回路基板の前記第１面 の一部は露出され、前記カバーは、前記集積回路ダイを無線周波数エネルギから 遮蔽するため前記回路接地に電気的に結合され、かつ前記ダイから熱を放散する ため前記集積回路ダイに機械的に結合される、プラスチック材料; によって構成される熱伝導性集積回路パッケージ。 ８．前記カバーは、上面内に成形されたフィンを有することを特徴とする請求項 ７記載の熱伝導性集積回路パッケージ。 ９．前記表面実装半田パッド上の半田バンプをさらに含んで構成されることを特 徴とする請求項７記載の熱伝導性集積回路パッケージ。 １０．複数の端子を有する電子コンポーネント； 第１および第２の対置する主面を有する基板と、前記電 子コンポーネントを受ける前記第１主面上の導電パターンと、前記導電パターン と同じ主面上の少なくとも１つの接地パッドとを含む、電子コンポーネント・キ ャリア； 前記電子コンポーネント・キャリアの前記導電パターンにフリップ・チップ・ ボンディングされた前記電子コンポーネント； 前記電子コンポーネントと前記第１主面との間のアンダフィル接着剤；および カバーを形成し、かつ前記電子コンポーネントと、前記第１主面の一部とを封 入するためトランスファ成形された熱伝導・導電性プラスチック材料であって、 前記熱伝導・導電性プラスチック材料は、前記カバーを介した無線周波数信号の 進入または出現を実質的に低減する遮蔽を設けるため前記接地パッドに電気的に 結合され、かつ前記電子コンポーネントから熱を放散するため前記電子コンポー ネントに機械的に結合される、熱伝導・導電性プラスチック材料; によって構成されることを特徴とする電子コンポーネント・アセンブリ。
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