JP6034607B2 - 蒸着源アセンブリ、有機層蒸着装置及びそれを利用した有機発光表示装置の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、蒸着源アセンブリ、有機層蒸着装置及びそれを利用した有機発光表示装置の製造方法に係り、詳細には、大型基板量産工程に容易に適用され、製造収率を向上する有機層蒸着装置及びそれを利用した有機発光表示装置の製造方法に関する。

ディスプレイ装置のうち、有機発光表示装置は、視野角が広く、かつコントラストに優れるだけではなく、応答速度が速いという長所を有し、次世代ディスプレイ装置として注目されている。

一般的に、有機発光表示装置は、アノードとカソードとから注入される正孔と電子とが発光層で再結合して発光する原理を用いて色相を具現することができるように、アノードとカソードとの間に発光層を挿入した積層型構造を有している。このような構造では、高効率で発光を達成し難いために、それぞれの電極と発光層との間に、電子注入層、電子輸送層、正孔輸送層、正孔注入層などの中間層を選択的に追加挿入して使用している。

しかし、発光層及び中間層などの有機薄膜の微細パターンを形成することは非常に困難であり、また発光層及び中間層によって赤色、緑色及び青色の発光効率が変わってしまうために、従来の有機層蒸着装置では、大面積にパターニングすることが現実的に非常に困難である。従って、満足すべきレベルの駆動電圧、電流密度、輝度、色純度、発光効率及び寿命などを有する大型有機発光表示装置を製造することができず、その改善が急務である。

前述の背景技術は、発明者が、本発明の導出のために保有していたり、あるいは本発明の導出過程で習得したりした知見であり、必ずしも本発明の出願前に一般公衆に公開されたことではない。

本発明は、製造が容易であり、有機発光表示装置のための大型基板量産工程に容易に適用され、製造収率及び蒸着効率の向上した蒸着源アセンブリ、有機層蒸着装置及びそれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供することを目的とする。

前記のような課題を達成するための本発明の一実施形態によれば、蒸着物質を放射する第１蒸着源、及び前記第１蒸着源上にスタックされた形態に配列され、前記第１蒸着源と異なる蒸着物質を放射する第２蒸着源；被蒸着体に向かう第２蒸着源の一側に配置され、前記第２蒸着源から形成された複数個の第２蒸着源ノズルを含む第２蒸着源ノズル部；及び前記第２蒸着源の一側に配置され、前記第１蒸着源から前記第２蒸着源を貫通して形成された第１蒸着源ノズルを含む第１蒸着源ノズル部；を含む蒸着源アセンブリを提供する。

本発明の他の特徴によれば、前記第２蒸着源の温度は、前記第１蒸着源の温度より高く維持される。

本発明の他の特徴によれば、前記被蒸着体に向かう前記第２蒸着源の一側に、前記第１蒸着源ノズル及び前記第２蒸着源ノズルが一列に配列され、前記第１蒸着源ノズルそれぞれは、前記第２蒸着源ノズルそれぞれと交互に配置される。

本発明の他の特徴によれば、前記被蒸着体に向かう前記第２蒸着源の一側に、前記第１蒸着源ノズル及び前記第２蒸着源ノズルが一列に配列され、前記第１蒸着源ノズルそれぞれが、前記第２蒸着源ノズルそれぞれの内部に同芯型に配置される。

本発明の他の特徴によれば、前記第１蒸着源は、ホスト物質を放射し、前記第２蒸着源は、ドーパント物質を放射する。

本発明の他の特徴によれば、前記第１蒸着源は、ドーパント物質を放射し、前記第２蒸着源は、ホスト物質を放射する。

本発明の他の特徴によれば、各蒸着源に備わった前記ホスト物質の量は、前記ドーパント物質の量よりも多い。

前記のような課題を達成するための本発明の一実施形態によれば、基板上に有機層を形成するための有機層蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源；前記蒸着源の一側に配置されて複数個の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部；及び前記蒸着源ノズル部と対向するように配置され、複数個のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシート；を含み、前記蒸着源は、第１蒸着源、及び前記第１蒸着源上にスタックされた形態に配列される第２蒸着源を含み、前記蒸着源ノズル部は、前記基板に向かう第２蒸着源の一側に配置され、前記第２蒸着源から形成された複数個の第２蒸着源ノズルを含む第２蒸着源ノズル部、及び前記第２蒸着源の一側に配置され、前記第１蒸着源から前記第２蒸着源を貫通して形成された第１蒸着源ノズルを含む第１蒸着源ノズル部；を含み、前記基板は、前記有機層蒸着装置と所定距離離隔されて配置され、前記有機層蒸着装置に対して相対的に移動可能であることを特徴とする有機層蒸着装置を提供する。

本発明の他の特徴によれば、前記第２蒸着源の温度は、前記第１蒸着源の温度より高く維持される。

本発明の他の特徴によれば、前記基板に向かう前記第２蒸着源の一側に、前記第１蒸着源ノズル及び前記第２蒸着源ノズルが一列に配列され、前記第１蒸着源ノズルそれぞれは、前記第２蒸着源ノズルそれぞれと交互に配置される。

本発明の他の特徴によれば、前記基板に向かう前記第２蒸着源の一側に、前記第１蒸着源ノズル及び前記第２蒸着源ノズルが一列に配列され、前記第１蒸着源ノズルそれぞれが、前記第２蒸着源ノズルそれぞれの内部に同芯型に配置される。

本発明の他の特徴によれば、前記有機層蒸着装置の前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されることを特徴とする。

本発明の他の特徴によれば、前記蒸着源ノズル部には、第１方向に沿って、複数個の蒸着源ノズルが形成され、前記パターニングスリットシートには、前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って、複数個のパターニングスリットが形成されることを特徴とする。

本発明の他の特徴によれば、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは、連結部材によって結合されて一体に形成されることを特徴とする。

本発明の他の特徴によれば、前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドすることを特徴とする。

本発明の他の特徴によれば、前記連結部材は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシート間の空間を、外部から密閉するように形成されることを特徴とする。

本発明の他の特徴によれば、前記蒸着源ノズル部には、第１方向に沿って、複数個の蒸着源ノズルが形成され、前記パターニングスリットシートには、前記第１方向に沿って、複数個のパターニングスリットが形成され、前記有機層蒸着装置は、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間に、前記第１方向に沿って配置され、前記蒸着源ノズル部と、前記パターニングスリットシートとの間の空間を複数個の蒸着空間に区画する複数枚の遮断板を具備する遮断板アセンブリをさらに含む。

本発明の他の特徴によれば、前記複数枚の遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直である第２方向に沿って延びるように形成されたことを特徴とする。

本発明の他の特徴によれば、前記遮断板アセンブリは、複数枚の第１遮断板を具備する第１遮断板アセンブリと、複数枚の第２遮断板を具備する第２遮断板アセンブリと、を含むことを特徴とする。

本発明の他の特徴によれば、前記複数枚の第１遮断板及び前記複数枚の第２遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直である第２方向に形成され、前記蒸着源ノズル部と、前記パターニングスリットシートとの間の空間を複数個の蒸着空間に区画することを特徴とする。

本発明の他の特徴によれば、前記有機層蒸着装置は、チャンバをさらに含み、前記蒸着源ノズル部には、第１方向に沿って、複数個の蒸着源ノズルが形成され、前記パターニングスリットシートは、前記チャンバの内側に固定結合され、前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って、複数個のパターニングスリットが形成されることを特徴とする。

本発明の他の特徴によれば、前記基板が固定された静電チャックを、前記第１方向に沿って移動させる第１循環部をさらに含む。

本発明の他の特徴によれば、前記第１循環部は、内部に前記蒸着源が収容されるフレーム；及び前記フレームの内側面から突設され、前記パターニングスリットシートを支持するシート支持台；を含む。

本発明の他の特徴によれば、前記第１蒸着源は、ホスト物質を放射し、前記第２蒸着源は、ドーパント物質を放射する。

本発明の他の特徴によれば、前記第１蒸着源は、ドーパント物質を放射し、前記第２蒸着源は、ホスト物質を放射する。

本発明の他の特徴によれば、各蒸着源に備わった前記ホスト物質の量は、前記ドーパント物質の量よりも多い。

前記のような課題を達成するための本発明の一実施形態によれば、蒸着物質を放射する蒸着源、前記蒸着源の一側に配置され、複数個の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部、及び前記蒸着源ノズル部と対向するように配置され、複数個のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートを含み、前記蒸着源は、第１蒸着源、及び前記第１蒸着源上にスタックされた形態に配列される第２蒸着源を含み、前記蒸着源ノズル部は、前記基板に向かう第２蒸着源の一側に配置され、前記第２蒸着源から形成された複数個の第２蒸着源ノズルを含む第２蒸着源ノズル部、及び前記第２蒸着源の一側に配置され、前記第１蒸着源から前記第２蒸着源を貫通して形成された第１蒸着源ノズルを含む第１蒸着源ノズル部を含む有機層蒸着装置において、被蒸着用基板を前記パターニングスリットシートから所定距離離隔して配置する段階と、前記有機層蒸着装置と前記基板とのうちいずれか一側を他側に対して相対的に移動しつつ、前記有機層蒸着装置で放射される蒸着物質を前記基板上に蒸着する段階と、を含む有機発光表示装置の製造方法を提供する。

本発明の他の特徴によれば、前記第２蒸着源の温度は、前記第１蒸着源の温度より高く維持される。

本発明の他の特徴によれば、前記基板に向かう前記第２蒸着源の一側に、前記第１蒸着源ノズル及び前記第２蒸着源ノズルが一列に配列され、前記第１蒸着源ノズルそれぞれは、前記第２蒸着源ノズルそれぞれと交互に配置される。

本発明の他の特徴によれば、前記基板に向かう前記第２蒸着源の一側に、前記第１蒸着源ノズル及び前記第２蒸着源ノズルが一列に配列され、前記第１蒸着源ノズルそれぞれが、前記第２蒸着源ノズルそれぞれの内部に同芯型に配置される。

本発明の他の特徴によれば、前記第１蒸着源は、ホスト物質を放射し、前記第２蒸着源は、ドーパント物質を放射する。

本発明の他の特徴によれば、前記第１蒸着源は、ドーパント物質を放射し、前記第２蒸着源は、ホスト物質を放射する。

本発明の他の特徴によれば、各蒸着源に備わった前記ホスト物質の量は、前記ドーパント物質の量よりも多い。

本発明の他の特徴によれば、前記有機層蒸着装置の前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されることを特徴とする。

本発明の他の特徴によれば、前記蒸着源ノズル部には、第１方向に沿って、複数個の蒸着源ノズルが形成され、前記パターニングスリットシートには、前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って、複数個のパターニングスリットが形成されることを特徴とする。

本発明の他の特徴によれば、前記蒸着源ノズル部には、第１方向に沿って、複数個の蒸着源ノズルが形成され、前記パターニングスリットシートには、前記第１方向に沿って、複数個のパターニングスリットが形成され、前記有機層蒸着装置は、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間に、前記第１方向に沿って配置され、前記蒸着源ノズル部と、前記パターニングスリットシートとの間の空間を複数個の蒸着空間に区画する複数枚の遮断板を具備する遮断板アセンブリをさらに含む。

本発明の他の特徴によれば、前記有機層蒸着装置は、チャンバをさらに含み、前記蒸着源ノズル部には、第１方向に沿って、複数個の蒸着源ノズルが形成され、前記パターニングスリットシートは、前記チャンバの内側に固定結合され、前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って、複数個のパターニングスリットが形成されることを特徴とする。

本発明の他の特徴によれば、前述の有機層蒸着装置によって製造された有機発光表示装置を提供する。

本発明の蒸着源アセンブリ、有機層蒸着装置及びそれを利用した有機発光表示装置の製造方法によれば、製造が容易であり、大型基板量産工程に容易に適用され、製造収率及び蒸着効率が向上する。

本発明の一実施形態に係る蒸着源アセンブリを概略的に図示した斜視図である。 図１の蒸着源アセンブリの概略的な側断面図である。 図１の蒸着源アセンブリの概略的な側断面図である。 図１の蒸着源アセンブリの動作を概略的に図示した断面図である。 本発明の他の実施形態に係る蒸着源アセンブリを概略的に図示した斜視図である。 図４の蒸着源アセンブリの概略的な側断面図である。 図４の蒸着源アセンブリの動作を概略的に図示した断面図である。 本発明の一実施形態に係る有機層蒸着装置の有機層蒸着アセンブリを概略的に図示した斜視図である。 図７の有機層蒸着アセンブリの概略的な側断面図である。 図７の有機層蒸着アセンブリの概略的な平断面図である。 本発明の他の一実施形態に係る有機層蒸着アセンブリを示す図面である。 本発明のさらに他の一実施形態に係る有機層蒸着アセンブリを示す図面である。 本発明のさらに他の一実施形態に係る有機層蒸着アセンブリを示す図面である。 図１２の有機層蒸着アセンブリの概略的な正面図である。 本発明の有機層蒸着装置を利用して製造されたアクティブマトリックス型有機発光表示装置の断面図である。

以下、添付した図面を参照して、本発明の実施形態について、本発明が属する技術分野で当業者が容易に実施できるように詳細に説明する。本発明は、さまざまな異なる形態で具現可能であり、ここで説明する実施形態に限定されるものではない。

図１は、本発明の一実施形態に係る蒸着源アセンブリ２０１を概略的に図示した斜視図であり、図２Ａは、図１のＩ−Ｉに沿って切り取った側断面図であり、図２Ｂは、図１のＩＩ−ＩＩに沿って切り取った側断面図である。図３は、図１の蒸着源アセンブリ２０１の動作を概略的に図示した断面図である。

図１ないし図２Ｂを参照すれば、本発明の一実施形態による蒸着源アセンブリ２０１は、蒸着源１１０と蒸着源ノズル部１２０とを含む。

蒸着源１１０は、第１蒸着源１１０ａと第２蒸着源１１０ｂとからなってもよい。第１蒸着源１１０ａと第２蒸着源１１０ｂとは、それぞれ蒸着物質１１５ａ，１１５ｂを気化させ、被蒸着体５００（図３）上に薄膜を形成する。

詳細には、第１蒸着源１１０ａは、蒸着物質としてホスト物質１１５ａを具備し、第２蒸着源１１０ｂは、蒸着物質としてドーパント物質１１５ｂを具備することができる。ホスト物質１１５ａとドーパント物質１１５ｂとの気化温度が互いに異なるために、ホスト物質１１５ａとドーパント物質１１５ｂとを同時に蒸着するために、蒸着源及びノズル部を複数で構成する。

ホスト物質１１５ａとしては、トリス（８−ヒドロキシ−キノリラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）、９，１０−ジ（ナフト−２−イル）アントラセン（ＡＮＤ）、３−ｔｅｒｔ−ブチル−９，１０−ジ（ナフト−２−イル）アントラセン（ＴＢＡＤＮ）、４，４’−ビス（２，２−ジフェニル−エテン−１−イル）−４，４’−ジメチルフェニル（ＤＰＶＢｉ）、４，４’−ビス（２，２−ジフェニル−エテン−１−イル）−４，４’−ジメチルフェニル（ｐ−ＤＭＤＰＶＢｉ）、Ｔｅｒｔ（９，９−ジアリールフルオレン）ｓ（ＴＤＡＦ）、２−（９，９’−スピロビフルオレン−２−イル）−９，９’−スピロビフルオレン（ＢＳＤＦ）、２，７−ビス（９，９’−スピロビフルオレン−２−イル）−９，９’−スピロビフルオレン（ＴＳＤＦ）、ビス（９，９−ジアリールフルオレン）ｓ（ＢＤＡＦ）、４，４’−ビス（２，２−ジフェニル−エテン−１−イル）−４，４’−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル（ｐ−ＴＤＰＶＢｉ）、１，３−ビス（カルバゾール−９−イル）ベンゼン（ｍＣＰ）、１，３，５−トリス（カルバゾール−９−イル）ベンゼン（ｔＣＰ）、４，４’、４”−トリス（カルバゾール−９−イル）トリフェニルアミン（ＴｃＴａ）、４，４’−ビス（カルバゾール−９−イル）ビフェニル（ＣＢＰ）、４，４’−ビス（９−カルバゾリル）−２，２’−ジメチル−ビフェニル（ＣＢＤＰ）、４，４’−ビス（カルバゾール−９−イル）−９，９−ジメチル−フルオレン（ＤＭＦＬ−ＣＢＰ）、４，４’−ビス（カルバゾール−９−イル）−９，９−ビス（９−フェニル−９Ｈ−カルバゾール）フルオレン（ＦＬ−４ＣＢＰ）、４，４’−ビス（カルバゾール−９−イル）−９，９−ジ−トリル−フルオレン（ＤＰＦＬ−ＣＢＰ）、９，９−ビス（９−フェニル−９Ｈ−カルバゾール）フルオレン（ＦＬ−２ＣＢＰ）などが使われてもよい。

ドーパント物質１１５ｂとしては、４，４’−ビス［４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル］ビフェニル（ＤＰＡＶＢｉ）、９，１０−ジ（２−ナフチル）アントラセン（ＡＤＮ）、３−ｔｅｒｔ−ブチル−９，１０−ジ（２−ナフチル）アントラセン（ＴＢＡＤＮ）などが使われてもよい。

ホスト物質１１５ａは、ドーパント物質１１５ｂより多くの量が使われる。ドーパント物質１１５ｂの含有量は、薄膜形成材料によって可変であるが、ドーパント物質１１５ｂが薄膜形成材料（ホストとドーパントとの総重量）１００重量部を基準として、３ないし２０重量部であることが望ましい。もしドーパント物質１１５ｂの含有量が前記範囲を外れると、有機発光素子の発光特性が低下しうる。従って、ホスト物質１１５ａを収容する第１蒸着源１１０ａの体積が、ドーパント物質１１５ｂを収容する第２蒸着源１１０ｂの体積より大きい。

一方、第１蒸着源１１０ａと第２蒸着源１１０ｂは、上下に配列される。すなわち、第２蒸着源１１０ｂは、第１蒸着源１１０ａ上にスタックされた形態に配列される。一方、図１ないし図２Ｂでは、ホスト物質１１５ａが、第１蒸着源１１０ａに備わった形態を開示しているが、本願は、これに限定されるものではなく、ホスト物質１１５ａが第２蒸着源１１０ｂに収容されることも可能である。ただし、その場合には、図１ないし図２Ｂに図示された態様と異なり、第２蒸着源１１０ｂの体積が第１蒸着源１１０ａの体積より大きくなければならない。

このような蒸着源の配列に関し、従来、第１蒸着源１１０ａと第２蒸着源１１０ｂとが左右に並んで一列に配列されて、蒸着されるホスト物質１１５ａとドーパント物質１１５ｂとのドーピングが均一にならないという問題があった。すなわち、放射されたホスト物質１１５ａとドーパント物質１１５ｂとが重畳される部分の面積が狭く、特に、重畳される部分の両縁には、ホスト物質１１５ａまたはドーパント物質１１５ｂだけ単独で存在する領域が生じてしまい、ドーピング均一度（ｄｏｐｉｎｇ ｕｎｉｆｏｒｍｉｔｙ）が低下するという問題があった。しかし、図１の蒸着源１１０によれば、第１蒸着源１１０ａと第２蒸着源１１０ｂとが上下に配列され、ホスト物質１１５ａとドーパント物質１１５ｂとが所定の領域に対し、それぞれ均一に放射されることによって、ドーピング均一度を高く確保できるという効果がある。

第１蒸着源１１０ａは、その内部にホスト物質１１５ａが充填されるルツボ１１２ａと、ルツボ１１２ａを加熱させてルツボ１１２ａ内部に充填されたホスト物質１１５ａをルツボ１１２ａの一側、詳細には被蒸着体に向かって蒸発させるためのヒータ１１３ａと、を含む。ヒータ１１３ａは、ルツボ１１２ａを取り囲む冷却ブロック１１１ａに含まれ、冷却ブロック１１１ａは、ルツボ１１２ａからの熱が外部、すなわちチャンバ内部に発散することを最大限抑制するためのものである。一方、第２蒸着源１１０ｂも同一に、その内部にドーパント物質１１５ｂが充填されるルツボ１１２ｂと、ルツボ１１２ｂを加熱させ、ルツボ１１２ｂ内部に充填されたドーパント物質１１５ｂをルツボ１１２ｂの一側、詳細には被蒸着体に向かって蒸発させるためのヒータ１１３ｂと、を含む。ヒータ１１３ｂは、ルツボ１１２ｂを取り囲む冷却ブロック１１１ｂに含まれる。

ここで、上部に位置する第２蒸着源１１０ｂは、下部に位置する第１蒸着源１１０ａに比べ、高温度に維持される。すなわち、上部に位置する第２蒸着源１１０ｂに気化温度が比較的高い物質を配置し、下部に位置する第１蒸着源１１０ａに気化温度が比較的低い物質を配置する。なぜならば、下部の第１蒸着源１１０ａの蒸着源ノズルは、上部の第２蒸着源１１０ｂを貫通して形成されるために、上部の第２蒸着源１１０ｂの温度が低い場合、ノズル内部で蒸着物質が固相に変わり、ノズルがふさがる心配があるためである。従って、第２蒸着源１１０ｂに含まれたヒータ１１３ｂの熱量が、第１蒸着源１１０ａに含まれたヒータ１１３ａの熱量より高くなければならない。

第２蒸着源１１０ｂの一側、詳細には、第２蒸着源１１０ｂで、被蒸着体（基板５００（図３））に向かう側には、蒸着源ノズル部１２０が配置される。詳細には、第１蒸着源１１０ａは、第２蒸着源１１０ｂの下部に配置されるために、第１蒸着源ノズル１２１ａを含む第１蒸着源ノズル部は、第２蒸着源１１０ｂを貫通して第２蒸着源１１０ｂの一側、詳細には第２蒸着源１１０ｂで、被蒸着体に向かう側に配置される。第２蒸着源ノズル１２１ｂを含む第２蒸着源ノズル部も、第２蒸着源１１０ｂの一側に配置される。そして、蒸着源ノズル部１２０には、複数個の蒸着源ノズルが形成される。蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂは、ルツボに収められた蒸着物質を被蒸着体に放射させる通路に該当し、各蒸着源から被蒸着体に向かうように延びて形成される。

ここで、第１蒸着源ノズル１２１ａ及び第２蒸着源ノズル１２１ｂは、被蒸着体に向かう第２蒸着源１１０ｂの一側に一列に配列される。また、図１からも分かるように、第１蒸着源ノズル１２１ａそれぞれは、第２蒸着源ノズル１２１ｂそれぞれと交互に配置される。こうすることで、所定の放射領域で、ホスト物質１１５ａとドーパント物質１１５ｂとが互いに均一に蒸着される。

かような構成によって、図３に図示されたように、基板全体にわたって、ホスト物質１１５ａとドーパント物質１１５ｂとの混合比率が均一になるという効果を得ることができる。そして、ホスト物質１１５ａとドーパント物質１１５ｂとが均一な割合で含まれていた混合物で薄膜層を形成する場合、色座標、光効率、駆動電圧、寿命のいずれの面でも向上した特性を達成することができる。

図４は本発明の他の実施形態に係る蒸着源アセンブリ２０２を概略的に図示した斜視図であり、図５は図４のＩＩＩ−ＩＩＩに沿って切り取った側断面図である。図６は、図４の蒸着源アセンブリ２０２の動作を概略的に図示した断面図である。

図４ないし図６を参照すれば、蒸着源１１０の構成は、図１の蒸着源アセンブリ２０１と同一であるが、蒸着源ノズル部１２０に含まれたノズルの形態及び配置が図１と異なる。すなわち、図４の蒸着源アセンブリ２０２は、被蒸着体に向かう第２蒸着源１１０ｂの一側に、第１蒸着源ノズル１２１ａ’及び前記第２蒸着源ノズル１２１ｂ’が一列に配列される。また、図５から分かるように、第１蒸着源ノズル１２１ａ’それぞれが、第２蒸着源ノズル１２１ｂ’それぞれの内部に同芯型に配置される。これにより、図６を参照すれば、ホスト物質１１５ａの放射領域及びドーパント物質の１１５ｂの放射領域が重畳される部分を広く形成することによって、図１の蒸着源アセンブリ２０１より、ホスト物質１１５ａとドーパント物質１１５ｂとをさらに均一に蒸着できる。なお、図１を参照して説明した本発明の第１実施形態での構成要素と対応する構成要素は、第１実施形態で説明したところと同一または類似した機能を有するので、これらについての説明は省略する。

次に、本発明の一実施形態による有機層蒸着装置の有機層蒸着アセンブリについて説明する。図７は有機層蒸着装置の有機層蒸着アセンブリ１００を概略的に図示した斜視図であり、図８は図７の有機層蒸着アセンブリ１００の概略的な側断面図であり、図９は図７の有機層蒸着アセンブリ１００の概略的な平断面図である。

有機層蒸着アセンブリ１００は、有機層蒸着装置の蒸着部に含まれるものであり、蒸着部は、複数個の蒸着チャンバを具備することができ、各蒸着チャンバには、複数個の有機層蒸着アセンブリ１００が配置されてもよい。有機層蒸着アセンブリ１００の個数は、蒸着物質及び蒸着条件によって変更できる。また、蒸着チャンバは、蒸着が進められる間、真空に維持される。一方、被蒸着体である基板５００は、静電チャック６００によって固定され、蒸着チャンバに移送される。

図７ないし図９を参照すれば、本発明の一実施形態に係る有機層蒸着アセンブリ１００は、蒸着源アセンブリ２０１、遮断板アセンブリ１３０及びパターニングスリットシート１５０を含む。

ここで、図７ないし図９には、説明の便宜のために、蒸着チャンバを図示していないが、図７ないし図９のあらゆる構成は、適切な真空度が維持されるチャンバ内に配置されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。

かような蒸着チャンバ内には、被蒸着体である基板５００が、静電チャック６００によって移送される。基板５００は、平板表示装置用基板にもなるが、多数の平板表示装置を形成することができるマザーガラス（ｍｏｔｈｅｒ ｇｌａｓｓ）のような大面積基板が適用されてもよい。

ここで、本発明の一実施形態では、基板５００が有機層蒸着アセンブリ１００に対して相対的に移動するが、望ましくは、有機層蒸着アセンブリ１００に対して、基板５００を矢印Ａ側に移動させることができる。

従来、既存ＦＭＭ（ｆｉｎｅ ｍｅｔａｌ ｍａｓｋ）蒸着方法では、マスクのサイズが基板サイズと同一であるか、あるいはそれよりも大きくなければならなかった。従って、基板サイズが増大するほど、マスクも大型化せねばならないが、かような大型のマスク製作は容易ではない。また、マスクを拡張して精密なパターンにアライン（ａｌｉｇｎ）するのも容易ではない。

かような問題点を解決するために、本発明の一実施形態に係る有機層蒸着アセンブリ１００は、有機層蒸着アセンブリ１００と基板５００とが互いに相対的に移動しつつ、蒸着がなされることを一つの特徴とする。言い換えれば、有機層蒸着アセンブリ１００と対向するように配置された基板５００が、Ｙ軸方向に沿って移動しつつ、連続して蒸着を行うのである。すなわち、基板５００が図７の矢印Ａ側に移動しつつ、スキャニング（ｓｃａｎｎｉｎｇ）方式で蒸着が行われるのである。ここで図面には、基板５００が蒸着チャンバ内で、Ｙ軸方向に移動しつつ蒸着がなされると図示されているが、本発明の思想は、それに限定されるものではなく、基板５００は固定されており、有機層蒸着アセンブリ１００自体が、Ｙ軸方向に移動しつつ蒸着を行うことも可能である。

従って、本発明の有機層蒸着アセンブリ１００では、従来のＦＭＭに比べて、はるかに小さくパターニングスリットシート１５０を作ることができる。すなわち、本発明の有機層蒸着アセンブリ１００の場合、基板５００がＹ軸方向に沿って連続的に移動しつつ、すなわちスキャニング方式で蒸着を行うため、パターニングスリットシート１５０のＸ軸方向への幅、及び基板５００のＸ軸方向への幅のみ実質的に同一に形成されさえすれば、パターニングスリットシート１５０のＹ軸方向の長さは、基板５００の長さよりはるかに短く形成されても差し支えない。もちろん、パターニングスリットシート１５０のＸ軸方向への幅が、基板５００のＸ軸方向への幅より小さく形成されても、基板５００と有機層蒸着アセンブリ１００とのＸ軸方向への相対的移動によるスキャニング方式によって、十分に基板５００全体に対して蒸着が可能である。

このように、従来のＦＭＭに比べて、はるかに小さくパターニングスリットシート１５０を作ることができるために、本発明のパターニングスリットシート１５０は、その製造が容易である。すなわち、パターニングスリットシート１５０のエッチング作業や、その後の精密引っ張り作業及び溶接作業、移動作業及び洗浄作業などのあらゆる工程で、小サイズのパターニングスリットシート１５０が、ＦＭＭ蒸着方法に比べて有利である。また、これは、ディスプレイ装置が大型化するほどさらに有利になる。

このように、有機層蒸着アセンブリ１００と基板５００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着がなされるためには、有機層蒸着アセンブリ１００と基板５００とが一定距離離隔されていることが望ましい。これについては、後で詳細に述べることとする。

なお、チャンバ内で、基板５００と対向する側には、蒸着物質１１５ａ，１１５ｂが収納及び加熱される蒸着源アセンブリ２０１が配置される。図７の蒸着源アセンブリ２０１で、図１の蒸着源アセンブリ２０１を図示したが、それは例示的なものに過ぎず、図４に図示された蒸着源アセンブリ２０２でもある。また、パターニングスリットシート１５０のパターニングスリットは、Ｘ軸方向に沿って形成されてもよい。

前述のように、蒸着源１１０は、第１蒸着源１１０ａ、及び第１蒸着源１１０ａ上に配置された第２蒸着源１１０ｂを含む。それぞれの蒸着源１１０ａ，１１０ｂは、その内部に蒸着物質１１５ａ，１１５ｂが充填されるルツボ１１２ａ，１１２ｂと、このルツボ１１２ａ，１１２ｂを加熱させるヒータ１１３ａ，１１３ｂとが備わり、蒸着物質の円滑な放射のために、上部に位置する第２蒸着源１１０ｂの温度は、第１蒸着源１１０ａに比べて高く維持される。また、ホスト物質１１５ａ及びドーパント物質１１５ｂは、第１蒸着源１１０ａまたは第２蒸着源１１０ｂのどこに備わっても差し支えないが、ホスト物質１１５ａの量がドーパント物質１１５ｂの量よりも多くなければならないために、ホスト物質１１５ａを具備する蒸着源の体積がさらに大きくなければならない。

前述のように、蒸着源１１０の一側、詳細には、第２蒸着源１１０ｂで、基板５００に向かう側には、蒸着源ノズル部１２０が配置される。蒸着源ノズル部１２０は、Ｘ軸方向に沿って、複数個の蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂが形成される。また、蒸着源ノズル部１２０は、第１蒸着源ノズル１２１ａを含む第１蒸着源ノズル部、及び第２蒸着源ノズル１２１ｂを含む第２蒸着源ノズル部を含む。第１蒸着源ノズル１２１ａは、第２蒸着源１１０ｂを貫通して、第２蒸着源１１０ｂの一側に形成され、第１蒸着源ノズル１２１ａそれぞれは、第２蒸着源ノズル１２１ｂそれぞれと交互に配置される。これにより、所定の放射領域で、ホスト物質とドーパント物質とが互いに均一に蒸着される。

蒸着源ノズル部１２０の一側には、遮断板アセンブリ１３０が備わる。遮断板アセンブリ１３０は、複数枚の遮断板１３１と、遮断板１３１の外側に備わる遮断板フレーム１３２とを含む。複数枚の遮断板１３１は、Ｘ軸方向に沿って互いに平行に配置される。ここで、複数枚の遮断板１３１は、等間隔に形成される。また、それぞれの遮断板１３１は、図面で見たとき、ＹＺ平面に沿って配置されており、望ましくは、長方形で備わる。このように配置された複数枚の遮断板１３１は、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間の空間を複数個の蒸着空間Ｓに区画する。すなわち、本発明の一実施形態に係る有機層蒸着アセンブリ１００は、遮断板１３１によって、図９から分かるように、ホスト物質及びドーパント物質が噴射されるそれぞれの第１蒸着源ノズル１２１ａ及び第２蒸着源ノズル１２１ｂの組別に蒸着空間Ｓが分離される。

ここで、それぞれの遮断板１３１は、第１蒸着源ノズル１２１ａ及び第２蒸着源ノズル１２１ｂの組間に配置される。これは言い換えれば、互いに隣接している遮断板１３１間に、ホスト物質を放射する蒸着源ノズル１２１ｂ、及びドーパント物質を放射する蒸着源ノズル１２１ａが１つのグループに配置される。望ましくは、第１蒸着源ノズル１２１ａ及び第２蒸着源ノズル１２１ｂの組は、互いに隣接している遮断板１３１間の真ん中に位置する。しかし、本発明は、必ずしもそれに限定されるものではなく、互いに隣接している遮断板１３１間に、複数の第１蒸着源ノズル１２１ａ及び第２蒸着源ノズル１２１ｂの組が配置しても差し支えない。ただし、その場合にも、複数の第１蒸着源ノズル１２１ａ及び第２蒸着源ノズル１２１ｂの組を、互いに隣接している遮断板１３１間の真ん中に位置させることが望ましい。

このように、遮断板１３１が蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間の空間を、複数個の蒸着空間Ｓに区画することによって、１つの第１蒸着源ノズル１２１ａ及び第２蒸着源ノズル１２１ｂの組から排出される蒸着物質は、他の第１蒸着源ノズル１２１ａ及び第２蒸着源ノズル１２１ｂの組から排出された蒸着物質と混合されず、パターニングスリット１５１を通過し、基板５００に蒸着される。すなわち、遮断板１３１は、各第１蒸着源ノズル１２１ａ及び第２蒸着源ノズル１２１ｂの組を介して排出される蒸着物質が分散されずに、Ｚ軸方向に直進するように、蒸着物質の移動経路をガイドする役割を行う。

従って、遮断板１３１を具備し、蒸着物質の直進性を確保することによって、基板に形成される陰影（ｓｈａｄｏｗ）（蒸着物質の進行方向の変化によって堆積量が変化する部分）のサイズを大幅に小さくすることができ、有機層蒸着アセンブリ１００と基板５００とを一定程度離隔させることが可能になる。これについては、後に詳細に述べることとする。

一方、蒸着源１１０と基板５００との間には、パターニングスリットシート１５０及びフレーム１５５がさらに備わる。フレーム１５５は、ほぼ窓枠のような形態で形成され、その内側に、パターニングスリットシート１５０が結合される。そして、パターニングスリットシート１５０には、Ｘ軸方向に沿って複数個のパターニングスリット１５１が形成される。各パターニングスリット１５１は、Ｙ軸方向に沿って延びている。蒸着源１１０内で気化され、第１蒸着源ノズル１２１ａ及び第２蒸着源ノズル１２１ｂの組を通過した蒸着物質１１５ａ，１１５ｂは、パターニングスリット１５１を通過し、被蒸着体である基板５００側に向かう。

パターニングスリットシート１５０は、金属薄板で形成され、引っ張られた状態でフレーム１５５に固定される。パターニングスリット１５１は、ストライプタイプでパターニングスリットシート１５０にエッチングにより形成される。ここで、パターニングスリット１５１の個数は、基板５００に形成される蒸着パターンの個数に対応することが望ましい。

ここで、前述の遮断板アセンブリ１３０とパターニングスリットシート１５０とは、互いに一定距離離隔されるように形成され、遮断板アセンブリ１３０とパターニングスリットシート１５０とは、別途の連結部材１３５によって互いに連結される。

前述のように、本発明の一実施形態に係る有機層蒸着アセンブリ１００は、基板５００に対して相対的に移動しつつ蒸着を行い、このような相対移動をするために、パターニングスリットシート１５０は、基板５００から一定程度離隔されるように形成される。そして、パターニングスリットシート１５０と基板５００とを離隔させる場合に発生する陰影という問題を解決するために、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間に遮断板１３１を具備し、蒸着物質の直進性を確保することによって、基板に形成される陰影のサイズを大幅に減少さる。

従来のＦＭＭ蒸着方法では、基板に陰影を生じさせないために、基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、このように基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触によって基板にすでに形成されていたパターンが引っかかれて不良が生じるという問題が存在した。また、マスクを基板に対して移動させられないために、マスクが基板と同じサイズに形成されねばならなかった。従って、ディスプレイ装置が大型化されることによって、マスクのサイズも大きくならなければならないが、かような大型マスクを形成することが容易ではないという問題が存在した。

かような問題を解決するために、本発明の一実施形態に係る有機層蒸着アセンブリ１００では、パターニングスリットシート１５０が被蒸着体である基板５００と所定間隔をおいて離隔されるように配置される。これは、遮断板１３１を具備し、基板５００に生成される陰影を小さくすることによって実現可能になる。

かような有機層蒸着装置を利用し、有機発光表示装置の有機層などの薄膜を形成することが可能であるが、これについては、図１４に関連して詳細に説明する。

図１０は、本発明の他の一実施形態に係る有機層蒸着アセンブリ８００を概略的に図示した斜視図である。

図１０に図示された実施形態に係る有機層蒸着アセンブリ８００は、蒸着源アセンブリ２０１、第１遮断板アセンブリ８３０、第２遮断板アセンブリ８４０及びパターニングスリットシート８５０を含む。ここで、蒸着源アセンブリ２０１、第１遮断板アセンブリ８３０及びパターニングスリットシート８５０の詳細な構成は、前述の図７による実施形態と同一であるので、詳細な説明を省略する。本実施形態では、第１遮断板アセンブリ８３０の一側に、第２遮断板アセンブリ８４０が備わるという点で、前述の実施形態と区別される。

詳細には、第２遮断板アセンブリ８４０は、複数枚の第２遮断板８４１と、第２遮断板８４１の外側に備わる第２遮断板フレーム８４２とを含む。複数枚の第２遮断板８４１は、Ｘ軸方向に沿って互いに平行に備わる。そして、複数枚の第２遮断板８４１は、等間隔に形成される。また、それぞれの第２遮断板８４１は、図面で見たとき、ＹＺ平面と平行に、言い換えれば、Ｘ軸方向に垂直になるように形成される。

このように配置された複数枚の第１遮断板８３１及び第２遮断板８４１は、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート８５０との間の空間を区画する役割を行う。すなわち、第１遮断板８３１及び第２遮断板８４１によって、蒸着物質が噴射されるそれぞれの第１蒸着源ノズル１２１ａ及び第２蒸着源ノズル１２１ｂの組別に蒸着空間が分離されることを一つの特徴とする。

ここで、それぞれの第２遮断板８４１は、それぞれの第１遮断板８３１と、一対一で対応するように配置される。言い換えれば、それぞれの第２遮断板８４１は、それぞれの第１遮断板８３１とアラインされて互いに平行に配置される。すなわち、互いに対応する第１遮断板８３１と第２遮断板８４１は、互いに同じ平面上に位置する。図面には、第１遮断板８３１の長さと、第２遮断板８４１のＸ軸方向の幅とが同じであるように図示されているが、本発明の思想は、これに限定されるものではない。すなわち、パターニングスリット８５１との精密なアラインが要求される第２遮断板８４１は、相対的に薄く形成される一方、精密なアラインが要求されない第１遮断板８３１は、相対的に厚く形成され、その製造を容易にするのも可能である。

図１１は、本発明のさらに他の一実施形態による有機層蒸着アセンブリ９００を概略的に図示した斜視図である。

図１１を参照すれば、本発明のさらに他の一実施形態による有機層蒸着アセンブリ９００は、蒸着源アセンブリ２０１及びパターニングスリットシート９５０を含む。

前述のように蒸着源１１０は、第１蒸着源１１０ａ、及び第１蒸着源１１０ａ上に配置された第２蒸着源１１０ｂを含む。それぞれの蒸着源１１０ａ，１１０ｂは、その内部に蒸着物質１１５ａ，１１５ｂが充填されるルツボ１１２ａ，１１２ｂと、このルツボ１１２ａ，１１２ｂを加熱させるヒータ１１３ａ，１１３ｂとが備わり、蒸着物質の円滑な放射のために、上部に位置する第２蒸着源１１０ｂの温度は、第１蒸着源１１０ａに比べて高く維持される。また、ホスト物質１１５ａ及びドーパント物質１１５ｂは、第１蒸着源１１０ａまたは第２蒸着源１１０ｂのどちらに備わっても差し支えないが、ホスト物質１１５ａの量が、ドーパント物質１１５ｂの量よりも多くなければならないために、ホスト物質１１５ａを具備する蒸着源の体積がさらに大きくなければならない。

前述のように、蒸着源１１０の一側、詳細には、第２蒸着源１１０ｂで基板５００に向かう側には、蒸着源ノズル部１２０が配置される。蒸着源ノズル部１２０は、Ｙ軸方向に沿って、複数個の蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂが形成される。一方、蒸着源ノズル部１２０は、第１蒸着源ノズル１２１ａを含む第１蒸着源ノズル部、及び第２蒸着源ノズル１２１ｂを含む第２蒸着源ノズル部を含む。第１蒸着源ノズル１２１ａは、第２蒸着源１１０ｂを貫通し、第２蒸着源１１０ｂの一側に開口するように形成され、第１蒸着源ノズル１２１ａそれぞれは、第２蒸着源ノズル１２１ｂそれぞれと交互に配置される。これにより、所定の放射領域で、ホスト物質とドーパント物質とが互いに均一に蒸着される。

一方、蒸着源１１０と基板５００との間には、パターニングスリットシート９５０及びフレーム９５５がさらに備わり、パターニングスリットシート９５０には、Ｘ軸方向に沿って、複数個のパターニングスリット９５１が形成される。そして、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート９５０は、連結部材９３５によって結合される。

本実施形態は、前述の実施形態に比べ、蒸着源ノズル部１２０に備わった複数個の蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂの配置が異なるが、これについて詳細に説明する。

蒸着源１１０の一側、詳細には、蒸着源１１０で基板５００に向かう側には、蒸着源ノズル部１２０が配置される。そして、蒸着源ノズル部１２０には、Ｙ軸方向、すなわち基板５００のスキャン方向に沿って、複数個の蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂが形成される。

このように、蒸着源ノズル部１２０上に、Ｙ軸方向、すなわち基板５００のスキャン方向に沿って、複数個の蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂが形成される場合、パターニングスリットシート９５０のそれぞれのパターニングスリット９５１を通過する蒸着物質によって形成されるパターンのサイズは、蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂ１つのサイズにだけ依存するので（すなわち、Ｘ軸方向には、蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂが一つ分だけ存在する）、陰影が発生しなくなる。また、多数個の蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂがスキャン方向に存在するので、個別蒸着源ノズル間のフラックス（ｆｌｕｘ）差が生じても、その差が相殺され、蒸着均一度が一定に維持されるという効果を得る。併せて、図７などに図示された実施形態に備わった遮断板アセンブリが備わらないために、遮断板アセンブリに蒸着物質が蒸着しなくなり、蒸着物質の利用効率が向上するという効果を得る。

図１２は有機層蒸着装置の第１循環部６１０及び有機層蒸着アセンブリ１１００を概略的に示す斜視図であり、図１３は図１２の正面図である。ここで、図１３では、説明の便宜のために、第１チャンバが省略された状態で図示されている。

図１２及び図１３を参照すれば、本発明のさらに他の実施形態による有機層蒸着装置は、第１循環部６１０と、蒸着部７３０の有機層蒸着アセンブリ１１００とを含む。ここで、第１循環部６１０は、基板が固定された静電チャックを蒸着部に移動させる構成に該当する。

詳細には、有機層蒸着アセンブリ１１００は、蒸着源アセンブリ２０１及びパターニングスリットシート１５０を含む。

前述のように、蒸着源１１０は、第１蒸着源１１０ａ及び第１蒸着源１１０ａ上に配置された第２蒸着源１１０ｂを含む。それぞれの蒸着源１１０ａ，１１０ｂは、その内部に蒸着物質１１５ａ，１１５ｂが充填されるルツボ１１２ａ，１１２ｂと、このルツボ１１２ａ，１１２ｂを加熱させるヒータ１１３ａ，１１３ｂとが備わり、蒸着物質の円滑な放射のために、上部に位置する第２蒸着源１１０ｂの温度は、第１蒸着源１１０ａに比べ、高く維持される。またホスト物質１１５ａ及びドーパント物質１１５ｂは、第１蒸着源１１０ａまたは第２蒸着源１１０ｂのどちらに備わっても差し支えないが、ホスト物質１１５ａの量が、ドーパント物質１１５ｂの量よりも多くなければならないために、ホスト物質１１５ａを具備する蒸着源の体積がより大きくなければならない。

前述のように、蒸着源１１０の一側、詳細には、第２蒸着源１１０ｂで基板５００に向かう側には、蒸着源ノズル部１２０が配置される。蒸着源ノズル部１２０は、Ｙ軸方向に沿って、複数個の蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂが形成される。一方、蒸着源ノズル部１２０は、第１蒸着源ノズル１２１ａを含む第１蒸着源ノズル部、及び第２蒸着源ノズル１２１ｂを含む第２蒸着源ノズル部を含む。第１蒸着源ノズル１２１ａは、第２蒸着源１１０ｂを貫通し、第２蒸着源１１０ｂの一側に形成され、第１蒸着源ノズル１２１ａそれぞれは、第２蒸着源ノズル１２１ｂそれぞれと交互に配置される。これにより、所定の放射領域で、ホスト物質とドーパント物質とが互いに均一に蒸着される。

一方、蒸着源１１０と基板５００との間には、パターニングスリットシート１５０及びフレーム１５５がさらに備わり、パターニングスリットシート１５０には、Ｘ軸方向に沿って複数個のパターニングスリット１５１が形成される。本実施形態では、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１５０が一体に形成されるのではなく、蒸着部７３０内にそれぞれ別途の部材で形成されるという点で、前述の実施形態と区別される。これについては、後に詳細に説明する。

次に、第１循環部６１０についてさらに詳細に説明する。第１循環部６１０は、基板５００を固定している静電チャック６００を移動させる役割を行う。ここで、第１循環部６１０は、下部プレート６１３及び上部プレート６１７を含むフレーム６１１と、フレーム６１１の内側に形成されたシート支持台６１５と、フレーム６１１の上側に形成されたガイド支持台６２１と、ガイド支持台６２１上に形成された１対のガイドレール６２３と、１対のガイドレール６２３上に形成された複数個のガイドブロック６２５と、を含む。これらについての詳細な説明は、次の通りである。

フレーム６１１は、第１循環部６１０の基底部をなし、ほぼ中空の箱状に形成される。ここで、下部プレート６１３は、前記フレーム６１１の下部面を形成し、下部プレート６１３上には、蒸着源１１０が配置される。一方、上部プレート６１７は、フレーム６１１の上部面を形成し、蒸着源１１０から蒸発された蒸着物質１１５ａ，１１５ｂがパターニングスリットシート１５０を通過し、基板５００に蒸着されるように、上部プレート６１７には、開口部６１７ａが形成される。かようなフレーム６１１の各部分は、別途の部材で形成されて結合されもするし、始めから一体型に形成されもする。

ここで、図面には図示されていないが、蒸着源１１０が配置された下部プレート６１３は、カセット形式に形成され、フレーム６１１から外部に取り出されるように形成されもする。従って、蒸着源１１０の交替が容易になる。

シート支持台６１５は、フレーム６１１の内側面から突設され、パターニングスリットシート１５０を支持する役割を行うことができる。また、シート支持台６１５は、蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂを介して排出される蒸着物質１１５ａ，１１５ｂが分散しないように、蒸着物質の移動経路をガイドすることもできる。

一方、前述のように本発明では、基板が固定された静電チャックが、チャンバ内部で直線動しつつ蒸着が行われる。この場合、既存の移送方式であるローラやコンベヤを使用することもでき、さらに、図１２及び図１３に図示されたように、基板の精密な移送のために、ガイドレールとガイドブロックとからなるリニアモーション・システム（ｌｉｎｅａｒ ｍｏｔｉｏｎ ｓｙｓｔｅｍ）を利用することもできる。

詳細には、上部プレート６１７上に形成されたガイド支持台６２１と、ガイド支持台６２１上に形成された１対のガイドレール６２３は、蒸着部７３０の第１チャンバを貫通するように設置される。

ガイド支持台６２１の上部は、ほぼ扁平な平面に形成されており、ガイド支持台６２１の上部面上には、１対のガイドレール６２３が形成されている。そして、ガイドレール６２３には、ガイドブロック６２５が嵌め込まれ、ガイドブロック６２５が、ガイドレール６２３に沿って往復動する。

ガイドブロック６２５には、所定の駆動部（図示せず）が含まれる。駆動部（図示せず）は、ガイドレール６２３に沿ってガイドブロック６２５を移動させる部材であり、それ自体で駆動力を提供するものであり、別途の駆動源からの駆動力をガイドブロック６２５に伝達するものであってもよい。

ここで、ガイドレール６２３としてＬＭ（ｌｉｎｅａｒ ｍｏｔｉｏｎ）レールを具備し、ガイドブロック６２５としてＬＭブロックを具備し、所定のＬＭシステムを構成することができる。ＬＭシステムは、過去のスライディング案内システムに比べ、摩擦係数が小さく、位置誤差がほとんど発生せず、位置決定度が非常に高い移送システムであり、本明細書では、かようなＬＭシステムについては、その詳細な説明を省略する。

かような本発明によって、マスクを基板より小さく形成した後、マスクを基板に対して移動させつつ蒸着を行わせることにより、マスク製作が容易になるという効果を得る。また、基板とマスクとの接触による不良を防止する効果を得る。また工程中、基板とマスクとを密着させる時間が不要となるために、製造速度が向上するという効果を得る。

また、有機層蒸着アセンブリ１１００を構成する蒸着源アセンブリ２０１及びパターニングスリットシート１５０が一体に形成されるのではなく、蒸着部７３０内にそれぞれ別途の部材で形成される。かような構成によって、蒸着物質１１５ａ，１１５ｂの充填のための蒸着源１１０の取り付け及び取り出し、洗浄または交替のためのパターニングスリットシート１５０の取り付け及び取り出しなどが容易に行われるという効果を得る。

図１４は、本発明の有機層蒸着装置を利用して製造されたアクティブマトリックス型有機発光表示装置の断面を図示したものである。

図１４を参照すれば、前記アクティブマトリス型の有機発光表示装置１０は、基板５００上に形成される。基板５００は、透明な素材、例えば、ガラス材、プラスチック材または金属材から形成される。基板５００上には、全体的にバッファ層のような絶縁膜３１が形成されている。

絶縁膜３１上には、図１４から分かるように、ＴＦＴ（ｔｈｉｎ ｆｉｌｍ ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）４０と、キャパシタ５０と、有機発光素子６０とが形成される。なお、符号番号５１，５２は、それぞれキャパシタの下部電極と上部電極とである。

絶縁膜３１の上面には、所定パターンに配列された半導体活性層４１が形成されている。半導体活性層４１は、ゲート絶縁膜３２によって埋め込められている。活性層４１は、ｐ型またはｎ型の半導体によって備わる。

ゲート絶縁膜３２の上面には、活性層４１と対応する所に、ＴＦＴ４０のゲート電極４２が形成される。そして、ゲート電極４２を覆うように、層間絶縁膜３３が形成される。層間絶縁膜３３が形成された後には、ドライエッチングなどのエッチング工程によって、ゲート絶縁膜３２と層間絶縁膜３３とをエッチングし、コンタクトホールを形成し、活性層４１の一部を露出させる。

次に、層間絶縁膜３３上に、ソース／ドレイン電極４３が形成されるが、コンタクトホールを介して露出された活性層４１に接触するように形成される。ソース／ドレイン電極４３を覆うように保護膜３４が形成され、エッチング工程を介して、ドレイン電極４３の一部が露出される。保護膜３４上には、保護膜３４の平坦化のために、別途の絶縁膜をさらに形成することもできる。

一方、有機発光素子６０は電流のフローによって、赤色、緑色、青色の光を発光して所定の画像情報を表示するためのものとして、保護膜３４上に、第１電極６１を形成する。第１電極６１は、ＴＦＴ４０のドレイン電極４３と電気的に連結される。

そして、第１電極６１を覆うように、画素定義膜３５が形成される。この画素定義膜３５に、所定の開口を形成した後、この開口で限定された領域内に、発光層を含む有機層６３を形成する。そして有機層６３上には、第２電極６２を形成する。

画素定義膜３５は、各画素を区画するものであり、有機物から形成され、第１電極６１が形成されている基板の表面、特に、保護層３４の表面を平坦化する。

第１電極６１と第２電極６２は、互いに絶縁されており、発光層を含む有機層６３に、互いに異なる極性の電圧を加えて発光がなされる。

発光層を含む有機層６３は、低分子または高分子の有機物が使われるが、低分子有機物を使用する場合、ホール注入層（ＨＩＬ：ｈｏｌｅ ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ ｌａｙｅｒ）、ホール輸送層（ＨＴＬ：ｈｏｌｅ ｔｒａｎｓｐｏｒｔ ｌａｙｅｒ）、発光層（ＥＭＬ：ｅｍｉｓｓｉｏｎ ｌａｙｅｒ）、電子輸送層（ＥＴＬ：ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｔｒａｎｓｐｏｒｔ ｌａｙｅｒ）、電子注入層（ＥＩＬ：ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ ｌａｙｅｒ）などが単一あるいは複合の構造に積層されて形成され、使用可能な有機材料も、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ，Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ,Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（ｔｒｉｓ−８−ｈｙｄｒｏｘｙｑｕｉｎｏｌｉｎｅ ａｌｕｍｉｎｕｍ）（Ａｌｑ３）などを始めとして多様に適用可能である。

かような有機発光膜を形成した後には、第２電極６２を、やはり同じ蒸着工程で形成することができる。

一方、第１電極６１はアノード電極の機能を行い、第２電極６２はカソード電極の機能を行うことができるが、もちろん、該第１電極６１と該第２電極６２との極性は、反対になっても差し支えない。そして、第１電極６１は各画素の領域に対応するようにパターニングされ、第２電極６２はあらゆる画素を覆うように形成される。

第１電極６１は、透明電極または反射型電極でもって備わるが、透明電極として使われるときには、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、ＺｎＯまたはＩｎ_２Ｏ_３で備わり、反射型電極として使われるときには、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ及びそれらの化合物で反射層を形成した後、その上に、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ_２Ｏ_３で透明電極層を形成することができる。かような第１電極６１は、スパッタリング法などによって成膜された後、フォトリソグラフィ法などによってパターニングされる。

第２電極６２も、透明電極または反射型電極で備わるが、透明電極として使われるときには、この第２電極６２がカソード電極として使われるので、仕事関数が小さい金属、すなわち、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、及びそれらの化合物が、発光層を含む有機層６３側に向かうように蒸着された後、その上に、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ_２Ｏ_３などで補助電極層やバス電極ラインを形成することができる。そして、反射型電極として使われるときには、その上に、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、及びそれらの化合物を全面蒸着して形成する。このとき、蒸着は、前述の発光層を含む有機層６３の場合と同じの方法で行うことができる。

本発明は、それ以外にも、有機ＴＦＴの有機膜または無機膜などの蒸着にも使用され、その他の多様な素材の成膜工程に適用可能である。

図７ないし図１３では、図１に図示された蒸着源アセンブリ２０１が含まれた有機層蒸着装置について図示して説明したが、図１の蒸着源アセンブリ２０１の代わりに、図４に図示された蒸着源アセンブリ２０２を含むこともできる。その場合、図７ないし図１０の実施形態による有機層蒸着装置で、遮断板１３１は、隣接している同芯型蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂは間に配置される。言い換えれば、互いに隣接している遮断板１３１間に、１つの同芯型蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂが配置される。

本明細書では、本発明について、限定された実施形態を中心に説明したが、本発明の範囲内で、多様な実施形態が可能である。また、説明していないが、均等な手段もまた、本発明にそのまま結合されるものである。従って、本発明の真の保護範囲は、特許請求の範囲によって決まる。

本発明の蒸着源アセンブリ、有機層蒸着装置及びそれを利用した有機発光表示装置の製造方法、例えば、有機発光素子関連の技術分野に効果的に適用可能である。

１００ 有機層蒸着アセンブリ、
１１０，１１０’ 蒸着源、
１１０ａ 第１蒸着源、
１１０ｂ，１１０ｂ’ 第２蒸着源、
１１１ａ，１１１ｂ，１１１ｂ’ 冷却ブロック、
１１２ａ，１１２ｂ，１１２ｂ’ ルツボ、
１１３ａ，１１３ｂ ヒータ、
１１５ａ， ホスト物質、
１１５ｂ ドーパント物質、
１２０，１２０’ 蒸着源ノズル部、
１２１ａ，１２１ａ’ 第１蒸着源ノズル、
１２１ｂ，１２１ｂ’ 第２蒸着源ノズル、
１３０ 遮断板アセンブリ、
１３１ 遮断板、
１３２ 遮断板フレーム、
１３５ 連結部材、
１５０ パターニングスリットシート、
１５１ パターニングスリット、
１５５ フレーム、
２０１，２０２ 蒸着源アセンブリ、
５００ 基板、
６００ 静電チャック。

Claims (18)

1. 基板上に有機層を形成するための有機層蒸着装置において、
   蒸着物質を放射する蒸着源と、
   前記蒸着源の一側に配置され、複数個の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、
   前記蒸着源ノズル部と対向するように配置され、複数個のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を含み、
   前記蒸着源は、第１蒸着源、及び前記第１蒸着源上にスタックされた形態に配列される第２蒸着源を含み、
   前記蒸着源ノズル部は、前記基板に向かう第２蒸着源の一側に配置され、前記第２蒸着源から形成された複数個の第２蒸着源ノズルを含む第２蒸着源ノズル部と、前記第２蒸着源の一側に配置され、前記第１蒸着源から前記第２蒸着源を貫通して形成された第１蒸着源ノズルを含む第１蒸着源ノズル部と、を含み、
   前記基板は、前記有機層蒸着装置と所定距離離隔されて配置され、前記有機層蒸着装置に対して相対的に移動可能であり、
   前記第２蒸着源の温度は、前記第１蒸着源の温度より高く維持されることを特徴とする有機層蒸着装置。
2. 前記基板に向かう前記第２蒸着源の一側に、前記第１蒸着源ノズル及び前記第２蒸着源ノズルが一列に配列され、前記第１蒸着源ノズルそれぞれは、前記第２蒸着源ノズルそれぞれと交互に配置されることを特徴とする請求項１に記載の有機層蒸着装置。
3. 前記基板に向かう前記第２蒸着源の一側に、前記第１蒸着源ノズル及び前記第２蒸着源ノズルが一列に配列され、前記第１蒸着源ノズルそれぞれが、前記第２蒸着源ノズルそれぞれの内部に同芯型に配置されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の有機層蒸着装置。
4. 前記有機層蒸着装置の前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機層蒸着装置。
5. 前記蒸着源ノズル部には、第１方向に沿って、複数個の蒸着源ノズルが形成され、前記パターニングスリットシートには、前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って、複数個のパターニングスリットが形成されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機層蒸着装置。
6. 前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは、連結部材によって結合されて一体に形成されることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の有機層蒸着装置。
7. 前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドすることを特徴とする請求項６に記載の有機層蒸着装置。
8. 前記連結部材は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシート間の空間を、外部から密閉するように形成されることを特徴とする請求項６または７に記載の有機層蒸着装置。
9. 前記蒸着源ノズル部には、第１方向に沿って、複数個の蒸着源ノズルが形成され、
   前記パターニングスリットシートには、前記第１方向に沿って、複数個のパターニングスリットが形成され、
   前記有機層蒸着装置は、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間に、前記第１方向に沿って配置され、前記蒸着源ノズル部と、前記パターニングスリットシートとの間の空間を複数個の蒸着空間に区画する複数枚の遮断板を具備する遮断板アセンブリをさらに含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の有機層蒸着装置。
10. 前記複数枚の遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直である第２方向に沿って延びるように形成されたことを特徴とする請求項９に記載の有機層蒸着装置。
11. 前記遮断板アセンブリは、複数枚の第１遮断板を具備する第１遮断板アセンブリと、複数枚の第２遮断板を具備する第２遮断板アセンブリと、を含むことを特徴とする請求項９または１０に記載の有機層蒸着装置。
12. 前記複数枚の第１遮断板及び前記複数枚の第２遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直である第２方向に形成され、前記蒸着源ノズル部と、前記パターニングスリットシートとの間の空間を複数個の蒸着空間に区画することを特徴とする請求項１１に記載の有機層蒸着装置。
13. 前記有機層蒸着装置は、チャンバをさらに含み、
    前記蒸着源ノズル部には、第１方向に沿って、複数個の蒸着源ノズルが形成され、前記パターニングスリットシートは、前記チャンバの内側に固定結合され、前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って、複数個のパターニングスリットが形成されることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一項に記載の有機層蒸着装置。
14. 前記基板が固定された静電チャックを第１方向に沿って移動させる第１循環部をさらに含むことを特徴とする請求項１〜１３のいずれか一項に記載の有機層蒸着装置。
15. 前記第１循環部は、
    内部に前記蒸着源が収容されるフレームと、
    前記フレームの内側面から突設され、前記パターニングスリットシートを支持するシート支持台と、を含むことを特徴とする請求項１４に記載の有機層蒸着装置。
16. 前記第１蒸着源はホスト物質を放射し、前記第２蒸着源はドーパント物質を放射することを特徴とする請求項１〜１５のいずれか一項に記載の有機層蒸着装置。
17. 前記第１蒸着源はドーパント物質を放射し、前記第２蒸着源はホスト物質を放射することを特徴とする請求項１〜１５のいずれか一項に記載の有機層蒸着装置。
18. 前記第１蒸着源及び第２蒸着源に備わった前記ホスト物質の量は、前記ドーパント物質の量よりも多いことを特徴とする請求項１６または請求項１７に記載の有機層蒸着装置。