CN102912316B - 沉积源组件和有机层沉积设备 - Google Patents

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Abstract

提供了一种沉积源组件、一种有机层沉积设备、一种通过利用所述有机层沉积设备制造有机发光显示装置的方法和一种利用所述制造有机发光显示装置的方法制造的有机发光显示装置。这里，所述有机层沉积设备包括沉积源组件。沉积源组件包括：第一沉积源，用于排放沉积材料；第二沉积源，堆叠在第一沉积源上，并且排放与第一沉积源排放的沉积材料不同的沉积材料；第二沉积源喷嘴单元，设置在第二沉积源的面对沉积目标的侧面，并且包括多个第二沉积源喷嘴；第一沉积源喷嘴单元，设置在第二沉积源的面对沉积目标的侧面，并且包括形成为穿过第二沉积源的多个第一沉积源喷嘴。

Description

沉积源组件和有机层沉积设备
本申请要求于2011年8月2日提交到韩国知识产权局的第10-2011-0076990号韩国专利申请的权益，该韩国专利申请的公开内容通过引用被完全包含于此。
技术领域
本发明的一个或多个方面涉及一种沉积源组件、一种有机层沉积设备和一种通过利用该有机层沉积设备制造有机发光显示装置的方法，更具体地讲，涉及一种可以简单地应用于大规模制造大尺寸显示装置并且提高了制造良率的有机层沉积设备以及一种通过利用该有机层沉积设备制造有机发光显示装置的方法。
背景技术
与其它显示装置相比，有机发光显示装置具有更大的视角、更好的对比度特性和更快的响应速度，因此作为下一代显示装置而备受关注。
有机发光显示设备通常具有包括阳极、阴极及设置在阳极和阴极之间的发射层的堆叠结构。当分别从阳极和阴极注入的空穴和电子在发射层中复合并由此发射光时，所述设备显示彩色图像。然而，仅采用这种结构难以实现高发光效率，因此可以在发射层和每个电极之间另外设置包括电子注入层、电子传输层、空穴传输层、空穴注入层等的中间层。
然而，很难以精细图案形成诸如发射层和中间层的有机薄膜。另外，红色、绿色和蓝色的发光效率会根据发射层和中间层而改变。因此，很难通过利用相当的有机层沉积设备来执行大面积的有机薄膜的图案化。因此，制造具有满意的驱动电压、电流密度、亮度、色纯度、发光效率和寿命特性的大尺寸的有机发光显示设备受到限制。因此，急需解决这个图案化问题。
上面描述的背景技术是本申请的发明人为了获得本发明已经实现或者是在获得本发明的过程中已经实现的技术信息。因此，该背景技术不能被认为是在申请本发明之前已经对公众公开的背景技术。
发明内容
本发明的实施例的方面涉及一种沉积源组件、一种可以简单地应用于大规模生产大尺寸的显示装置并且提高制造良率和沉积效率的有机层沉积设备、以及一种通过利用该有机层沉积设备制造有机发光显示设备的方法。
根据本发明的实施例，提供了一种沉积源组件，所述沉积源组件包括：第一沉积源，用于排放沉积材料；第二沉积源，堆叠在第一沉积源上，第二沉积源用于排放与第一沉积源排放的沉积材料不同的沉积材料；第二沉积源喷嘴单元，设置在第二沉积源的面对沉积目标的侧面，并且包括多个第二沉积源喷嘴；第一沉积源喷嘴单元，设置在第二沉积源的面对沉积目标的侧面，并且包括形成为穿过第二沉积源的多个第一沉积源喷嘴。
可以从第一沉积源排放主体材料，可以从第二沉积源排放掺杂剂材料。
可以从第一沉积源排放掺杂剂材料，可以从第二沉积源排放主体材料。
包含在第一或第二沉积源中的主体材料的量可以大于包含另一个沉积源中的掺杂剂材料的量。
第二沉积源的温度可以保持为比第一沉积源的温度高。
多个第一沉积源喷嘴和多个第二沉积源喷嘴可以在第二沉积源的面对沉积目标的侧面按行布置并且可以交替布置。
多个第一沉积源喷嘴和多个第二沉积源喷嘴可以在第二沉积源的面对沉积目标的侧面按行布置，多个第一沉积源喷嘴中的每个第一沉积源喷嘴可以同心地包括在多个第二沉积源喷嘴中的对应的第二沉积源喷嘴中。
根据本发明的另一实施例，提供了一种用于在基底上形成有机层的有机层沉积设备，所述有机层沉积设备包括：沉积源，用于排放沉积材料；沉积源喷嘴单元，设置在沉积源的侧面并且包括多个沉积源喷嘴；图案化缝隙片，设置为面对沉积源喷嘴单元并且包括多个图案化缝隙。所述沉积源包括第一沉积源和堆叠在第一沉积源上的第二沉积源。沉积源喷嘴单元包括：第二沉积源喷嘴单元，设置在第二沉积源的面对基底的侧面，第二沉积源喷嘴单元包括多个第二沉积源喷嘴；第一沉积源喷嘴单元，设置在第二沉积源的面对基底的侧面，第一沉积源喷嘴单元包括形成为穿过第二沉积源的多个第一沉积源喷嘴。基底设置为与有机层沉积设备分开设定距离，以相对于有机层沉积设备运动。
可以从第一沉积源排放主体材料，可以从第二沉积源排放掺杂剂材料。
可以从第一沉积源排放掺杂剂材料，可以从第二沉积源排放主体材料。
包含在第一或第二沉积源中的主体材料的量可以大于包含另一个沉积源中的掺杂剂材料的量。
第二沉积源的温度可以保持为比第一沉积源的温度高。
多个第一沉积源喷嘴和多个第二沉积源喷嘴可以在第二沉积源的面对基底的侧面按行布置并且可以交替布置。
多个第一沉积源喷嘴和多个第二沉积源喷嘴可以在第二沉积源的面对基底的侧面按行布置，多个第一沉积源喷嘴中的每个第一沉积源喷嘴可以同心地包括在多个第二沉积源喷嘴中的对应的第二沉积源喷嘴中。
图案化缝隙片可以比基底小。
多个第一沉积源喷嘴和多个第二沉积源喷嘴可以沿着第一方向布置。多个图案化缝隙可以沿着与第一方向垂直的第二方向布置。
沉积源、沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片可以经由连接构件整体地形成为一体。
连接构件可以引导沉积材料的运动。
连接构件可以形成为密封沉积源、沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的空间。
多个第一沉积源喷嘴和多个第二沉积源喷嘴可以沿着第一方向布置。多个图案化缝隙也可以沿着第一方向布置。所述有机层沉积设备还可以包括障碍板组件，所述障碍板组件包括在沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间沿着第一方向设置的多个障碍板。多个障碍板将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的排放空间划分为多个子沉积空间。
多个障碍板可以沿着与第一方向基本垂直的第二方向延伸。
障碍板组件可以包括：第一障碍板组件，包括多个第一障碍板；第二障碍板组件，包括多个第二障碍板。
为了将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的沉积空间划分为多个子沉积空间，多个第一障碍板和多个第二障碍板可以沿着与第一方向基本垂直的第二方向延伸。
有机层沉积设备还可以包括室。多个第一沉积源喷嘴和多个第二沉积源喷嘴可以沿着第一方向布置。图案化缝隙片可以与室的内侧固定地结合，多个图案化缝隙片可以沿着与第一方向垂直的第二方向布置。
所述有机层沉积设备还可以包括第一传送单元，所述第一传送单元用于沿着第一方向移动固定有基底的静电吸盘。
第一传送单元可以包括：框架，沉积源设置在框架中；片支撑单元，形成为从框架的内侧表面突出并且支撑图案化缝隙片。
根据本发明的另一实施例，提供了一种制造有机发光显示设备的方法，所述方法包括：将有机层沉积设备设置为与作为沉积目标的基底分开设定距离。有机发光显示设备包括：沉积源，用于排放沉积材料；沉积源喷嘴单元，设置在沉积源的侧面并且包括多个沉积源喷嘴；图案化缝隙片，设置为面对沉积源喷嘴单元并且包括多个图案化缝隙。所述沉积源包括第一沉积源和堆叠在第一沉积源上的第二沉积源。沉积源喷嘴单元包括第二沉积源喷嘴单元和第一沉积源喷嘴单元，第二沉积源喷嘴单元设置在第二沉积源的面对基底的侧面，第二沉积源喷嘴单元包括多个第二沉积源喷嘴，第一沉积源喷嘴单元设置在第二沉积源的面对基底的侧面，第一沉积源喷嘴单元包括形成为穿过第二沉积源的多个第一沉积源喷嘴。在有机层沉积设备或基底相对于另一个运动的同时在基底上沉积沉积材料。
可以从第一沉积源排放主体材料，可以从第二沉积源排放掺杂剂材料。
可以从第一沉积源排放掺杂剂材料，可以从第二沉积源排放主体材料。
包含在第一或第二沉积源中的主体材料的量大于包含在另一个沉积源中的掺杂剂材料的量。
第二沉积源的温度可以被保持为比第一沉积源的温度高。
多个第一沉积源喷嘴和多个第二沉积源喷嘴可以在第二沉积源的面对基底的侧面按行布置并且可以交替布置。
多个第一沉积源喷嘴和多个第二沉积源喷嘴可以在第二沉积源的面对基底的侧面按行布置，多个第一沉积源喷嘴中的每个可以同心地包括在多个第二沉积源喷嘴中的对应的第二沉积源喷嘴中。
图案化缝隙片可以比基底小。
多个第一沉积源喷嘴和多个第二沉积源喷嘴可以沿着第一方向布置，多个图案化缝隙片沿着与第一方向垂直的第二方向布置。
多个第一沉积源喷嘴和多个第二沉积源喷嘴可以沿着第一方向布置。多个图案化缝隙可以沿着第一方向布置。所述有机层沉积设备还可以包括障碍板组件，所述障碍板组件包括设置在沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间沿着第一方向设置的多个障碍板。多个障碍板将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的排放空间划分为多个子沉积空间。
有机层沉积设备还可以包括室。多个第一沉积源喷嘴和多个第二沉积源喷嘴可以沿着第一方向布置。图案化缝隙片可以与室的内侧固定地结合，多个图案化缝隙片可以沿着与第一方向垂直的第二方向布置。
根据本发明的另一实施例，提供了一种利用有机层沉积设备制造的有机发光显示设备。
附图说明
通过参照附图详细描述本发明的示例性实施例，本发明的上述和其它特征将变得更加清楚，在附图中：
图1是根据本发明实施例的沉积源组件的示意性切开透视图；
图2A和图2B是根据本发明实施例的图1中的沉积源组件的示意性侧面剖视图；
图3是示出根据本发明另一实施例的图1中的沉积源组件的操作的示意性剖视图；
图4是根据本发明另一实施例的沉积源组件的示意性切开透视图；
图5是图4中的沉积源组件的示意性侧面剖视图；
图6是示出根据本发明另一实施例的图4中的沉积源组件的操作的示意性剖视图；
图7是根据本发明实施例的包括在有机层沉积设备中的有机层沉积组件的示意性切开透视图；
图8是图7中的有机层沉积组件的示意性侧面剖视图；
图9是图7中的有机层沉积组件的示意性平面剖视图；
图10是根据本发明另一实施例的有机层沉积组件的示意性切开透视图；
图11是根据本发明另一实施例的有机层沉积组件的示意性切开透视图；
图12是根据本发明另一实施例的包括在有机层沉积设备中的有机层沉积组件和第一传送单元的示意性切开透视图；
图13是图12中的有机层沉积组件的示意性平面剖视图；
图14是根据本发明实施例的通过利用有机层沉积设备制造的有源矩阵有机发光显示设备的剖视图。
具体实施方式
在下文中，将参照附图更详细地描述本发明的示例性实施例，从而本领域普通技术人员可以容易地实现本发明的示例性实施例。可以以各种形式实施本发明，因此本发明不限于这里提出的实施例。
图1是根据本发明实施例的沉积源组件201的示意性切开透视图。图2A是沿图1中的线I-I截取的侧面剖视图。图2B是沿图1中的线II-II截取的侧面剖视图。图3是示出根据本发明另一实施例的图1中的沉积源组件201的操作的示意性剖视图。
参照图1至图2B，沉积源组件201包括沉积源110和沉积源喷嘴单元120。
沉积源110可以包括第一沉积源110a和第二沉积源110b。第一沉积源110a和第二沉积源110b蒸发沉积材料115a和115b，从而分别在沉积目标(图3中示出的基底500)上形成薄膜。
具体地讲，第一沉积源110a可以包含主体材料作为沉积材料115a，第二沉积源110b可以包含掺杂剂材料作为沉积材料115b。由于主体材料115a和掺杂剂材料115b在不同的温度下蒸发，所以可以使用多个沉积源和多个喷嘴单元来共同地或同时沉积主体材料115a和掺杂剂材料115b。
主体材料115a的示例可以包括三(8-羟基喹啉)铝(Alq3)、9，10-二(萘-2-基)蒽(ADN)、3-叔丁基-9，10-二(萘-2-基)蒽(TBADN)、4，4′-双(2，2-二苯基-乙烯-1-基)-联苯(DPVBi)、4，4′-双[2，2-二(4-甲基苯基)-乙烯-1-基]联苯(p-DMDPVBi)、三(9，9-二芳基芴)(TDAF)、2-(9，9′-螺二芴-2-基)-9，9′-螺二芴(BSDF)、2，7-二(9，9′-螺二芴-2-基)-9，9′-螺二芴(TSDF)、二(9，9-二芳基芴)(BDAF)、4，4′-二[2-(4-叔丁基-苯基)-乙烯-1-基]联苯(p-TDPVBi)、1，3-双(咔唑-9-基)苯(mCP)、1，3，5-三(咔唑-9-基)苯(tCP)、4，4′，4″-三(咔唑-9-基)三苯胺(TcTa)、4，4′-双(咔唑-9-基)联苯(CBP)、4，4′-双(咔唑-9-基)-2，2′-二甲基联苯(CBDP)、2，7-双(咔唑-9-基)-9，9-二甲基-芴(DMFL-CBP)、2，7-双(咔唑-9-基)-9，9-双[4-(咔唑-9-基)-苯基]芴(FL-4CBP)、2，7-双(咔唑-9-基)-9，9-二甲苯基-芴(DPFL-CBP)、9，9-双[4-(咔唑-9-基)-苯基]芴(FL-2CBP)等。
掺杂剂材料115b的示例可以包括4，4′-双[4-(二对甲苯基氨基)苯乙烯基]联苯(DPAVBi)、9，10-二(萘-2-基)蒽(ADN)、3-叔丁基-9，10-二(萘-2-基)蒽(TBADN)等。
在当前实施例中，主体材料115a的量大于掺杂剂材料115b的量。尽管掺杂剂材料115b的含量可以根据用于形成薄膜的材料而改变，但是在按重量计100份的薄膜形成材料(主体材料115a和掺杂剂材料115b的总重量)中，可以包含按重量计大约3份至大约20份的掺杂剂材料115b。在一个实施例中，如果掺杂剂材料115b的含量超出上述范围，则有机发光显示设备的发光特性劣化。因此，包含主体材料115a的第一沉积源110a的尺寸大于包含掺杂剂材料115b的第二沉积源110b的尺寸。
第一沉积源110a和第二沉积源110b沿着竖直方向设置。换而言之，第二沉积源110b堆叠在第一沉积源110a上。图1至图2B示出了主体材料115a包含在第一沉积源110a中，但是本发明的方面不限于此，主体材料115a可以包含在第二沉积源110b中。然而，在这种情况下，与图1至图2B中不同，第二沉积源110b的尺寸应该大于第一沉积源110a的尺寸。
同样地，在另一实施例中，第一沉积源110a和第二沉积源110b按行水平设置，因此主体材料115a和掺杂剂材料115b没有均匀地沉积。换而言之，在其上将主体材料115a和掺杂剂材料115b排放为彼此叠置的区域小，具体地，这个区域的边缘可能仅被主体材料115a或掺杂剂材料115b涂覆，从而降低掺杂均匀性。然而，在图1至图2B示出的实施例中，由于第一沉积源110a和第二沉积源110b竖直设置在图1的沉积源110中，所以主体材料115a和掺杂剂材料115b可以均匀地排放到期望区域上，从而保证或保障掺杂均匀性。
具体地讲，第一沉积源110a包括填充有主体材料115a的坩埚112a以及加热坩埚112a以朝向坩埚112a的侧面(例如，上侧)(具体地，朝向沉积目标)蒸发主体材料115a的加热器113a。加热器113a包括在包裹或覆盖坩埚112a的冷却块111a中，冷却块111a保护或防止来自坩埚112a的热辐射到外部(例如，室(未示出))。类似地，第二沉积源110b包括填充有掺杂剂材料115b的坩埚112b以及加热坩埚112b以朝向坩埚112b的侧面(具体地，朝向沉积目标)蒸发掺杂剂材料115b的加热器113b。加热器113b包括在包裹或覆盖坩埚112b的冷却块111b中。
设置在第一沉积源110a上的第二沉积源110b保持在比第一沉积源110a的温度高的温度。换而言之，在相对高的温度下蒸发的材料包含在第二沉积源110b中，在相对低的温度下蒸发的材料包含在第二沉积源110b下方的第一沉积源110a中。这是因为第一沉积源110a的沉积源喷嘴形成为穿过第一沉积源110a上的第二沉积源110b。因此，当第二沉积源110b的温度低时，第一沉积源110a的沉积源喷嘴中的沉积材料会变成固体状态并且会阻挡沉积源喷嘴。因此，包括在第二沉积源110b中的加热器113b产生的热的强度应该比包括在第一沉积源110a中的加热器113a产生的热的强度高。
沉积源喷嘴单元120设置在第二沉积源110b的侧面，具体地讲，设置在第二沉积源110b的面对沉积目标(图3中的基底500)的侧面。具体地，由于第一沉积源110a设置在第二沉积源110b下方，所以包括多个第一沉积源喷嘴121a的第一沉积源喷嘴单元穿过第二沉积源110b，并且位于第二沉积源110b的侧面，具体地，位于第二沉积源110b的面对沉积目标的侧面。包括多个第二沉积源喷嘴121b的第二沉积源喷嘴单元也位于第二沉积源110b的所述侧面。沉积源喷嘴单元120包括多个第一沉积源喷嘴121a和多个第二沉积源喷嘴121b。多个第一沉积源喷嘴121a和多个第二沉积源喷嘴121b是包含在坩埚112a和112b中的主体材料115a和掺杂剂材料115b朝向沉积目标排放所经过的通道。因此，多个第一沉积源喷嘴121a和多个第二沉积源喷嘴121b形成为分别从第一沉积源110a和第二沉积源110b朝向沉积目标延伸。
在当前实施例中，多个第一沉积源喷嘴121a和多个第二沉积源喷嘴121b在第二沉积源110b的面对沉积目标的侧面按行布置。参照图2A和图2B，多个第一沉积源喷嘴121a和多个第二沉积源喷嘴121b交替地布置，从而主体材料115a和掺杂剂材料115b可以均匀地沉积在设定或预定的排放区域中。
通过上面描述的结构，主体材料115a和掺杂剂材料115b的混合比例在整个基底500中可以是恒定的，如图3中所示。如果通过利用以恒定混合比例混合的主体材料115a和掺杂剂材料115b的混合物来形成薄膜，则薄膜在色坐标、发光效率、驱动电压和寿命方面可以展现出改进的特性。
图4是根据本发明另一实施例的沉积源组件202的示意性切开透视图。图5是沿着图4中的线III-III截取的侧面剖视图。图6是根据本发明另一实施例的图4中的沉积源组件202的示意性剖视图。
参照图4至图6，除了包括在沉积源喷嘴单元120′中的多个喷嘴的形状和布置之外，沉积源110′具有与包括在图1的沉积源组件201中的沉积源110的结构相同的结构。换而言之，在图4的沉积源组件202中，多个第一沉积源喷嘴121a′和多个第二沉积源喷嘴121b′在第二沉积源110b′的面对沉积目标的侧面沿行布置，其中，第二沉积源110b′包括坩埚112b′和冷却块111b′。另外，参照图5，多个第一沉积源喷嘴121a′中的每个以同心的方式设置在多个第二沉积源喷嘴121b′之一中。参照图6，第一区域(在其上排放主体材料115a)和第二区域(在其上排放掺杂剂材料115b)大。因此，与利用图1的沉积源组件201时相比，利用沉积源组件202时可以将主体材料115a和掺杂剂材料115b更均匀地沉积。沉积源组件202的其它元件与图1的沉积源组件201的其它元件在它们的操作和结构方面相同或相似，因此不在这里描述。
下面描述根据本发明实施例的有机层沉积设备的有机层沉积组件。图7是根据本发明实施例的有机层沉积设备的有机层沉积组件100的示意性切开透视图。图8是图7中的有机层沉积组件的示意性侧面剖视图。图9是图7中的有机层沉积组件100的示意性平面剖视图。
有机层沉积组件100包括在有机层沉积设备的沉积单元(未示出)中。尽管未示出，但是沉积单元可以包括多个沉积室，多个有机层沉积组件100可以分别设置在多个沉积室中。有机层沉积组件100的总数可以根据沉积材料和沉积条件改变。每个沉积室在沉积工艺期间保持在真空状态。作为沉积目标的基底500可以固定在静电吸盘600上，然后与静电吸盘600一起被传送到沉积室。
参照图7至图9，有机层沉积组件100包括沉积源组件201、障碍板组件130和图案化缝隙片150。
尽管为了方便解释，在图7至图9中没有示出室，但是有机层沉积组件100的所有组件可以设置在保持在适当真空度的室中。为了使主体材料115a和掺杂剂材料115b穿过有机层沉积组件100沿着基本上直线运动，所述室保持在适当的真空。
在所述室中，作为沉积目标的基底500通过静电吸盘600传送。基底500可以为平板显示器的基底。用于制造多个平板显示器的诸如母玻璃的大基底可以用作基底500。也可以采用其它基底。
在当前实施例中，基底500可以相对于有机层沉积组件100运动。例如，如图7中所示，基底500可以相对于有机层沉积组件100沿着箭头A的方向运动。
在利用精细金属掩模(FMM)的相当的沉积方法中，FMM的尺寸必须大于或等于基底的尺寸。因此，FMM的尺寸必须随着基底变大而增加。然而，不能容易地制造大的FMM，也不能将FMM扩展为与精细图案精确地对准。
为了克服这个问题，在有机层沉积组件100中，可以在有机层沉积组件100或基底500相对于另一个运动的同时执行沉积。换而言之，可以在设置为例如面对有机层沉积组件100的基底500沿着Y轴方向运动的同时连续地执行沉积。换而言之，可以在基底500沿着图7中的箭头A的方向运动的同时以扫描方式执行沉积。尽管基底500被示出为在执行沉积时沿着图7中的Y轴方向运动，但是本发明的方面不限于此。例如，可以在有机层沉积组件100沿着Y轴方向运动而基底500固定时执行沉积。
因此，在根据当前实施例的有机层沉积组件100中，图案化缝隙片150可以明显地比在相当的沉积方法中使用的FMM小。即，在有机层沉积组件100中，在基底500沿着Y轴方向运动的同时，连续地执行沉积，即，以扫描的方式执行沉积。因此，只要图案化缝隙片150沿着X轴方向的宽度和基底500沿着X轴方向的宽度基本上彼此相等，图案化缝隙片150沿着Y轴方向的长度可以明显小于基底500的长度。然而，即使当图案化缝隙片150沿着X轴方向的宽度小于基底500沿着X轴方向的宽度，也可以在基底500或有机层沉积组件100相对于另一个运动的同时以扫描方式对整个基底500执行沉积。
如上所述，由于图案化缝隙片150可以形成为明显地比在相当的沉积方法中采用的FMM小，所以制造在本发明中使用的图案化缝隙片150相对容易。换而言之，与采用较大FMM的相当的沉积方法相比，采用比在传统沉积方法中采用的FMM小的图案化缝隙片150，在包括蚀刻和其它后续工艺(例如，精确扩展、焊接、移动和清洁工艺)的所有工艺中更方便。这对于相对大的显示设备来说更有利。
为了在如上所述有机层沉积组件100或基底500相对于另一个运动的同时执行沉积，有机层沉积组件100和基底500可以彼此分开设定或预定的距离。后面将对此进行详细描述。
包含并加热主体材料115a和掺杂剂材料115b的沉积源组件201设置在所述室的与设置有基底500的侧面相对的侧面。尽管图7中的有机层沉积组件100采用图1中示出的沉积源组件201，但是本发明的方面不限于此，可以采用图4中示出的沉积源组件202。
如上所述并且参照图12，沉积源110包括第一沉积源110a和设置在第一沉积源110a上的第二沉积源110b。第一沉积源110a包括填充有主体材料115a的坩埚112a和加热坩埚112a的加热器113a。第二沉积源110b包括填充有掺杂剂材料115b的坩埚112b和加热坩埚112b的加热器113b。为了顺利地排放主体材料115a和掺杂剂材料115b，位于第一沉积源110a上的第二沉积源110b的温度保持为高于第一沉积源110a的温度。尽管主体材料115a和掺杂剂材料115b中的每个可以包含在第一沉积源110a和第二沉积源110b中的任何一个中，但是主体材料115a的量应该大于掺杂剂材料115b的量，因此包含主体材料115a的沉积源的尺寸应该大于包含掺杂剂材料115b的沉积源的尺寸。
如上所述，沉积源喷嘴单元120设置在沉积源110的一侧，具体地讲，设置在第二沉积源110b的面向基底500的一侧。沉积源喷嘴单元120包括沿着X轴方向布置的多个第一沉积源喷嘴121a和多个第二沉积源喷嘴121b。沉积源喷嘴单元120包括含有多个第一沉积源喷嘴121a的第一沉积源喷嘴单元和含有多个第二沉积源喷嘴121b的第二沉积源喷嘴单元。多个第一沉积源喷嘴121a穿过第二沉积源110b并且位于第二沉积源110b的一侧。多个第一沉积源喷嘴121a和多个第二沉积源喷嘴121b交替地设置。因此，主体材料115a和掺杂剂材料115b可以均匀地沉积在预定的排放区域上。
障碍板组件130设置在沉积源喷嘴单元120的侧面。障碍板组件130包括多个障碍板131以及覆盖障碍板131的侧面的障碍板框架132。多个障碍板131可以沿着X轴方向以相等的间隔彼此平行地布置。每个障碍板131可以布置为平行于图7中的YZ平面，并且可以具有矩形形状。如上所述布置的多个障碍板131将沉积源喷嘴单元120和图案化缝隙片150之间的沉积空间划分为多个子沉积空间S。参照图9，在有机层沉积组件100中，沉积空间被障碍板131划分为分别对应于多对第一沉积源喷嘴121a和第二沉积源喷嘴121b的子沉积空间S，其中，主体材料115a和掺杂剂材料115b通过多对第一沉积源喷嘴121a和第二沉积源喷嘴121b排放。
障碍板131可以分别设置在相邻的成对的第一沉积源喷嘴121a和第二沉积源喷嘴121b之间。换而言之，用于排放主体材料115a的多个第一沉积源喷嘴121a中的一个和用于排放掺杂剂材料115b的多个第二沉积源喷嘴121b中的一个在两个相邻的障碍板131之间设置为一组。成对的第一沉积源喷嘴121a和第二沉积源喷嘴121b可以分别位于两个相邻的障碍板131之间的中点处。然而，本发明的方面不限于这种结构，多个成对的第一沉积源喷嘴121a和第二沉积源喷嘴121b可以设置在两个相邻的障碍板131之间。在这种情况下，多个成对的第一沉积源喷嘴121a和第二沉积源喷嘴121b也可以位于两个相邻的障碍板131之间的中点处。
如上所述，由于障碍板131将沉积源喷嘴单元120和图案化缝隙片150之间的沉积空间划分为多个子沉积空间S，所以通过一对第一沉积源喷嘴121a和第二沉积源喷嘴121b排放的主体材料115a和掺杂剂材料151b没有与通过其它对第一沉积源喷嘴121a和第二沉积源喷嘴121b排放的主体材料115a和掺杂剂材料115b混合，并且穿过图案化缝隙151沉积在基底500上。换而言之，障碍板131将通过成对的第一沉积源喷嘴121a和第二沉积源喷嘴121b排放的主体材料115a和掺杂剂材料115b引导为沿着Z轴方向直线运动，而不是沿着X轴方向流动。
如上所述，通过安装障碍板131，主体材料115a和掺杂剂材料115b被迫直线运动，从而与没有安装障碍板的情况相比，在基底500上可以形成较小的阴影区。因此，有机层沉积组件100和基底500可以彼此分开设定或预定的距离。稍后将对此进行详细描述。
图案化缝隙片150和框架155设置在沉积源110和基底500之间。框架155的形状可以类似于窗口框架。图案化缝隙片150约束在框架155内部。图案化缝隙片150包括沿着X轴方向布置的多个图案化缝隙151。图案化缝隙151沿着Y轴方向延伸。在沉积源110中蒸发并且穿过成对的第一沉积源喷嘴121a和第二沉积源喷嘴121b的主体材料115a和掺杂剂材料115b朝向基底500穿过图案化缝隙151。
图案化缝隙片150可以由金属薄膜形成。图案化缝隙片150固定到框架155，从而对图案化缝隙片155施加张力。可以通过将图案化缝隙片150蚀刻为条形图案来形成图案化缝隙151。图案化缝隙151的数量可以等于将要在基底500上形成的沉积图案的数量。
障碍板组件130和图案化缝隙片150可以设置为彼此分隔开设定或预定的距离。可选地，障碍板组件130和图案化缝隙片150可以通过连接构件135连接。
如上所述，根据当前实施例的有机层沉积组件100在相对于基底500运动的同时执行沉积。为了使有机层沉积组件100相对于基底500运动，图案化缝隙片150设置为与基底500分隔开设定或预定距离。另外，为了防止(或保护以免)当图案化缝隙片150和基底500彼此分开设置时在基底500上形成相对大的阴影区域，在沉积源喷嘴单元120和图案化缝隙片150之间布置障碍板131，以强迫主体材料115a和掺杂剂材料115b沿着直线方向运动。因此，可以急剧减小可能在基底500上形成的阴影区域的尺寸。
在利用FMM的相当的沉积方法中，为了防止(或保护以免)在基底上形成阴影区域，采用与基底紧密接触的FMM执行沉积。然而，当采用与基底紧密接触的FMM时，这种接触会引起缺陷，例如，在形成在基底上的图案上的划伤。另外，在相当的沉积方法中，因为掩模不能相对于基底运动，所以掩模的尺寸必须与基底的尺寸相同。因此，掩模的尺寸必须随着显示设备变大而增加。然而，不容易制造这种大掩模。
为了克服这个问题，在根据当前实施例的有机层沉积组件100中，图案化缝隙片150设置为与基底500分开设定或预定距离。这可以通过安装障碍板131来实现，以减小将要形成在基底500上的阴影区域的尺寸。
通过利用如上所述的有机层沉积设备可以形成诸如有机层的薄膜，以制造有机发光显示设备。下面参照图14对此进行详细描述。
图10是根据本发明另一实施例的有机层沉积组件800的示意性切开透视图。参照图10，有机层沉积组件800包括沉积源组件201、第一障碍板组件830、第二障碍板组件840和图案化缝隙片850。沉积源组件201、第一障碍板组件830和图案化缝隙片850具有与如上参照图7描述的前述实施例中的元件相同的结构，因此这里将不提供对这些元件的详细描述。根据当前实施例的有机层沉积组件800与根据前面实施例的图7中的有机层沉积组件100的区别在于第二障碍板组件840设置在第一障碍板组件830的一侧。
具体地讲，第二障碍板组件840包括多个第二障碍板841以及覆盖多个第二障碍板841的侧面的第二障碍板框架842。多个第二障碍板841可以沿着X轴方向以相等的间隔彼此平行地布置。
另外，多个第二障碍板841中的每个可以形成为沿着图10中的YZ平面(即，垂直于X轴方向)延伸。
如上所述布置的多个第一障碍板831和多个第二障碍板841划分沉积源喷嘴单元120和图案化缝隙片850之间的沉积空间。换而言之，通过多个第一障碍板831和多个第二障碍板841将沉积空间划分为分别对应于成对的第一沉积源喷嘴121a和第二沉积源喷嘴121b的子沉积空间，其中，主体材料115a和掺杂剂材料115b通过成对的第一沉积源喷嘴121a和第二沉积源喷嘴121b排放。
多个第二障碍板841可以设置为分别对应于多个第一障碍板831。换而言之，多个第二障碍板841可以分别相对于多个第一障碍板831对齐。即，每对对应的第一障碍板831和第二障碍板841可以位于相同的平面上。多个第一障碍板831和多个第二障碍板841分别示出为沿着X轴方向具有相同的厚度，但是本发明的方面不限于此。换而言之，需要与图案化缝隙851精确对准的第二障碍板841可以形成为相对薄，而不需要与图案化缝隙151精确对准的第一障碍板831可以形成为相对厚。这样使得有机层沉积组件800的制造更容易。
图11是根据本发明另一实施例的有机层沉积组件900的示意性分开透视图。参照图11，有机层沉积组件900包括沉积源组件201和图案化缝隙片950。
如上所述，参照图11，沉积源110包括第一沉积源110a和设置在第一沉积源110a上的第二沉积源110b。第一沉积源110a包括填充有主体材料115a的坩埚112a以及加热坩埚112a的加热器113a。第二沉积源110b包括填充有掺杂剂材料115b的坩埚112b以及加热坩埚112b的加热器113b。为了顺利地排放主体材料115a和掺杂剂材料115b，位于第一沉积源110a上的第二沉积源110b的温度保持为高于第一沉积源110a的温度。尽管主体材料115a和掺杂剂材料115b中的每个可以包含在第一沉积源110a和第二沉积源110b中的任何一个中，但是主体材料115a的量应该大于掺杂剂材料115b的量，因此包含主体材料115a的沉积源的尺寸应该大于包含掺杂剂材料115b的沉积源的尺寸。
如上所述，沉积源喷嘴单元120设置在沉积源110的一侧，具体地讲，设置在第二沉积源110b的面向基底500的一侧。沉积源喷嘴单元120包括沿着X轴方向布置的多个第一沉积源喷嘴121a和多个第二沉积源喷嘴121b。沉积源喷嘴单元120包括含有多个第一沉积源喷嘴121a的第一沉积源喷嘴单元和含有多个第二沉积源喷嘴121b的第二沉积源喷嘴单元。多个第一沉积源喷嘴121a穿过第二沉积源110b并且位于第二沉积源110b的一侧。多个第一沉积源喷嘴121a和多个第二沉积源喷嘴121b交替地设置。因此，主体材料115a和掺杂剂材料115b可以均匀地沉积在设定或预定的排放区域上。
图案化缝隙片950和框架955进一步设置在沉积源110和基底500之间。图案化缝隙片950包括沿着X轴方向布置的多个图案化缝隙951。沉积源110和沉积源喷嘴单元120经过连接构件935与图案化缝隙片950结合。也就是说，沉积源110、沉积源喷嘴单元120和图案化缝隙片950可以经由连接构件935整体地形成为一体。连接构件935被构造为引导沉积材料的运动。另外，连接构件935可以形成为密封沉积源110、沉积源喷嘴单元120和图案化缝隙片950之间的空间。
当前实施例与前述实施例在包括在沉积源喷嘴单元120中的多个第一沉积源喷嘴121a和多个第二沉积源喷嘴121b的布置方面有所不同。下面对此进行详细描述。
沉积源喷嘴单元120设置在沉积源110的侧面，具体地讲，设置在沉积源110的面对基底500的侧面。沉积源喷嘴单元120包括沿着Y轴方向(即，基底500的扫描方向)的多个第一沉积源喷嘴121a和多个第二沉积源喷嘴121b。
如上所述，当沿着Y轴方向(即，基底500的扫描方向)在沉积源喷嘴单元120上形成多个第一沉积源喷嘴121a和多个第二沉积源喷嘴121b时，由通过图案化缝隙片950的多个图案化缝隙951中的每个排放的主体材料115a和掺杂剂材料115b形成的图案的尺寸受多个第一沉积源喷嘴121a和多个第二沉积源喷嘴121b中的一个的尺寸影响(因为沿着X轴方向只有一行多个第一沉积源喷嘴121a和多个第二沉积源喷嘴121b)。因此，在基底500上不会形成阴影区域。另外，由于多个第一沉积源喷嘴121a和多个第二沉积源喷嘴121b沿着基底500的扫描方向布置，所以即使多个第一沉积源喷嘴121a和多个第二沉积源喷嘴121b之间的流量存在差别，也可以补偿这种差别，并且可以一直保持沉积均匀性。另外，有机层沉积组件900不包括在诸如图7中示出的障碍板组件，沉积材料不沉积在障碍板组件上，从而提高了主体材料115a和掺杂剂材料115b的利用效率。
图12是根据本发明实施例的包括在有机层沉积设备中的有机层沉积组件1100和第一传送单元610的示意性分开透视图。图13是图12中的有机层沉积设备的示意性分开平面图。在图13中，为了便于解释，没有示出第一室。
参照图12和图13，有机层沉积设备包括第一传送单元610和沉积单元730的有机层沉积组件1100。第一传送单元610被构造为将固定有基底500的静电吸盘600朝向沉积单元730移动。
具体地讲，有机层沉积组件1100包括沉积源组件201和图案化缝隙片150。
如上所述，参照图12，沉积源110包括第一沉积源110a和设置在第一沉积源110a上的第二沉积源110b。第一沉积源110a包括填充有主体材料115a的坩埚112a以及加热坩埚112a的加热器113a。第二沉积源110b包括填充有掺杂剂材料115b的坩埚112b以及加热坩埚112b的加热器113b。为了顺利地排放主体材料115a和掺杂剂材料115b，位于第一沉积源110a上的第二沉积源110b的温度保持为高于第一沉积源110a的温度。尽管主体材料115a和掺杂剂材料115b中的每个可以包含在第一沉积源110a和第二沉积源110b中的任何一个中，但是主体材料115a的量应该大于掺杂剂材料115b的量，因此包含主体材料115a的沉积源的尺寸应该大于包含掺杂剂材料115b的沉积源的尺寸。
如上所述，沉积源喷嘴单元120设置在沉积源110的一侧，具体地讲，设置在第二沉积源110b的面向基底500的一侧。沉积源喷嘴单元120包括沿着X轴方向布置的多个第一沉积源喷嘴121a和多个第二沉积源喷嘴121b。沉积源喷嘴单元120包括含有多个第一沉积源喷嘴121a的第一沉积源喷嘴单元和含有多个第二沉积源喷嘴121b的第二沉积源喷嘴单元。多个第一沉积源喷嘴121a穿过第二沉积源110b并且位于第二沉积源110b的一侧。多个第一沉积源喷嘴121a和多个第二沉积源喷嘴121b交替地设置。因此，主体材料115a和掺杂剂材料115b可以均匀地沉积在设定或预定的排放区域上。
图案化缝隙片150和框架155进一步设置在沉积源110和基底500之间。图案化缝隙片150包括沿着X轴方向布置的多个图案化缝隙151。当前实施例与前述实施例的不同之处在于沉积源110、沉积源喷嘴单元120和图案化缝隙片150不是集成在一个单元中，但是分开地包括在沉积单元730中。下面将对此进行详细描述。
现在将详细描述第一传送单元610。第一传送单元610使得固定有基底500的静电吸盘600移动。第一传送单元610包括：框架611，包括下板613和上板617；片支撑单元615，设置在框架611中；引导支撑单元621，设置在框架611上；一对引导轨623，设置在引导支撑单元621上；多个引导块625，设置在一对引导轨623上。
具体地讲，框架611形成第一传送单元610的基础，并且形成为中空的盒子形状。下板613形成框架611的下表面，沉积源110可以设置在下板613上。上板617形成框架611的上表面，并且可以具有开口617a，从而在沉积源110中蒸发的主体材料115a和掺杂剂材料115b可以穿过图案化缝隙片150，然后沉积在基底500上。框架611的元件可以单独地制造然后彼此结合，或者可以制造为集成在一个单元中。
尽管未示出，但是其上设置有沉积源110的下板613形成为卡式(cassette)形状，从而可以从框架611中取出下板613。因此，可以用另一沉积源容易地更换沉积源110。
片支撑单元615可以从框架611的内侧表面突出，并且可以支撑图案化缝隙片150。片支撑单元615可以将通过多个第一沉积源喷嘴121a和多个第二沉积源喷嘴121b排放的主体材料115a和掺杂剂材料115b引导为直线运动，而不是沿着X轴方向流动。
如上所述，在当前的实施例中，在静电吸盘600(固定有基底500)在室内直线运动的同时执行沉积。在一种情况下，可以使用通常用来传送目标的棍子或传送器。另外，可以使用包括引导轨和引导块的如图12和图13中示出的线性运动(LM)系统来精确地传送基底500。
具体地讲，位于上板617上的引导支撑单元621以及位于引导支撑单元621上的一对引导轨623安装为穿过沉积单元730的第一室。
引导支撑单元621的上部具有基本平面的形状，一对引导轨623设置在引导支撑单元621上。一对引导块625分别与一对引导轨623接合，从而一对引导块625可以沿着一对引导轨623进行往复运动。
一对引导块625中的每个可以包括驱动器(未示出)。驱动器沿着引导轨623移动引导块625，并且可以产生并向引导块625施加驱动力，或者可以从单独的驱动源接收驱动力然后将驱动力施加到引导块625。
一对LM轨可以用作一对引导轨623，并且一对LM块可以用作一对引导块625，从而形成LM系统。与相当的滑动引导系统相比，由于LM系统具有低摩擦系数并且几乎不导致定位误差发生，所以LM系统是提供非常高的定位精确度的传送系统。在本说明书中，不提供对LM系统的详细描述。
如上所述，根据本发明的实施例，掩模形成为比基底小，并且在掩模相对于基底运动的同时执行沉积。因此，可以容易地制造掩模。另外，可以减少或防止在相当的沉积方法中发生的由于基底和掩模之间的接触导致的缺陷。另外，由于在沉积工艺期间不必将掩模设置为与基底紧密接触，所以可以缩短制造时间。
另外，构成有机层沉积组件1100的沉积源组件201和图案化缝隙片150不是一体的一个单元，而是分开地包括在沉积单元730中。因此，沉积源110可以容易地附于有机层沉积组件1100并且可以容易地从有机层沉积组件1100拆下，从而用主体材料115a和掺杂剂材料115b填充沉积源110。另外，图案化缝隙片150可以容易地附于有机层沉积组件1100并且容易地从有机层沉积组件1100拆下，以清洁图案化缝隙片150或用另外的图案化缝隙片更换图案化缝隙片150。
图14是根据本发明实施例的利用有机层沉积设备制造的有源矩阵有机发光显示设备10的剖视图。参照图14，有源矩阵有机发光显示设备10形成在图7、图10、图11或图12的基底500上。基底500可以由透明材料(例如，玻璃、塑料)或金属形成。绝缘层31(例如，缓冲层)形成在基底500的整个表面上。
参照图14，薄膜晶体管(TFT)40、电容器50和有机发光二极管(OLED)60设置在绝缘层31上。
半导体有源层41以预定的图案形成在绝缘层31上。栅极绝缘层32形成为覆盖半导体有源层41。半导体有源层41可以包括p型或n型半导体材料。
电容器50的第一电容器电极51形成在栅极绝缘层32的区域上，TFT40的栅极42形成在栅极绝缘层32的与半导体有源层41对应的另一区域上。层间绝缘层33形成为覆盖第一电容器电极51和栅极42。然后，栅极绝缘层32和层间绝缘层33通过例如干蚀刻而被蚀刻，以形成用于暴露半导体有源层41的部分的接触孔。
然后，电容器50的第二电容器电极52和源极/漏极43形成在层间绝缘层33上。源极/漏极43形成在层间绝缘层33上，以接触通过接触孔暴露的半导体有源层41。钝化层34形成为覆盖源极/漏极43，并且被蚀刻为暴露漏极43的一部分。还可以在钝化层34上形成另外的绝缘层(未示出)，从而使钝化层34平坦化。
当电流流过OLED60时，OLED60通过发射红光、绿光或蓝光来显示设定或预定的图像信息。OLED60包括设置在钝化层34上的第一电极61。第一电极61电连接到TFT40的漏极43。
像素限定层35形成为覆盖第一电极61。在像素限定层35中形成开口，然后在由开口限定的区域中形成包括发射层在内的有机层63。第二电极62形成在有机层63上。
限定各个像素的像素限定层35由有机材料形成。像素限定层35使基底500的形成有第一电极61的区域的表面平坦化，具体地讲，使钝化层34的表面平坦化。
第一电极61和第二电极62彼此绝缘，并且分别对有机层63施加相反极性的电压，以诱导发光。
有机层63可以由低分子量有机材料或高分子量有机材料形成。如果采用低分子量有机材料，则有机层63可以具有包括从由空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、发射层(EML)、电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)组成的组中选择的至少一个的单层或多层结构。可用的有机材料的示例可以包括铜酞菁(CuPc)、N，N′-二(萘-1-基)-N，N′-二苯基-联苯胺(NPB)、三-8-羟基喹啉铝(Alq3)等。
在形成有机层63之后，可以根据与用来形成有机层63的沉积方法相同的方法来形成第二电极62。
第一电极61可以用作阳极，第二电极62可以用作阴极，反之亦然。第一电极61可以被图案化，以与单个像素区域对应，第二电极62可以形成为覆盖所有的像素。
第一电极61可以形成为透明电极或反射电极。透明电极可以由氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)和/或氧化铟(In2O3)形成。反射电极可以通过由银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)和/或它们的混合物形成反射层然后在反射层上由ITO、IZO、ZnO和/或In2O3形成透明电极层来形成。可以通过例如溅射形成层然后例如通过光刻将该层图案化来形成第一电极61。
第二电极62也可以形成为透明电极或反射电极。当第二电极62形成为透明电极时，第二电极62用作阴极。可以通过在有机层63的表面上沉积具有低功函数的金属(例如，锂(Li)、钙(Ca)、氟化锂/钙(LiF/Ca)、氟化锂/铝(LiF/Al)、铝(Al)、银(Ag)、镁(Mg)或它们的混合物)并且在其上由ITO、IZO、ZnO、In2O3等形成辅助电极层或汇流电极线来形成透明电极。当第二电极62形成为反射电极时，可以通过在有机层63上沉积Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg或它们的混合物来形成反射层。第二电极62可以根据用来形成有机层63的沉积方法相同的方法来形成。
根据本发明上述实施例的有机层沉积设备可以用于形成有机TFT的有机层或无机层，并且用来由各种材料形成层。
在图7至图13的实施例中，采用了图1中的沉积源组件201，但是可以采用图4中的沉积源组件202来代替沉积源组件201。在这种情况下，在图7至图10的有机层沉积组件100和800的每个中，每个障碍板131(或831)可以设置在两个相邻的沉积源喷嘴单元之间，每个沉积源喷嘴单元包括多个第一沉积源喷嘴121a′中的一个和多个第二沉积源喷嘴121b′中的一个。换而言之，以同中心的方式包括在对应的第二沉积源喷嘴121b′中的多个第一沉积源喷嘴121a′中的每个可以设置在两个相邻的障碍板131之间。
如上所述，根据本发明的实施例，可以容易地制造有机层沉积设备，并且可以将有机层沉积设备简单地应用于大规模制造大尺寸的显示装置，并且可以通过使用有机层沉积设备来制造有机发光显示设备。有机层沉积设备可以提高制造良率和沉积效率。
尽管已经参照本发明的示例性实施例具体示出和描述了本发明，但是本领域普通技术人员将理解的是，在不脱离如权利要求及其等同物限定的本发明的精神和范围的情况下，可以对此进行形式和细节上的各种改变。

Claims (39)

1.一种沉积源组件，所述沉积源组件包括：
第一沉积源，用于排放沉积材料；
第二沉积源，堆叠在第一沉积源上，第二沉积源用于排放与第一沉积源排放的沉积材料不同的沉积材料；
第二沉积源喷嘴单元，设置在第二沉积源的面对沉积目标的侧面，并且包括多个第二沉积源喷嘴；
第一沉积源喷嘴单元，设置在第二沉积源的面对沉积目标的所述侧面，并且包括形成为穿过第二沉积源的多个第一沉积源喷嘴。
2.根据权利要求1所述的沉积源组件，其中，第一沉积源被构造为排放主体材料，第二沉积源被构造为排放掺杂剂材料。
3.根据权利要求2所述的沉积源组件，其中，包含在第一沉积源中的主体材料的量大于包含在第二沉积源中的掺杂剂材料的量。
4.根据权利要求1所述的沉积源组件，其中，第一沉积源被构造为排放掺杂剂材料，第二沉积源被构造为排放主体材料。
5.根据权利要求4所述的沉积源组件，其中，包含在第二沉积源中的主体材料的量大于包含在第一沉积源中的掺杂剂材料的量。
6.根据权利要求1所述的沉积源组件，其中，第二沉积源被构造为保持在比第一沉积源的温度高的温度。
7.根据权利要求1所述的沉积源组件，其中，所述多个第一沉积源喷嘴和所述多个第二沉积源喷嘴在第二沉积源的面对沉积目标的所述侧面按行布置并且交替布置。
8.根据权利要求1所述的沉积源组件，其中，所述多个第一沉积源喷嘴和所述多个第二沉积源喷嘴在第二沉积源的面对沉积目标的所述侧面按行布置，所述多个第一沉积源喷嘴中的每个第一沉积源喷嘴以同心的方式包括在所述多个第二沉积源喷嘴中的对应的第二沉积源喷嘴中。
9.一种用于在基底上形成有机层的有机层沉积设备，所述有机层沉积设备包括：
沉积源，用于排放沉积材料；
沉积源喷嘴单元，设置在沉积源的侧面；
图案化缝隙片，设置为面对沉积源喷嘴单元、比基底小并且具有多个图案化缝隙，
其中，沉积源包括第一沉积源和堆叠在第一沉积源上的第二沉积源，
其中，沉积源喷嘴单元包括第一沉积源喷嘴单元和第二沉积源喷嘴单元，第二沉积源喷嘴单元设置在第二沉积源的面对基底的侧面并且包括多个第二沉积源喷嘴，第一沉积源喷嘴单元设置在第二沉积源的面对基底的所述侧面，并且包括形成为穿过第二沉积源的多个第一沉积源喷嘴，
其中，有机层沉积设备设置为与基底分开设定距离，
其中，基底或有机层沉积设备被构造为相对于另一个运动。
10.根据权利要求9所述的有机层沉积设备，其中，第一沉积源被构造为排放主体材料，第二沉积源被构造为排放掺杂剂材料。
11.根据权利要求10所述的有机层沉积设备，其中，包含在第一沉积源中的主体材料的量大于包含在第二沉积源中的掺杂剂材料的量。
12.根据权利要求9所述的有机层沉积设备，其中，第一沉积源被构造为排放掺杂剂材料，第二沉积源被构造为排放主体材料。
13.根据权利要求12所述的有机层沉积设备，其中，包含在第二沉积源中的主体材料的量大于包含在第一沉积源中的掺杂剂材料的量。
14.根据权利要求9所述的有机层沉积设备，其中，第二沉积源被构造为保持在比第一沉积源的温度高的温度。
15.根据权利要求9所述的有机层沉积设备，其中，所述多个第一沉积源喷嘴和所述多个第二沉积源喷嘴在第二沉积源的面对基底的所述侧面按行布置并且交替布置。
16.根据权利要求9所述的有机层沉积设备，其中，所述多个第一沉积源喷嘴和所述多个第二沉积源喷嘴在第二沉积源的面对基底的所述侧面按行布置，所述多个第一沉积源喷嘴中的每个第一沉积源喷嘴以同心的方式包括在所述多个第二沉积源喷嘴中的对应的第二沉积源喷嘴中。
17.根据权利要求9所述的有机层沉积设备，其中，所述多个第一沉积源喷嘴和所述多个第二沉积源喷嘴沿着第一方向布置，所述多个图案化缝隙沿着与第一方向垂直的第二方向布置。
18.根据权利要求17所述的有机层沉积设备，其中，沉积源、沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片经由连接构件整体地形成一体。
19.根据权利要求18所述的有机层沉积设备，其中，连接构件被构造为引导沉积材料的运动。
20.根据权利要求19所述的有机层沉积设备，其中，连接构件形成为密封沉积源、沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的空间。
21.根据权利要求9所述的有机层沉积设备，其中，所述多个第一沉积源喷嘴和所述多个第二沉积源喷嘴沿着第一方向布置，
所述多个图案化缝隙沿着第一方向布置，
所述有机层沉积设备还包括障碍板组件，所述障碍板组件包括在沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间沿着第一方向设置的多个障碍板，所述多个障碍板将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的排放空间划分为多个子沉积空间。
22.根据权利要求21所述的有机层沉积设备，其中，所述多个障碍板沿着与第一方向基本垂直的第二方向延伸。
23.根据权利要求21所述的有机层沉积设备，其中，障碍板组件包括：
第一障碍板组件，包括多个第一障碍板；
第二障碍板组件，包括多个第二障碍板。
24.根据权利要求23所述的有机层沉积设备，其中，所述多个第一障碍板和所述多个第二障碍板沿着与第一方向基本垂直的第二方向延伸，以将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的沉积空间划分为多个子沉积空间。
25.根据权利要求9所述的有机层沉积设备，其中，有机层沉积设备还包括室，
所述多个第一沉积源喷嘴和所述多个第二沉积源喷嘴沿着第一方向布置，
图案化缝隙片与室的内侧固定地结合，
所述多个图案化缝隙沿着与第一方向垂直的第二方向布置。
26.根据权利要求25所述的有机层沉积设备，所述有机层沉积设备还包括第一传送单元，所述第一传送单元用于沿着第一方向移动固定有基底的静电吸盘。
27.根据权利要求26所述的有机层沉积设备，其中，第一传送单元包括：
框架，沉积源设置在框架中；
片支撑单元，形成为从框架的内侧表面突出并且支撑图案化缝隙片。
28.一种制造有机发光显示设备的方法，所述方法包括：
将有机层沉积设备设置为与作为沉积目标的基底分开设定距离，其中，有机发光显示设备包括：沉积源，用于排放沉积材料；沉积源喷嘴单元，设置在沉积源的侧面；图案化缝隙片，设置为面对沉积源喷嘴单元、比基底小并且具有多个图案化缝隙，其中，所述沉积源包括第一沉积源和堆叠在第一沉积源上的第二沉积源，其中，沉积源喷嘴单元包括第一沉积源喷嘴单元和第二沉积源喷嘴单元，第二沉积源喷嘴单元设置在第二沉积源的面对基底的侧面并且包括多个第二沉积源喷嘴，第一沉积源喷嘴单元设置在第二沉积源的面对基底的所述侧面，并且包括形成为穿过第二沉积源的多个第一沉积源喷嘴；
在有机层沉积设备或基底相对于另一个运动的同时在基底上沉积沉积材料。
29.根据权利要求28所述的方法，其中，从第一沉积源排放主体材料，从第二沉积源排放掺杂剂材料。
30.根据权利要求29所述的方法，其中，包含在第一沉积源中的主体材料的量大于包含在第二沉积源中的掺杂剂材料的量。
31.根据权利要求28所述的方法，其中，从第一沉积源排放掺杂剂材料，从第二沉积源排放主体材料。
32.根据权利要求31所述的方法，其中，包含在第二沉积源中的主体材料的量大于包含在第一沉积源中的掺杂剂材料的量。
33.根据权利要求28所述的方法，其中，第二沉积源的温度被保持为比第一沉积源的温度高。
34.根据权利要求28所述的方法，其中，所述多个第一沉积源喷嘴和所述多个第二沉积源喷嘴在第二沉积源的面对基底的所述侧面按行布置并且交替布置。
35.根据权利要求28所述的方法，其中，所述多个第一沉积源喷嘴和所述多个第二沉积源喷嘴在第二沉积源的面对基底的所述侧面按行布置，所述多个第一沉积源喷嘴中的每个以同心的方式包括在所述多个第二沉积源喷嘴中的对应的第二沉积源喷嘴中。
36.根据权利要求28所述的方法，其中，所述多个第一沉积源喷嘴和所述多个第二沉积源喷嘴沿着第一方向布置，所述多个图案化缝隙沿着与第一方向垂直的第二方向布置。
37.根据权利要求28所述的方法，其中，所述多个第一沉积源喷嘴和所述多个第二沉积源喷嘴沿着第一方向布置，
所述多个图案化缝隙沿着第一方向布置，
所述有机层沉积设备还包括障碍板组件，所述障碍板组件包括在沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间沿着第一方向设置的多个障碍板，所述多个障碍板将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的排放空间划分为多个子沉积空间。
38.根据权利要求28所述的方法，其中，有机层沉积设备还包括室，
所述多个沉积源喷嘴沿着第一方向布置，
图案化缝隙片与室的内侧固定地结合，
所述多个图案化缝隙沿着与第一方向垂直的第二方向布置。
39.一种有机发光显示设备，所述有机发光显示设备利用根据权利要求9所述的有机层沉积设备制造。
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