JP5549946B2 - 露光装置、露光方法、ステージ制御方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
δ=±k2・λ/NA2 … (2)
ここで、λは露光波長、NAは投影光学系の開口数、k1、k2はプロセス係数である。(1)式、(2)式より、解像度Rを高めるために、露光波長λを短くして、開口数NAを大きくすると、焦点深度δが狭くなることが分かる。
り、液体LQの流出を防止するとともに、液浸領域AR2の液体LQの不足を補い、常に液浸領域AR2を液体LQで満たすことができる。そして、予備液浸領域AR3が形成される領域、すなわち壁部131に囲まれた領域は、全領域が完全に液体LQで満たされないので、液浸領域AR2から予備液浸領域AR3に回収された液体LQが壁部131の外側に漏れだすことなく、壁部131に囲まれた領域内に留まることができる。
Claims (33)
- 液体を介して基板に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置であって、
投影光学系と、
前記液体を供給するための液体供給機構と、
前記液体を回収するための液体回収機構と、
前記基板を保持する基板ステージと、を備え、
前記液体供給機構と前記液体回収機構とによって前記基板ステージ上に局所的に液浸領域が形成されている状態で、前記基板ステージが第1位置から第2位置へほぼ直線的に移動するときに、前記第1位置と前記第2位置との間隔が所定量以上の場合には、前記第1位置と前記第2位置との間隔が前記所定量よりも短い場合に比べて、前記基板ステージの移動速度を小さくする露光装置。 - 液体を介して基板に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置であって、
投影光学系と、
前記投影光学系の終端部の光学素子を配置可能な開口部と、液体供給口と、前記投影光学系の像面側に配置された物体の表面が対向するように配置される下面に設けられた第1液体回収口とを有する流路形成部材と、
前記基板を保持する基板ステージと、を備え
前記流路形成部材を使って前記基板ステージ上に局所的に液浸領域が形成されている状態で、前記基板ステージが第1位置から第2位置へほぼ直線的に移動するときに、前記第1位置と前記第2位置との間隔が所定量以上の場合には、前記第1位置と前記第2位置との間隔が前記所定量よりも短い場合に比べて、前記基板ステージの移動速度を小さくする露光装置。 - 液体を介して基板に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置であって、
投影光学系と、
前記投影光学系の終端部の光学素子を配置可能な開口部と、前記投影光学系の像面側に配置された物体の表面が対向するように配置される下面に設けられた第1液体供給口と、前記下面に設けられた第1液体回収口とを有する流路形成部材と、
前記基板を保持する基板ステージと、を備え
前記流路形成部材を使って前記基板ステージ上に局所的に液浸領域が形成されている状態で、前記基板ステージが第1位置から第2位置へほぼ直線的に移動するときに、前記第1位置と前記第2位置との間隔が所定量以上の場合には、前記第1位置と前記第2位置との間隔が前記所定量よりも短い場合に比べて、前記基板ステージの移動速度を小さくする露光装置。 - 液体を介して基板に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置であって、
投影光学系と、
前記液体を供給するための液体供給機構と、
前記液体を回収するための液体回収機構と、
前記基板を保持する基板ステージと、を備え、
前記液体供給機構と前記液体回収機構とによって前記基板ステージ上に局所的に液浸領域が形成されている状態で、前記基板ステージを前記液体回収機構による液体回収力が弱い所定方向へ移動する場合には、前記基板ステージを前記所定方向とは異なる方向へ移動させる場合に比べて、前記基板ステージの移動速度を小さくする露光装置。 - 液体を介して基板に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置であって、
投影光学系と、
前記投影光学系の終端部の光学素子を配置可能な開口部と、液体供給口と、前記投影光学系の像面側に配置された物体の表面が対向するように配置される下面に設けられた第1液体回収口とを有する流路形成部材と、
前記基板を保持する基板ステージと、を備え、
前記流路形成部材を使って前記基板ステージ上に局所的に液浸領域が形成されている状態で、前記基板ステージを、前記第1液体回収口で回収しきれずに液体流出が発生しやすい所定方向へ移動させる場合には、前記基板ステージを前記所定方向とは異なる方向へ移動させる場合に比べて、前記基板ステージの移動速度を小さくする露光装置。 - 液体を介して基板に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置であって、
投影光学系と、
前記投影光学系の終端部の光学素子を配置可能な開口部と、前記投影光学系の像面側に配置された物体の表面が対向するように配置される下面に設けられた第1液体供給口と、前記下面に設けられた第1液体回収口とを有する流路形成部材と、
前記流路形成部材の前記第1液体回収口を介して液体回収を行う液体回収機構と、
前記基板を保持する基板ステージと、を備え、
前記流路形成部材を使って前記基板ステージ上に局所的に液浸領域が形成されている状態で、前記基板ステージを前記液体回収機構による液体回収力が弱い所定方向へ移動させる場合に、前記基板ステージを前記所定方向とは異なる方向へ移動させる場合に比べて、前記基板ステージの移動速度を小さくする露光装置。 - 前記所定方向には、前記第1液体回収口が配置されていない請求項5または6に記載の露光装置。
- 前記基板は、前記基板ステージを走査方向に移動しながら露光され、
前記所定方向は、前記走査方向に対する斜め方向を含む請求項4記載の露光装置。 - 前記基板は、前記基板ステージを走査方向に移動しながら露光され、
前記所定方向は、前記走査方向に対する斜め方向を含む請求項5記載の露光装置。 - 前記基板は、前記基板ステージを走査方向に移動しながら露光され、
前記所定方向は、前記走査方向に対する斜め方向を含む請求項6記載の露光装置。 - 前記流路形成部材は、前記開口部に配置される前記光学素子との間に間隙を形成する内側面に設けられた第2液体供給口を有する請求項3,6,および10のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記流路形成部材は、前記内側面に第2液体回収口を有する請求項11記載の露光装置。
- 前記流路形成部材は、前記開口部に配置される前記光学素子との間に間隙を形成する内側面に設けられた第2液体回収口を有する請求項2,3,5,6,9,および10のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記第1液体回収口から液体回収しつつ液体流出が起きないように、前記基板ステージの移動速度を小さくする請求項2,3,5,6,および9〜13のいずれか一項記載の露光装置。
- 前記液浸領域からの液体流出が起きないように、前記基板ステージの移動速度を小さくする請求項1〜14のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記液浸領域に気体部分が生成されないように、前記基板ステージの移動速度を小さくする請求項1〜15のいずれか一項に記載の露光装置。
- 請求項1〜請求項16のいずれか一項記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
- 基板の表面の一部を覆う液浸領域の液体と投影光学系を介して基板に露光光を照射して前記基板を露光する露光方法であって、
液体を介して基板に露光光を照射して基板を露光することと、
基板を露光していないときに、基板上に液体を保持したまま基板を第1位置から第2位置へ移動することと、を含み、
前記第1位置から前記第2位置への移動の距離が所定距離以上の場合には、所定距離未満の場合よりも前記基板の移動速度を小さくする露光方法。 - さらに基板上から液体を回収することを含み、液体の回収力が弱い所定方向へ基板を移動させる場合には、前記基板を前記所定方向とは異なる方向へ移動させる場合に比べて、前記基板の移動速度を小さくする請求項18に記載の露光方法。
- 基板の表面の一部を覆う液浸領域の液体と投影光学系を介して基板に露光光を照射して前記基板を露光する露光方法であって、
液体を介して基板に露光光を照射して基板を露光することと、
基板上から液体を回収することと、
基板を露光していないときに、基板上に液体を保持したまま基板を第1位置から第2位置へ移動することと、を含み、
前記第1位置から前記第2位置への前記基板の移動が、液体の回収力が弱い所定方向への移動の場合には、前記基板を前記所定方向とは異なる方向へ移動させる場合に比べて、前記基板の移動速度を小さくする露光方法。 - 基板の表面の一部を覆う液浸領域の液体と投影光学系を介して基板に露光光を照射して前記基板を露光する露光方法であって、
液体を介して基板に露光光を照射して基板を露光することと、
液体回収口を介して基板上から液体を回収することと、
基板を露光していないときに、基板上に液体を保持したまま基板を第1位置から第2位置へ移動することと、を含み、
前記第1位置から前記第2位置への前記基板の移動が、前記液体回収口で回収しきれずに液体流出が発生しやすい所定方向への移動の場合には、前記基板を前記所定方向とは異なる方向へ移動させる場合に比べて、前記基板の移動速度を小さくする露光方法。 - 前記投影光学系の像面側に形成されている液浸領域からの液体流出が起きないように、前記基板の移動速度を小さくする請求項18〜21のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記液浸領域に気体部分が生成されないように、前記基板の移動速度を小さくする請求項18〜22のいずれか一項に記載の露光方法。
- 請求項18〜23のいずれか一項に記載の露光方法を用いるデバイス製造方法。
- 液体供給口からの液体供給と液体回収口からの液体回収を行いながら投影光学系の像面側に液浸領域を形成するとともに、基板の表面の一部を覆う前記液浸領域の液体を介して前記基板に露光光を照射する露光装置で用いられるステージ制御方法であって、
前記液浸領域が形成されている状態で、前記投影光学系の下方でステージを直線的に所定距離以上移動するときに、前記ステージを前記所定距離未満移動するときに比べて、前記ステージの移動速度を小さくするステージ制御方法。 - 液体供給口からの液体供給と液体回収口からの液体回収を行いながら投影光学系の像面側に液浸領域を形成するとともに、基板の表面の一部を覆う前記液浸領域の液体を介して前記基板に露光光を照射する露光装置で用いられるステージ制御方法であって、
前記液浸領域が形成されている状態で、前記投影光学系の下方でステージを、前記液体回収口で回収しきれずに液体流出が発生しやすい所定方向への移動するときに、前記ステージを前記所定方向とは異なる方向へ移動するときに比べて、前記ステージの移動速度を小さくするステージ制御方法。 - 前記露光装置において、前記基板は、前記ステージを走査方向に移動しながら露光され、
前記所定方向は、前記走査方向に対する斜め方向を含む請求項26記載のステージ制御方法。 - 前記露光装置は、前記露光光の光路を囲むように配置された流路形成部材を備え、
前記液体回収口は、前記基板の表面が対向するように前記流路形成部材に配置されている請求項25〜27のいずれか一項に記載のステージ制御方法。 - 前記流路形成部材は、前記液体供給口を有する請求項28記載のステージ制御方法。
- 前記液体供給口は、前記基板の表面が対向するように前記流路形成部材に形成され、
前記液体回収口は、前記液体供給口を囲むように前記流路形成部材に形成されている請求項29記載のステージ制御方法。 - 前記液体回収口から液体回収しつつ液体流出が起きないように、前記ステージの移動速度を小さくする請求項25〜30のいずれか一項記載のステージ制御方法。
- 前記液浸領域からの液体流出が起きないように、前記基板ステージの移動速度を小さくする請求項25〜31のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記液浸領域の液体中に気体部分が形成されないように、前記ステージの移動速度を小さくする請求項25〜32のいずれか一項に記載のステージ制御方法。
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