DE102006023876A1

DE102006023876A1 - Optische Abbildungseinrichtung

Info

Publication number: DE102006023876A1
Application number: DE102006023876A
Authority: DE
Inventors: Stefan Dr. Hembacher; Bernhard Gellrich; Jens Dr. Kugler
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2006-05-19
Filing date: 2006-05-19
Publication date: 2007-11-22
Also published as: US20160147159A1; JP2007318137A; KR20140146570A; KR101772321B1; US20080013063A1; KR101607490B1; JP5848378B2; KR20160040155A; JP2014131060A; EP1857882A2; JP5475220B2; JP6305969B2; EP1857882A3; KR20070112079A; JP2016075925A; JP2018120235A; KR101536664B1

Abstract

Optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit wenigstens einem optischen Element (109) und wenigstens einer dem optischen Element (109) zugeordneten Halteeinrichtung (104), wobei die Halteeinrichtung (104) das optische Element (109) hält und ein erster Teil (109.1) des optischen Elements (109) durch eine erste Atmosphäre beaufschlagt ist und ein zweiter Teil (109.2) des optischen Elements (109) zumindest zeitweise durch eine zweite Atmosphäre beaufschlagt ist, und wobei eine Reduktionseinrichtung (115) vorgesehen ist, die Schwankungen in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre zumindest reduziert.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Abbildungseinrichtung. Die Erfindung lässt sich im Zusammenhang mit der bei der Herstellung mikroelektronischer Schaltkreise verwendeten Mikrolithographie einsetzen. Sie betrifft daher weiterhin ein Abbildungsverfahren, welches unter anderem mit einer solchen optischen Abbildungseinrichtung durchgeführt werden kann.
Insbesondere im Bereich der Mikrolithographie ist es neben der Verwendung mit möglichst hoher Präzision ausgeführter Komponenten unter anderem erforderlich, die Position und Geometrie der Komponenten der Abbildungseinrichtung, also beispielsweise die optischen Elemente wie Linsen, Spiegel oder Gitter, im Betrieb möglichst unverändert zu halten, um eine entsprechend hohe Abbildungsqualität zu erzielen. Die hohen Genauigkeitsanforderungen, die in der Größenordnung weniger Nanometer oder darunter liegen, sind dabei nicht zuletzt eine Folge des ständigen Bedarfs, die Auflösung der bei der Herstellung mikroelektronischer Schaltkreise verwendeten optischen Systeme zu erhöhen, um die Miniaturisierung der herzustellenden mikroelektronischen Schaltkreise voranzutreiben.
Um eine erhöhte Auflösung zu erzielen, kann entweder die Wellenlänge des verwendeten Lichts verringert werden, wie es bei Systemen der Fall ist, die im extremen UV-Bereich (EUV) mit Arbeitswellenlängen im Bereich von 13 nm arbeiten, oder die numerische Apertur des Projektionssystems erhöht werden. Eine Möglichkeit zur nennenswerten Erhöhung der numerischen Apertur über den Wert Eins wird mit so genannten Immersionssystemen realisiert, bei denen sich zwischen dem letzten optischen Element des Projektionssystems und dem Substrat, das belichtet werden soll ein Immersionsmedium befindet, dessen Brechzahl größer als Eins ist. Eine weitere Erhöhung der numerischen Apertur ist mit optischen Elementen mit besonders hoher Brechzahl möglich.
Sowohl mit der Reduktion der Arbeitswellenlänge als auch mit der Erhöhung der numerischen Apertur steigen nicht nur die Anforderungen an die Positioniergenauigkeit und Maßhaltigkeit der verwendeten optischen Elemente über den gesamten Betrieb hinweg. Es steigen natürlich auch die Anforderungen hinsichtlich der Minimierung der Abbildungsfehler der gesamten optischen Anordnung.
Von besonderer Bedeutung sind hierbei unter anderem die Deformationen des betreffenden optischen Elements und die daraus resultierenden Abbildungsfehler. Dabei führt schon das Eigengewicht der optischen Elemente gegebenenfalls zu einer nicht mehr tolerablen Deformation. Um diesen eigengewichtbedingten Deformationen entgegenzuwirken, wird in der US 6,243,159 B1 (Nakao) und der US 6,388,731 B1 (Nakao) – deren Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird – vorgeschlagen, das optische Element zu beiden Seiten mit Atmosphären derart unterschiedlichen Drucks zu beaufschlagen, dass durch die Druckdifferenz eine der Gewichtskraft entsprechende Gegenkraft auf das optische Element erzeugt wird.
Hierdurch mag es zwar in einem stationären Zustand möglich sein, eine hohe Abbildungsqualität, d.h. geringe Abbildungsfehler zu realisieren. Ein Problem stellen jedoch nach wie vor instationäre Einflussfaktoren dar, welche zu dynamischen Druckvariationen in der das optische Element jeweils beaufschlagenden Atmosphäre führen. Aus solchen Druckvariationen können in Abhängigkeit von der Steifigkeit der Halterung des optischen Elements unter Umständen Verschiebungen des betreffenden optischen Elements im Bezug auf die übrigen Komponenten der Abbildungseinrichtung resultieren, welche zu nicht mehr vernachlässigbaren Abbildungsfehlern führen.
Um solchen druckvariationsbedingten Abbildungsfehlern bei mit zwei unterschiedlichen Atmosphären beaufschlagten optischen Elementen entgegenzuwirken, wird in der US 5,636,000 (Ushida et al.) – deren Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird – vorgeschlagen, verstellbare optische Korrekturelemente, wie optische Gitter oder dergleichen, in der Abbildungseinrichtung vorzusehen. Der Ausgleich der erfassten Abbildungsfehler erfolgt bei dieser Abbildungseinrichtung dann durch Verstellung der Position der optischen Korrekturelemente.
Diese Lösung hat den Nachteil, dass sie zum einen mit erheblichem Entwicklungsaufwand verbunden ist, da die optischen Korrekturelemente bei der Auslegung des optischen Systems berücksichtigt und in dieses integriert werden müssen. Weiterhin ist in der Regel erheblicher Aufwand für die Aktuatorik der optischen Korrekturelemente erforderlich. Schließlich sind solche optischen Korrekturelemente gegebenenfalls selbst den Folgen der Druckvariation unterworfen, sodass sich der Korrekturaufwand erhöht.
KURZE ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zu Grunde, eine optische Abbildungseinrichtung bzw. ein optisches Abbildungsverfahren zur Verfügung zu stellen, welche bzw. welches die oben genannten Nachteile nicht oder zumindest in geringerem Maße aufweist und insbesondere auf einfache Weise bei der Verwendung eines optischen Elements, das mit einer ersten und einer zweiten Atmosphäre beaufschlagt ist, zumindest eine Reduktion der Auswirkungen von Schwankungen in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre ermöglicht.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Erkenntnis zu Grunde, dass man eine Reduktion der Auswirkungen von Schwankungen in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre auf einfache und zuverlässige erzielen kann, indem schon eine Reduktion der Ursache selbst, also eine Reduktion von Schwankungen in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre, vorgenommen wird. Es hat sich gemäß der Erfindung gezeigt, dass eine solche Reduktion von Schwankungen in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre in einfacher Weise durch entsprechende Maßnahmen bzw. Einrichtungen möglich ist, welche entweder bei Druckschwankungen in der einen Atmosphäre für eine entsprechende ausreichend schnelle Druckangleichung, d.h. eine Nachführung des Drucks, in der anderen Atmosphäre sorgen. Zusätzlich oder alternativ können auch Maßnahmen bzw. Einrichtungen zum Einsatz kommen, welche in wenigstens einer der beiden Atmosphären das Auftreten von Druckschwankungen, deren Amplitude oder deren Fortpflanzung bis zum optischen Element reduzieren.
Es hat sich gezeigt, dass solche Maßnahmen bzw. Einrichtungen ohne zusätzliche optische Elemente, also ohne Eingriff in das optische System auskommen, sodass das Design des optischen Systems in vorteilhafter Weise unverändert bleiben kann. Ein weiterer Vorteil liegt in der Reduktion des bei dem Ausgleich entstehenden Fehlers, da unmittelbar auf die Ursache des Fehlers selbst eingewirkt wird.
Der Erfindung liegt weiterhin auch noch die Erkenntnis zu Grunde, dass sich für eine vorgegebene Abbildungseinrichtung in der Regel ein entsprechendes, insbesondere instationäre oder lokale Druckvariationen berücksichtigendes Druckverhaltensmodell aufstellen und bei der aktiven Regelung der Druckangleichung zwischen beiden Atmosphären oder der Beeinflussung von Druckschwankungen in einer der Atmosphären verwenden lässt. Mit solchen Druckverhaltensmodellen lässt sich eine apparativ besonders einfach aufgebaute und schnell reagierende Regelung erzielen.
Ein Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist daher eine optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit wenigstens einem optischen Element und wenigstens einer dem optischen Element zugeordneten Halteeinrichtung, wobei die Halteeinrichtung das optische Element hält und ein erster Teil des optischen Elements durch eine erste Atmosphäre beaufschlagt ist und ein zweiter Teil des optischen Elements zumindest zeitweise durch eine zweite Atmosphäre beaufschlagt ist. Es ist eine Reduktionseinrichtung vorgesehen, die Schwankungen in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre zumindest reduziert.
Ein weiterer Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein optisches Abbildungsverfahren, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem ein Projektionsmuster mittels einer optischen Abbildungseinrichtung auf ein Substrat abgebildet wird, wobei ein erster Teil eines optischen Elements der optischen Abbildungseinrichtung durch eine erste Atmosphäre beaufschlagt wird und ein zweiter Teil des optischen Elements zumindest zeitweise durch eine zweite Atmosphäre beaufschlagt wird. Zur Reduktion eines beim Abbilden des Projektionsmusters auf dem Substrat auftretenden, durch Schwankungen in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre bedingten Abbildungsfehlers erfolgt zumindest eine Reduktion der Schwankungen in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre.
Weitere bevorzugte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen bzw. der nachstehenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele, welche auf die beigefügten Zeichnungen Bezug nimmt.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
1 ist eine schematische Darstellung einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung mit dem sich eine bevorzugte Ausführungsform des erfindungsgemäßen optischen Abbildungsverfahrens durchführen lässt;
2 ist ein schematischer Teilschnitt durch einen Teil der Abbildungseinrichtung aus 1;
3A bis 3C ist jeweils ein schematischer Teilschnitt durch einen Teil einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung.
DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
Unter Bezugnahme auf die 1 und 2 wird im Folgenden eine bevorzugte Ausführungsform des erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung für die Mikrolithographie beschrieben.
1 zeigt eine schematische Darstellung einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung in Form einer Mikrolithographieeinrichtung 101, die mit Licht im UV-Bereich mit einer Wellenlänge von 193 nm arbeitet.
Die Mikrolithographieeinrichtung 101 umfasst ein Beleuchtungssystem 102, eine Maskeneinrichtung 103 mit einem Maskentisch 103.1, ein optisches Projektionssystem in Form eines Objektivs 104 mit einer optischen Achse 104.1 und eine Substrateinrichtung 105. Das Beleuchtungssystem 102 beleuchtet eine Maske 103.1, die auf einem Maskentisch 103.2 angeordnet ist, mit einem – nicht näher dargestellten – Projektionslichtbündel der Wellenlänge 193 nm. Auf der Maske 104.1 befindet sich ein Projektionsmuster, welches mit dem Projektionslichtbündel über die im Objektiv 104 angeordneten optischen Elemente auf ein Substrat in Form eines ersten Wafers 105.1 projiziert wird, der auf einem ersten Wafertisch 105.2 angeordnet ist.
Neben dem Objektivs 104 ist eine Messstation 106 angeordnet, die dazu dient, die Topographie des nach dem ersten Wafer 105.1 zu belichtenden zweiten Wafers 105.3 zu vermessen, wie dies aus der EP 1 420 300 A2 (Lof et al.) – deren Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird – bekannt ist. Hierzu ist der zweite Wafer 105.3 auf einem zweiten Wafertisch 105.4 angeordnet, der zur Belichtung des zweiten Wafers 105.3 dann in die in 1 dargestellte Position des ersten Wafertischs 105.2 verfahren wird.
Das Objektiv 104 umfasst eine optische Elementgruppe 107, die von einer Reihe von optischen Elementen 108, 109 gebildet ist. Die optischen Elemente 108, 109 werden im Gehäuse 104.2 des Objektivs 104 gehalten. Wegen der Arbeitswellenlänge von 193 nm handelt es sich bei den optischen Elementen 108, 109 um refraktive optische Elemente, also Linsen oder dergleichen. Dabei handelt es sich bei dem letzten optischen Element 109, das dem Wafer 105.1 im Betrieb am nächsten liegt, um ein so genanntes Abschlusselement oder letztes Linsenelement.
Bei der Mikrolithographieeinrichtung 101 handelt es sich um ein Immersionssystem. Bei diesem befindet sich zwischen dem Wafer 105.1 und dem letzten Linsenelement 109 in einer Immersionszone 110 ein flüssiges Immersionsmedium 110.1, beispielsweise hochreines Wasser oder dergleichen. In der Immersionszone 110 liegt dabei ein Immersionsbad aus dem Immersionsmedium 110.1 vor, das zum einen nach unten zumindest durch den aktuell zu belichtenden Teil des Wafers 105.1 begrenzt ist. Die seitliche Begrenzung des Immersionsbades erfolgt zumindest teilweise durch einen Immersionsrahmen 110.2. Zumindest der bei der Belichtung optisch genutzte und auf der Außenseite des Objektivs 104 liegende Teil des letzten Linsenelements 109 ist in das Immersionsbad eingetaucht. Daher verläuft der Weg des bei der Belichtung aus dem letzten Linsenelement 109 austretenden Lichts zwischen dem letzten Linsenelement 109 und dem Wafer ausschließlich im Immersionsmedium 110.1.
Durch den über dem Wert Eins liegenden Brechungsindex des Immersionsmediums wird so eine numerische Apertur NA > 1 erzielt und damit das Auflösungsvermögen gegenüber einem herkömmlichen System erhöht, bei dem eine Gasatmosphäre zwischen dem letzten Linsenelement und dem Wafer vorliegt.
Das letzte Linsenelement 109 begrenzt mit seiner dem Inneren des Gehäuses 104.2 zugewandten Seite 109.1 unter anderem zusammen mit dem Gehäuse 104.2 und dem benachbarten Linsenelement 108 einen ersten Raum 111. In dem ersten Raum 111 herrscht eine ersten Atmosphäre vor, mit der das letzte Linsenelement 109 beaufschlagt wird. Dabei herrscht in dem ersten Raum 111 ein erster Druck P1 vor.
Mit seiner der Umgebung des Gehäuses 104.2 zugewandten Seite 109.2 begrenzt das letzte Linsenelement 109 unter anderem zusammen mit dem Gehäuse 104.2 und einem Gehäuse 113, in welches das Objektiv 104 hineinragt, einen zweiten Raum 112. In dem zweiten Raum 112 herrscht eine zweite Atmosphäre vor, mit der das letzte Linsenelement 109 beaufschlagt wird. Dabei herrscht in dem zweiten Raum 112 zumindest in dem Immersionsmedium 110.1 des Immersionsbades ein zweiter Druck P2 vor.
Je nach Auslegung des Objektivs 104 kann zwischen dem ersten Druck in der ersten Atmosphäre und dem zweiten Druck in der zweiten Atmosphäre eine bestimmte Soll-Druckdifferenz DPS gewählt sein, die ungleich Null ist (DPS ≠ 0). So kann beispielsweise eine bestimmte Soll-Druckdifferenz DPS vorgesehen sein, die eine Aufhebung der Gewichtskraft des letzten Linsenelements 109 bewirkt, wie dies aus der eingangs genannten US 6,243,159 B1 (Nakao) und der US 6,388,731 B1 (Nakao) bekannt ist. Ebenso kann aber auch vorgesehen sein, dass die Soll-Druckdifferenz gleich Null ist (DPS = 0).
Schwankungen in der tatsächlichen Druckdifferenz DP zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre, also zwischen dem ersten Druck P1 und dem zweiten Druck P2 (DP = P1 – P2), bewirken eine Änderung der auf das letzte Linsenelement 109 in Richtung der optischen Achse 104.1 wirkenden Kräfte und damit – je nach Steifigkeit der Halteelemente 114, die das letzte Linsenelement 109 mit dem Gehäuse 104.2 verbinden – in Richtung der optischen Achse 104.1 eine entsprechende Verschiebung des letzten Linsenelements 109. Diese Verschiebung des letzten Linsenelements 109 bewirkt wiederum einen Abbildungsfehler entsprechender Größe.
Die Schwankungen in der tatsächlichen Druckdifferenz DP zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre können von unterschiedlichen Quellen herrühren. So kann die Bewegung des vergleichsweise großen ersten Wafertischs 105.2 während des Belichtungsvorganges des Wafers 105.1 Druckwellen in der zweiten Atmosphäre erzeugen, welche sich bis in die Region des letzten Linsenelements 109 fortpflanzen. Ebenso kann die Bewegung des vergleichsweise großen zweiten Wafertischs 105.4 während des Vermessungsvorganges des zweiten Wafers 105.3 solche Druckwellen in der zweiten Atmosphäre erzeugen. In der ersten Atmosphäre können schnelle Druckänderungen durch eine aktive Verstellung der optischen Elemente, die insbesondere bei der Verstellung des letzten Linselements 109 oder des benachbarten der optischen Elements 108 unmittelbar auf das letzten Linselements 109 einwirken. Ebenso können Druckschwankungen in der jeweiligen Atmosphäre aber auch durch andere Faktoren, insbesondere Temperaturänderungen oder Strömungsvorgänge etc., beeinflusst bzw. generiert werden.
Um solche durch zeitliche Schwankungen in der tatsächlichen Druckdifferenz DP zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre bedingten Abbildungsfehler zumindest zu reduzieren, ist eine Reduktionseinrichtung 115 vorgesehen, welche bereits an der Ursache dieser Abbildungsfehler ansetzt, nämlich die Schwankungen in der tatsächlichen Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre zumindest reduziert. Die Reduktionseinrichtung 115 umfasst im vorliegenden Beispiel sowohl passive als auch aktive Einrichtungen, die im Folgenden näher erläutert werden. Dabei versteht es sich, dass die nachfolgend beschriebenen passiven und aktiven Einrichtungen sowohl jeweils für sich alleine als auch in beliebiger Kombination eingesetzt werden können.
Eine erste aktive Einrichtung 116 der Reduktionseinrichtung 115 umfasst eine erste Erfassungseinrichtung 117 eine damit verbundene Steuereinrichtung 118 und eine erste Stelleinrichtung 119. Die erste Erfassungseinrichtung 117 erfasst die Druckdifferenzabweichungen ΔDP der tatsächlichen Druckdifferenz DP zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre von der Soll-Druckdifferenz DPS zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre (ΔDP = DP – DPS). Hierzu umfasst die erste Erfassungseinrichtung 117 eine erste Druckerfassungseinrichtung 117.1, welche den ersten Druck P1 in dem ersten Raum 111 erfasst und eine zweite Druckerfassungseinrichtung 117.2, welche den zweiten Druck P2 im Immersionsmedium 110.1 in dem zweiten Raum 112 erfasst.
Die erste Druckerfassungseinrichtung 117.1 umfasst einen oder mehrere geeignete Drucksensoren, welche mit ausreichender zeitlicher und räumlicher Auflösung den ersten Druck P1 bzw. dessen Verteilung im ersten Raum 111 erfassen und entsprechende Signale an die damit verbundene Steuereinrichtung 118 weitergeben. Entsprechendes gilt für die zweite Druckerfassungseinrichtung 117.2, welche mit ausreichender zeitlicher und räumlicher Auflösung den zweiten Druck P2 bzw. dessen Verteilung im Immersionsmedium 110.1 in dem zweiten Raum 112 erfasst und entsprechende Signale an die damit verbundene Steuereinrichtung 118 weitergibt. Die zweite Druckerfassungseinrichtung 117.2 kann insbesondere wie diejenige aufgebaut sein, die aus der US 2005/0018156 A1 (Mulkens et al.) – deren Offenbarung hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird – bekannt ist.
Die erste Stelleinrichtung 119 umfasst eine den ersten Raum 111 begrenzende erste Membran 119.1, die an ihrem Umfang dichtend an dem Gehäuse 104.2 befestigt ist. Die Membran 119.1 ist mit einer linear in der Richtung 119.3 wirkenden Betätigungseinrichtung 119.2 verbunden, über welche die Richtung und der Grad der Wölbung der Membran 119.1 und damit das Volumen des ersten Raumes 111 verstellt werden können.
Die Steuereinrichtung 118 bestimmt aus den Signalen der Druckerfassungseinrichtungen 117.1 und 117.2 die Druckdifferenzabweichung ΔDP und generiert daraus entsprechende erste Steuersignale für die erste Stelleinrichtung 119. Die Betätigungseinrichtung 119.2 verstellt in Abhängigkeit von den ersten Steuersignalen die Wölbung der Membran 119.1 und damit das Volumen des ersten Raumes 111. Die Steuereinrichtung 118 generiert die ersten Steuersignale so, dass die durch die erste Stelleinrichtung 119 erzeugte Volumenänderung des ersten Raumes 111 eine Veränderung des Drucks im ersten Raum 111 bewirkt, welche der Druckdifferenzabweichungen ΔDP entgegenwirkt. Mit anderen Worten führt die erste Stelleinrichtung 119 – gesteuert durch die Steuereinrichtung 118 – den ersten Druck P1 in dem ersten Raum 111 dem zweiten Druck P2 in dem zweiten Raum so nach, dass die Druckdifferenzabweichungen ΔDP minimiert, im Idealfall eliminiert werden.
Es versteht sich, dass bei anderen Varianten der Erfindung zur Volumenänderung des ersten Raumes auch anders aufgebaute erste Stelleinrichtungen vorgesehen sein können. So kann beispielsweise an Stelle der Membran 119.1 ein Faltenbalg vorgesehen sein, wie dies in 2 durch die gestrichelte Kontur 120 angedeutet ist. Ebenso kann die erste Stelleinrichtung auch durch eine Stelleinrichtung gebildet sein, über welche die Position des Linsenelements 108 und/oder des letzten Linsenelements 109, beispielsweise entlang der optischen Achse 104.1, verstellt werden kann. So können beispielsweise die Halteelemente 114 des letzten Linsenelements entsprechende Aktuatoren umfassen, welche gesteuert durch die Steuereinrichtung 118 die Position des letzten Linsenelements 109 verstellen. Dabei wird dann natürlich bevorzugt die durch die Positionsverstellung des betreffenden Linsenelements eintretende Änderung der Abbildung durch die Steuereinrichtung 118 entsprechend berücksichtigt. Schließlich können die vorgenannten ersten Stelleinrichtungen in beliebiger geeigneter Anzahl und/oder Kombination vorgesehen sein.
Als Alternative oder Ergänzung zur ersten aktiven Einrichtung 116 kann eine aktive Einrichtung 121 der Reduktionseinrichtung 115 vorgesehen sein. Diese aktive Einrichtung 121 umfasst die erste Erfassungseinrichtung 117, die Steuereinrichtung 118 und eine damit verbundene Stelleinrichtung in Form einer Spüleinrichtung 122. Die Spüleinrichtung 122 umfasst eine Fördereinrichtung 122.1, die dem ersten Raum 111 über eine erste Leitung 122.2 einen ersten Massenstrom eines Spülmediums zuführt und über eine zweite Leitung 122.3 einen zweiten Massenstrom des Spülmediums abführt. In der ersten Leitung 122.2 ist ein erstes verstellbares Ventil 122.4 vorgesehen, während in der zweiten Leitung 122.3 ein zweites verstellbares Ventil 122.5 vorgesehen ist.
Über das verstellbare erste Ventil 122.4 kann der zum ersten Raum 111 zugeführte Massenstrom des Spülmediums eingestellt werden, während vorgesehen, während über das zweite verstellbare Ventil 122.5 der aus dem ersten Raum 111 abgeführte Massenstrom des Spülmediums eingestellt werden kann. Zusätzlich oder alternativ kann der zu- bzw. abgeführte Massenstrom auch über die Fördereinrichtung 122.1 eingestellt werden, wobei die verstellbaren Ventile 122.3 und 122.5 dann gegebenenfalls auch fehlen können. Je nach dem Verhältnis zwischen dem zugeführten Massenstrom und dem abgeführten Massenstrom ergibt sich eine Änderung des Drucks in dem ersten Raum 111.
Die Steuereinrichtung 118 bestimmt aus den Signalen der Druckerfassungseinrichtungen 117.1 und 117.2 die Druckdifferenzabweichung ΔDP und generiert daraus entsprechende Steuersignale für die Spüleinrichtung 122. Die Spüleinrichtung 122 verstellt dann über die verstellbaren Ventile 122.3 und 122.5 und/oder die Fördereinrichtung 122.1 in Abhängigkeit von den ersten Steuersignalen das Verhältnis zwischen dem dem ersten Raum 111 zugeführten Massenstrom und dem aus dem ersten Raum 111 abgeführten Massenstrom, woraus sich eine Änderung des Drucks in dem ersten Raum 111 ergibt. Die Steuereinrichtung 118 generiert die ersten Steuersignale so, dass die durch die Spüleinrichtung 122 erzeugte Veränderung des Drucks im ersten Raum 111 der Druckdifferenzabweichungen ΔDP entgegenwirkt. Mit anderen Worten führt die Spüleinrichtung 122 – gesteuert durch die Steuereinrichtung 118 – den ersten Druck P1 in dem ersten Raum 111 dem zweiten Druck P2 in dem zweiten Raum so nach, dass die Druckdifferenzabweichungen ΔDP minimiert, im Idealfall eliminiert werden.
Werden die Stelleinrichtung 119 und die Spüleinrichtung 122 zusammen verwendet, findet in der Steuereinrichtung natürlich jeweils eine gegenseitige Berücksichtigung ihrer jeweiligen Wirkungen statt. Hierbei kann es insbesondere sinnvoll sein, die Stelleinrichtung 119 und die Spüleinrichtung 122 für die Kompensation von Druckdifferenzabweichungen ΔDP in unterschiedlichen Frequenzbereichen einzusetzen. So kann beispielsweise vorgesehen sein, dass die Spüleinrichtung 122 in einem Druckdifferenzabweichungen ΔDP in einem ersten Frequenzbereich kompensiert, während die Stelleinrichtung 119 Druckdifferenzabweichungen ΔDP in einem zweiten Frequenzbereich kompensiert, dessen Frequenzen zumindest teilweise oberhalb derjenigen des ersten Frequenzbereichs liegen. Dabei kann eine Überlappung der Frequenzbereiche sinnvoll sein, um über die gesamte Frequenzspanne eine zuverlässige Kompensation zu erzielen. Dabei versteht es sich, dass die Frequenzspanne nur die Frequenzbereiche abdecken muss, in denen nicht vernachlässigbare Störungen der Abbildungsqualität der Mikrolithographieeinrichtung 101 zu erwarten sind.
Es versteht sich, dass bei anderen Varianten der Erfindung alternativ oder zusätzlich zur oben beschriebenen Volumenänderung des ersten Raumes 111 und/oder zur Änderung des effektiven Massenstromes in den ersten Raum 111 auch eine entsprechende Volumenänderung des zweiten Raumes 111 und/oder eine Änderung des effektiven Massenstromes in den zweiten Raum 112 erfolgen kann.
Eine weitere aktive Einrichtung 123 der Reduktionseinrichtung 115 umfasst eine zweite Erfassungseinrichtung 124, die Steuereinrichtung 118 und eine zweite Stelleinrichtung 125. Die zweite Erfassungseinrichtung 124 erfasst Druckschwankungen in der zweiten Atmosphäre, also die Druckabweichungen ΔP2 in der zweiten Atmosphäre von einem Soll-Druck P2S (ΔP2 = P2 – P2S). Hierzu umfasst die erste zweite Erfassungseinrichtung 124 eine dritte Druckerfassungseinrichtung 124.1, welche die Druckverteilung P2 in dem zweiten Raum 112 erfasst.
Die dritte Druckerfassungseinrichtung 124.1 umfasst einen oder mehrere geeignete Drucksensoren, welche mit ausreichender zeitlicher und räumlicher Auflösung die Frequenz und die Amplitude von Schwankungen des Drucks P2 im zweiten Raum 112 erfassen und entsprechende Signale an die damit verbundene Steuereinrichtung 118 weitergeben. Hierbei kann insbesondere die oben beschriebene zweite Druckerfassungseinrichtung 117.2 auch Bestandteil der dritten Druckerfassungseinrichtung 124.1 sein. Dabei werden über die dritte Druckerfassungseinrichtung 124.1 insbesondere erste Druckwellen registriert, die aus der Bewegung wenigstens eines der beiden Wafertische 105.2, 105.4 resultieren.
Die zweite Stelleinrichtung 125 umfasst einen oder mehrere Druckwellengeneratoren, welche mit ausreichender zeitlicher und räumlicher Auflösung zweite Druckwellen generieren, die den über die dritte Druckerfassungseinrichtung 124.1 erfassten ersten Druckwellen überlagern.
Die Steuereinrichtung 118 bestimmt aus den Signalen der dritten Druckerfassungseinrichtung 124.1 die Frequenz und die Amplitude von Schwankungen des Drucks P2 im zweiten Raum 112 und generiert daraus entsprechende zweiten Steuersignale für die zweite Stelleinrichtung 125. Die Druckwellengeneratoren der zweiten Stelleinrichtung 125 erzeugen dann in Abhängigkeit von den zweiten Steuersignalen zweite Druckwellen in dem zweiten Raum 112. Die Steuereinrichtung 118 generiert die zweiten Steuersignale so, dass sich die durch die zweite Stelleinrichtung 125 generierten zweiten Druckwellen den ersten Druckwellen so überlagern, dass die aus der Überlagerung resultierenden Druckwellen zumindest eine geringere Amplitude haben. Im Idealfall löschen sich die ersten und zweiten Druckwellen im Wesentlichen gegenseitig aus.
Durch die aktive Einrichtung 123 wird mit anderen Worten in vorteilhafter Weise aktiv die Ausbreitung von Druckstörungen in der zweiten Atmosphäre hin zu dem letzten Linsenelement 109 gehemmt bzw. sogar verhindert, sodass es zu keinen hierdurch bedingten Abbildungsfehlern kommt. Es versteht sich hierbei, dass bei anderen Varianten der Erfindung ähnliche Einrichtungen auch in dem ersten Raum 111 vorgesehen sein bzw. wirken können. Weiterhin versteht es sich, dass die Steuereinrichtung die Bewegungen der beiden Wafertische 105.2 und 105.4 gegebenenfalls auch so koordiniert steuern kann, dass sich die hierdurch jeweils ergebenden ersten und zweiten Druckwellen einander derart überlagern, dass die daraus resultierenden Druckwellen zumindest eine geringere Amplitude haben. Im Idealfall löschen sich die ersten und zweiten Druckwellen im Wesentlichen gegenseitig aus.
Es versteht sich, dass für die Druckerfassung beliebige geeignete Sensoren vorgesehen sein können. So können in einer Gasatmosphäre beispielsweise entsprechend geeignete Mikrofone zur Druckschwankungserfassung verwendet werden. Ebenso können beliebige geeignete Druckwellengeneratoren vorgesehen sein. Hierbei kann es sich in einer Gasatmosphäre beispielsweise entsprechend geeignete Lautsprecher oder dergleichen handeln.
Neben den genannten aktiven Einrichtungen 116, 121 und 123 der Reduktionseinrichtung 115 sind im vorliegenden Beispiel noch weitere passive Einrichtungen der Reduktionseinrichtung 115 vorgesehen, welche ebenfalls Schwankungen in der tatsächlichen Druckdifferenz DP zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre reduzieren.
So sind als erste passive Einrichtungen Widerstandsreduktionseinrichtungen in Form von Strömungskanälen 126 in den beiden Wafertischen 105.2 und 105.4 vorgesehen, die sich jeweils in Bewegungsrichtung 105.5 bzw. 105.6 durch den Wafertisch hindurch erstrecken und deren Wirkung im Folgenden anhand des ersten Wafertischs 105.1 erläutert werden soll.
Die Strömungskanäle 126 reduzieren in Bewegungsrichtung 105.5 die Angriffsfläche 105.7 des ersten Wafertischs 105.1 gegenüber einem Vergleichskörper, also einem Vergleichs-Wafertisch, mit gleichen Ausmaßen und einer Vergleichsangriffsfläche, die im Wesentlichen geschlossen ist, im Wesentlichen eben ist und im Wesentlichen senkrecht zur Bewegungsrichtung 105.5 ausgerichtet ist. Durch die Strömungskanäle 126 kann das im Bereich des ersten Wafertischs 105.1 vorhandene Gas der zweiten Atmosphäre bei einer Bewegung des ersten Wafertischs 105.1 in Bewegungsrichtung 105.5 strömen ohne größeren Widerstand. Mit anderen Worten reduzieren die Strömungskanäle 126 den Widerstandsbeiwert des ersten Wafertischs 105.1 in Bewegungsrichtung 105.5. Hierdurch werden bei einer Bewegung des ersten Wafertischs 105.1 in der zweiten Atmosphäre Druckwellen geringerer Amplitude generiert als bei dem oben genannten Vergleichs-Wafertisch. Je nach Anzahl und/oder Querschnitt der Strömungskanäle 126 lässt sich damit eine Reduktion des Widerstandsbeiwerts von mindestens 30% gegenüber dem Vergleichs-Wafertisch erzielen.
Durch die Strömungskanäle 126 wird mit anderen Worten in vorteilhafter Weise also passiv die Generierung und damit auch die Ausbreitung von Druckstörungen in der zweiten Atmosphäre hin zu dem letzten Linsenelement 109 gehemmt, sodass es zu einer Reduktion der hierdurch bedingten Abbildungsfehler kommt.
Es versteht sich, dass bei anderen Varianten der Erfindung zusätzlich oder alternativ zu den Strömungskanälen 126 auch andere Widerstandsreduktionseinrichtungen eingesetzt werden können. So können beispielsweise an den jeweiligen in Bewegungsrichtung 105.5 weisenden Seitenflächen des Wafertischs 105.1 den Widerstandsbeiwert gegenüber dem Vergleichs-Wafertisch reduzierende Profile 127 bzw. 128 vorgesehen sein, wie sie in den 3A und 3B dargestellt sind. Während das Profil 127 ein vergleichsweise einfaches Dreiecksprofil ist, mit dem eine Reduktion des Widerstandsbeiwerts von mindestens 50% gegenüber dem Vergleichs-Wafertisch erzielbar ist, handelt es sich bei dem Profil 128 um ein aerodynamisch optimiertes Profil, bei dem eine Reduktion des Widerstandsbeiwerts von mindestens 80% gegenüber dem Vergleichs-Wafertisch erzielbar ist.
Die den Widerstandsbeiwert gegenüber dem Vergleichs-Wafertisch reduzierenden Profile können beliebige geeignete Form aufweisen, die eine entsprechende Reduktion des Widerstandsbeiwerts mit sich bringt. Insbesondere können sie eine asymmetrische Gestalt aufweisen. Bevorzugt wird jedoch wie bei den Profilen 127 und 128 eine zur Bewegungsrichtung 105.5 symmetrische Geometrie gewählt, um Auftriebseffekte und damit einhergehende seitliche Druckausgleichseffekte zwischen Profiloberseite und Profilunterseite zur vermeiden, die andernfalls zur Generierung weiterer Druckstörungen führen könnten.
Weiterhin kann auch die passive Widerstandsreduktionseinrichtung der Strömungskanäle 126 mit einer aktiven Komponente kombiniert werden. So kann, wie dies in 3C dargestellt ist, in dem Strömungskanal 126 eine Fördereinrichtung 129, z. B. ein Gebläse etc., vorgesehen sein, welches in Abhängigkeit von der Bewegungsrichtung des Wafertischs 105.1 eine entsprechende Strömung im Strömungskanal 126 erzeugt, welche den dem Gas in dem Strömungskanal 126 aufgeprägten Strömungswiderstand aktiv kompensiert und dadurch den Strömungswiderstand des Wafertischs 105.1 reduziert. Die Fördereinrichtung 129 kann beispielsweise durch die Steuereinrichtung 118 gesteuert sein, welche dann auch die Bewegungssteuerung des Wafertischs 105.2 vornimmt.
Als zweite passive Einrichtung der Reduktionseinrichtung 115 ist schließlich eine Abschirmeinrichtung 130 vorgesehen, welche das Objektiv 104 und damit das letzte Linsenelement 109 zeitweise gegenüber dem Bewegungsraum 131 des zweiten Wafertisches 105.4 während der Vermessung in der Messstation 106 abschirmt.
Die Abschirmeinrichtung 130 umfasst ein Schott 130.1, das – gesteuert durch die Steuereinrichtung 118 – durch eine Antriebseinrichtung 130.2 von der gezeigten offenen Stellung in eine geschlossene Stellung verfahren werden kann, die in 1 durch die gestrichelte Kontur 130.3 angedeutet ist.
In der offenen Stellung gibt die Abschirmeinrichtung den Zugang von dem Bewegungsraum 131 des zweiten Wafertisches 105.4 in den an das Objektiv angrenzenden Bewegungsraum des ersten Wafertisches 105.2 frei, sodass der zweite Wafertisches 105.4 an die Stelle des ersten Wafertisches 105.2 verfahren werden kann, sobald der zweite Wafer 105.3 belichtet werden soll.
In der geschlossenen Stellung ist der Bewegungsraum 131 des zweiten Wafertisches 105.4 durch das Schott 130.1 vollständig von dem Raum abgeschottet, in den das Objektiv 104 hineinragt. Durch die Abschirmeinrichtung 130 wird in vorteilhafter Weise also passiv die Ausbreitung von Druckstörungen aus dem Bewegungsraum 131 des zweiten Wafertisches 105.4 hin zu dem letzten Linsenelement 109 verhindert, sodass es zu einer Reduktion der hierdurch bedingten Abbildungsfehler kommt.
Es versteht sich hierbei, dass bei anderen Varianten gegebenenfalls auch keine hermetische Abschottung sondern nur eine Behinderung der Ausbreitung der Druckstörungen zum letzten Linsenelement durch die Abschirmeinrichtung vorgesehen sein kann. Hierbei ist das Schott dann bevorzugt mit wenigstens einer entsprechenden Schwingungsenergie absorbierenden Einrichtung, beispielsweise einer Schwingungsenergie absorbierenden Oberfläche, versehen.
Als zusätzliche oder alternative passive Einrichtung der Reduktionseinrichtung 115 kann weiterhin eine in 1 und 3C durch die gestrichelte Kontur 132 angedeutete Abschirmeinrichtung vorgesehen sein, welche das Objektiv 104 und damit das letzte Linsenelement 109 zusammen mit dem ersten Wafertisch 105.2 zeitweise gegenüber dem Bewegungsraum 131 des zweiten Wafertisches 105.4 während der Vermessung in der Messstation 106 abschirmt.
Die Abschirmeinrichtung 132 umfasst eine das Objektiv 104 ringförmig umgebende Wand 132.1, die an ihrem unteren Ende einen zum Objektiv 104 hin weisenden umlaufenden Kragen 132.2 aufweist. Der Kragen 132.2 ist so angeordnet, dass zwischen ihm und dem ersten Wafertisch 105.2 bei der Belichtung des ersten Wafers 105.1 stets ein umlaufender schmaler Spalt 133 ausgebildet ist.
In der in 1 und 3C gezeigten Stellung ist der Bewegungsraum 131 des zweiten Wafertisches 105.4 durch die Abschirmeinrichtung 132 und den ersten Wafertisch 105.2 von dem durch die Abschirmeinrichtung 132 und den ersten Wafertisch 105.2 begrenzten Raum abgeschottet, in den das Objektiv 104 hineinragt. Lediglich durch den Spalt 133 hindurch können beispielsweise durch Bewegungen des zweiten Wafertisches 105.4 verursachte Druckschwankungen zum Objektiv 104 gelangen. Je nach Breite und Länge des Spalts 133 werden diese Druckschwankungen jedoch entsprechend stark gedämpft. Auch durch die Abschirmeinrichtung 132 wird also in vorteilhafter Weise passiv die Ausbreitung von Druckstörungen aus dem Bewegungsraum 131 des zweiten Wafertisches 105.4 hin zu dem letzten Linsenelement 109 verhindert bzw. reduziert, sodass es zu einer Reduktion der hierdurch bedingten Abbildungsfehler kommt.
Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend anhand eines Beispiels beschrieben, bei dem die aktiven Einrichtungen 116, 121, 123 der Reduktionseinrichtung 115 stets über entsprechende Druckerfassungseinrichtungen die tatsächlichen Druckverhältnisse in der ersten und/oder zweiten Atmosphäre erfassen. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine modellbasierte Steuerung wenigstens einer der aktiven Einrichtungen 116, 121, 123 erfolgen kann.
Bei einer solchen modellbasierten Steuerung wird – ähnlich dem in der US 2004/0179175 A1 (Okada) beschriebenen Verfahren – anhand bestimmter Betriebsparameter der Mikrolithographieeinrichtung 101 über zuvor erstellte und gespeicherte Druckverhaltensmodelle, auf welche die Steuereinrichtung 118 zugreift, eine Abschätzung bzw. Bestimmung der Druckverhältnisse vorgenommen, welche die Steuereinrichtung 118 dann zur Generierung der Steuersignale für die jeweilige Stelleinrichtung verwendet. Ebenso kann das Modell aber natürlich schon unmittelbar die Steuersignale für die jeweilige Stelleinrichtung liefern.
Als Betriebsparameter der Mikrolithographieeinrichtung 101, die als Eingangsgröße für das Modell verwendet werden können, kommt grundsätzlich jeder Betriebsparameter in Betracht, der einen unmittelbare oder mittelbaren Einfluss auf die aktuellen Druckverhältnisse in der Mikrolithographieeinrichtung 101 hat. Insbesondere kommen hier Geschwindigkeiten oder Beschleunigungen bewegter Komponenten, wie beispielsweise der Wafertische 105.2 und 105.4 oder bewegter optischer Elemente in Betracht, da diese bewegten Komponenten unmittelbaren Einfluss auf die Druckverhältnisse haben. Vergleichbares gilt für Temperaturen und Strömungsgeschwindigkeiten innerhalb der Mikrolithographieeinrichtung 101.
So kann also beispielsweise vorgesehen sein, dass die Steuereinrichtung 118 zur Ansteuerung der ersten Stelleinrichtung 119 und der Spüleinrichtung 122 einen aktuellen Wert der Druckdifferenzabweichung ΔDP unter Verwendung eines aktuellen Werts wenigstens eines solchen Betriebsparameters der Mikrolithographieeinrichtung 101 und eines gespeicherten ersten Modells bestimmt, wobei das erste Modell ein vorab für die Abbildungseinrichtung erstelltes Modell für das Verhalten der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre in Abhängigkeit von dem wenigstens einen Betriebsparameter, beispielsweise der Geschwindigkeit oder Beschleunigung der Wafertische 105.2 und 105.4, ist.
Ebenso kann die Steuereinrichtung 118 zur Ansteuerung der zweiten Stelleinrichtung 125 einen aktuellen Wert der Druckschwankungen ΔP2 in der zweiten Atmosphäre unter Verwendung eines aktuellen Werts wenigstens eines solchen Betriebsparameters und eines gespeicherten zweiten Modells bestimmen. Auch hier kann das zweite Modell ein vorab erstelltes Modell für das Verhalten der Druckschwankungen in der zweiten Atmosphäre in Abhängigkeit von dem wenigstens einen Betriebsparameter, beispielsweise der Geschwindigkeit oder Beschleunigung der Wafertische 105.2 und 105.4, sein
Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend anhand eines Beispiels beschrieben, bei dem die erste und zweite Atmosphäre an ein dem Substrat unmittelbar benachbartes, so genanntes letztes optisches Element oder Abschlusselement angrenzen. Es versteht sich jedoch, dass die Erfindung auch im Zusammenhang mit beliebigen anderen optischen Elementen innerhalb der zur Abbildung verwendeten optischen Elementgruppe zum Einsatz kommen kann.
Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend anhand eines Beispiels beschrieben, bei dem die optische Elementgruppe ausschließlich aus refraktiven optischen Elementen besteht. Es sei an dieser Stelle jedoch angemerkt, dass die Erfindung natürlich auch, insbesondere für den Fall der Abbildung bei anderen ersten Wellenlängen, bei optischen Elementgruppen Anwendung finden kann, die alleine oder in beliebiger Kombination refraktive, reflektive oder diffraktive optische Elemente umfassen.
Weiterhin ist anzumerken, dass die vorliegende Erfindung vorstehend anhand eines Beispiels aus dem Bereich der Mikrolithographie beschrieben wurde. Es versteht sich jedoch, dass die vorliegende Erfindung ebenso auch für beliebige andere Anwendungen bzw. Abbildungsverfahren eingesetzt werden kann.

Claims

Optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit – wenigstens einem optischen Element (109) und – wenigstens einer dem optischen Element (109) zugeordneten Halteeinrichtung (104), wobei – die Halteeinrichtung (104) das optische Element (109) hält und – ein erster Teil (109.1) des optischen Elements (109) durch eine erste Atmosphäre beaufschlagt ist und ein zweiter Teil (109.2) des optischen Elements (109) zumindest zeitweise durch eine zweite Atmosphäre beaufschlagt ist, dadurch gekennzeichnet, dass – eine Reduktionseinrichtung (115) vorgesehen ist, die Schwankungen in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre zumindest reduziert.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass – die Reduktionseinrichtung (115) eine Steuereinrichtung (118) und eine damit verbundene erste Stelleinrichtung (119, 122) umfasst, wobei – die Steuereinrichtung (118) eine Druckdifferenzabweichung in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre von einem vorgebbaren Solldruckdifferenzwert bestimmt und – die erste Stelleinrichtung (119, 122) gesteuert durch die Steuereinrichtung (118) den Druck in der ersten Atmosphäre in Abhängigkeit von der durch die Steuereinrichtung (118) bestimmten Druckdifferenzabweichung derart beeinflusst, dass der Druckdifferenzabweichung entgegengewirkt wird.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass – die Reduktionseinrichtung (115) eine erste Erfassungseinrichtung (117), eine Steuereinrichtung (118) und eine erste Stelleinrichtung (119, 122) umfasst, wobei – die Steuereinrichtung (118) mit der ersten Erfassungseinrichtung (117) und der ersten Stelleinrichtung (119, 122) verbunden ist, – die erste Erfassungseinrichtung (117) eine Druckdifferenzabweichung in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre von einem vorgebbaren Solldruckdifferenzwert erfasst und an die Steuereinrichtung (118) übermittelt und – die erste Stelleinrichtung (119, 122) gesteuert durch die Steuereinrichtung (118) den Druck in der ersten Atmosphäre in Abhängigkeit von der durch die Erfassungseinrichtung (117) erfassten Druckdifferenzabweichung derart beeinflusst, dass der Druckdifferenzabweichung entgegengewirkt wird.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass – die Steuereinrichtung (118) einen aktuellen Wert der Druckdifferenzabweichung unter Verwendung eines aktuellen Werts wenigstens eines Betriebsparameters der Abbildungseinrichtung und eines gespeicherten ersten Modells bestimmt, wobei – das erste Modell ein vorab für die Abbildungseinrichtung (101) erstelltes Modell für das Verhalten der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre in Abhängigkeit von dem wenigstens einen Betriebsparameter ist.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass – als Betriebsparameter eine den Druck in der ersten Atmosphäre beeinflussende Größe vorgesehen ist und/oder – als Betriebsparameter eine den Druck in der zweiten Atmosphäre beeinflussende Größe vorgesehen ist
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass eine durch die erste Atmosphäre und/oder die zweite Atmosphäre beaufschlagte bewegliche Komponente (105.2, 105.4) vorgesehen ist und der Betriebsparameter eine Geschwindigkeit oder eine Beschleunigung der beweglichen Komponente (105.2, 105.4) ist
Optische Abbildungseinrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass – die erste Atmosphäre in einem wenigstens durch den ersten Teil (109.1) des optischen Elements (109) begrenzten ersten Raum (111) vorherrscht und – die erste Stelleinrichtung (118) zur Beeinflussung des Drucks in der ersten Atmosphäre durch Veränderung des Volumens des ersten Raumes (111) ausgebildet ist.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass – die erste Stelleinrichtung (119) eine erstes Stellelement (119.1) und eine damit verbundene erste Betätigungseinrichtung (119.2) umfasst, wobei – das erste Stellelement (119.1) zumindest einen Teil des ersten Raumes (111) begrenzt und – die erste Betätigungseinrichtung (119.2) zur Veränderung der Position und/oder der Gestalt des ersten Stellelements ausgebildet ist.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das erste Stellelement eine Membran (119.1) oder einen Faltenbalg (120) umfasst.
Optische Abbildungseinrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass – die erste Atmosphäre in einem wenigstens durch den ersten Teil (109.1) des optischen Elements (109) begrenzten ersten Raum (111) vorherrscht und – eine Spüleinrichtung (122) vorgesehen ist, die dem ersten Raum (111) einen ersten Massenstrom eines Spülmediums zuführt und aus dem ersten Raum (111) einen zweiten Massenstrom des Spülmediums abführt, wobei – die Spüleinrichtung (122) zur Beeinflussung des Drucks in der ersten Atmosphäre zur Veränderung des ersten Massenstroms und/oder des zweiten Massenstroms ausgebildet ist.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Spüleinrichtung (122) zur Veränderung des ersten Massenstroms und/oder des zweiten Massenstroms wenigstens eine gesteuert durch die Steuereinrichtung (118) verstellbare Ventileinrichtung (122.4, 122.5) umfasst.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass – die Spüleinrichtung (122) zur Veränderung des ersten Massenstroms und/oder des zweiten Massenstroms wenigstens eine durch die Steuereinrichtung (118) ansteuerbare Fördereinrichtung (122.1) umfasst, wobei – die Fördereinrichtung (122.1) den ersten Massenstrom und/oder den zweiten Massenstrom fördert und den ersten Massenstrom und/oder den zweiten Massenstrom gesteuert durch die Steuereinrichtung (118) verstellt.
Optische Abbildungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass – die Reduktionseinrichtung (115) eine Steuereinrichtung (118) und eine damit verbundene zweite Stelleinrichtung (125) umfasst, wobei – die Steuereinrichtung (118) Druckschwankungen in der zweiten Atmosphäre bestimmt und – die zweite Stelleinrichtung (125) gesteuert durch die Steuereinrichtung (118) den Druck in der zweiten Atmosphäre derart beeinflusst, dass den Druckschwankungen in der zweiten Atmosphäre entgegengewirkt wird.
Optische Abbildungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass – die Reduktionseinrichtung (115) eine zweite Erfassungseinrichtung (124), eine Steuereinrichtung (118) und eine zweite Stelleinrichtung (125) umfasst, wobei – die Steuereinrichtung (118) mit der zweiten Erfassungseinrichtung (124) und der zweiten Stelleinrichtung (125) verbunden ist, – die zweite Erfassungseinrichtung (124) Druckschwankungen in der zweiten Atmosphäre erfasst und an die Steuereinrichtung (118) übermittelt und – die zweite Stelleinrichtung (125) gesteuert durch die Steuereinrichtung (118) den Druck in der zweiten Atmosphäre derart beeinflusst, dass den Druckschwankungen in der zweiten Atmosphäre entgegengewirkt wird.
Optische Abbildungseinrichtung nach einem der Ansprüche 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, dass – die Steuereinrichtung (118) einen aktuellen Wert der Druckschwankungen in der zweiten Atmosphäre unter Verwendung eines aktuellen Werts wenigstens eines Betriebsparameters der Abbildungseinrichtung (101) und eines gespeicherten zweiten Modells bestimmt. – das zweite Modell ein vorab für die Abbildungseinrichtung (101) erstelltes Modell für das Verhalten der Druckschwankungen in der zweiten Atmosphäre in Abhängigkeit von dem wenigstens einen Betriebsparameter ist.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass als Betriebsparameter eine den Druck in der zweiten Atmosphäre beeinflussende Größe vorgesehen ist
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass eine durch die zweite Atmosphäre beaufschlagte bewegliche Komponente (105.2, 105.4) vorgesehen ist und der Betriebsparameter eine Geschwindigkeit oder eine Beschleunigung der beweglichen Komponente (105.2, 105.4) ist
Optische Abbildungseinrichtung nach einem der Ansprüche 13 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass – die Steuereinrichtung (118) die Frequenz und die erste Amplitude von ersten Druckwellen in der zweiten Atmosphäre bestimmt, und – die zweite Stelleinrichtung (125) in Abhängigkeit von der Frequenz und der Amplitude der ersten Druckwellen sowie gesteuert durch die Steuereinrichtung (118) zweite Druckwellen in der zweiten Atmosphäre derart erzeugt, dass sich die zweiten Druckwellen und die ersten Druckwellen zu resultierenden Druckwellen mit einer resultierende Amplitude überlagern, wobei – die resultierende Amplitude zumindest kleiner ist als die erste Amplitude.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Stelleinrichtung (125) in Abhängigkeit von der Frequenz und der Amplitude der ersten Druckwellen sowie gesteuert durch die Steuereinrichtung (118) zweite Druckwellen in der zweiten Atmosphäre derart erzeugt, dass sich die zweiten Druckwellen und die ersten Druckwellen im Wesentlichen auslöschen.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 18 oder 19, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Stelleinrichtung (125) wenigstens einen Lautsprecher umfasst.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, dass zur Bestimmung der Frequenz und der ersten Amplitude der ersten Druckwellen eine mit der Steuereinrichtung verbundene zweite Erfassungseinrichtung (124) zur Erfassung der Frequenz und der ersten Amplitude der ersten Druckwellen vorgesehen ist, die wenigstens ein Mikrophon umfasst.
Optische Abbildungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass – eine durch die zweite Atmosphäre beaufschlagte, in wenigstens einer Bewegungsrichtung (105.5, 105.6) bewegliche Komponente (105.2, 105.4) vorgesehen ist, die in der Bewegungsrichtung (105.5) eine Angriffsfläche (105.7) aufweist, und die – die Reduktionseinrichtung (115) wenigstens eine Widerstandsreduktionseinrichtung (126, 127, 128, 129) aufweist, welche den Strömungswiderstand der Angriffsfläche (105.7) gegenüber einem Vergleichskörper mit gleichen Ausmaßen und einer Vergleichsangriffsfläche reduziert, wobei die Vergleichsangriffsfläche im Wesentlichen geschlossen ist, im Wesentlichen eben ist und im Wesentlichen senkrecht zur Bewegungsrichtung (105.5, 105.6) ausgerichtet ist.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, dass die Widerstandsreduktionseinrichtung wenigstens einen Strömungskanal (126) in der beweglichen Komponente (105.2, 105.4) umfasst, der die Angriffsfläche (105.7) gegenüber der Vergleichsangriffsfläche reduziert.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, dass sich der Strömungskanal (126) in der Bewegungsrichtung (105.5, 105.6) durch die bewegliche Komponente (105.2, 105.4) hindurch erstreckt.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 23 oder 24, dadurch gekennzeichnet, dass eine Fördereinrichtung (129) zur Erzeugung einer der Bewegung der beweglichen Komponente (105.2) entsprechenden Strömung in dem Strömungskanal (126) vorgesehen ist.
Optische Abbildungseinrichtung nach einem der Ansprüche 22 bis 25, dadurch gekennzeichnet, dass die Widerstandsreduktionseinrichtung wenigstens ein die Angriffsfläche (105.7) bildendes, gegenüber der Vergleichsangriffsfläche strömungsgünstiger geformtes Profil (127, 128) umfasst.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, dass das Profil (127, 128) den Widerstandsbeiwert der beweglichen Komponente in der Bewegungsrichtung (105.5) gegenüber dem Vergleichskörper um wenigstens 30%, vorzugsweise wenigstens 50%, reduziert.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 26 oder 27, dadurch gekennzeichnet, dass das Profil (128) ein aerodynamisch geformtes Profil ist.
Optische Abbildungseinrichtung nach einem der Ansprüche 26 bis 28, dadurch gekennzeichnet, dass das Profil (127, 128) ein zur Bewegungsrichtung (105.5) im Wesentlichen symmetrisch geformtes Profil ist.
Optische Abbildungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass – eine durch die zweite Atmosphäre beaufschlagte, in einem ersten Bewegungsraum (131) bewegliche Komponente (105.4) vorgesehen ist und – die Reduktionseinrichtung (115) wenigstens eine Abschirmeinrichtung (130) umfasst, welche das optische Element (109) zumindest zeitweise gegenüber dem ersten Bewegungsraum (131) abschirmt.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 30, dadurch gekennzeichnet, dass – die Abschirmeinrichtung (130) zwischen einer ersten Stellung und einer zweiten Stellung bewegbar ist, wobei – die Abschirmeinrichtung (130) in der ersten Stellung das optische Element (109) gegenüber dem ersten Bewegungsraum (131) abschirmt und – die Abschirmeinrichtung (130) in der zweiten Stellung den Zugang von dem ersten Bewegungsraum (131) in einen an das optische Element (109) angrenzenden Raum frei gibt.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 31, dadurch gekennzeichnet, dass die Abschirmeinrichtung (130) in der ersten Stellung den ersten Bewegungsraum (131) im Wesentlichen vollständig von dem angrenzenden Raum trennt.
Optische Abbildungseinrichtung nach einem der Ansprüche 30 bis 32, dadurch gekennzeichnet, dass die Abschirmeinrichtung (130) wenigstens eine Schwingungsenergie absorbierende Einrichtung aufweist.
Optische Abbildungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Halteeinrichtung (104) das optische Element (109) positionsverstellbar hält.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 34, dadurch gekennzeichnet, dass die Halteeinrichtung (104) wenigstens einen Aktuator (114) zur Verstellung der Position des optischen Elements (109) umfasst.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 35, dadurch gekennzeichnet, dass – eine Steuereinrichtung (118) zur Steuerung der Reduktion der Schwankungen in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre durch die Reduktionseinrichtung (115) vorgesehen ist und – der Aktuator (114) durch die Steuereinrichtung (118) angesteuert ist.
Optische Abbildungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Reduktionseinrichtung (115) zumindest die Schwankungen in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre reduziert, die in einem Frequenzbereich liegen, in dem Schwankungen in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre einen nicht vernachlässigbaren Einfluss auf die mit der Abbildungseinrichtung (101) erzielbare Abbildungsqualität haben.
Optische Abbildungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der zweite Teil (109.2) des optischen Elements (109) zumindest zeitweise von einem flüssigen Medium (110.1) beaufschlagt ist.
Optische Abbildungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass als eine bewegliche Komponente eine durch die zweite Atmosphäre beaufschlagte, in wenigstens einer Bewegungsrichtung (105.5, 105.6) bewegliche Substrateinrichtung (105) zur Aufnahme eines Substrats (105.1, 105.3) vorgesehen ist.
Optische Abbildungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass – eine das optische Element (109) umfassende optischen Elementgruppe (107) vorgesehen ist, wobei – die optische Elementgruppe (107) zum Abbilden eines der optischen Elementgruppe (107) zugeordneten Projektionsmusters auf einem der optischen Elementgruppe zugeordneten Substrat (105.1, 105.3) ausgebildet ist.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 40, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element (109) das im Betrieb dem Substrat (105.1, 105.3) benachbart angeordnete letzte optische Element ist.
Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 40 oder 41, dadurch gekennzeichnet, dass – eine Maskeneinrichtung (103) zur Aufnahme einer ein Projektionsmuster umfassenden Maske (103.1) und eine Substrateinrichtung zur Aufnahme eines Substrats (105.1, 105.3) vorgesehen ist, wobei – die optische Elementgruppe (107) der Maskeneinrichtung (103) und der Substrateinrichtung (105) zugeordnet ist und zum Abbilden des Projektionsmusters auf dem Substrat (105.1, 105.3) ausgebildet ist.
Optisches Abbildungsverfahren, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem – ein Projektionsmuster mittels einer optischen Abbildungseinrichtung (101) auf ein Substrat (105.1, 105.3) abgebildet wird, wobei – ein erster Teil (109.1) eines optischen Elements (109) der optischen Abbildungseinrichtung (101) durch eine erste Atmosphäre beaufschlagt wird und ein zweiter Teil (109.2) des optischen Elements (109) zumindest zeitweise durch eine zweite Atmosphäre beaufschlagt wird, dadurch gekennzeichnet, dass – zur Reduktion eines beim Abbilden des Projektionsmusters auf dem Substrat (105.1, 105.3) auftretenden, durch Schwankungen in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre bedingten Abbildungsfehlers zumindest eine Reduktion der Schwankungen in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre erfolgt.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 43, dadurch gekennzeichnet, dass – eine Druckdifferenzabweichung in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre von einem vorgebbaren Solldruckdifferenzwert bestimmt wird und – der Druck in der ersten Atmosphäre in Abhängigkeit von der bestimmten Druckdifferenzabweichung derart beeinflusst wird, dass der Druckdifferenzabweichung entgegengewirkt wird.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 43 oder 44, dadurch gekennzeichnet, dass – eine Druckdifferenzabweichung in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre von einem vorgebbaren Solldruckdifferenzwert erfasst wird und – der Druck in der ersten Atmosphäre in Abhängigkeit von der erfassten Druckdifferenzabweichung derart beeinflusst wird, dass der Druckdifferenzabweichung entgegengewirkt wird.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 44 oder 45, dadurch gekennzeichnet, dass – ein aktueller Wert der Druckdifferenzabweichung unter Verwendung eines aktuellen Werts wenigstens eines Betriebsparameters der Abbildungseinrichtung (101) und eines ersten Modells bestimmt wird, wobei – das erste Modell ein vorab für die Abbildungseinrichtung (101) erstelltes Modell für das Verhalten der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre in Abhängigkeit von dem wenigstens einen Betriebsparameter ist.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 46, dadurch gekennzeichnet, dass – als Betriebsparameter eine den Druck in der ersten Atmosphäre beeinflussende Größe vorgesehen ist und/oder – als Betriebsparameter eine den Druck in der zweiten Atmosphäre beeinflussende Größe vorgesehen ist
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 47, dadurch gekennzeichnet, dass die Abbildungseinrichtung (101) eine durch die erste Atmosphäre und/oder die zweite Atmosphäre beaufschlagte bewegliche Komponente (105.2, 105.4) umfasst und der Betriebsparameter eine Geschwindigkeit oder eine Beschleunigung der beweglichen Komponente (105.2, 105.4) ist
Optisches Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 44 bis 48, dadurch gekennzeichnet, dass – die erste Atmosphäre in einem wenigstens durch den ersten Teil (109.1) des optischen Elements (109) begrenzten ersten Raum (111) vorherrscht und – der Druck in der ersten Atmosphäre durch Veränderung des Volumens des ersten Raumes (111) beeinflusst wird.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 49, dadurch gekennzeichnet, dass – zumindest ein Teil des ersten Raumes (111) durch ein erstes Stellelement (119.1) begrenzt wird, wobei – zur Veränderung des Volumens des ersten Raumes (111) die Position und/oder Gestalt eines ersten Stellelements (119.1) verändert wird.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 50, dadurch gekennzeichnet, dass das erste Stellelement eine Membran (119.1) oder einen Faltenbalg (120) umfasst.
Optisches Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 44 bis 51, dadurch gekennzeichnet, dass – die erste Atmosphäre in einem wenigstens durch den ersten Teil (109.1) des optischen Elements (109) begrenzten ersten Raum (111) vorherrscht und – dem ersten Raum (111) ein erster Massenstrom eines Spülmediums zugeführt wird und aus dem ersten Raum (111) ein zweiter Massenstrom des Spülmediums abgeführt wird und – zur Beeinflussung des Drucks in der ersten Atmosphäre der erste Massenstrom und/oder der zweite Massenstrom verändert wird.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 52, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Massenstrom und/oder der zweite Massenstrom durch wenigstens eine verstellbare Ventileinrichtung (122.4, 122.5) verändert wird.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 52 oder 53, dadurch gekennzeichnet, dass – der erste Massenstrom und/oder der zweite Massenstrom durch wenigstens eine Fördereinrichtung (122.1) gefördert wird und – der erste Massenstrom und/oder der zweite Massenstrom durch die wenigstens eine Fördereinrichtung (122.1) verstellt wird.
Optisches Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 54, dadurch gekennzeichnet, dass – Druckschwankungen in der zweiten Atmosphäre bestimmt werden und – der Druck in der zweiten Atmosphäre derart beeinflusst wird, dass den Druckschwankungen in der zweiten Atmosphäre entgegengewirkt wird.
Optisches Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 55, dadurch gekennzeichnet, dass – Druckschwankungen in der zweiten Atmosphäre erfasst werden und – der Druck in der zweiten Atmosphäre derart beeinflusst wird, dass den Druckschwankungen in der zweiten Atmosphäre entgegengewirkt wird.
Optisches Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 55 oder 56, dadurch gekennzeichnet, dass – ein aktueller Wert der Druckschwankungen in der zweiten Atmosphäre unter Verwendung eines aktuellen Werts wenigstens eines Betriebsparameters der Abbildungseinrichtung und eines gespeicherten zweiten Modells bestimmt wird, wobei – das zweite Modell ein vorab für die Abbildungseinrichtung (101) erstelltes Modell für das Verhalten der Druckschwankungen in der zweiten Atmosphäre in Abhängigkeit von dem wenigstens einen Betriebsparameter ist.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 57, dadurch gekennzeichnet, dass als Betriebsparameter eine den Druck in der zweiten Atmosphäre beeinflussende Größe vorgesehen ist
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 58, dadurch gekennzeichnet, dass die Abbildungseinrichtung eine durch die zweite Atmosphäre beaufschlagte bewegliche Komponente (105.2, 105.4) umfasst und der Betriebsparameter eine Geschwindigkeit oder eine Beschleunigung der beweglichen Komponente (105.2, 105.4) ist.
Optisches Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 55 bis 59, dadurch gekennzeichnet, dass – die Frequenz und die erste Amplitude von ersten Druckwellen in der zweiten Atmosphäre bestimmt wird und – in Abhängigkeit von der Frequenz und der Amplitude der ersten Druckwellen zweite Druckwellen in der zweiten Atmosphäre derart erzeugt werden, dass sich die zweiten Druckwellen und die ersten Druckwellen zu resultierenden Druckwellen mit einer resultierende Amplitude überlagern, wobei – die resultierende Amplitude zumindest kleiner ist als die erste Amplitude.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 60, dadurch gekennzeichnet, dass in Abhängigkeit von der Frequenz und der Amplitude der ersten Druckwellen zweite Druckwellen in der zweiten Atmosphäre derart erzeugt werden, dass sich die zweiten Druckwellen und die ersten Druckwellen im Wesentlichen auslöschen.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 60 oder 61, dadurch gekennzeichnet, dass die zweiten Druckwellen über wenigstens einen Lautsprecher (125) erzeugt werden.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 62, dadurch gekennzeichnet, dass die Frequenz und die erste Amplitude der ersten Druckwellen über wenigstens ein Mikrophon (124.1) erfasst werden.
Optisches Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 63, dadurch gekennzeichnet, dass – eine Abbildungseinrichtung (101) mit einer durch die zweite Atmosphäre beaufschlagten, in wenigstens einer Bewegungsrichtung (105.5, 105.6) beweglichen Komponente (105.2, 105.4) verwendet wird, – die bewegliche Komponente (105.2, 105.4) in der Bewegungsrichtung (105.5, 105.6) eine Angriffsfläche (105.7) aufweist, deren Strömungswiderstand gegenüber einem Vergleichskörper mit gleichen Ausmaßen und einer Vergleichsangriffsfläche reduziert ist, wobei – die Vergleichsangriffsfläche im Wesentlichen geschlossen ist, im Wesentlichen eben ist und im Wesentlichen senkrecht zur Bewegungsrichtung ausgerichtet ist.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 64, dadurch gekennzeichnet, dass die bewegliche Komponente (105.2, 105.4) wenigstens einen Strömungskanal (126) aufweist, der die Angriffsfläche (105.7) gegenüber der Vergleichsangriffsfläche reduziert.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 65, dadurch gekennzeichnet, dass sich der Strömungskanal (126) in der Bewegungsrichtung (105.5, 105.6) durch die bewegliche Komponente (105.2, 105.4) hindurch erstreckt.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 65 oder 66, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Strömungskanal (126) eine der Bewegung der beweglichen Komponente (105.2, 105.4) entsprechenden Strömung erzeugt wird.
Optisches Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 64 bis 67, dadurch gekennzeichnet, dass die Angriffsfläche (105.7) durch ein gegenüber der Vergleichsangriffsfläche strömungsgünstiger geformtes Profil (127, 128) gebildet wird.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 68, dadurch gekennzeichnet, dass das Profil (127, 128) den Widerstandsbeiwert der beweglichen Komponente (105.2, 105.4) in der Bewegungsrichtung (105.5, 105.6) gegenüber dem Vergleichskörper um wenigstens 30%, vorzugsweise wenigstens 50%, reduziert.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 68 oder 69, dadurch gekennzeichnet, dass das Profil (128) ein aerodynamisch geformtes Profil ist.
Optisches Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 68 bis 70, dadurch gekennzeichnet, dass das Profil (127, 128) ein zur Bewegungsrichtung (105.5, 105.6) im Wesentlichen symmetrisch geformtes Profil ist.
Optisches Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 71, dadurch gekennzeichnet, dass – eine durch die zweite Atmosphäre beaufschlagte, in einem ersten Bewegungsraum (131) bewegliche Komponente (105.2, 105.4) verwendet wird und – das optische Element (109) zumindest zeitweise gegenüber dem ersten Bewegungsraum (131) durch eine Abschirmeinrichtung (130) abgeschirmt wird.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 72, dadurch gekennzeichnet, dass – die Abschirmeinrichtung (130) zwischen einer ersten Stellung und einer zweiten Stellung bewegbar ist, wobei – die Abschirmeinrichtung (130) in der ersten Stellung das optische Element (109) gegenüber dem ersten Bewegungsraum (131) abschirmt und – die Abschirmeinrichtung (130) in der zweiten Stellung den Zugang von dem ersten Bewegungsraum (131) in einen an das optische Element (109) angrenzenden Raum frei gibt.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 73, dadurch gekennzeichnet, dass die Abschirmeinrichtung (130) in der ersten Stellung den ersten Bewegungsraum (131) im Wesentlichen vollständig von dem angrenzenden Raum trennt.
Optisches Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 72 bis 74, dadurch gekennzeichnet, dass die Abschirmeinrichtung (130) wenigstens eine Schwingungsenergie absorbierende Einrichtung aufweist.
Optisches Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 75, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element (109) positionsverstellbar gehalten wird.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 76, dadurch gekennzeichnet, dass die Position des optischen Elements (109) zur Beeinflussung wenigstens eines Abbildungsfehlers der Abbildungseinrichtung (101) verstellt wird.
Optisches Abbildungsverfahren nach Anspruch 77, dadurch gekennzeichnet, dass die Reduktion der Schwankungen in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre und die Verstellung der Position des optischen Elements (109) unter wechselseitiger Berücksichtigung erfolgen.
Optisches Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 78, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest die Schwankungen in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre reduziert werden, die in einem Frequenzbereich liegen, in dem Schwankungen in der Druckdifferenz zwischen der ersten Atmosphäre und der zweiten Atmosphäre einen nicht vernachlässigbaren Einfluss auf die mit der Abbildungseinrichtung (101) erzielbare Abbildungsqualität haben.
Optisches Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 79, dadurch gekennzeichnet, dass der zweite Teil (109.2) des optischen Elements (109) zumindest zeitweise von einem flüssigen Medium (110.1) beaufschlagt wird.
Optisches Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 80, dadurch gekennzeichnet, dass als eine bewegliche Komponente eine durch die zweite Atmosphäre beaufschlagte, in wenigstens einer Bewegungsrichtung bewegliche Substrateinrichtung (105.2, 105.4) zur Aufnahme eines Substrats (105.1, 105.3) verwendet wird.
Optisches Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 43 bis 81, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element (109) das im Betrieb dem Substrat (105.1, 105.3) benachbart angeordnete letzte optische Element der Abbildungseinrichtung (101) ist.