JPH09260279A - 露光装置 - Google Patents

露光装置

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JPH09260279A
JPH09260279A JP8096259A JP9625996A JPH09260279A JP H09260279 A JPH09260279 A JP H09260279A JP 8096259 A JP8096259 A JP 8096259A JP 9625996 A JP9625996 A JP 9625996A JP H09260279 A JPH09260279 A JP H09260279A
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JP
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exposure
main body
sound
resonance frequency
exposure apparatus
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JP8096259A
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English (en)
Inventor
Saburo Kamiya
三郎 神谷
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Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70866Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece

Abstract

(57)【要約】 【課題】 露光本体部を収めるチャンバ内において、空
調部からの騒音のうち露光装置の機械共振周波数付近の
周波数の音を低減させる。 【解決手段】 露光本体部14が設置されたチャンバ1
2内には、機械室16で温度制御された空気が供給され
る。機械室16内に設けられて空気を供給する送風機4
8には、ターボファンやラジアルファンが用いられてい
るため、数百Hz以下の機械共振周波数付近の騒音レベ
ルが低減されて、露光本体部14における共振の発生を
抑制することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置に関し、
さらに詳しくは、半導体集積回路や液晶表示基板等の製
造におけるフォトリソグラフィ工程に用いて好適な露光
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体回路、特に、集積度の高
い超LSI(Large Scale Integration )や液晶回路な
どを製造する際に使用される露光装置には、非常に高精
度な温度管理と高いクリーン度が要求される。このた
め、通常、露光を行う露光本体部全体をチャンバ内に設
置し、このチャンバ内に熱交換機が内蔵された機械室内
で温度調節された空気を送風機で送風して供給する。そ
の際に、チャンバ内の空気の供給口には、ULPAフィ
ルタ(Ultra Low Penetration Air-filter)等が設けら
れ、これにより塵埃が除去された後、前記チャンバ内へ
供給されるようになっている。そして、機械室からチャ
ンバ内へ供給された空気の大部分は、温度制御性能の観
点から再び前記機械室に戻されて、循環使用される。
【0003】上記した従来の露光装置の機械室で用いら
れている送風機には、通常、前向き羽根を用いた遠心フ
ァンであるシロッコファンが搭載されている。このシロ
ッコファンが使われる理由は、この種の装置に生じる圧
力損失と空気流量に適している上、人間の聴覚上の騒音
も小さく、しかも小型で安価な送風機だからである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来のシロッコファンは、人間の聴覚上の騒音は小さ
いが、実際に発生する物理的な騒音として、特に、数百
Hz以下の周波数の騒音が大きいという特性があった。
この数百Hz以下の周波数の騒音は、実際には露光装置
等における機械共振周波数付近の音であるため、送風機
から発生した騒音によりチャンバ内の音圧が変動し、機
械共振が励起される。これに関し、本発明者等による検
討の結果、シロッコファンを露光装置の空調部内の送風
機として用いた場合は、シロッコファンから発生する騒
音が露光装置の機械共振周波数付近の騒音であることか
ら、機械共振が発生して露光本体部の原板とウエハとの
重ね合わせ精度に無視できないほどの大きい影響を与
え、適正な露光ができなくなることがわかってきた。
【0005】また、従来の露光装置では、送風機から発
生する数百Hz以下の露光装置の機械共振周波数付近の
音を低減するという目的で消音装置を搭載することは行
われていなかった。
【0006】さらに、送風機の騒音は、従来から各種装
置において問題になっているが、いずれの場合も人間の
聴覚上の騒音を問題にしており、半導体集積回路の露光
装置のように機械的な共振が装置性能を決定する性質を
持っており、かつ作業者がほとんど介在することなく自
動で稼働する産業用製造装置という観点からの検討はほ
とんどなされていなかった。
【0007】本発明は、上述したような事情の下に鑑み
てなされたものであり、その目的は、空調部からの騒音
のうち、主として露光本体部の機械共振周波数付近の周
波数の音を低減することができる露光装置を提供するこ
とにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、露光本体部が収納されたチャンバ内の空調を行う空
調部を備えた露光装置であって、前記空調部内で発生す
る騒音の中から前記露光本体部固有の機械共振周波数付
近の成分の少なくとも一部を除去する騒音除去手段を有
する。
【0009】これによれば、露光本体部が収納されたチ
ャンバ内を空調部により空調を行う際に、空調部から発
生する騒音の中から騒音除去手段が露光本体部固有の機
械共振周波数付近の成分の少なくとも一部を除去するの
で、騒音に起因する露光本体部の共振が低減される。
【0010】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の露光装置において、前記騒音除去手段は、前記空調部
内に配置され、温度調節が行われた空気を前記チャンバ
内に送り込むターボ型あるいはラジアル型の遠心ファン
により構成されていることを特徴とする。
【0011】これによれば、騒音除去手段として、温度
調節が行われた空気をチャンバ内に送り込む空調部にタ
ーボ型やラジアル型の遠心ファンを採用したので、露光
本体部の露光精度で最も問題となる200Hz以下の機
械共振周波数付近の騒音レベルが低減され、露光本体部
の共振の発生を抑えることができる。
【0012】請求項3に記載の発明は、請求項1に記載
の露光装置において、前記騒音除去手段は、前記露光本
体部固有の機械共振周波数付近の音を低減するリアクテ
ィブ型消音器であることを特徴とする。
【0013】これによれば、騒音除去手段として、リア
クティブ型消音器を採用し、そのリアクティブ型消音器
が消音できる音の周波数(以下、「ストップバンド周波
数」という)を露光本体部固有の機械共振周波数付近と
したので、露光本体部の露光精度で最も問題となる機械
共振周波数付近の騒音の音圧が小さくなり、露光本体部
の共振を抑えることができる。
【0014】請求項4に記載の発明は、請求項3に記載
の露光装置において、前記リアクティブ型消音器は、前
記空調部内の送風機付近に設けられ、前記露光本体部固
有の機械共振周波数付近の音に対して共鳴する共振周波
数発生手段を有することを特徴とする。
【0015】これによれば、このリアクティブ型消音器
は、空調部内の送風機付近に設けられた共振周波数の音
をフィルタリングする作用を有するので、これによって
露光本体部固有の機械共振周波数付近の音の透過を阻止
することにより、機械共振周波数付近の音圧が小さくな
り、露光本体部の共振が抑制される。
【0016】請求項5に記載の発明は、請求項1に記載
の露光装置において、前記騒音除去手段は、前記露光本
体部固有の機械共振周波数付近の音を低減するアクティ
ブ型消音器であることを特徴とする。
【0017】これによれば、騒音除去手段として、アク
ティブ型消音器を採用し、そのアクティブ型消音器のス
トップバンド周波数を露光本体部固有の機械共振周波数
付近としたので、露光本体部の露光精度で最も問題とな
る機械共振周波数付近の騒音の音圧が小さくなり、露光
本体部の共振を抑えることができる。
【0018】請求項6に記載の発明は、請求項5に記載
の露光装置において、前記アクティブ型消音器は、前記
空調部内の送風機付近で発生する周波数成分を検出する
検出マイクロフォンと、前記検出マイクロフォンで検出
された周波数成分の中から前記露光本体部固有の機械共
振周波数付近の音を打ち消す逆位相の音声信号を生成す
る演算処理部と、前記演算処理部で生成された音声信号
に基づいて前記機械共振周波数付近の音を打ち消す逆位
相の音波を出力する消音スピーカとを有することを特徴
とする。
【0019】これによれば、騒音除去手段としてのアク
ティブ型消音器を構成する検出マイクロフォンは、空調
部内の送風機付近で発生する周波数成分を検出し、演算
処理部が検出マイクロフォンで検出された周波数成分の
中から露光本体部固有の機械共振周波数付近の音を打ち
消す逆位相の音声信号を生成し、消音スピーカが演算処
理部で生成された音声信号に基づく機械共振周波数付近
の音を打ち消す逆位相の音波を出力するので、アクティ
ブ型消音器の発生するストップバンド周波数の音により
送風機からの機械共振周波数付近の騒音が打ち消され
て、露光本体部の機械共振周波数付近の音圧が小さくな
り、露光本体部の共振を抑えることができる。
【0020】請求項7に記載の発明は、請求項6に記載
の露光装置において、前記空調部から前記チャンバ内へ
の空気の吹き出し口付近に、前記露光本体部固有の機械
共振周波数付近の音をモニタするモニタマイクロフォン
を設けたことを特徴とする。
【0021】これによれば、請求項6に記載されたアク
ティブ型消音器に、さらに、空調部からチャンバ内への
空気の吹き出し口付近に露光本体部固有の機械共振周波
数付近の音をモニタするモニタマイクロフォンを設けた
ことから、このモニタマイクロフォンを使ってアクティ
ブ型消音器が発生するストップバンド周波数の音をフィ
ードバック制御することにより、効率良く露光本体部固
有の機械共振周波数付近の音圧を小さくすることができ
る。
【0022】請求項8に記載の発明は、請求項1に記載
の露光装置において、前記騒音除去手段は、前記チャン
バの内側壁面に所定の空隙を隔てて配置された吸音部材
により構成されていることを特徴とする。
【0023】これによれば、騒音除去手段として、吸音
部材をチャンバの内側壁面に所定の空隙を隔てて配置し
たので、露光本体部の露光精度で最も問題となる機械共
振周波数付近の騒音が効率良く吸音部材で吸音されて音
圧が小さくなり、露光本体部の共振を抑えることができ
る。
【0024】
【発明の実施の形態】
《第1の実施形態》以下、本発明の第1の実施形態を図
1に基づいて説明する。
【0025】図1には、第1の実施形態に係る露光装置
10の構成が概略的に示されている。この露光装置10
では、チャンバ12内に設置された露光本体部14に対
して、機械室16で温度調節がなされ、塵埃の除去され
たクリーンな空気が供給された状態で露光処理が行われ
る。これは、露光本体部14の構成部材の温度が変化す
ると、回路パターンの重ね合わせ精度が劣化するため、
部材の温度を、例えば、0.01℃程度以上の精度で制
御する必要があるからである。この温度制御は、本露光
装置10では、機械室16内の空調部(これについて
は、後に詳述する)で高精度に温度調節された空気を絶
えずチャンバ12内に供給することにより行われてい
る。
【0026】露光本体部14は、露光光を照射する照明
系18、一方の面に回路パターンが形成されたマスクと
してのレチクル20、レチクル20の回路パターンを露
光面に投影する投影光学系22、レチクル20の回路パ
ターンが結像転写されるウエハ24、ウエハ24を載置
して直交するX軸,Y軸の2次元方向に移動可能なステ
ージ26、ステージ26のX軸,Y軸方向の位置を計測
するレーザ干渉計28、レチクル20とウエハ24とを
位置合わせするためウエハ上に形成されたアライメント
マークの位置を検出するアライメントセンサ30等を備
えている。
【0027】そして、この露光本体部14は、防振台3
2で支持され、床から伝搬される振動の影響を排除する
とともに、全体がチャンバ12内に設置されている。ま
た、チャンバ12内への空気の供給口側には、空気中の
塵埃を除去するULPAフィルタ34と、ULPAフィ
ルタ34の機械室16側に設けられ、ULPAフィルタ
34からの空気の吹き出し密度を均一化する前室として
のプレナム36が設けられている。なお、図1では、X
方向のレーザ干渉計28の測定ビームだけが表示され、
Y方向のレーザ干渉計及びその測定ビームを省略してい
る。
【0028】機械室16には、チャンバ12内に供給さ
れた空気を回収するリターンダクト38、リターンダク
ト38で回収された空気を所定温度まで冷却する冷却用
熱交換器40、冷却用熱交換器40に冷媒を供給する冷
凍機42、冷却用熱交換器40で冷却された空気を制御
目標温度まで加熱するヒータ44、後述する温度センサ
50の出力及び予め設定された目標値に基づいてヒータ
44の発熱量をフィードバック制御する温度制御部4
6、及びヒータ44により目標温度に調整された空気を
チャンバ12側に圧送する送風機48等が設けられてお
り、これらによって温度調節のなされた空気を供給する
空調部が構成されている。
【0029】前記温度センサ50は、チャンバ12内の
ULPAフィルタ34の直下に設けられており、この温
度センサ50によりチャンバ12内の空気の温度が測定
され、その出力(温度情報)が機械室16内の温度制御
部46に供給されている。
【0030】本第1の実施形態の露光装置10の特徴
は、機械室16内に設けられた送風機48が、ターボフ
ァンやラジアルファンから成る遠心ファンを用いて構成
されていることにある。このターボファンやラジアルフ
ァンは、従来から用いられているシロッコファンと比べ
ると、200Hz程度以下の騒音レベルが低減されるた
め、送風機48から発生する露光本体部14の機械共振
周波数付近の音の発生を抑えることができる。すなわ
ち、本第1の実施形態の露光装置10では、ターボファ
ンやラジアルファンから成る遠心ファンを用いて構成さ
れた送風機48により、騒音除去手段が構成されてい
る。
【0031】なお、この場合、人間の聴感上の騒音につ
いては、高周波音が増大することでかえって悪化するこ
とも考えられるが、ほぼ無人運転が行われる半導体工場
で、しかもチャンバ内に設置されるため、なんら不都合
はない。
【0032】次に、上述のようにして構成された露光装
置10の作用を図1に基づいて説明する。
【0033】最初に、チャンバ12内に設置された露光
本体部14の重ね合わせ露光時における作用について簡
単に説明する。
【0034】いわゆるベースライン計測等の準備が終了
し、不図示の制御系によりレーザ干渉計28の出力をモ
ニタしつつステージ26が移動され、ウエハ上に前工程
の露光までの間に形成されたアライメントマークの位置
がアライメントセンサ30により検出される。次に、制
御系ではこのアライメントマークの位置と前記ベースラ
イン計測の結果とを用いてウエハ上のショット領域を露
光位置(投影光学系の露光フィールド内)に位置決めす
るとともにレチクルとウエハの位置合わせ(アライメン
ト)を行なう。このアライメント後、照明系18からの
照明光により原板であるレチクル20が照明されると、
レチクル20のパターンが投影光学系22を介してウエ
ハ24表面の不図示のレジスト上に投影され、パターン
の像が転写される。この露光本体部14では、このよう
なウエハ24上の各ショット領域の露光位置へ順次位置
決めしつつ、上記のようにしてレチクル20のパターン
をウエハ24上の各ショット領域に順次転写する。
【0035】次に、上述した露光本体部14が設置され
たチャンバ12内に温度調節された空気を供給する機械
室16の空調部の作用について説明する。
【0036】機械室16には、チャンバ12内からリタ
ーンダクト38を介して空気が取り込まれるとともに、
不図示の空気取り入れ口から外部空気も取り込まれる。
このようにしてリターンダクト38及び不図示の空気取
り入れ口から取りまれた外部空気は、いったん冷却用熱
交換器40で所定温度まで冷却された後、ヒータ44で
制御目標温度まで加熱される。
【0037】ここで、冷却用熱交換器40は、冷凍機4
2から供給される冷媒によって熱交換が行われる。ま
た、ヒータ44は、上記の如く、冷却用熱交換器40で
一旦冷却された空気を目標温度まで加熱するが、このヒ
ータは、温度制御部46によってチャンバ12のULP
Aフィルタ34の直下に設置された温度センサ50の検
出温度に基づいてフィードバック制御される。
【0038】次に、上述したヒータ44により目標温度
まで加熱され温度調節がなされた空気は、送風機48に
よってチャンバ12の前室であるプレナム36に送風さ
れ、ULPAフィルタ34で塵埃が除去されてチャンバ
12内に供給される。このチャンバ12内に供給された
空気の大部分は、リターンダクト38によって回収さ
れ、再び機械室1に戻されて循環使用される。
【0039】すなわち、このようにして露光本体部14
が設置されたチャンバ12内の温度が一定に保たれてい
る。
【0040】ところで、露光本体部14に生じる振動
は、回路層パターンの重ね合わせ精度を低下させたり、
投影像の劣化をもたらすことが分かっている。特に、露
光本体部14全体の構造が有する固有周波数付近の振動
は、共振現象によって振幅が大きくなるため、上記した
重ね合わせ精度の低下に大きく影響することになる。
【0041】そこで、露光本体部14の振動を小さくす
るために、装置固有の周波数を上げるとともに、外
乱(外部からの加振力)を小さくすることが必要とな
る。上記に関しては、本第1の実施形態の本露光装置
10では、設計の際、装置全体の剛性をなるべく高くし
て装置の固有周波数を高くするようにしている。これ
は、振動エネルギーが同じであっても、振動の振幅は周
波数が低くなればなる程大きくなって精度の劣化の影響
が大きいからである。また、上記に関しては、露光本
体部14の床からの加振に対する防振対策として、防振
台38を設置することにより、影響の低減化を図ってい
る。
【0042】また、送風機48によるチャンバ12側へ
の送風は、大きな騒音を伴うが、その騒音の大部分は送
風機48から発生することが分かっている。そして、送
風機48から発生した騒音は、ダクト52を経てプレナ
ム36及びULPAフィルタ34を介してチャンバ12
内へ伝搬され、露光本体部14を加振することが、前述
の如く、本発明者等の調査により判明している。従っ
て、チャンバ12内の音圧レベル、特に、露光本体部1
4の機械共振周波数付近の音圧レベルをなるべく小さく
することが露光本体部14の振動を小さくするために必
要である。
【0043】そこで、本第1の実施形態の露光装置10
では、機械室16内に設けられる送風機48として、タ
ーボファンやラジアルファンを搭載し、露光本体部14
の機械共振周波数に近い200Hz以下の低域の騒音レ
ベルを抑制するように工夫している。
【0044】これまでの説明から明らかなように、本第
1の実施形態の露光装置10では、ターボファンあるい
はラジアルファンから成る送風機48により騒音除去手
段が構成され、これによって露光本体部14の共振の発
生を従来のシロッコファンを用いた装置に比べて低減し
ている。従って、ウエハ24の回路層パターンを露光す
る際の重ね合わせ精度が向上し、より集積度の高い微細
な回路層パターンの露光にも対応できるようになってい
る。
【0045】《第2の実施形態》以下、本発明の第2の
実施形態を図2及び図3に基づいて説明する。ここで、
前述した第1の実施形態の装置と同一の構成部分につい
ては、同一の符号を用いるとともに、その説明を省略し
若しくは簡略化するものとする。
【0046】図2には、第2の実施形態に係る露光装置
60の構成が概略的に示されている。この露光装置60
では、第1の実施形態と同様にチャンバ12内に設置さ
れた露光本体部14に対して、機械室62で温度調節が
なされ、塵埃の除去されたクリーンな空気を供給しなが
ら露光処理が行われる。そして、その際の機械室62に
は、送風機64から発生する騒音に対して、特定の周波
数バンドの音を消音するリアクティブ型消音器の一種で
ある共鳴型消音器70が設置されている。
【0047】本第2の実施形態の特徴は、図2に示され
る機械室62内の送風機64の吹き出し口付近からチャ
ンバ12との接続部分までのダクトの途中に、共鳴型消
音70を設置したことにある。この共鳴型消音器70
は、体積Vからなる空洞部66、及びその空洞部66と
前記ダクトとを連結する開口面積Sで長さLからなる連
結管68とを有している。
【0048】この共鳴型消音器70の共鳴周波数fp
は、音速をCとすると、次式(1)で表される。
【0049】
【数1】
【0050】また、同じく共鳴型消音器70の共鳴周波
数の減衰量TLは、送風機側のダクトの断面積をSdと
し、減衰させたい周波数をfとすると、次式(2)で表
すことができる。
【0051】
【数2】
【0052】そして、上式(1)の共鳴周波数fp を露
光本体部14固有の機械共振周波数に合うように上記
V、S、Lを設定する。そうすると、上式(2)の減衰
量TLは、fp =fの場合に無限大∞となって、fp ≒
f付近では音圧が最も低減されることがわかる。
【0053】これまでの説明から明らかなように、本第
2の実施形態の露光装置60では、空洞部66及び連結
管68から共振周波数発生手段が構成され、この共振周
波数発生手段を有する共鳴型消音器70により騒音除去
手段が構成され、この共鳴型消音器70により、送風機
64から発生する騒音の中から露光本体部14の固有周
波数(減衰させたい周波数f)付近の音を消音すること
ができるため、送風機64による露光本体部14の共振
を抑制することができる。その結果、露光本体部14で
は、振動が抑制された状態で露光が行なわれるため、ウ
エハ24の回路層パターンを露光する際の重ね合わせ精
度が向上して、より集積度の高い微細な回路層パターン
の露光にも対応することができるようになる。
【0054】なお、上記した露光本体部14の固有周波
数(=減衰させたい周波数f)を選択する場合は、低域
の周波数であって、しかも音圧による露光本体部14へ
の振動伝達の大きい周波数を選択するとよい。
【0055】また、露光本体部14において、複数の共
振周波数の音を消音する必要がある場合は、それぞれの
共振周波数に合わせた共鳴型消音器を複数個搭載すれば
よい。このような場合、機械室62内部の容積の関係か
ら、複数の共鳴型消音器が収納しきれなくなることも考
えられる。そこで、第2の実施形態における変形例とし
て、図3に示すように、機械室62とチャンバ12との
間を大きく離し、配給ダクト72,74との間に前記共
鳴型消音器(70)が複数個収納された消音部76を設
置するとともに、チャンバ12と機械室62とをリター
ンダクト38で接続するように構成してもよい。
【0056】さらに、本第2の実施形態では、リアクテ
ィブ型消音器の一例として共鳴型消音器70を用いて説
明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例
えば、内燃機関等で用いられるマフラーを機械室62と
チャンバ12との間に挿入して消音する挿入型消音器を
搭載しても良い。
【0057】また、本第2の実施形態の送風機64で
は、従来からのシロッコファンを用いることもできる
が、好ましくは、上記した第1の実施形態におけるター
ボファンやラジアルファンを用いることによって、より
一層の共振周波数の低減化を図るようにしてもよい。
【0058】《第3の実施形態》以下、本発明の第3の
実施形態を図4に基づいて説明する。ここで、前述した
第1又は第2の実施形態の装置と同一の構成部分につい
ては、同一の符号を用いるとともに、その説明を省略し
若しくは簡略化するものとする。
【0059】図4には、第3の実施形態に係る露光装置
80の構成が概略的に示されている。この露光装置80
では、第1及び第2の実施形態と同様にチャンバ12内
に設置された露光本体部14に対して、機械室82で温
度調節がなされ、塵埃の除去されたクリーンな空気を供
給しながら露光処理が行われる。そして、その際の機械
室82には、送風機64から発生する騒音を打ち消す音
波を発生させて消音するアクティブ型消音器86が設置
されている。
【0060】本第3の実施形態の特徴は、図4に示され
る機械室82内部の送風機64の吹き出し口付近からチ
ャンバ12との接続部分までのダクトにアクティブ型消
音器86を設置したことにある。このアクティブ型消音
器86は、送風機64から伝搬される音を検出する検出
マイクロフォン86D、検出マイクロフォン86Dで検
出された音声信号を演算処理して逆位相の音声信号を生
成する演算処理回路86A、演算処理回路86Aで演算
処理された逆位相の音声信号を増幅するアンプ86B、
アンプ86Bで増幅された逆位相の音声信号に基づく音
波を出力する2次音源としてのスピーカ86C、スピー
カ86Cから出力される逆位相の音波により打ち消され
た後の音圧を検出するモニタマイクロフォン86Eを備
えている。
【0061】そして、前記したアクティブ型消音器86
の消音動作は、まず、送風機64から伝搬される騒音を
検出マイクロフォン86Dで検出し、その検出された音
声信号を演算処理回路86Aで演算処理することによっ
て逆位相の音声信号が生成される。演算処理回路86A
で生成された逆位相の音声信号は、さらにアンプ86B
で増幅され、スピーカ86Cから出力される。スピーカ
86Cから出力される音波は、送風機64から伝搬され
る騒音を打ち消すための逆位相の音波である。さらに、
演算処理回路86Aでは、スピーカ86Cから出力され
た音波により打ち消された後の騒音をモニタマイクロフ
ォン86Eによってモニタすることにより、送風機64
から伝搬される騒音のうち、特に、露光本体部14の固
有の機械共振周波数付近の音が残っている場合は、これ
を打ち消すのに必要な逆位相の音波を生成するための制
御信号を発生するようなフィードバック制御が行われ
る。
【0062】これまでの説明から明らかなように、本第
3の実施形態の露光装置80では、アクティブ型消音器
86により騒音除去手段が構成され、これにより送風機
64から発生する騒音の中から露光本体部14の固有周
波数(=減衰させたい周波数f)付近の音を効率良く消
音することができるため、送風機64による露光本体部
14の共振を抑制することができる。その結果、露光本
体部14では、振動が抑制された状態で露光することが
できるため、ウエハ24の回路層パターンを露光する際
の重ね合わせ精度が向上して、より集積度の高い微細な
回路層パターンの露光にも対応できるようになる。特
に、このアクティブ型消音器86は、広帯域のランダム
な音を消音することが可能であって、あらかじめ露光本
体部14の共振周波数付近の音だけを消音すれば良い場
合には、より簡単な演算処理で効果的に消音することが
可能となる。
【0063】なお、上記の第3の実施形態の露光装置8
0では、モニタマイクロフォン86Eが設けられ、露光
本体部14の固有の機械共振周波数付近の音を打ち消す
のに必要な逆位相の音波を生成するための制御信号を発
生するようなフィードバック制御が行なわれているが、
このモニタマイクロフォン86Eを必ずしも設ける必要
はない。これを設けない場合にも、騒音除去手段として
のアクティブ型消音器86を構成する検出マイクロフォ
ン86Dは、空調部内の送風機付近で発生する周波数成
分を検出し、演算処理回路86Aが検出マイクロフォン
86Dで検出された周波数成分の中から露光本体部14
固有の機械共振周波数付近の音を打ち消す逆位相の音声
信号を生成し、消音スピーカ86Cが演算処理回路86
Dで生成された音声信号に基づく機械共振周波数付近の
音を打ち消す逆位相の音波を出力するので、アクティブ
型消音器86の発生するストップバンド周波数の音によ
り送風機64からの機械共振周波数付近の騒音が打ち消
されて、露光本体部14の機械共振周波数付近の音圧が
小さくなり、露光本体部14の共振を抑えることができ
る。
【0064】なお、本第3の実施形態では、第2の実施
形態における図3に示すように、機械室62(第3の実
施形態では82)から消音部76(第3の実施形態では
アクティブ型消音器86)を分離した構成をとるように
することもできる。
【0065】《第4の実施形態》以下、本発明の第4の
実施形態を図5に基づいて説明する。ここで、前述した
第1、第2又は第3の実施形態の装置と同一の構成部分
については、同一の符号を用いるとともに、その説明を
省略し若しくは簡略化するものとする。また、機械室部
分は、従来の露光装置の機械室、あるいは、上記第1、
第2又は第3の実施形態と同一の構成を採用することが
できるため、図示を省略している。
【0066】図5には、第4の実施形態に係る露光装置
90の構成が概略的に示されている。この露光装置90
では、第1、第2及び第3の実施形態と同様にチャンバ
12内に設置された露光本体部14に対して、図示省略
した機械室で温度調節がなされ、塵埃の除去されたクリ
ーンな空気を供給しながら露光処理が行われる。そし
て、その際のチャンバ12内には、不図示の送風機から
発生する騒音を吸収するための吸音部材96が設置され
ている。
【0067】本第4の実施形態の特徴は、図5に示され
るように、チャンバ12の内壁に吸音部材としての吸音
板94が設置されたことにある。この吸音部板94は、
チャンバ12の壁面との間に厚さdの空気層92を隔て
て配置されており、ここでは、グラスウール等から成る
吸音性多孔性材質のものが用いられている。
【0068】特に、本第4の実施形態の露光装置90で
は、露光本体部14等の機械共振周波数付近である20
0Hz以下の低周波数の音の発生が問題となる。このた
め、この露光装置90では、例えば空気層92の厚さd
を300mm程度とすることにより、200Hz以下の
低周波音を効果的に吸収するようにしている。
【0069】このように本第4の実施形態の露光装置9
0では、空気層92を隔ててチャンバ12の内壁に配置
された吸音板94により、騒音除去手段が構成され、こ
の吸音部材94により、不図示の送風機から発生する騒
音の中から露光本体部14固有の機械共振周波数付近の
音をチャンバ12内で効率良く吸音することができるた
め、送風機の騒音による露光本体部14の共振を抑制す
ることができる。その結果、露光本体部14では、振動
が抑制された状態で露光することが可能となり、ウエハ
24の回路層パターンを露光する際の重ね合わせ精度が
向上して、より集積度の高い微細な回路層パターンの露
光にも対応できるようになる。
【0070】なお、上記第4の実施形態では、吸音部材
96の空気層92の厚さdを300mm程度として、2
00Hz以下の低周波音を吸収するように構成したが、
これに限定されるものではなく、露光本体部14固有の
機械共振周波数が異なる場合は、これに応じて適宜厚さ
dを変化させることにより、所望の周波数の騒音を吸収
できるようにすることもできる。
【0071】また、図5では、チャンバ12の左右の両
壁面の形状に応じて上記吸音部材96をそれぞれ設ける
ように構成したが、図5の紙面の手前側、あるいは、露
光本体部14の背面側のチャンバ12の壁面にも設ける
ことが可能である。
【0072】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
露光本体部の機械共振周波数に着目し、露光本体部が設
置されたチャンバ内に伝搬される空調部からの騒音のう
ち、特に、露光装置の機械共振周波数付近の周波数の音
を低減することのできる騒音除去手段を設けたことによ
り、空調部からの騒音による共振の励起を防止すること
ができるという従来にない優れた効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施形態に係る露光装置の構成を概略的
に示す図である。
【図2】第2の実施形態に係る露光装置の構成を概略的
に示す図である。
【図3】第2の実施形態に係る露光装置の変形例を示す
図である。
【図4】第3の実施形態に係る露光装置の構成を概略的
に示す図である。
【図5】第4の実施形態に係る露光装置の構成を概略的
に示す図である。
【符号の説明】
10 露光装置 12 チャンバ 14 露光本体部 16 機械室 48 送風機(騒音除去手段) 60 露光装置 62 機械室 64 送風機 66 空洞部(共鳴型消音器を構成する共振周波数発生
手段の一部) 68 連結管(共鳴型消音器を構成する共振周波数発生
手段の一部) 70 共鳴型消音器(リアクティブ型消音器、騒音除去
手段) 80 露光装置 82 機械室 84 送風機 86 アクティブ型消音器(騒音除去手段) 86A 演算処理回路(演算処理部) 86C 消音スピーカ 86D 検出マイクロフォン 86E モニタマイクロフォン 90 露光装置 92 空気層(空隙) 94 吸音板(吸音部材)

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 露光本体部が収納されたチャンバ内の空
    調を行う空調部を備えた露光装置であって、 前記空調部内で発生する騒音の中から前記露光本体部固
    有の機械共振周波数付近の成分の少なくとも一部を除去
    する騒音除去手段を有する露光装置。
  2. 【請求項2】 前記騒音除去手段は、前記空調部内に配
    置され、温度調節が行われた空気を前記チャンバ内に送
    り込むターボ型あるいはラジアル型の遠心ファンにより
    構成されていることを特徴とする請求項1に記載の露光
    装置。
  3. 【請求項3】 前記騒音除去手段は、前記露光本体部固
    有の機械共振周波数付近の音を低減するリアクティブ型
    消音器であることを特徴とする請求項1に記載の露光装
    置。
  4. 【請求項4】 前記リアクティブ型消音器は、前記空調
    部内の送風機付近に設けられ、前記露光本体部固有の機
    械共振周波数付近の音に対して共鳴する共振周波数発生
    手段を有することを特徴とする請求項3に記載の露光装
    置。
  5. 【請求項5】 前記騒音除去手段は、前記露光本体部固
    有の機械共振周波数付近の音を低減するアクティブ型消
    音器であることを特徴とする請求項1に記載の露光装
    置。
  6. 【請求項6】 前記アクティブ型消音器は、前記空調部
    内の送風機付近で発生する周波数成分を検出する検出マ
    イクロフォンと、前記検出マイクロフォンで検出された
    周波数成分の中から前記露光本体部固有の機械共振周波
    数付近の音を打ち消す逆位相の音声信号を生成する演算
    処理部と、前記演算処理部で生成された音声信号に基づ
    いて前記機械共振周波数付近の音を打ち消す逆位相の音
    波を出力する消音スピーカとを有することを特徴とする
    請求項5に記載の露光装置。
  7. 【請求項7】 前記空調部から前記チャンバ内への空気
    の吹き出し口付近に、前記露光本体部固有の機械共振周
    波数付近の音をモニタするモニタマイクロフォンを設け
    たことを特徴とする請求項6に記載の露光装置。
  8. 【請求項8】 前記騒音除去手段は、前記チャンバの内
    側壁面に所定の空隙を隔てて配置された吸音部材により
    構成されていることを特徴とする請求項1に記載の露光
    装置。
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001093319A1 (fr) * 2000-05-31 2001-12-06 Nikon Corporation Systeme d'alimentation en gaz, dispositif d'exposition et procede de fabrication associe
US6450288B1 (en) 1998-01-28 2002-09-17 Nikon Corporation Air-conditioning apparatus, partition and exposure apparatus
US6834548B1 (en) 2003-06-18 2004-12-28 International Business Machines Corporation Method and apparatus for reduction of high-frequency vibrations in thick pellicles
JP2005209793A (ja) * 2004-01-21 2005-08-04 Canon Inc 露光装置
JP2008270735A (ja) * 2007-02-14 2008-11-06 Integrated Dynamics Engineering Gmbh 除振システムを適合する方法
JP2009141349A (ja) * 2007-12-06 2009-06-25 Asml Netherlands Bv 音響共振器を有するリソグラフィ装置
JP2009152597A (ja) * 2007-12-19 2009-07-09 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置
JP2014131060A (ja) * 2006-05-19 2014-07-10 Carl Zeiss Smt Gmbh 光学撮像装置および方法
JP2017501434A (ja) * 2013-12-20 2017-01-12 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィにおけるオブジェクトを位置決めするシステム
US9817322B2 (en) 2006-05-19 2017-11-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical imaging device and method for reducing dynamic fluctuations in pressure difference
KR20210100012A (ko) 2020-02-05 2021-08-13 캐논 가부시끼가이샤 진동 제어장치, 노광 장치, 및 물품제조방법

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6450288B1 (en) 1998-01-28 2002-09-17 Nikon Corporation Air-conditioning apparatus, partition and exposure apparatus
WO2001093319A1 (fr) * 2000-05-31 2001-12-06 Nikon Corporation Systeme d'alimentation en gaz, dispositif d'exposition et procede de fabrication associe
US6834548B1 (en) 2003-06-18 2004-12-28 International Business Machines Corporation Method and apparatus for reduction of high-frequency vibrations in thick pellicles
JP4502366B2 (ja) * 2004-01-21 2010-07-14 キヤノン株式会社 露光装置
JP2005209793A (ja) * 2004-01-21 2005-08-04 Canon Inc 露光装置
US9817322B2 (en) 2006-05-19 2017-11-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical imaging device and method for reducing dynamic fluctuations in pressure difference
JP2014131060A (ja) * 2006-05-19 2014-07-10 Carl Zeiss Smt Gmbh 光学撮像装置および方法
JP2008270735A (ja) * 2007-02-14 2008-11-06 Integrated Dynamics Engineering Gmbh 除振システムを適合する方法
US8243258B2 (en) 2007-12-06 2012-08-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus having acoustic resonator
JP2009141349A (ja) * 2007-12-06 2009-06-25 Asml Netherlands Bv 音響共振器を有するリソグラフィ装置
JP2009152597A (ja) * 2007-12-19 2009-07-09 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置
US9378722B2 (en) 2007-12-19 2016-06-28 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus with actuator to compensate acoustic vibration
JP2017501434A (ja) * 2013-12-20 2017-01-12 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィにおけるオブジェクトを位置決めするシステム
US9946172B2 (en) 2013-12-20 2018-04-17 Asml Netherlands B.V. System for positioning an object in lithography
KR20210100012A (ko) 2020-02-05 2021-08-13 캐논 가부시끼가이샤 진동 제어장치, 노광 장치, 및 물품제조방법
CN113296366A (zh) * 2020-02-05 2021-08-24 佳能株式会社 振动控制装置、曝光装置以及物品制造方法

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