JP3837773B2 - 露光装置の環境制御方法及び装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明はチャンバー内に配置された露光装置の環境制御方法及び装置に関し、特に、チャンバー内の音響雑音を減衰させる方法及び装置に関する。
【0002】
【発明の背景】
半導体集積回路製造用等に用いられる露光装置においては、装置温度と装置内清浄度の管理を行うために、露光装置本体を環境制御チャンバー内に収容している。そして、空気供給装置(以下、「空調機」と略称する)から供給される温度制御された空気を塵埃除去フィルタで濾過した後に、露光装置本体に流すようになっている。半導体集積回路の集積度が向上するにつれ、露光装置本体内に浮遊する極めて微細な塵埃を除去する必要性から、塵埃除去フィルタも更なる微細化が進んでいる。また、紫外線リソグラフィでの配線形成に使用される化学増幅型フォトレジストの性能変化を抑制するため、塵埃除去フィルタに加えて、化学物質除去フィルタを設けている。即ち、この化学物質除去フィルタによって、空気中の反応性化学物質を除去している。
【0003】
【従来技術】
図2は、従来の投影露光装置用の環境制御装置を示す。図において、投影露光装置本体10は、温度制御された空気(14)が循環する環境制御チャンバー12内に収容されている。環境制御チャンバー12内には、投影露光装置本体10内を通過した空気を冷却する空気冷却器16と、この冷却された空気を適正温度まで加熱する空気再加熱機18とが装備されている。投影露光装置本体10の側部には、投影露光装置本体10近傍の空気の温度を検出する温度センサ20が配置されており、この温度センサ20によって検出された温度に基づいて温度コントローラ22が空気再加熱機18を制御するようになっている。
【0004】
空気再加熱機18によって温度制御された空気は、送風機24によって投影露光装置本体10側に送り込まれる。送風機24の送風口近傍には、化学物質除去フィルタ26が配置され、空気中の反応性化学物質を除去するようになっている。化学物質除去フィルタ26の前方(風下)には、塵埃除去フィルタ28が配置され、空気中の塵埃を除去するようになっている。環境制御チャンバー12内には、もう1つ化学物質除去フィルタ30が配置され、チャンバー12内に取り込まれる外気中の反応性化学物質を除去するようになっている。
【0005】
近年、投影露光装置の更なる精度向上の要請に応じ、露光装置本体10内各部でのより高精度の温度制御が必要になってきている。そこで、現在では、環境チャンバー12内に複数の空気吹出し口を設けるようになってきている。チャンバー内に複数の空気吹出し口を設ける等の措置を講ずると、空気流量の増大や空気流に対する圧力損失の増大を招くため、必然的に空調機容量を増加させる必要が生じる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
環境チャンバー内の空気流量の増大や、圧力損失への対処には、空調機の大容量かで対処できるものの、半面、空調機から発生する振動が問題になりつつある。すなわち、以前は空調機の容量が小さいため、空調機から発生する振動レベルも小さく、あまり問題にならなかったが、空調機の容量が増大するにつれて、そこから発生する振動も大きくなり、露光装置の精度に影響を及ぼすレベルにまで達してきている。空調機等から発生する振動の内、床や機械的結合部分を通じて伝わる振動については、ラバーパッド等の受動的な防振手段によって比較的容易に対処できる。しかしながら、環境制御用媒体である空気の圧力波、いわゆる音響雑音の形で露光装置本体に伝わる振動については、現在までは有効な対処方法は見出されていない。ここで、空気の流路中にバッフルを形成して振動を減衰させる方法や、流路を2系等の異なる長さに分けて干渉を起こさせることで伝搬を防止する方法が考えられる。しかし、このような方法によると、装置自体が大型化すると共に、大きな圧力損失を生じてしまう。また、低い周波数帯域を十分にカバーできないという不都合がある。
【0007】
【発明の目的】
本発明は、上記のような状況に鑑みて成されたものであり、装置自体の外径寸法に与える影響が小さく、圧力損失が小さく、且つ、広い周波数範囲の音響雑音に対処できる環境制御方法及び装置を提供することを目的とする。
【0008】
上記目的を達成するために、本発明の環境制御方法においては、前記露光装置に位置計測のためのレーザ光を用いたレーザ干渉計を備え、前記レーザ光の光路近傍に設けた検出手段によって、前記チャンバー内の音響雑音を検出し、電気信号に変換する検出ステップと、前記電気信号に基づき、前記検出された音響雑音を打ち消すような位相の音響信号を生成する信号処理ステップと、前記信号処理手段からの前記音響信号を所定のレベルまで増幅する増幅ステップと、前記レーザ光の光路近傍に設けた出力手段によって、前記増幅された音響信号を前記チャンバー内に放出する出力ステップと、を備え音響雑音を能動的に打ち消している。
【0009】
本発明の環境制御装置は、前記チャンバー内の音響雑音を検出し、電気信号に変換する検出手段と、前記電気信号に基づき、前記検出された音響雑音を打ち消すような位相の音響信号を生成する信号処理手段と、前記信号処理手段からの前記音響信号を所定のレベルまで増幅する増幅手段と、前記増幅された音響信号を前記チャンバー内に放出する出力手段と、を備え、前記露光装置に位置計測のためのレーザ光を用いたレーザ干渉計を備え、前記検出手段と前記出力手段を、前記レーザ光の光路近傍に設けている。
【0010】
【発明の作用及び効果】
本発明は上記のように、空調装置等から発生する音響雑音に対し、位相反転した音響信号を発生するため、音響雑音によって露光装置本体に伝わる振動を減衰できる。また、本発明による能動的な消音手段は、装置全体の外径寸法に与える影響が小さく、また、圧力損失も小さい。更に、対応できる周波数範囲も広いため、投影露光装置の精度向上に大きく貢献できる。
【0011】
【発明の実施の態様】
以下、本発明の実施の形態を実施例を参照して説明する。本実施例は、半導体製造用の投影露光装置用の環境制御技術に本発明を適用したものである。
【0012】
【実施例】
図1は、本実施例にかかる投影露光装置用の環境制御装置を示す。図において、投影露光装置本体110は、温度制御された空気(114)が循環する環境制御チャンバー112内に収容されている。環境制御チャンバー112内には、投影露光装置本体110内を通過した空気を冷却する空気冷却器116と、この冷却された空気を適正温度まで加熱する空気再加熱機118とが装備されている。投影露光装置本体110の側部には、投影露光装置本体110近傍の空気の温度を検出する温度センサ120が配置されており、この温度センサ120によって検出された温度に基づいて温度コントローラ122が空気再加熱機118を制御するようになっている。
【0013】
空気再加熱機118によって温度制御された空気は、送風機124によって投影露光装置本体110側に送り込まれる。送風機124の送風口近傍には、化学物質除去フィルタ126が配置され、空気中の反応性化学物質を除去するようになっている。化学物質除去フィルタ126の前方(風下)には、塵埃除去フィルタ128が配置され、空気中の塵埃を除去するようになっている。環境制御チャンバー112内(図の左上部)には、もう1つ化学物質除去フィルタ130が配置され、チャンバー112内に取り込まれる外気中の反応性化学物質を除去するようになっている。
【0014】
投影露光装置110においては、照明系132によってレチクルステージ134上に載置されたレチクル136に露光光が照射されるようになっている。レチクル136上に形成されたパターン(図示せず)は、投影光学系138によってウエハ140上に投影される。ウエハ140は、ウエハステージ142上に載置されており、ウエハステージ142の端部には移動鏡144が設置されている。移動鏡144は、レーザ干渉計146から射出されるレーザ光を反射し、その反射光に基づいてレーザ干渉計146はウエハステージ142の位置を計測するようになっている。
【0015】
環境チャンバー112内の上部には、当該チャンバー112内で発生する音響雑音を検出するマイクロフォン148が設置されている。マイクロフォン148は、検出した音声信号を電気信号に変換して、信号処理回路150に供給するようになっている。信号処理回路150は、マイクロフォン148から供給された電気信号に基づき、検出された音響雑音を打ち消すような位相(逆位相)の音響信号に対応する電気信号を生成し、これを増幅器152に供給する。増幅器152は、信号処理回路150からの信号を所定のレベルまで増幅して、スピーカ154に供給する。増幅器152による信号の増幅率は、スピーカ154が作動するに十分な値とする。スピーカ154は、増幅器152から供給された電気信号を音響信号に変換して、環境チャンバー112内に放出する。
【0016】
以上説明したように、本実施例においては、マイクロフォン148で検出された音響雑音と逆位相の音響信号をスピーカ154から環境チャンバー112内に流しているため、音響雑音が打ち消され、音響雑音によって生じる装置振動が抑制される。なお、マイクロフォン148とスピーカ154は、送風機124等の空調装置との位置関係より、最も良好に音響雑音を検出でき、また消去できる位置に配置する。また、必要に応じて、複数のマイクロフォン及びスピーカを使用しても良い。例えば、振動や温度等の環境の影響を受けやすい干渉計の光路付近にマイクロフォン及びスピーカを設置し、独立制御によって当該光路近傍における環境(音響雑音による影響)を制御するようにしても良い。更に、移動鏡144の振動はウエハステージ142の位置計測に大きく影響するため、移動鏡144付近の音響(振動)環境を独立に制御するようにしても良い。
【0017】
以上、本発明を実施例に基づいて説明したが、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に示された本発明の技術的思想としての要旨を逸脱しない範囲で変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の実施例にかかる環境制御装置を示す概念図(正面図)である。
【図2】図2は、従来の環境制御装置を示す概念図(正面図)である。
【符号の説明】
112・・・環境チャンバー
148・・・マイクロフォン
150・・・信号処理回路
152・・・増幅器
154・・・スピーカ
Claims (2)
- チャンバー内に収容された露光装置の動作環境を制御する方法において、
前記露光装置に位置計測のためのレーザ光を用いたレーザ干渉計を備え、前記レーザ光の光路近傍に設けた検出手段によって、前記チャンバー内の音響雑音を検出し、電気信号に変換する検出ステップと、
前記電気信号に基づき、前記検出された音響雑音を打ち消すような位相の音響信号を生成する信号処理ステップと、
前記信号処理手段からの前記音響信号を所定のレベルまで増幅する増幅ステップと、
前記レーザ光の光路近傍に設けた出力手段によって、前記増幅された音響信号を前記チャンバー内に放出する出力ステップと、を備えたことを特徴とする環境制御方法。 - チャンバー内に収容された露光装置の動作環境を制御する装置において、
前記チャンバー内の音響雑音を検出し、電気信号に変換する検出手段と、
前記電気信号に基づき、前記検出された音響雑音を打ち消すような位相の音響信号を生成する信号処理手段と、
前記信号処理手段からの前記音響信号を所定のレベルまで増幅する増幅手段と、
前記増幅された音響信号を前記チャンバー内に放出する出力手段と、を備え、
前記露光装置に位置計測のためのレーザ光を用いたレーザ干渉計を備え、前記検出手段と前記出力手段を、前記レーザ光の光路近傍に設けたことを特徴とする環境制御装置。
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Families Citing this family (12)
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KR100871451B1 (ko) * | 2007-07-03 | 2008-12-03 | 세메스 주식회사 | 레이저를 이용한 기판 세정 장치 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20230100774A (ko) * | 2021-12-28 | 2023-07-06 | 세메스 주식회사 | 웨이퍼용 건식 세정장치 |
KR102623598B1 (ko) | 2021-12-28 | 2024-01-11 | 세메스 주식회사 | 웨이퍼용 건식 세정장치 |
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