JPH11210109A - 空調装置、隔壁及び露光装置 - Google Patents
空調装置、隔壁及び露光装置Info
- Publication number
- JPH11210109A JPH11210109A JP10015884A JP1588498A JPH11210109A JP H11210109 A JPH11210109 A JP H11210109A JP 10015884 A JP10015884 A JP 10015884A JP 1588498 A JP1588498 A JP 1588498A JP H11210109 A JPH11210109 A JP H11210109A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- chamber
- plate member
- partition
- air conditioner
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
-
- G—PHYSICS
- G10—MUSICAL INSTRUMENTS; ACOUSTICS
- G10K—SOUND-PRODUCING DEVICES; METHODS OR DEVICES FOR PROTECTING AGAINST, OR FOR DAMPING, NOISE OR OTHER ACOUSTIC WAVES IN GENERAL; ACOUSTICS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G10K11/00—Methods or devices for transmitting, conducting or directing sound in general; Methods or devices for protecting against, or for damping, noise or other acoustic waves in general
- G10K11/16—Methods or devices for protecting against, or for damping, noise or other acoustic waves in general
-
- G—PHYSICS
- G10—MUSICAL INSTRUMENTS; ACOUSTICS
- G10K—SOUND-PRODUCING DEVICES; METHODS OR DEVICES FOR PROTECTING AGAINST, OR FOR DAMPING, NOISE OR OTHER ACOUSTIC WAVES IN GENERAL; ACOUSTICS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G10K11/00—Methods or devices for transmitting, conducting or directing sound in general; Methods or devices for protecting against, or for damping, noise or other acoustic waves in general
- G10K11/16—Methods or devices for protecting against, or for damping, noise or other acoustic waves in general
- G10K11/162—Selection of materials
- G10K11/168—Plural layers of different materials, e.g. sandwiches
-
- G—PHYSICS
- G10—MUSICAL INSTRUMENTS; ACOUSTICS
- G10K—SOUND-PRODUCING DEVICES; METHODS OR DEVICES FOR PROTECTING AGAINST, OR FOR DAMPING, NOISE OR OTHER ACOUSTIC WAVES IN GENERAL; ACOUSTICS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G10K11/00—Methods or devices for transmitting, conducting or directing sound in general; Methods or devices for protecting against, or for damping, noise or other acoustic waves in general
- G10K11/16—Methods or devices for protecting against, or for damping, noise or other acoustic waves in general
- G10K11/172—Methods or devices for protecting against, or for damping, noise or other acoustic waves in general using resonance effects
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F13/00—Details common to, or for air-conditioning, air-humidification, ventilation or use of air currents for screening
- F24F13/24—Means for preventing or suppressing noise
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Building Environments (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 露光装置において、外からチャンバ内に侵入
する低周波騒音を抑制すること。 【解決手段】 チャンバの隔壁を、２枚の鋼板又はアル
ミニウム板１６でセラミックのハニカム構造材料１８を
サンドイッチした構造とする。高い剛性を有するので、
低周波騒音に対して極めて高い防音効果を有する。
する低周波騒音を抑制すること。 【解決手段】 チャンバの隔壁を、２枚の鋼板又はアル
ミニウム板１６でセラミックのハニカム構造材料１８を
サンドイッチした構造とする。高い剛性を有するので、
低周波騒音に対して極めて高い防音効果を有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、工作機械や測定機
器や半導体露光装置等の温調に用いられている空調装
置、及び、隔壁、更に、露光装置に関するものである。
器や半導体露光装置等の温調に用いられている空調装
置、及び、隔壁、更に、露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年の超精密な工作機械や干渉計等の測
定機器はきわめて高い工作精度や測定精度を要求される
ものがある。これらの極めて高い要求精度を達成するた
めには、装置そのものの仕組みや構成はもとより、設置
される環境にも気を配らなければならない。特に環境中
の温度変化は前記装置の精度に大きな影響を及ぼすこと
は明らかであり、環境中の温度変化を極力抑えること
が、超精密な工作精度や測定精度を得るための必須条件
となっている。通常、装置を温度管理がされた恒温室に
設置して稼働することにより、高精度化を達成する。し
かしさらに高い精度を求められ、厳密な設置環境の温度
管理を必要とする装置に関しては、各装置ごとに個別の
チャンバを設け、その中の温度管理を外部に設けた空調
機により厳密に行うことにより、要求される精度をクリ
アすることになる。
定機器はきわめて高い工作精度や測定精度を要求される
ものがある。これらの極めて高い要求精度を達成するた
めには、装置そのものの仕組みや構成はもとより、設置
される環境にも気を配らなければならない。特に環境中
の温度変化は前記装置の精度に大きな影響を及ぼすこと
は明らかであり、環境中の温度変化を極力抑えること
が、超精密な工作精度や測定精度を得るための必須条件
となっている。通常、装置を温度管理がされた恒温室に
設置して稼働することにより、高精度化を達成する。し
かしさらに高い精度を求められ、厳密な設置環境の温度
管理を必要とする装置に関しては、各装置ごとに個別の
チャンバを設け、その中の温度管理を外部に設けた空調
機により厳密に行うことにより、要求される精度をクリ
アすることになる。
【０００３】超精密工作機械や測定機器等の温調に用い
られている空調装置の概要を図４に示す。図４はＩＣの
製造工程で用いられる縮小投影露光装置本体とチャン
バ、空調装置とから構成される縮小投影露光装置の一例
である。チャンバとは異なるケース内に配置される光源
３から放射された光あるいはレーザ光４はＩＣの回路パ
ターンが形成されたレチクル６に照射される。該レチク
ル６を通過した光あるいはレーザ光４は投影レンズ５に
入射され、ここで縮小（例えば１／５に縮小）されて、
ウェハステージ８に設置されたシリコンウェハ７に照射
される。シリコンウェハ７はウェハステージ８上に設置
され、ウェハステージ８の移動機構により投影レンズ５
の光軸と直角な平面内を、外部からの指令により移動さ
せることができる。前記のウェハステージ８の位置決め
が完了した時点で光源３からの光あるいはレーザ光４が
レチクル６に照射され、その光は投影レンズ５で縮小さ
れて、レチクル６に画かれた回路パターンがシリコンウ
ェハ７上の１チップ領域又は１ショット領域に投影さ
れ、シリコンウェハ７上に塗られた感光剤を露光させ
る。
られている空調装置の概要を図４に示す。図４はＩＣの
製造工程で用いられる縮小投影露光装置本体とチャン
バ、空調装置とから構成される縮小投影露光装置の一例
である。チャンバとは異なるケース内に配置される光源
３から放射された光あるいはレーザ光４はＩＣの回路パ
ターンが形成されたレチクル６に照射される。該レチク
ル６を通過した光あるいはレーザ光４は投影レンズ５に
入射され、ここで縮小（例えば１／５に縮小）されて、
ウェハステージ８に設置されたシリコンウェハ７に照射
される。シリコンウェハ７はウェハステージ８上に設置
され、ウェハステージ８の移動機構により投影レンズ５
の光軸と直角な平面内を、外部からの指令により移動さ
せることができる。前記のウェハステージ８の位置決め
が完了した時点で光源３からの光あるいはレーザ光４が
レチクル６に照射され、その光は投影レンズ５で縮小さ
れて、レチクル６に画かれた回路パターンがシリコンウ
ェハ７上の１チップ領域又は１ショット領域に投影さ
れ、シリコンウェハ７上に塗られた感光剤を露光させ
る。
【０００４】前記の縮小投影露光の工程が終了すると、
再びウェハステージ８を駆動し、位置決めを行い、さら
に縮小投影露光を行う。この位置決め、露光の工程を繰
り返すことにより、ＩＣの回路パターンをシリコンウェ
ハ７上に縮小し投影して行く。
再びウェハステージ８を駆動し、位置決めを行い、さら
に縮小投影露光を行う。この位置決め、露光の工程を繰
り返すことにより、ＩＣの回路パターンをシリコンウェ
ハ７上に縮小し投影して行く。
【０００５】前記縮小投影露光装置は、温度の変化や、
振動の影響を敏感に受け、線幅不良の原因となる。そこ
でこれらの原因を極力取り除くために、縮小投影露光装
置本体を除振台２に取り付けるとともに、装置全体がチ
ャンバ９に入れられている。該チャンバ９は、温度コン
トロールを行うために、送風器と排風器が共通になった
送風器１３と熱交換器１１からなる空調機１０からの送
風１２を受け、温調された空気は、ダクト１５とフィル
タ１４を介してチャンバ９内に供給される。該チャンバ
９内の温度はセンサにより常にモニタされ、該センサの
信号は空調機１０にフィードバックされ、チャンバ内の
温度が設定温度に対して差が出ないように空調機１０は
コントロールされる。また、チャンバの隔壁は外部の温
度変化が内部に及ばないように、断熱性の高いものが用
いられており、一般的には図５に示すような断面構造を
持つ隔壁が用いられている。該隔壁は２枚の鋼板又はア
ルミニウム板１６で硬質発砲ウレタン１７をサンドイッ
チしたもので、チャンバとしての強度を得ることはもち
ろんであるが、主にその断熱性に期待して用いられてい
る。
振動の影響を敏感に受け、線幅不良の原因となる。そこ
でこれらの原因を極力取り除くために、縮小投影露光装
置本体を除振台２に取り付けるとともに、装置全体がチ
ャンバ９に入れられている。該チャンバ９は、温度コン
トロールを行うために、送風器と排風器が共通になった
送風器１３と熱交換器１１からなる空調機１０からの送
風１２を受け、温調された空気は、ダクト１５とフィル
タ１４を介してチャンバ９内に供給される。該チャンバ
９内の温度はセンサにより常にモニタされ、該センサの
信号は空調機１０にフィードバックされ、チャンバ内の
温度が設定温度に対して差が出ないように空調機１０は
コントロールされる。また、チャンバの隔壁は外部の温
度変化が内部に及ばないように、断熱性の高いものが用
いられており、一般的には図５に示すような断面構造を
持つ隔壁が用いられている。該隔壁は２枚の鋼板又はア
ルミニウム板１６で硬質発砲ウレタン１７をサンドイッ
チしたもので、チャンバとしての強度を得ることはもち
ろんであるが、主にその断熱性に期待して用いられてい
る。
【０００６】該チャンバ９内の縮小露光装置本体は、地
面２０の上の独立の基礎２１の上に除振台２を載せる状
態で取り付けられている。チャンバ９及び空調機１０は
地面２０に支柱２２で支えられる床材２３に載せられ、
該床材２３と独立の基礎２１との間はゴム等の緩衝材２
４で埋められている。
面２０の上の独立の基礎２１の上に除振台２を載せる状
態で取り付けられている。チャンバ９及び空調機１０は
地面２０に支柱２２で支えられる床材２３に載せられ、
該床材２３と独立の基礎２１との間はゴム等の緩衝材２
４で埋められている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】近年の超精密化の要求
は、すでに装置の設置環境の温度管理のみで達成するこ
とができない領域にまで来ている。例えば前項で示した
縮小投影露光装置に求められるＩＣパターンの線幅は
０．３５μｍ以下である。さらに今後はＩＣの集積度の
向上にともない０．２５μｍ、さらには０．１５μｍ程
度の線幅まで、縮小投影露光装置の守備範囲に入ってく
るものと思われる。そのため、これまでは問題にならな
い程度の外乱要因でも大きくクローズアップされ、対策
を講じる必要に迫られる事態が発生している。
は、すでに装置の設置環境の温度管理のみで達成するこ
とができない領域にまで来ている。例えば前項で示した
縮小投影露光装置に求められるＩＣパターンの線幅は
０．３５μｍ以下である。さらに今後はＩＣの集積度の
向上にともない０．２５μｍ、さらには０．１５μｍ程
度の線幅まで、縮小投影露光装置の守備範囲に入ってく
るものと思われる。そのため、これまでは問題にならな
い程度の外乱要因でも大きくクローズアップされ、対策
を講じる必要に迫られる事態が発生している。
【０００８】前記外乱要因の一つとして、チャンバが設
置されている環境からチャンバの隔壁を介してチャンバ
内に達する騒音がある。縮小投影露光装置に当てはめて
考えると、通常チャンバが設置されているのはクリーン
ルーム内であるが、そのクリーンル−ム内の騒音が空気
を媒体としてチャンバの隔壁に伝わり、さらにそこから
空気を媒体として縮小投影露光装置本体、あるいは投影
レンズをはじめステージやウェハなどの構成部品を加振
し、そのことにより、縮小投影露光装置の各構成部品間
に相対的な変位が発生、露光面でコンスタントに微細な
線幅を維持することが難しくなるといった問題が発生す
る。
置されている環境からチャンバの隔壁を介してチャンバ
内に達する騒音がある。縮小投影露光装置に当てはめて
考えると、通常チャンバが設置されているのはクリーン
ルーム内であるが、そのクリーンル−ム内の騒音が空気
を媒体としてチャンバの隔壁に伝わり、さらにそこから
空気を媒体として縮小投影露光装置本体、あるいは投影
レンズをはじめステージやウェハなどの構成部品を加振
し、そのことにより、縮小投影露光装置の各構成部品間
に相対的な変位が発生、露光面でコンスタントに微細な
線幅を維持することが難しくなるといった問題が発生す
る。
【０００９】クリーンルームに設置されているチャンバ
内外で測定した騒音の測定の結果を図６に示す。この測
定においては、チャンバ内に送風している空調機は停止
し、チャンバ外から侵入する騒音のみを測定した。チャ
ンバの隔壁は、図５に示す断面構成を持つ従来から用い
られているものである。図６中のグラフが示すとおり、
チャンバ内であっても、きわめて低い可聴域外の騒音
（空気の粗密波として伝わる低周波の振動）が最大でお
よそ６９ｄＢ程度の音圧値を持って観測されている。こ
の低周波の騒音は、クリーンルームの温調のための大型
送風機と温調された空気を導くダクトにより発生し、ク
リーンルーム内に放出された騒音がチャンバの隔壁を介
して、チャンバ内に伝わったものと思われる。さらに、
図６中に示すチャンバの外で別途測定した騒音の測定結
果と比較すると、６０Ｈｚ程度よりも周波数が高い騒音
に対しては従来の隔壁でも防音の効果が認められるが、
数Ｈｚ〜数十Ｈｚのきわめて低い周波数の騒音について
の防音効果についてはあまり期待できないことがわかっ
た。
内外で測定した騒音の測定の結果を図６に示す。この測
定においては、チャンバ内に送風している空調機は停止
し、チャンバ外から侵入する騒音のみを測定した。チャ
ンバの隔壁は、図５に示す断面構成を持つ従来から用い
られているものである。図６中のグラフが示すとおり、
チャンバ内であっても、きわめて低い可聴域外の騒音
（空気の粗密波として伝わる低周波の振動）が最大でお
よそ６９ｄＢ程度の音圧値を持って観測されている。こ
の低周波の騒音は、クリーンルームの温調のための大型
送風機と温調された空気を導くダクトにより発生し、ク
リーンルーム内に放出された騒音がチャンバの隔壁を介
して、チャンバ内に伝わったものと思われる。さらに、
図６中に示すチャンバの外で別途測定した騒音の測定結
果と比較すると、６０Ｈｚ程度よりも周波数が高い騒音
に対しては従来の隔壁でも防音の効果が認められるが、
数Ｈｚ〜数十Ｈｚのきわめて低い周波数の騒音について
の防音効果についてはあまり期待できないことがわかっ
た。
【００１０】さて、前記図６に示したチャンバ内の騒音
がチャンバ内の装置にどの程度の影響を及ぼすかをチャ
ンバ内に縮小投影露光装置本体が設置されている場合を
例に、シミュレーションした結果を以下に示す。チャン
バ内の音圧レベル（ＳＰＬ）と該音圧値により単位面積
に発生する力との関係を（１）式に示す。
がチャンバ内の装置にどの程度の影響を及ぼすかをチャ
ンバ内に縮小投影露光装置本体が設置されている場合を
例に、シミュレーションした結果を以下に示す。チャン
バ内の音圧レベル（ＳＰＬ）と該音圧値により単位面積
に発生する力との関係を（１）式に示す。
【００１１】 Ｐ＝１０X×１０-1（Ｐａ） ・・・ （１） ここで Ｘ＝（Ｓ−７４）／２０ Ｐ；単位面積当たりに作用する力（Ｐａ） Ｓ；音圧レベル（ｄＢ）
【００１２】（１）式より計算した音圧レベルと、前記
縮小投影露光装置本体が設置されている除振台２上での
振動による加速度の関係を図７に示す。除振台２はアク
ティブ制御をおこなったタイプのものとし、低周波振動
領域においても−３０ｄＢ程度の減衰能力を持つものと
して計算した。図６に示した騒音測定結果と図７の計算
値から、縮小投影露光装置本体が設置されている除振台
２上での振動による加速度は最大で１ｍｇａｌ程度なる
ものと考えられる。
縮小投影露光装置本体が設置されている除振台２上での
振動による加速度の関係を図７に示す。除振台２はアク
ティブ制御をおこなったタイプのものとし、低周波振動
領域においても−３０ｄＢ程度の減衰能力を持つものと
して計算した。図６に示した騒音測定結果と図７の計算
値から、縮小投影露光装置本体が設置されている除振台
２上での振動による加速度は最大で１ｍｇａｌ程度なる
ものと考えられる。
【００１３】通常考えられる加速度値としての１ｍｇａ
ｌという値は、ほとんど影響のないきわめて小さな値で
あると思われるが、微細な加工をすることを前提として
設置される縮小投影露光装置にとっては、意味を持って
しまう値である。さらにこの１ｍｇａｌという加速度の
値は、騒音のみによって誘起されるものであり、実際に
は地面２０からの独立の基礎２１を介して伝わる振動な
どもこの値に加算されることから、さらに厳しい状況と
なり、何らかの対策が必要となる。
ｌという値は、ほとんど影響のないきわめて小さな値で
あると思われるが、微細な加工をすることを前提として
設置される縮小投影露光装置にとっては、意味を持って
しまう値である。さらにこの１ｍｇａｌという加速度の
値は、騒音のみによって誘起されるものであり、実際に
は地面２０からの独立の基礎２１を介して伝わる振動な
どもこの値に加算されることから、さらに厳しい状況と
なり、何らかの対策が必要となる。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明の空調装置は、空
調機で空調された空間側に配置される第１板材と、前記
空間とは異なる空間側に配置される第２板材とを有する
隔壁を備えたものであって、前記第１板材と前記第２板
材との間に配置される中間材を有し、前記中間材は前記
第１板材と第２板材とにそれぞれ対向する所定形状の対
向部を備える多数のセルを有するものである。
調機で空調された空間側に配置される第１板材と、前記
空間とは異なる空間側に配置される第２板材とを有する
隔壁を備えたものであって、前記第１板材と前記第２板
材との間に配置される中間材を有し、前記中間材は前記
第１板材と第２板材とにそれぞれ対向する所定形状の対
向部を備える多数のセルを有するものである。
【００１５】また、本発明の隔壁は、空調された空間側
に配置される第１板材と、前記空間とは異なる空間側に
配置される第２板材とからなるものであって、前記第１
板材と前記第２板材との間に配置される中間材を有し、
前記中間材は前記第１板材と第２板材とにそれぞれ対向
する所定形状の対向部を備える多数のセルを有するもの
である。
に配置される第１板材と、前記空間とは異なる空間側に
配置される第２板材とからなるものであって、前記第１
板材と前記第２板材との間に配置される中間材を有し、
前記中間材は前記第１板材と第２板材とにそれぞれ対向
する所定形状の対向部を備える多数のセルを有するもの
である。
【００１６】さらに、本発明の露光装置は、原版上のパ
ターンを感光基板上に露光する露光装置本体と、前記露
光装置本体を取り囲むチャンバとを備えるものであっ
て、前記チャンバは、内側に配置される第１板材と、外
側に配置される第２板材と、前記第１板材と前記第２板
材との間に配置される中間材を有し、前記中間材は前記
第１板材と第２板材とにそれぞれ対向する所定形状の対
向部を備えると共に、前記第１板材と前記第２板材との
間に多数配置されるセルとを有するものである。
ターンを感光基板上に露光する露光装置本体と、前記露
光装置本体を取り囲むチャンバとを備えるものであっ
て、前記チャンバは、内側に配置される第１板材と、外
側に配置される第２板材と、前記第１板材と前記第２板
材との間に配置される中間材を有し、前記中間材は前記
第１板材と第２板材とにそれぞれ対向する所定形状の対
向部を備えると共に、前記第１板材と前記第２板材との
間に多数配置されるセルとを有するものである。
【００１７】また、前記セルは、前記所定形状の対向部
を備える中空部材で構成されることが、セルを軽量にす
ることができるので、好ましい。また、前記中間材は、
セラミックのハニカム構造材であることが、中間材を特
に高剛性にすることができるので、好ましい。また、本
発明の空調装置は、チャンバとダクトと空調機とを備え
るものであって、前記チャンバの壁にハニカム構造等の
細胞状材料を有する壁材を用いたものである。また、本
発明の露光装置は、チャンバの壁にハニカム構造等の細
胞状材料を有する壁材を用いたものである。
を備える中空部材で構成されることが、セルを軽量にす
ることができるので、好ましい。また、前記中間材は、
セラミックのハニカム構造材であることが、中間材を特
に高剛性にすることができるので、好ましい。また、本
発明の空調装置は、チャンバとダクトと空調機とを備え
るものであって、前記チャンバの壁にハニカム構造等の
細胞状材料を有する壁材を用いたものである。また、本
発明の露光装置は、チャンバの壁にハニカム構造等の細
胞状材料を有する壁材を用いたものである。
【００１８】
【発明の実施の形態】本発明は、高い精度を要求される
工作機械や測定機器等において、空調機により内部の空
気を清浄かつ恒温に保ったチャンバ内で、超精密加工や
測定を行う際に、前記チャンバの隔壁に防音効果（低周
波の騒音を遮音する効果）を持つ隔壁を用いるものであ
る。チャンバ外から伝わる騒音のかなりの部分は、クリ
ーンルーム等の恒温のための空調機やそれに付随するダ
クトにより発生したものが原因と考えられる。そのため
クリーンルームの規模が大きくなるほど、空調機やダク
トも大型化し、十数Ｈｚの低周波振動を発生させる。低
周波振動は従来の硬質発泡ウレタンを用いたチャンバの
隔壁はほとんど通過してしまう。一方でチャンバ内に設
置された装置のメカ的な部分の固有振動周波数は一般に
１００Ｈｚ以下のものが多く、チャンバ外から来る低周
波騒音に共振して、思わぬ振動がチャンバ内の装置に発
生してしまい、工作精度や測定精度を低下させる要因に
なることがある。そのため低周波騒音の防音は、精度を
追求する装置にはきわめて重要である。
工作機械や測定機器等において、空調機により内部の空
気を清浄かつ恒温に保ったチャンバ内で、超精密加工や
測定を行う際に、前記チャンバの隔壁に防音効果（低周
波の騒音を遮音する効果）を持つ隔壁を用いるものであ
る。チャンバ外から伝わる騒音のかなりの部分は、クリ
ーンルーム等の恒温のための空調機やそれに付随するダ
クトにより発生したものが原因と考えられる。そのため
クリーンルームの規模が大きくなるほど、空調機やダク
トも大型化し、十数Ｈｚの低周波振動を発生させる。低
周波振動は従来の硬質発泡ウレタンを用いたチャンバの
隔壁はほとんど通過してしまう。一方でチャンバ内に設
置された装置のメカ的な部分の固有振動周波数は一般に
１００Ｈｚ以下のものが多く、チャンバ外から来る低周
波騒音に共振して、思わぬ振動がチャンバ内の装置に発
生してしまい、工作精度や測定精度を低下させる要因に
なることがある。そのため低周波騒音の防音は、精度を
追求する装置にはきわめて重要である。
【００１９】一般に防音の効果をあげるためには隔壁の
質量を増やすことが重要であると言われており、そのた
めにコンクリート製の厚手の隔壁を設けることにより、
防音効果を期待することができると思われる。しかし十
数Ｈｚ程度の低周波騒音域に対してまでも防音効果を得
るためには、コンクリート製でもかなりの厚さが必要と
なると言われている。実際はチャンバ内に設置する装置
が大型になると、装置を組み立ててから、チャンバを設
置することになるため、かなりの厚さを持つ質量の大き
なコンクリート製の隔壁を持つチャンバを、装置の外側
に製作することは、装置の安全性及び実用性の面からも
難しいことである。
質量を増やすことが重要であると言われており、そのた
めにコンクリート製の厚手の隔壁を設けることにより、
防音効果を期待することができると思われる。しかし十
数Ｈｚ程度の低周波騒音域に対してまでも防音効果を得
るためには、コンクリート製でもかなりの厚さが必要と
なると言われている。実際はチャンバ内に設置する装置
が大型になると、装置を組み立ててから、チャンバを設
置することになるため、かなりの厚さを持つ質量の大き
なコンクリート製の隔壁を持つチャンバを、装置の外側
に製作することは、装置の安全性及び実用性の面からも
難しいことである。
【００２０】一方でクリーンルーム内のみで使用するチ
ャンバとして考えてみれば、図６に示す様にクリーンル
ーム内の騒音の周波数は明らかに低周波数域に偏ってお
り、低周波騒音のみをチャンバの隔壁でカットできれ
ば、チャンバ内に設置した装置への影響は大幅に減らす
ことができるものと考えられる。そこで本発明では、隔
壁の質量を増すことなく、低周波域の騒音を防音する構
成をとった。即ち、隔壁の剛性を高めることにより、低
周波域の騒音を防音できることが図３に示す実験により
確認することができた。具体的な構成を以下に説明す
る。
ャンバとして考えてみれば、図６に示す様にクリーンル
ーム内の騒音の周波数は明らかに低周波数域に偏ってお
り、低周波騒音のみをチャンバの隔壁でカットできれ
ば、チャンバ内に設置した装置への影響は大幅に減らす
ことができるものと考えられる。そこで本発明では、隔
壁の質量を増すことなく、低周波域の騒音を防音する構
成をとった。即ち、隔壁の剛性を高めることにより、低
周波域の騒音を防音できることが図３に示す実験により
確認することができた。具体的な構成を以下に説明す
る。
【００２１】図２は、本発明の１実施の形態を説明する
ものであって、縮小投影露光装置の内の縮小投影露光装
置本体は図４で説明した従来例のものと同じである。本
実施の形態では、チャンバ１の隔壁、ダクト１５及び空
調機１０の外部パネルとして図１に示すものを用いる。
図１に示すように、該隔壁は第１板材及び第２板材とし
ての２枚の鋼板又はアルミニウム板１６で、中間材であ
るセラミックのハニカム構造材料１８をサンドイッチし
たものである。このハニカム構造材料１８は、所定形状
からなる細胞状材料で構成される。詳述すると、ハニカ
ム構造材料１８は、隔壁厚さ方向の断面形状が六角形形
状の角形状の筒（セル）の集合体で構成される。例え
ば、図１に示すように、一辺が約１０ｍｍ、厚さが約
０．２５ｍｍの六角形状で構成される。但し、セルの大
きさは、この値に限定されず、大きくても小さくてもよ
い。なお、各セルは隔壁厚さ方向が中空であるので、セ
ルの集合体は多孔質板とも言う。また、各セルは、六角
形形状に形成された中空の面が第１板材と第２板材とに
それぞれ対向し、かつ第１板材と第２板材とが伸びる方
向（図１ではＸ方向及びＹ方向）に配列される。該隔壁
は、余りかさばらず、かつ、高い剛性を実現するため
に、全体として３０〜６０ｍｍの厚みが適当である。該
隔壁には、セラミックで形成されたハニカム構造材料を
用いており、このような隔壁として例えば、不燃マグネ
・ハニカムパネルＡＷ型（昭和アルミニウム製）を用い
ることができる。
ものであって、縮小投影露光装置の内の縮小投影露光装
置本体は図４で説明した従来例のものと同じである。本
実施の形態では、チャンバ１の隔壁、ダクト１５及び空
調機１０の外部パネルとして図１に示すものを用いる。
図１に示すように、該隔壁は第１板材及び第２板材とし
ての２枚の鋼板又はアルミニウム板１６で、中間材であ
るセラミックのハニカム構造材料１８をサンドイッチし
たものである。このハニカム構造材料１８は、所定形状
からなる細胞状材料で構成される。詳述すると、ハニカ
ム構造材料１８は、隔壁厚さ方向の断面形状が六角形形
状の角形状の筒（セル）の集合体で構成される。例え
ば、図１に示すように、一辺が約１０ｍｍ、厚さが約
０．２５ｍｍの六角形状で構成される。但し、セルの大
きさは、この値に限定されず、大きくても小さくてもよ
い。なお、各セルは隔壁厚さ方向が中空であるので、セ
ルの集合体は多孔質板とも言う。また、各セルは、六角
形形状に形成された中空の面が第１板材と第２板材とに
それぞれ対向し、かつ第１板材と第２板材とが伸びる方
向（図１ではＸ方向及びＹ方向）に配列される。該隔壁
は、余りかさばらず、かつ、高い剛性を実現するため
に、全体として３０〜６０ｍｍの厚みが適当である。該
隔壁には、セラミックで形成されたハニカム構造材料を
用いており、このような隔壁として例えば、不燃マグネ
・ハニカムパネルＡＷ型（昭和アルミニウム製）を用い
ることができる。
【００２２】本実施の形態によるチャンバの中に騒音を
測定する測定装置を配置し、その測定装置で測定した騒
音測定結果と、チャンバ外で測定した騒音測定結果を図
３に示す。図３に示すように、本実施の形態によるチャ
ンバによれば、従来の鋼板で硬質発泡ウレタン１７をサ
ンドイッチした隔壁のチャンバよりも低周波域での防音
効果が確認できる。
測定する測定装置を配置し、その測定装置で測定した騒
音測定結果と、チャンバ外で測定した騒音測定結果を図
３に示す。図３に示すように、本実施の形態によるチャ
ンバによれば、従来の鋼板で硬質発泡ウレタン１７をサ
ンドイッチした隔壁のチャンバよりも低周波域での防音
効果が確認できる。
【００２３】また、図３に示されるように、本実施の形
態では、１０Ｈｚ〜４Ｈｚの間、即ち、装置への影響が
大きい低周波数域の騒音に対して６ｄＢ〜１２ｄＢ程度
の遮音が可能となる。このような本実施の形態の隔壁を
用いることにより、クリーンルーム内の低周波騒音がチ
ャンバ１内に伝わるのを、チャンバ１の隔壁で防止し、
低周波振動による精度の低下を防いでいる。
態では、１０Ｈｚ〜４Ｈｚの間、即ち、装置への影響が
大きい低周波数域の騒音に対して６ｄＢ〜１２ｄＢ程度
の遮音が可能となる。このような本実施の形態の隔壁を
用いることにより、クリーンルーム内の低周波騒音がチ
ャンバ１内に伝わるのを、チャンバ１の隔壁で防止し、
低周波振動による精度の低下を防いでいる。
【００２４】なお、本実施の形態では、ハニカム構造材
料の材質としてセラミックを用いて説明したが、他の材
質、例えばアルミ合金等でもよい。特に本実施の形態の
ように、ハニカム構造材料の材質としてセラミックを用
いることにより、軽量化、高剛性、不燃性というメリッ
トがある。さらに、セラミックのハニカム構造材料を用
いることにより、チャンバとして必要な剛性（例えば、
ヤング率１５×１０7Ｎ／ｍ2）が、隔壁の厚さ４２ｍｍ
位で得ることができる。これは、従来のウレタンを用い
た隔壁と比較して１０倍程度剛性が異なる。即ち、ウレ
タンを用いた隔壁では、隔壁の厚さ４４ｍｍ位で、ヤン
グ率が１５×１０6Ｎ／ｍ2程度である。即ち、本実施の
形態のハニカム構造材料は、従来のチャンバ用の隔壁と
比較して、約１０倍の曲げ剛性を持っている。従って、
チャンバ用の隔壁として、ハニカム構造材料を有するも
のを用いることにより剛性が増し、低周波数域の騒音に
対して極めて高い防音効果が期待できる。
料の材質としてセラミックを用いて説明したが、他の材
質、例えばアルミ合金等でもよい。特に本実施の形態の
ように、ハニカム構造材料の材質としてセラミックを用
いることにより、軽量化、高剛性、不燃性というメリッ
トがある。さらに、セラミックのハニカム構造材料を用
いることにより、チャンバとして必要な剛性（例えば、
ヤング率１５×１０7Ｎ／ｍ2）が、隔壁の厚さ４２ｍｍ
位で得ることができる。これは、従来のウレタンを用い
た隔壁と比較して１０倍程度剛性が異なる。即ち、ウレ
タンを用いた隔壁では、隔壁の厚さ４４ｍｍ位で、ヤン
グ率が１５×１０6Ｎ／ｍ2程度である。即ち、本実施の
形態のハニカム構造材料は、従来のチャンバ用の隔壁と
比較して、約１０倍の曲げ剛性を持っている。従って、
チャンバ用の隔壁として、ハニカム構造材料を有するも
のを用いることにより剛性が増し、低周波数域の騒音に
対して極めて高い防音効果が期待できる。
【００２５】本実施の形態による隔壁は特にチャンバ１
の隔壁のみに用いても良い。本実施の形態では、特に低
周波数域の騒音に効果がある高剛性のハニカム構造材料
の中間材を有する隔壁を用いているが、隔壁による防音
方法はこれに限るものではない。該セルは上述したよう
に中空部材でも良いし、セルの中を充填材で充填されて
いる構成でも良い。充填材としては、スポンジ状の発泡
体や、樹脂を用いることが好ましい。例えば、発泡体と
しては硬質又は軟質のポリウレタン発泡体が好ましく、
樹脂としてはゴムが好ましい。
の隔壁のみに用いても良い。本実施の形態では、特に低
周波数域の騒音に効果がある高剛性のハニカム構造材料
の中間材を有する隔壁を用いているが、隔壁による防音
方法はこれに限るものではない。該セルは上述したよう
に中空部材でも良いし、セルの中を充填材で充填されて
いる構成でも良い。充填材としては、スポンジ状の発泡
体や、樹脂を用いることが好ましい。例えば、発泡体と
しては硬質又は軟質のポリウレタン発泡体が好ましく、
樹脂としてはゴムが好ましい。
【００２６】また、セルは、上述したように中空部材で
構成してもよく、中空部材の開口部を塞いで内部空間を
有する構成にしてもよい。そして、セルの中空部分又は
内部空間に発泡体を充填して巣（空洞）を有する構成に
してもよく、また中空部分又は内部空間に樹脂を巣（空
洞）が生じることがないように密に充填する構成であっ
てもよい。この構成によれば、断熱性の向上及び低周波
騒音の防止が期待できる。
構成してもよく、中空部材の開口部を塞いで内部空間を
有する構成にしてもよい。そして、セルの中空部分又は
内部空間に発泡体を充填して巣（空洞）を有する構成に
してもよく、また中空部分又は内部空間に樹脂を巣（空
洞）が生じることがないように密に充填する構成であっ
てもよい。この構成によれば、断熱性の向上及び低周波
騒音の防止が期待できる。
【００２７】さらに、該隔壁は従来の隔壁と組み合わせ
て（２重又は３重構造の隔壁）チャンバを構成すること
により、さらに低周波からｋＨｚオーダの周波数域の騒
音に対しても防音効果が期待できる。なお、ハニカム構
造材料は六角形の細胞状材料であるのに対して、必ずし
も六角形である必要はないがために、特許請求の範囲に
「細胞状材料」という表現を用いた。
て（２重又は３重構造の隔壁）チャンバを構成すること
により、さらに低周波からｋＨｚオーダの周波数域の騒
音に対しても防音効果が期待できる。なお、ハニカム構
造材料は六角形の細胞状材料であるのに対して、必ずし
も六角形である必要はないがために、特許請求の範囲に
「細胞状材料」という表現を用いた。
【００２８】本実施の形態では、露光装置のチャンバの
隔壁や、露光装置が収容されるチャンバ内に空気を供給
する空調装置の外側パネルや、空調装置とチャンバとの
間に設けられたダクトの隔壁に断面形状が六角形形状の
角柱（セル）の集合体（ハニカム構造材料）を用いた
が、本実施の形態に記載されたもの以外にも適用でき
る。例えば、外部と隔離された部屋の隔壁に適用するこ
とができる。さらに、空調機が配置される部屋と、空調
機で空徴される部屋との間の隔壁に適用することも可能
である。
隔壁や、露光装置が収容されるチャンバ内に空気を供給
する空調装置の外側パネルや、空調装置とチャンバとの
間に設けられたダクトの隔壁に断面形状が六角形形状の
角柱（セル）の集合体（ハニカム構造材料）を用いた
が、本実施の形態に記載されたもの以外にも適用でき
る。例えば、外部と隔離された部屋の隔壁に適用するこ
とができる。さらに、空調機が配置される部屋と、空調
機で空徴される部屋との間の隔壁に適用することも可能
である。
【００２９】また、本実施の形態の中間材のセル形状や
細胞状材料は、前述したように六角形としているが、特
にこの形状に限られず、三角形、五角形、八角形等の多
角形状や、円、楕円等で構成しても良い。さらに、細胞
状材料として、六角形状の筒（セル）の集合体を示した
が、これに限定されるものではない。例えば、上記充填
材を包む殻の集合体で構成されてもよい。この殻を構成
する材質としては、セラミック、アルミ合金等を用いる
ことが好ましい。殻の形状は、球形でもよく、立方体で
もよい。この場合、殻は、規則性をもって配列されるこ
とが好ましいが、ランダムな配列であっても構わない。
細胞状材料は、前述したように六角形としているが、特
にこの形状に限られず、三角形、五角形、八角形等の多
角形状や、円、楕円等で構成しても良い。さらに、細胞
状材料として、六角形状の筒（セル）の集合体を示した
が、これに限定されるものではない。例えば、上記充填
材を包む殻の集合体で構成されてもよい。この殻を構成
する材質としては、セラミック、アルミ合金等を用いる
ことが好ましい。殻の形状は、球形でもよく、立方体で
もよい。この場合、殻は、規則性をもって配列されるこ
とが好ましいが、ランダムな配列であっても構わない。
【００３０】以上のように本実施の形態によれば、遮音
が困難であり、装置への影響も大きいと思われる低周波
の騒音を６ｄＢ〜１２ｄＢ程度低減できることから、こ
の騒音が原因で発生する除振台上の振動による加速度の
値を１／２〜１／１０程度に抑えることが可能になる。
その結果、今後さらに超精密化が予想される工作機械
や、干渉計をはじめとする測定機器や、縮小投影露光装
置に対して、きわめて有効な環境を提供することができ
る。
が困難であり、装置への影響も大きいと思われる低周波
の騒音を６ｄＢ〜１２ｄＢ程度低減できることから、こ
の騒音が原因で発生する除振台上の振動による加速度の
値を１／２〜１／１０程度に抑えることが可能になる。
その結果、今後さらに超精密化が予想される工作機械
や、干渉計をはじめとする測定機器や、縮小投影露光装
置に対して、きわめて有効な環境を提供することができ
る。
【００３１】
【発明の効果】本発明によれば、従来の隔壁では防ぐこ
とができなかった低周波数域の騒音を防音することがで
きる。
とができなかった低周波数域の騒音を防音することがで
きる。
【図１】本発明によるチャンバ隔壁の斜視図である。
【図２】本発明によるチャンバを用いた縮小投影露光装
置の概略構成図である。
置の概略構成図である。
【図３】本発明における騒音低減効果の、測定結果であ
る。
る。
【図４】従来のチャンバを用いた縮小投影露光装置の概
略構成図である。
略構成図である。
【図５】従来のチャンバ隔壁の斜視図である。
【図６】従来の隔壁を用いて構成したチャンバ内外の音
圧レベル測定結果である。
圧レベル測定結果である。
【図７】音圧レベルと除振台上での振動加速度の関係
（計算値）を示す図である。
（計算値）を示す図である。
１ …本発明のセラミックハニカム構造材を用いたチ
ャンバ ２ …除振台 ３ …光源 ４ …光およびレーザ光 ５ …投影レンズ ６ …レチクル ７ …シリコンウェハ ８ …ウェハステージ ９ …従来の硬質発砲ウレタンを用いたチャンバ １０ …空調機 １１ …熱交換器 １２ …風の流れ １３ …送風機 １４ …フィルタ １５ …ダクト １６ …鋼板又はアルミニウム板 １７ …硬質発砲ウレタン １８ …セラミックスハニカム構造材 ２０ …地面 ２１ …独立の基礎 ２２ …支柱 ２３ …床材 ２４ …緩衝材
ャンバ ２ …除振台 ３ …光源 ４ …光およびレーザ光 ５ …投影レンズ ６ …レチクル ７ …シリコンウェハ ８ …ウェハステージ ９ …従来の硬質発砲ウレタンを用いたチャンバ １０ …空調機 １１ …熱交換器 １２ …風の流れ １３ …送風機 １４ …フィルタ １５ …ダクト １６ …鋼板又はアルミニウム板 １７ …硬質発砲ウレタン １８ …セラミックスハニカム構造材 ２０ …地面 ２１ …独立の基礎 ２２ …支柱 ２３ …床材 ２４ …緩衝材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小川 誠 神奈川県平塚市札場町５−１ (72)発明者 蜂須賀 勝 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株 式会社ニコン内 (72)発明者 尾崎 隆志 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株 式会社ニコン内 (72)発明者 小川 嘉祐 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株 式会社ニコン内 (72)発明者 竹内 勇 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株 式会社ニコン内
Claims (18)
- 【請求項１】空調機で空調された空間側に配置される第
１板材と、前記空間とは異なる空間側に配置される第２
板材とを有する隔壁を備えた空調装置において、 前記第１板材と前記第２板材との間に配置される中間材
を有し、前記中間材は前記第１板材と第２板材とにそれ
ぞれ対向する所定形状の対向部を備える多数のセルを有
することを特徴とする空調装置。 - 【請求項２】前記セルは、前記所定形状の対向部を備え
る中空部材で構成されることを特徴とする請求項１記載
の空調装置。 - 【請求項３】前記中間材は、セラミックのハニカム構造
材であることを特徴とする請求項１記載の空調装置。 - 【請求項４】空調された空間側に配置される第１板材
と、前記空間とは異なる空間側に配置される第２板材と
からなる隔壁において、 前記第１板材と前記第２板材との間に配置される中間材
を有し、前記中間材は前記第１板材と第２板材とにそれ
ぞれ対向する所定形状の対向部を備える多数のセルを有
することを特徴とする隔壁。 - 【請求項５】前記セルは、前記所定形状の対向部を備え
る中空部材で構成されることを特徴とする請求項４記載
の隔壁。 - 【請求項６】前記中間材は、セラミックのハニカム構造
材で構成されることを特徴とする請求項４記載の隔壁。 - 【請求項７】原版上のパターンを感光基板上に露光する
露光装置本体と、前記露光装置本体を取り囲むチャンバ
とを備える露光装置において、 前記チャンバは、内側に配置される第１板材と、外側に
配置される第２板材と、前記第１板材と前記第２板材と
の間に配置される中間材を有し、前記中間材は前記第１
板材と第２板材とにそれぞれ対向する所定形状の対向部
を備えると共に、前記第１板材と前記第２板材との間に
多数配置されるセルとを有することを特徴とする露光装
置。 - 【請求項８】前記セルは、前記所定形状の対向部を備え
る多孔質板で構成されることを特徴とする請求項７記載
の露光装置。 - 【請求項９】前記中間材は、セラミックのハニカム構造
材で構成されることを特徴とする請求項７記載の露光装
置。 - 【請求項１０】チャンバとダクトと空調機とを備える空
調装置において、前記チャンバの隔壁に細胞状材料を有
する隔壁を用いたことを特徴とする空調装置。 - 【請求項１１】前記細胞状材料は、ハニカム構造で構成
されることを特徴とする請求項１０記載の空調装置。 - 【請求項１２】前記細胞状材料は、鋼板又はアルミニウ
ム板にサンドイッチされることを特徴とする請求項１１
記載の空調装置。 - 【請求項１３】前記チャンバ内部に干渉計を備えたこと
を特徴とする請求項１０乃至１２いずれかに記載の空調
装置。 - 【請求項１４】前記チャンバ内部に露光装置を備えたこ
とを特徴とする請求項１０乃至１３いずれかに記載の空
調装置。 - 【請求項１５】チャンバの隔壁に周波数１０Ｈｚの音の
強さを６ｄＢ以上１２ｄＢ以下低減する隔壁を用いたこ
とを特徴とする露光装置。 - 【請求項１６】チャンバの隔壁に細胞状材料を有する隔
壁を用いたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項１７】前記細胞状材料は、ハニカム構造で構成
されることを特徴とする請求項１６記載の露光装置。 - 【請求項１８】前記細胞状材料は、鋼板又はアルミニウ
ム板にサンドイッチされることを特徴とする請求項１７
記載の露光装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10015884A JPH11210109A (ja) | 1998-01-28 | 1998-01-28 | 空調装置、隔壁及び露光装置 |
| PCT/JP1999/000345 WO1999039333A1 (fr) | 1998-01-28 | 1999-01-27 | Conditionneur d'air, cloison et dispositif d'exposition |
| AU20759/99A AU2075999A (en) | 1998-01-28 | 1999-01-27 | Air-conditioner, partition and exposure apparatus |
| US09/628,320 US6450288B1 (en) | 1998-01-28 | 2000-07-28 | Air-conditioning apparatus, partition and exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10015884A JPH11210109A (ja) | 1998-01-28 | 1998-01-28 | 空調装置、隔壁及び露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11210109A true JPH11210109A (ja) | 1999-08-03 |
Family
ID=11901229
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10015884A Pending JPH11210109A (ja) | 1998-01-28 | 1998-01-28 | 空調装置、隔壁及び露光装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6450288B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11210109A (ja) |
| AU (1) | AU2075999A (ja) |
| WO (1) | WO1999039333A1 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006099025A (ja) * | 2004-09-03 | 2006-04-13 | Kobe Steel Ltd | 二重壁構造体 |
| JP2008270735A (ja) * | 2007-02-14 | 2008-11-06 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | 除振システムを適合する方法 |
| JP2008270801A (ja) * | 2007-04-19 | 2008-11-06 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| WO2011158458A1 (ja) * | 2010-06-16 | 2011-12-22 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置および防音カバー |
| JP2012112212A (ja) * | 2010-11-26 | 2012-06-14 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 遮音壁の設計方法および遮音壁 |
| JP2015052264A (ja) * | 2014-10-27 | 2015-03-19 | 三菱重工業株式会社 | 遮音壁の設計方法および遮音壁 |
| JPWO2013105635A1 (ja) * | 2012-01-13 | 2015-05-11 | 株式会社ニコン | チャンバー装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002257502A (ja) * | 2001-03-05 | 2002-09-11 | Junichi Kushibiki | 厚さ測定装置及び測定方法 |
| EP1903157A3 (de) * | 2006-09-19 | 2008-05-14 | Integrated Dynamics Engineering GmbH | Umgebungslärmabschirmvorrichtung |
| NL1036433A1 (nl) * | 2008-01-31 | 2009-08-03 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, method and device manufacturing method. |
Family Cites Families (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4174020A (en) * | 1975-07-01 | 1979-11-13 | Challis Louis A | Acoustic treatment for fans |
| JPS5413301A (en) | 1977-07-01 | 1979-01-31 | Shisutemu Reiauto Kk | Shield plate |
| US4522859A (en) * | 1979-10-29 | 1985-06-11 | Rohr Industries, Inc. | Method of manufacture of honeycomb noise attenuation structure for high temperature applications |
| JPS57194506A (en) | 1981-05-25 | 1982-11-30 | Murata Mfg Co Ltd | Flyback transformer |
| JPS59120212A (ja) | 1982-12-27 | 1984-07-11 | Maezawa Kasei Kogyo Kk | 凝集分離方法 |
| US4690528A (en) | 1983-10-05 | 1987-09-01 | Nippon Kogaku K. K. | Projection exposure apparatus |
| US4849276A (en) * | 1984-02-17 | 1989-07-18 | The Boeing Company | Thermal insulation structure |
| JPS61207747A (ja) * | 1985-03-11 | 1986-09-16 | 株式会社イナックス | 音響タイル |
| JP2794587B2 (ja) | 1989-01-30 | 1998-09-10 | 株式会社ニコン | 投影露光装置 |
| JP2526133B2 (ja) | 1989-09-07 | 1996-08-21 | 住友軽金属工業株式会社 | 建設現場用防音パネル |
| US4989031A (en) | 1990-01-29 | 1991-01-29 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
| JPH04189982A (ja) | 1990-11-26 | 1992-07-08 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | 精密環境室 |
| JPH04303897A (ja) * | 1991-04-01 | 1992-10-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 遮音材 |
| JP3096507B2 (ja) | 1991-11-29 | 2000-10-10 | 松下電器産業株式会社 | 操作内容学習装置および空気調和機制御装置 |
| JPH05307394A (ja) | 1991-12-12 | 1993-11-19 | Takeda Chem Ind Ltd | 防振材 |
| JPH0645227A (ja) | 1992-11-30 | 1994-02-18 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
| JPH0712291A (ja) | 1993-06-23 | 1995-01-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 防音断熱材及びその製造方法 |
| JPH08111371A (ja) * | 1994-10-06 | 1996-04-30 | Canon Inc | 投影露光装置 |
| US5877843A (en) | 1995-09-12 | 1999-03-02 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
| JP3552363B2 (ja) | 1995-09-12 | 2004-08-11 | 株式会社ニコン | 走査型露光装置 |
| JPH09260279A (ja) | 1996-03-26 | 1997-10-03 | Nikon Corp | 露光装置 |
| JP3837773B2 (ja) | 1996-03-28 | 2006-10-25 | 株式会社ニコン | 露光装置の環境制御方法及び装置 |
| US6002987A (en) | 1996-03-26 | 1999-12-14 | Nikon Corporation | Methods to control the environment and exposure apparatus |
| JP3437406B2 (ja) * | 1997-04-22 | 2003-08-18 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置 |
| JPH11325655A (ja) * | 1998-05-14 | 1999-11-26 | Matsushita Seiko Co Ltd | 消音器および空気調和機 |
-
1998
- 1998-01-28 JP JP10015884A patent/JPH11210109A/ja active Pending
-
1999
- 1999-01-27 WO PCT/JP1999/000345 patent/WO1999039333A1/ja active Application Filing
- 1999-01-27 AU AU20759/99A patent/AU2075999A/en not_active Abandoned
-
2000
- 2000-07-28 US US09/628,320 patent/US6450288B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006099025A (ja) * | 2004-09-03 | 2006-04-13 | Kobe Steel Ltd | 二重壁構造体 |
| JP2008270735A (ja) * | 2007-02-14 | 2008-11-06 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | 除振システムを適合する方法 |
| JP2008270801A (ja) * | 2007-04-19 | 2008-11-06 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| JP2011146727A (ja) * | 2007-04-19 | 2011-07-28 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置 |
| WO2011158458A1 (ja) * | 2010-06-16 | 2011-12-22 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置および防音カバー |
| US8835883B2 (en) | 2010-06-16 | 2014-09-16 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle radiation device and soundproof cover |
| JP5645934B2 (ja) * | 2010-06-16 | 2014-12-24 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置および防音カバー |
| JP2012112212A (ja) * | 2010-11-26 | 2012-06-14 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 遮音壁の設計方法および遮音壁 |
| JPWO2013105635A1 (ja) * | 2012-01-13 | 2015-05-11 | 株式会社ニコン | チャンバー装置 |
| JP2015052264A (ja) * | 2014-10-27 | 2015-03-19 | 三菱重工業株式会社 | 遮音壁の設計方法および遮音壁 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6450288B1 (en) | 2002-09-17 |
| WO1999039333A1 (fr) | 1999-08-05 |
| AU2075999A (en) | 1999-08-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6002987A (en) | Methods to control the environment and exposure apparatus | |
| JPH11210109A (ja) | 空調装置、隔壁及び露光装置 | |
| US8025124B2 (en) | Broadband passive distributed tuned vibration and acoustic absorber for modally dense structures | |
| CN108458467B (zh) | 分离器以及包括该分离器的消声器 | |
| JP2011057000A (ja) | 音響共鳴装置 | |
| JP6513797B2 (ja) | リソグラフィ装置 | |
| US8835883B2 (en) | Charged particle radiation device and soundproof cover | |
| JP2009141349A (ja) | 音響共振器を有するリソグラフィ装置 | |
| JPH06167982A (ja) | 多孔質吸音材を用いた吸音ダクト | |
| JP2008545900A (ja) | 空間の残響時間を変更する方法、装置、及びシステム | |
| JPH09265137A (ja) | 露光装置の環境制御方法及び装置 | |
| JP2010060985A (ja) | 能動遮音装置、能動遮音パネル及び能動遮音方法 | |
| JPH09260279A (ja) | 露光装置 | |
| Brandstatt et al. | Novel silencers and absorbers for wind tunnels and acoustic test cells | |
| Breeuwer et al. | Resilient mounting systems in buildings | |
| JPH10102621A (ja) | 共鳴吸音機構 | |
| JPH10300125A (ja) | 空調装置 | |
| JP2003122371A (ja) | 吸音制振材 | |
| JP3780625B2 (ja) | 空調装置 | |
| KR101979378B1 (ko) | 스플리터 및 이를 포함하는 소음기 | |
| JP4311960B2 (ja) | 低音響放射型内装構造及び内装パネル材 | |
| JPH11133977A (ja) | 防音壁 | |
| Gourdon et al. | Silencer design for awning windows: Modified Helmholtz resonators with perforated foam | |
| JP3755442B2 (ja) | 際根太構造体および床構造体 | |
| JP2004232354A (ja) | 固体音低減型内装構造及び内装パネル装置 |