JP4602757B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
3 第1スペース
4 第2スペース
5 壁
6 第2スペース
7 孔
10 分離壁
11 音響減衰材料
13 (第1)基板
14 目標部分
15 パターン化したビーム
16 投影システム
17 放射線のビーム
19 第1基板ホルダ
20 第1基板ホルダ駆動ユニット
21 第1制御ユニット
22 (第2)基板
25 測定装置
26 第2基板ホルダ
30 磁石
31 受け板
32 ガス供給管
33 ガス流
34 開口
35 ガス排出管
36 ガスタンク
38 ポンプ
40 干渉計
41 レーザビーム
42 ミラー
43 ガス圧感応装置
50 位置補正情報検索システム
61 ラウドスピーカ
Claims (3)
- ハウジングと、前記ハウジング内に位置する少なくとも一つの可動部を有する第1露光システムとを含むリソグラフィ投影装置であって、
前記第1露光システムは、
放射線のビームを提供するように構成した放射線システムと、
放射線のビームの断面にパターンを与えるのに役立つパターニング装置を支持するように構成した支持構造体と、
基板を保持するための第1基板ホルダと、
前記基板の目標部分にパターン化した放射線のビームを投影するように構成した投影システムと、
前記第1基板ホルダを前記投影システムに対して配置するように構成した位置決め装置と、
前記位置決め装置を制御するように構成した第1制御ユニットと、
前記第1基板ホルダへの外乱を抑制するように構成した位置外乱補正システムと、
を備え、
前記外乱は、前記少なくとも一つの可動部の運動が誘起するガス移動によって生じ、
前記少なくとも一つの可動部は、前記支持構造体又は前記第1基板ホルダのうち少なくとも一つであり、
前記ハウジングは、第2制御ユニットによって可動の追加の可動部を含み、
前記追加の可動部は、少なくとも可動第2基板ホルダを有する第2露光ステージ並びに可動基板測定テーブル及び可動測定ユニットの少なくとも一つを有する、基板の特性を測定するための測定ステージの少なくとも一つを含み、
前記位置外乱補正システムは、前記追加の可動部と、前記第1基板ホルダ又は前記パターニング装置のうち少なくとも一つとの間に配置できる分離壁である、リソグラフィ投影装置。 - 前記分離壁は、音響減衰材料である、請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記第1基板ホルダは、前記ハウジング内の第1スペースにあり、
前記追加の可動部は、第2スペース内にあり、
前記分離壁は、前記分離壁が前記第1スペースを前記第2スペースに関して実質的に封止する第1位置へ可動であり、且つ前記第1及び第2基板ホルダの交換をできるようにするとき、第2位置へ可動である、請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
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