JP4547997B2 - 真空容器、露光装置、及び検査装置 - Google Patents
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- 防振性を必要とする真空容器であって、高度の真空度を必要とする高度真空容器と、前記高度真空容器が必要とする真空度よりは低い真空度を必要とする低度真空容器が結合されており、これら高度真空容器と低度真空容器の双方を収納するチャンバを有し、当該チャンバは、前記高度真空容器に連通する第1の部分と、前記低度真空容器に連通する第2の部分に分けられ、前記第1の部分と前記第2の部分の間には絞り機構が設けられ、前記高度真空容器と低度真空容器は、防振構造体を介して前記チャンバに接続され、前記低度真空容器は、前記チャンバの第2の部分に連通しており、かつ、前記チャンバの前記第2の部分内の気体を排気するドライポンプと、前記チャンバの前記第1の部分内の気体を排気する、ドライポンプとターボ分子ポンプを直列接続した排気系を有することを特徴とする真空容器。
- 防振性を必要とする真空容器であって、高度の真空度を必要とする高度真空容器と、前記高度真空容器が必要とする真空度よりは低い真空度を必要とする低度真空容器が結合されており、これら高度真空容器と低度真空容器の双方を収納するチャンバを有し、当該チャンバは、前記高度真空容器に連通する第1の部分と、前記低度真空容器に連通する第2の部分と、前記第1の部分と前記第2の部分の中間に設けられた中間室に分けられ、前記第1の部分と前記中間室の間、及び前記中間室と前記第2の部分の間には、それぞれ絞り機構が設けられ、前記高度真空容器と低度真空容器は、防振構造体を介して前記チャンバに接続され、前記低度真空容器は、前記チャンバの第2の部分に連通しており、前記チャンバ内の第2の部分内の気体を排気するドライポンプと、前記チャンバの第1の部分内の気体を排気する、ドライポンプとターボ分子ポンプを直列接続した第1の排気系と、前記中間室内の気体を排気する、ドライポンプとターボ分子ポンプを直列接続した第2の排気系とを有することを特徴とする真空容器。
- 防振性を必要とする真空容器であって、高度の真空度を必要とする高度真空容器と、前記高度真空容器が必要とする真空度よりは低い真空度を必要とする低度真空容器が結合されており、これら高度真空容器と低度真空容器の双方を収納するチャンバを有し、前記高度真空容器と低度真空容器は、防振構造体を介して前記チャンバに接続され、前記低度真空容器は、前記チャンバに連通しており、前記高度真空容器は、中空凸部を介して前記チャンバと連通しており、前記チャンバ内の気体を排気するドライポンプと、前記高度真空容器内の気体を排気する、ドライポンプとターボ分子ポンプを直列接続した排気系を有し、前記ターボ分子ポンプから前記高度真空容器に至る配管は、前記中空凸部の中を通って、前記中空凸部との間で絞り機構を構成し、かつ、前記真空容器に接触していないことを特徴とする真空容器。
- 防振性を必要とする真空容器であって、高度の真空度を必要とする高度真空容器と、前記高度真空容器が必要とする真空度よりは低い真空度を必要とする低度真空容器が結合されており、これら高度真空容器と低度真空容器の双方を収納するチャンバを有し、前記チャンバ内の気体を排気するドライポンプと、前記高度真空容器内の気体を排気し、ドライポンプとターボ分子ポンプを直列接続した排気系と、を有し、前記高度真空容器は、べローズにより前記ターボ分子ポンプの配管と連結され、前記低度真空容器は、前記チャンバに連通しており、前記高度真空容器と低度真空容器は、防振構造体と前記べローズを介して前記チャンバに接続されていることを特徴とする真空容器。
- 原版上のパターンを感応基板上に投影する投影光学系を収めた鏡筒と、前記原版を移動・位置決めする原版ステージと、前記感応基板を移動・位置決めする感応基板ステージと、前記原版ステージ及び前記感応基板ステージをそれぞれ収容する原版ステージ容器、感応基板ステージ容器とを有する露光装置であって、前記鏡筒又は前記鏡筒を収納する容器を前記高度真空容器、前記原版ステージ容器、感応基板ステージ容器をそれぞれ前記低度真空容器とする請求項1から請求項4のうちいずれか1項に記載の真空容器を有することを特徴とする露光装置。
- 試料を照明する照明光を形成する照明光学系と、当該照明光学系からの光又は荷電粒子線を前記試料に導き、前記試料から反射される前記光又は荷電粒子線、あるいは前記荷電粒子線の照射によって発生する粒子線を結像面に結像させる照明・投影光学系を納めた鏡筒と、前記試料を移動・位置決めする試料ステージと、前記照明光学系を収納する照明容器、前記試料ステージを収納する試料ステージ容器とを有する検査装置であって、前記鏡筒又は前記鏡筒を収納する容器を前記高度真空容器、前記照明容器、感応試料ステージ容器をそれぞれ前記低度真空容器とする請求項1から請求項4のうちいずれか1項に記載の真空容器を有することを特徴とする検査装置。
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61291965A (ja) * | 1985-06-18 | 1986-12-22 | Fujitsu Ltd | 超高真空チヤンバ− |
JPH0817709A (ja) * | 1994-06-29 | 1996-01-19 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム装置 |
JPH08139010A (ja) * | 1993-12-29 | 1996-05-31 | Toshiba Corp | 洗浄機能付き荷電ビーム装置および荷電ビーム装置の洗浄方法 |
JPH11223757A (ja) * | 1998-02-09 | 1999-08-17 | Canon Inc | レンズ制御システム、レンズ制御方法、記憶媒体 |
JP2001345262A (ja) * | 2000-03-30 | 2001-12-14 | Canon Inc | 露光装置、ガス置換方法、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 |
JP2003282423A (ja) * | 2002-03-27 | 2003-10-03 | Hitachi High-Technologies Corp | 定圧チャンバ、それを用いた照射装置、回路パターンの製造装置及び回路パターンの検査装置 |
JP2005101492A (ja) * | 2003-08-27 | 2005-04-14 | Nikon Corp | 真空装置、真空装置の運転方法、露光装置、及び露光装置の運転方法 |
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---|---|---|---|---|
JPS61291965A (ja) * | 1985-06-18 | 1986-12-22 | Fujitsu Ltd | 超高真空チヤンバ− |
JPH08139010A (ja) * | 1993-12-29 | 1996-05-31 | Toshiba Corp | 洗浄機能付き荷電ビーム装置および荷電ビーム装置の洗浄方法 |
JPH0817709A (ja) * | 1994-06-29 | 1996-01-19 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム装置 |
JPH11223757A (ja) * | 1998-02-09 | 1999-08-17 | Canon Inc | レンズ制御システム、レンズ制御方法、記憶媒体 |
JP2001345262A (ja) * | 2000-03-30 | 2001-12-14 | Canon Inc | 露光装置、ガス置換方法、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 |
JP2003282423A (ja) * | 2002-03-27 | 2003-10-03 | Hitachi High-Technologies Corp | 定圧チャンバ、それを用いた照射装置、回路パターンの製造装置及び回路パターンの検査装置 |
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