JPH10209021A - 荷電ビーム露光装置 - Google Patents
荷電ビーム露光装置Info
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- JPH10209021A JPH10209021A JP9012614A JP1261497A JPH10209021A JP H10209021 A JPH10209021 A JP H10209021A JP 9012614 A JP9012614 A JP 9012614A JP 1261497 A JP1261497 A JP 1261497A JP H10209021 A JPH10209021 A JP H10209021A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/204—Means for introducing and/or outputting objects
-
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
- H01J2237/3175—Lithography
Abstract
(57)【要約】
【課題】 アライメントや露光の精度を低下させること
なくスループットの向上を図ることができる荷電ビーム
露光装置の提供。 【解決手段】 （ａ）荷電ビームによりウエハ９の露光
が行なわれるメインチャンバ１と、（ｂ）チャンバ間に
設けられる開閉バルブ７および８，チャンバ内を真空排
気するための真空ポンプ１５〜１７およびバルブ１８，
チャンバ内を大気圧へ戻すためのリーク機構１９，リー
クバルブ２０のそれぞれを一以上具備する搬送系Ｗを少
なくとも一つ備える荷電ビーム露光装置において、メイ
ンチャンバ１と搬送系Ｗとをそれぞれベローズ２を介し
て接続し、メインチャンバ１と搬送系Ｗとの間にダンパ
ー３をそれぞれ設けた。これにより、搬送系Ｗからメイ
ンチャンバ１へ伝達される振動が低減される。
なくスループットの向上を図ることができる荷電ビーム
露光装置の提供。 【解決手段】 （ａ）荷電ビームによりウエハ９の露光
が行なわれるメインチャンバ１と、（ｂ）チャンバ間に
設けられる開閉バルブ７および８，チャンバ内を真空排
気するための真空ポンプ１５〜１７およびバルブ１８，
チャンバ内を大気圧へ戻すためのリーク機構１９，リー
クバルブ２０のそれぞれを一以上具備する搬送系Ｗを少
なくとも一つ備える荷電ビーム露光装置において、メイ
ンチャンバ１と搬送系Ｗとをそれぞれベローズ２を介し
て接続し、メインチャンバ１と搬送系Ｗとの間にダンパ
ー３をそれぞれ設けた。これにより、搬送系Ｗからメイ
ンチャンバ１へ伝達される振動が低減される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路等
のリソグラフィに用いられる荷電ビーム露光装置に関す
る。
のリソグラフィに用いられる荷電ビーム露光装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】最近、半導体集積回路の微細化が進むに
つれて、電子ビームやイオンビーム等の荷電ビームを用
いたリソグラフィが有力な露光方法とされている。図１
４は荷電ビーム露光装置の一例を示す図であり、荷電ビ
ーム描画装置の概略構成を示している。図１４に示すよ
うに、通常、荷電ビーム露光装置では露光が行われるメ
インチャンバ１と、複数のチャンバを備えてメインチャ
ンバ１へのウエハの搬入・搬出をするための搬送系Ｗを
備えている。図１４に示す荷電ビーム露光装置では、搬
送系Ｗはメインチャンバ１の直前に設けられて露光前の
ウエハを待機させておく準備室チャンバ４と、チャンバ
内が常時大気圧に保たれてキャリアカセット１０に装着
された複数のウエハ９がセットされる大気チャンバ６
と、準備室チャンバ４と大気チャンバ６との間に設けら
れて、大気チャンバ６と準備室チャンバ４との間のウエ
ハ９の搬送を行う際に真空排気および大気圧へのリーク
が行われるリークチャンバ５とを備えている。
つれて、電子ビームやイオンビーム等の荷電ビームを用
いたリソグラフィが有力な露光方法とされている。図１
４は荷電ビーム露光装置の一例を示す図であり、荷電ビ
ーム描画装置の概略構成を示している。図１４に示すよ
うに、通常、荷電ビーム露光装置では露光が行われるメ
インチャンバ１と、複数のチャンバを備えてメインチャ
ンバ１へのウエハの搬入・搬出をするための搬送系Ｗを
備えている。図１４に示す荷電ビーム露光装置では、搬
送系Ｗはメインチャンバ１の直前に設けられて露光前の
ウエハを待機させておく準備室チャンバ４と、チャンバ
内が常時大気圧に保たれてキャリアカセット１０に装着
された複数のウエハ９がセットされる大気チャンバ６
と、準備室チャンバ４と大気チャンバ６との間に設けら
れて、大気チャンバ６と準備室チャンバ４との間のウエ
ハ９の搬送を行う際に真空排気および大気圧へのリーク
が行われるリークチャンバ５とを備えている。
【０００３】７，８はチャンバ間に設けられるゲートバ
ルブ等の開閉バルブであり、準備室チャンバ４とリーク
チャンバ５とは開閉バルブ７を介して、リークチャンバ
５と大気チャンバ６とは開閉バルブ８を介してそれぞれ
接続されている。一方、メインチャンバ１と準備室チャ
ンバ４とは配管１１を介して接続されている。なお、各
チャンバ１，４，５，６は、共通の防振装置２１に搭載
されている。
ルブ等の開閉バルブであり、準備室チャンバ４とリーク
チャンバ５とは開閉バルブ７を介して、リークチャンバ
５と大気チャンバ６とは開閉バルブ８を介してそれぞれ
接続されている。一方、メインチャンバ１と準備室チャ
ンバ４とは配管１１を介して接続されている。なお、各
チャンバ１，４，５，６は、共通の防振装置２１に搭載
されている。
【０００４】メインチャンバ１には荷電ビーム源や電子
光学系等（不図示）を具備する鏡筒１ａやウエハ９がセ
ットされるステージ１２が設けられ、準備室チャンバ４
およびリークチャンバ５にはウエハホルダ１３，１４が
設けられている。各チャンバ１，４，５には真空ポンプ
１５，１６，１７が設けられ、真空ポンプ１７はバルブ
１８を介してリークチャンバ５に取り付けられる。１９
はリーク機構であり、２０はリークバルブである。な
お、図１４では省略したが、露光装置には各チャンバ間
のウエハ搬送を行うための搬送装置が設けられている。
光学系等（不図示）を具備する鏡筒１ａやウエハ９がセ
ットされるステージ１２が設けられ、準備室チャンバ４
およびリークチャンバ５にはウエハホルダ１３，１４が
設けられている。各チャンバ１，４，５には真空ポンプ
１５，１６，１７が設けられ、真空ポンプ１７はバルブ
１８を介してリークチャンバ５に取り付けられる。１９
はリーク機構であり、２０はリークバルブである。な
お、図１４では省略したが、露光装置には各チャンバ間
のウエハ搬送を行うための搬送装置が設けられている。
【０００５】次に、上述した露光装置の動作手順を説明
する。最初、リークチャンバ５内は大気圧で、メインチ
ャンバ１および準備室チャンバ４は所定の圧力に排気さ
れた状態にあり、開閉バルブ７，８は閉じた状態にある
として説明する。 （１）まず、ウエハ９をキャリアカセット１０に装着し
て大気チャンバ６にセットする。 （２）開閉バルブ８を開いて不図示の搬送装置によりウ
エハ９をリークチャンバ５のウエハホルダ１４にセット
し、開閉バルブ８を閉じて真空ポンプ１７でリークチャ
ンバ５内を真空排気する。 （３）リークチャンバ５が所定の圧力に達したならば、
開閉バルブ７を開いてウエハホルダ１４上のウエハ９を
準備室チャンバ４のウエハホルダ１３に搬送した後、開
閉バルブ７を閉じる。 （４）準備室チャンバ４のウエハ９をメインチャンバ１
に搬送して露光ステージ１２上にセットし、所定のアラ
イメント動作の後に露光動作を行う。 （５）露光が終了したならばウエハ９を準備室チャンバ
４に搬送し、さらに開閉バルブ７を開いてリークチャン
バ５にウエハ９を搬送する。 （６）開閉バルブ７を閉じた後、リークバルブ２０を開
いてリークチャンバ５内を大気圧に戻し、開閉バルブ８
を開いてウエハ９を大気チャンバ６のキャリアカセット
１０に搬送する。これら一連の動作が、複数のウエハ９
に関して順次行われる。
する。最初、リークチャンバ５内は大気圧で、メインチ
ャンバ１および準備室チャンバ４は所定の圧力に排気さ
れた状態にあり、開閉バルブ７，８は閉じた状態にある
として説明する。 （１）まず、ウエハ９をキャリアカセット１０に装着し
て大気チャンバ６にセットする。 （２）開閉バルブ８を開いて不図示の搬送装置によりウ
エハ９をリークチャンバ５のウエハホルダ１４にセット
し、開閉バルブ８を閉じて真空ポンプ１７でリークチャ
ンバ５内を真空排気する。 （３）リークチャンバ５が所定の圧力に達したならば、
開閉バルブ７を開いてウエハホルダ１４上のウエハ９を
準備室チャンバ４のウエハホルダ１３に搬送した後、開
閉バルブ７を閉じる。 （４）準備室チャンバ４のウエハ９をメインチャンバ１
に搬送して露光ステージ１２上にセットし、所定のアラ
イメント動作の後に露光動作を行う。 （５）露光が終了したならばウエハ９を準備室チャンバ
４に搬送し、さらに開閉バルブ７を開いてリークチャン
バ５にウエハ９を搬送する。 （６）開閉バルブ７を閉じた後、リークバルブ２０を開
いてリークチャンバ５内を大気圧に戻し、開閉バルブ８
を開いてウエハ９を大気チャンバ６のキャリアカセット
１０に搬送する。これら一連の動作が、複数のウエハ９
に関して順次行われる。
【０００６】ところで、上述したように荷電ビーム露光
装置のメインチャンバ１で行われるアライメント，露光
では非常に微細な測定および加工が行われるため、露光
装置全体を防振装置２１上に搭載してこれらの精度に影
響する床からの振動を遮断している。
装置のメインチャンバ１で行われるアライメント，露光
では非常に微細な測定および加工が行われるため、露光
装置全体を防振装置２１上に搭載してこれらの精度に影
響する床からの振動を遮断している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、防振装
置２１によって露光装置が設置されている床からの振動
は低減されるが、真空ポンプ１７により真空排気する際
やバルブ開閉動作時に大きな振動が発生し、それらの振
動が配管１１を介してメインチャンバ１に伝わってアラ
イメントや露光の精度に影響をおよぼすことになる。そ
のため、従来は、メインチャンバ１においてアライメン
トや露光を行う時には、ウエハ９の搬送動作、例えば、
リークチャンバ５の真空排気や開閉バルブ７，８の開閉
動作を行わないようなシーケンスが採用されている。そ
のため、アライメントや露光と搬送動作とを並行して行
うことができず、その分だけ全体のスループットが低下
するという欠点があった。
置２１によって露光装置が設置されている床からの振動
は低減されるが、真空ポンプ１７により真空排気する際
やバルブ開閉動作時に大きな振動が発生し、それらの振
動が配管１１を介してメインチャンバ１に伝わってアラ
イメントや露光の精度に影響をおよぼすことになる。そ
のため、従来は、メインチャンバ１においてアライメン
トや露光を行う時には、ウエハ９の搬送動作、例えば、
リークチャンバ５の真空排気や開閉バルブ７，８の開閉
動作を行わないようなシーケンスが採用されている。そ
のため、アライメントや露光と搬送動作とを並行して行
うことができず、その分だけ全体のスループットが低下
するという欠点があった。
【０００８】また、リークチャンバ５を真空排気または
大気圧へリークする度にチャンバ内外の圧力差によって
リークチャンバ５の壁面に歪みが生じるが、その歪みは
開閉バルブ７，準備室チャンバ４，配管１１を介してメ
インチャンバ１にも影響し、アライメントや露光の精度
に影響を与えるという問題があった。
大気圧へリークする度にチャンバ内外の圧力差によって
リークチャンバ５の壁面に歪みが生じるが、その歪みは
開閉バルブ７，準備室チャンバ４，配管１１を介してメ
インチャンバ１にも影響し、アライメントや露光の精度
に影響を与えるという問題があった。
【０００９】本発明の目的は、アライメントや露光の精
度を低下させることなくスループットの向上を図ること
ができる荷電ビーム露光装置を提供することにある。
度を低下させることなくスループットの向上を図ること
ができる荷電ビーム露光装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】発明の実施の形態を示す
図１，５，６，１０〜１３に対応付けて説明する。 （１）図１に対応付けて説明すると、請求項１の発明
は、（ａ）荷電ビームにより感応基板９の露光が行なわ
れるメインチャンバ１と、（ｂ）チャンバ間に設けられ
る開閉バルブ７および８，チャンバ内を真空排気する真
空排気装置１５〜１８，チャンバ内を大気圧へ戻すため
のリーク装置１９，２０をそれぞれ一以上具備する感応
基板用搬送系Ｗとを少なくとも一つ備える荷電ビーム露
光装置に適用され、メインチャンバ１と搬送系Ｗとをそ
れぞれ可撓性配管２を介して接続したことにより上述の
目的を達成することができる。 （２）図５に対応付けて説明すると、請求項２の発明
は、請求項１に記載の荷電ビーム露光装置において、メ
インチャンバ１と搬送系Ｗとの間に開閉バルブ７を設け
る場合には、可撓性配管２と搬送系Ｗとの間に設けるよ
うにした。 （３）図６に対応付けて説明すると、請求項３の発明
は、請求項１または２に記載の荷電ビーム露光装置にお
いて、感応基板９をメインチャンバ１に搬入するための
第１の搬送系ＷＡと、感応基板９をメインチャンバ１か
ら搬出するための第２の搬送系ＷＢとを備える。 （４）請求項４の発明は、請求項３に記載の荷電ビーム
露光装置において、第１および第２の搬送系ＷＡ，ＷＢ
はそれぞれ真空排気装置１７，１８およびリーク装置１
９，２０を具備するリークチャンバ５Ａ，５Ｂを備え、
各リークチャンバ５Ａ，５Ｂがメインチャンバ１に関し
て対称な配置となるように第１および第２の搬送系Ｗ
Ａ，ＷＢをメインチャンバ１にそれぞれ接続し、第１お
よび第２の搬送系ＷＡ，ＷＢの各リークチャンバ５Ａ，
５Ｂの真空排気動作が同時に行われるとともに各リーク
チャンバ５Ａ，５Ｂのリーク動作が同時に行われるよう
に真空排気動作およびリーク動作を制御する制御装置２
４を設けた。 （５）図１に対応付けて説明すると、請求項５の発明
は、請求項１〜４のいずれかに記載の荷電ビーム露光装
置において、搬送系Ｗが搭載される搬送系用防振装置２
３と、メインチャンバ１が搭載されるメインチャンバ用
防振装置２２とを別々に設けた。 （６）図１０に対応付けて説明すると、請求項６の発明
は、請求項１〜４のいずれかに記載の荷電ビーム露光装
置において、メインチャンバ１が搭載される防振装置２
２と、搬送系Ｗを床等の設置部Ｇに防振装置を介さずに
固定する固定部４ｃ，５ｃ，６ｃとを設けた。 （７）請求項７の発明は、請求項１〜６のいずれかに記
載の荷電ビーム露光装置において、メインチャンバ１と
搬送系Ｗとを接続する可撓性配管２の途中の少なくとも
一箇所を、露光装置が設置される設置部Ｇに置かれた重
量物３０または設置部Ｇに固定した。 （８）図１に対応付けて説明すると、請求項８の発明
は、請求項１〜６のいずれかに記載の荷電ビーム露光装
置において、メインチャンバ１と搬送系Ｗとの間に振動
減衰機構３を設けた。 （９）図１１〜１３に対応付けて説明すると、請求項９
の発明は、請求項１〜８のいずれかに記載の荷電ビーム
露光装置において、荷電ビーム露光装置はパターンが形
成されたマスク５０と感応基板９との間に相対的連続移
動を複数回行わせて露光を行う装置であって、開閉バル
ブ７，８の開閉動作が前記連続移動と次の連続移動との
間に行われるように制御するバルブ制御装置２４を設け
た。
図１，５，６，１０〜１３に対応付けて説明する。 （１）図１に対応付けて説明すると、請求項１の発明
は、（ａ）荷電ビームにより感応基板９の露光が行なわ
れるメインチャンバ１と、（ｂ）チャンバ間に設けられ
る開閉バルブ７および８，チャンバ内を真空排気する真
空排気装置１５〜１８，チャンバ内を大気圧へ戻すため
のリーク装置１９，２０をそれぞれ一以上具備する感応
基板用搬送系Ｗとを少なくとも一つ備える荷電ビーム露
光装置に適用され、メインチャンバ１と搬送系Ｗとをそ
れぞれ可撓性配管２を介して接続したことにより上述の
目的を達成することができる。 （２）図５に対応付けて説明すると、請求項２の発明
は、請求項１に記載の荷電ビーム露光装置において、メ
インチャンバ１と搬送系Ｗとの間に開閉バルブ７を設け
る場合には、可撓性配管２と搬送系Ｗとの間に設けるよ
うにした。 （３）図６に対応付けて説明すると、請求項３の発明
は、請求項１または２に記載の荷電ビーム露光装置にお
いて、感応基板９をメインチャンバ１に搬入するための
第１の搬送系ＷＡと、感応基板９をメインチャンバ１か
ら搬出するための第２の搬送系ＷＢとを備える。 （４）請求項４の発明は、請求項３に記載の荷電ビーム
露光装置において、第１および第２の搬送系ＷＡ，ＷＢ
はそれぞれ真空排気装置１７，１８およびリーク装置１
９，２０を具備するリークチャンバ５Ａ，５Ｂを備え、
各リークチャンバ５Ａ，５Ｂがメインチャンバ１に関し
て対称な配置となるように第１および第２の搬送系Ｗ
Ａ，ＷＢをメインチャンバ１にそれぞれ接続し、第１お
よび第２の搬送系ＷＡ，ＷＢの各リークチャンバ５Ａ，
５Ｂの真空排気動作が同時に行われるとともに各リーク
チャンバ５Ａ，５Ｂのリーク動作が同時に行われるよう
に真空排気動作およびリーク動作を制御する制御装置２
４を設けた。 （５）図１に対応付けて説明すると、請求項５の発明
は、請求項１〜４のいずれかに記載の荷電ビーム露光装
置において、搬送系Ｗが搭載される搬送系用防振装置２
３と、メインチャンバ１が搭載されるメインチャンバ用
防振装置２２とを別々に設けた。 （６）図１０に対応付けて説明すると、請求項６の発明
は、請求項１〜４のいずれかに記載の荷電ビーム露光装
置において、メインチャンバ１が搭載される防振装置２
２と、搬送系Ｗを床等の設置部Ｇに防振装置を介さずに
固定する固定部４ｃ，５ｃ，６ｃとを設けた。 （７）請求項７の発明は、請求項１〜６のいずれかに記
載の荷電ビーム露光装置において、メインチャンバ１と
搬送系Ｗとを接続する可撓性配管２の途中の少なくとも
一箇所を、露光装置が設置される設置部Ｇに置かれた重
量物３０または設置部Ｇに固定した。 （８）図１に対応付けて説明すると、請求項８の発明
は、請求項１〜６のいずれかに記載の荷電ビーム露光装
置において、メインチャンバ１と搬送系Ｗとの間に振動
減衰機構３を設けた。 （９）図１１〜１３に対応付けて説明すると、請求項９
の発明は、請求項１〜８のいずれかに記載の荷電ビーム
露光装置において、荷電ビーム露光装置はパターンが形
成されたマスク５０と感応基板９との間に相対的連続移
動を複数回行わせて露光を行う装置であって、開閉バル
ブ７，８の開閉動作が前記連続移動と次の連続移動との
間に行われるように制御するバルブ制御装置２４を設け
た。
【００１１】（１）請求項１〜９の発明では、搬送系Ｗ
からメインチャンバ１に伝達される振動が可撓性配管２
によって低減される。 （２）請求項４の発明では、真空排気装置１５〜１８ま
たはリーク装置１９，２０を作動させた時にメインチャ
ンバ１の歪み等を生じるが、歪みに対する第１の搬送系
ＷＡの寄与と第２の搬送系ＷＢの寄与とが互いに打ち消
し合う。 （３）請求項５，６の発明では、メインチャンバ１の防
振装置と搬送系Ｗとが分離されて、防振装置を介した振
動伝達が解消される。 （４）請求項７の発明では、可撓性配管２が重量物３０
または設置部Ｇに固定されるため、可撓性配管２を介し
た振動伝達がより低減される。 （５）請求項８の発明では、振動減衰機構３によって搬
送系Ｗからメインチャンバ１への振動伝達がより低減さ
れる。
からメインチャンバ１に伝達される振動が可撓性配管２
によって低減される。 （２）請求項４の発明では、真空排気装置１５〜１８ま
たはリーク装置１９，２０を作動させた時にメインチャ
ンバ１の歪み等を生じるが、歪みに対する第１の搬送系
ＷＡの寄与と第２の搬送系ＷＢの寄与とが互いに打ち消
し合う。 （３）請求項５，６の発明では、メインチャンバ１の防
振装置と搬送系Ｗとが分離されて、防振装置を介した振
動伝達が解消される。 （４）請求項７の発明では、可撓性配管２が重量物３０
または設置部Ｇに固定されるため、可撓性配管２を介し
た振動伝達がより低減される。 （５）請求項８の発明では、振動減衰機構３によって搬
送系Ｗからメインチャンバ１への振動伝達がより低減さ
れる。
【００１２】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段の項では、本発明を分かり易くする
ために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本
発明が発明の実施の形態に限定されるものではない。
解決するための手段の項では、本発明を分かり易くする
ために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本
発明が発明の実施の形態に限定されるものではない。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、図１〜図１３を参照して本
発明の実施の形態を説明する。 −第１の実施の形態− 図１は本発明に係る荷電ビーム露光装置の第１の実施の
形態を示す図であり、荷電ビーム描画装置の概略構成を
示している。なお、図１４と同一の部分には同一の符号
を付し、異なる部分を中心に説明する。図１において、
メインチャンバ１は防振装置２２上に搭載され、搬送系
Ｗ、すなわち準備室チャンバ４，リークチャンバ５およ
び大気チャンバ６は共通の防振装置２３上に搭載され
る。メインチャンバ１と準備室チャンバ４とはベローズ
２を介して接続され、ベローズ２に外挿するようにゴム
等の弾性体からなるダンパー３が設けられている。
発明の実施の形態を説明する。 −第１の実施の形態− 図１は本発明に係る荷電ビーム露光装置の第１の実施の
形態を示す図であり、荷電ビーム描画装置の概略構成を
示している。なお、図１４と同一の部分には同一の符号
を付し、異なる部分を中心に説明する。図１において、
メインチャンバ１は防振装置２２上に搭載され、搬送系
Ｗ、すなわち準備室チャンバ４，リークチャンバ５およ
び大気チャンバ６は共通の防振装置２３上に搭載され
る。メインチャンバ１と準備室チャンバ４とはベローズ
２を介して接続され、ベローズ２に外挿するようにゴム
等の弾性体からなるダンパー３が設けられている。
【００１４】図１に示すようにメインチャンバ１と準備
室チャンバ４とをベローズ２で接続すると、準備室チャ
ンバ４からメインチャンバ１に伝達される振動（開閉バ
ルブ７，８の開閉動作時の振動や真空ポンプ１６，１７
の振動等）はベローズ２によって小さくなり、さらに、
ダンパー３を設けることによってより効果的に振動を減
衰させることができる。また、図１４に示したように、
従来はメインチャンバ１と搬送系Ｗ（チャンバ４，５，
６）とが共通の防振装置２１に搭載されているため、搬
送系Ｗにおいて生じた振動が防振装置２１を介してメイ
ンチャンバ１に伝達される。しかし、図１の装置ではメ
インチャンバ１は搬送系Ｗが搭載される防振装置２３と
は別個の防振装置２２に搭載されているため、防振装置
を介した振動伝達を排除することができる。そのため、
メインチャンバ１でアライメントや露光を行っている最
中に搬送系Ｗで搬送動作を行っても、搬送動作に伴う振
動の影響が非常に小さくなり、アライメントや露光の精
度への影響を小さくすることができる。
室チャンバ４とをベローズ２で接続すると、準備室チャ
ンバ４からメインチャンバ１に伝達される振動（開閉バ
ルブ７，８の開閉動作時の振動や真空ポンプ１６，１７
の振動等）はベローズ２によって小さくなり、さらに、
ダンパー３を設けることによってより効果的に振動を減
衰させることができる。また、図１４に示したように、
従来はメインチャンバ１と搬送系Ｗ（チャンバ４，５，
６）とが共通の防振装置２１に搭載されているため、搬
送系Ｗにおいて生じた振動が防振装置２１を介してメイ
ンチャンバ１に伝達される。しかし、図１の装置ではメ
インチャンバ１は搬送系Ｗが搭載される防振装置２３と
は別個の防振装置２２に搭載されているため、防振装置
を介した振動伝達を排除することができる。そのため、
メインチャンバ１でアライメントや露光を行っている最
中に搬送系Ｗで搬送動作を行っても、搬送動作に伴う振
動の影響が非常に小さくなり、アライメントや露光の精
度への影響を小さくすることができる。
【００１５】図２は図１の露光装置による露光手順の一
例を示す図であり、図３（ａ）〜図３（ｄ）は図２の各
工程に対応する露光装置の平面図である。以下では、図
２および図３を参照しながら複数のウエハを順に露光す
る場合の露光手順を説明する。なお、図３ではウエハ９
ａ〜９ｄの４枚のみを図示した。図３（ａ）に示すよう
に、ウエハ９ｂは準備室チャンバ４に搬送され、ウエハ
９ｃ，９ｄは大気チャンンバ６のキャリアカセット１０
（不図示）に納められており、メインチャンバ１内のウ
エハ９ａの露光が終了した状態から手順を説明する。図
３（ａ）では開閉バルブ７，８内のクロス印×の有無が
開閉状態を表しており、開閉バルブ８は閉状態、バルブ
７は開状態であり、チャンバ１，４，５は真空、チャン
バ６は大気圧状態にある。
例を示す図であり、図３（ａ）〜図３（ｄ）は図２の各
工程に対応する露光装置の平面図である。以下では、図
２および図３を参照しながら複数のウエハを順に露光す
る場合の露光手順を説明する。なお、図３ではウエハ９
ａ〜９ｄの４枚のみを図示した。図３（ａ）に示すよう
に、ウエハ９ｂは準備室チャンバ４に搬送され、ウエハ
９ｃ，９ｄは大気チャンンバ６のキャリアカセット１０
（不図示）に納められており、メインチャンバ１内のウ
エハ９ａの露光が終了した状態から手順を説明する。図
３（ａ）では開閉バルブ７，８内のクロス印×の有無が
開閉状態を表しており、開閉バルブ８は閉状態、バルブ
７は開状態であり、チャンバ１，４，５は真空、チャン
バ６は大気圧状態にある。
【００１６】図２の工程Ｂ１では、図３（ａ）の破線矢
印のように露光の終了したウエハ９ａを準備室チャンバ
４へ、準備室チャンバ４のウエハ９ｂをメインチャンバ
１へ搬送する。工程Ｂ２では、メインチャンバ１におい
てウエハ９ｂの露光（アライメントも含む、以下同様）
を行う。本実施の形態では、この工程Ｂ２と並行して以
下に述べる工程Ｂ３〜Ｂ５も同時に行われる。工程Ｂ３
（図３（ｂ）を参照）では、準備室チャンバ４のウエハ
９ａをリークチャンバ５へ搬送した後、開閉バルブ７を
閉じてリークチャンバ５をリークし、チャンバ内を大気
圧に戻す。工程Ｂ４（図３（Ｃ）を参照）では、開閉バ
ルブ８を開いてリークチャンバ５のウエハ９ａを大気チ
ャンバ６へ、大気チャンバ６のウエハ９ｃをリークチャ
ンバ５へ搬送する。工程Ｂ５（図３（ｄ）を参照）で
は、開閉バルブ８を閉じてリークチャンバ５を真空ポン
プ１７（図１参照）により所定の圧力まで真空排気した
後に、開閉バルブ７を開いてウエハ９ｃをリークチャン
バ５から準備室チャンバ４へ搬送する。続く工程Ｃ１は
工程Ｂ１と同様に準備室チャンバ４のウエハとメインチ
ャンバ１のウエハとを交換する工程であり、ウエハ９ｃ
をメインチャンバ１へ、ウエハ９ｂを準備室チャンバ４
へそれぞれ搬送し、以下、工程Ｂ２〜工程Ｂ５と同様の
工程がウエハ９ｂに関して行われる。ウエハ９ｃ，９ｄ
も同様である。
印のように露光の終了したウエハ９ａを準備室チャンバ
４へ、準備室チャンバ４のウエハ９ｂをメインチャンバ
１へ搬送する。工程Ｂ２では、メインチャンバ１におい
てウエハ９ｂの露光（アライメントも含む、以下同様）
を行う。本実施の形態では、この工程Ｂ２と並行して以
下に述べる工程Ｂ３〜Ｂ５も同時に行われる。工程Ｂ３
（図３（ｂ）を参照）では、準備室チャンバ４のウエハ
９ａをリークチャンバ５へ搬送した後、開閉バルブ７を
閉じてリークチャンバ５をリークし、チャンバ内を大気
圧に戻す。工程Ｂ４（図３（Ｃ）を参照）では、開閉バ
ルブ８を開いてリークチャンバ５のウエハ９ａを大気チ
ャンバ６へ、大気チャンバ６のウエハ９ｃをリークチャ
ンバ５へ搬送する。工程Ｂ５（図３（ｄ）を参照）で
は、開閉バルブ８を閉じてリークチャンバ５を真空ポン
プ１７（図１参照）により所定の圧力まで真空排気した
後に、開閉バルブ７を開いてウエハ９ｃをリークチャン
バ５から準備室チャンバ４へ搬送する。続く工程Ｃ１は
工程Ｂ１と同様に準備室チャンバ４のウエハとメインチ
ャンバ１のウエハとを交換する工程であり、ウエハ９ｃ
をメインチャンバ１へ、ウエハ９ｂを準備室チャンバ４
へそれぞれ搬送し、以下、工程Ｂ２〜工程Ｂ５と同様の
工程がウエハ９ｂに関して行われる。ウエハ９ｃ，９ｄ
も同様である。
【００１７】図４は、図１４に示した従来の露光装置に
おける露光手順の一例を示したものであり、各工程の内
容は図２に示す工程と同様である。しかし、前述したよ
うに従来の露光装置では露光工程と他の工程とを同時に
並行して行うことができないため、図４のように工程Ｂ
１〜工程Ｂ５までが直列的に行われる。
おける露光手順の一例を示したものであり、各工程の内
容は図２に示す工程と同様である。しかし、前述したよ
うに従来の露光装置では露光工程と他の工程とを同時に
並行して行うことができないため、図４のように工程Ｂ
１〜工程Ｂ５までが直列的に行われる。
【００１８】一方、本実施の形態による露光装置では、
メインチャンバ１と搬送系Ｗとを別の防振装置に搭載
し、メインチャンバ１と準備室チャンバ４とをベローズ
２を介して接続するとともにダンパー３を設けることに
より、メインチャンバ１へ伝達される振動を大幅に減少
させている。そのため、図２に示すように露光工程であ
る工程Ｂ２と他の工程Ｂ３〜工程Ｂ５とを並列して行う
ことができ、全体のスループットの向上を図ることがで
きる。
メインチャンバ１と搬送系Ｗとを別の防振装置に搭載
し、メインチャンバ１と準備室チャンバ４とをベローズ
２を介して接続するとともにダンパー３を設けることに
より、メインチャンバ１へ伝達される振動を大幅に減少
させている。そのため、図２に示すように露光工程であ
る工程Ｂ２と他の工程Ｂ３〜工程Ｂ５とを並列して行う
ことができ、全体のスループットの向上を図ることがで
きる。
【００１９】なお、図１の露光装置ではメインチャンバ
１と準備室チャンバ４との間には開閉バルブが設けられ
なかったが、メインチャンバ１に接続されるチャンバと
の間に開閉バルブが設けられるような場合、例えば、図
５に示す露光装置のようにメインチャンバ１にリークチ
ャンバ５を接続する場合には、ベローズ２とリークチャ
ンバ５との間に開閉バルブ７が設けられる。このよう
に、開閉バルブ７をベローズ２のメインチャンバ１とは
反対側に設けることによって、開閉バルブ７の開閉動作
時に生じる振動がメインチャンバ１に伝達されにくくな
る。
１と準備室チャンバ４との間には開閉バルブが設けられ
なかったが、メインチャンバ１に接続されるチャンバと
の間に開閉バルブが設けられるような場合、例えば、図
５に示す露光装置のようにメインチャンバ１にリークチ
ャンバ５を接続する場合には、ベローズ２とリークチャ
ンバ５との間に開閉バルブ７が設けられる。このよう
に、開閉バルブ７をベローズ２のメインチャンバ１とは
反対側に設けることによって、開閉バルブ７の開閉動作
時に生じる振動がメインチャンバ１に伝達されにくくな
る。
【００２０】−第２の実施の形態− 図６は本発明による荷電ビーム露光装置の第２の実施の
形態を示す図であり、第１の実施の形態と同様に荷電ビ
ーム描画装置の概略構成を示す。図１に示した露光装置
ではウエハ搬送系Ｗが１組のみであったが、図６の露光
装置では２組のウエハ搬送系ＷＡ，ＷＢを備えている。
図６において、ウエハ搬送系ＷＡはウエハをメインチャ
ンバ１に搬入する搬送系であり、準備室チャンバ４Ａ，
リークチャンバ５Ａ，大気チャンバ６Ａ，防振装置で２
３Ａを備えている。一方、ウエハ搬送系ＷＢはメインチ
ャンバ１からウエハを搬出する搬送系であり、準備室チ
ャンバ４Ｂ，リークチャンバ５Ｂ，大気チャンバ６Ｂ，
防振装置２３Ｂを備えている。これらは、それぞれ図１
に示した露光装置の準備室チャンバ４，リークチャンバ
５，大気チャンバ６，防振装置２３と同一の機能を有し
ている。また、７Ａ，７Ｂ，８Ａ，８Ｂは開閉バルブで
あり、バルブ７Ａ〜８Ｂ，１８，２０の開閉動作は制御
装置２４により制御される。
形態を示す図であり、第１の実施の形態と同様に荷電ビ
ーム描画装置の概略構成を示す。図１に示した露光装置
ではウエハ搬送系Ｗが１組のみであったが、図６の露光
装置では２組のウエハ搬送系ＷＡ，ＷＢを備えている。
図６において、ウエハ搬送系ＷＡはウエハをメインチャ
ンバ１に搬入する搬送系であり、準備室チャンバ４Ａ，
リークチャンバ５Ａ，大気チャンバ６Ａ，防振装置で２
３Ａを備えている。一方、ウエハ搬送系ＷＢはメインチ
ャンバ１からウエハを搬出する搬送系であり、準備室チ
ャンバ４Ｂ，リークチャンバ５Ｂ，大気チャンバ６Ｂ，
防振装置２３Ｂを備えている。これらは、それぞれ図１
に示した露光装置の準備室チャンバ４，リークチャンバ
５，大気チャンバ６，防振装置２３と同一の機能を有し
ている。また、７Ａ，７Ｂ，８Ａ，８Ｂは開閉バルブで
あり、バルブ７Ａ〜８Ｂ，１８，２０の開閉動作は制御
装置２４により制御される。
【００２１】次いで、図７，８を参照しながら露光手順
の一例を説明する。図７は図２と同様の手順を示す図で
あり、図８は図７の各工程に対応する露光装置の平面図
である。図８に示す露光装置では、ウエハ搬送系ＷＡ，
ＷＢはメインチャンバ１に関して対称な位置に「コの字
形」に配置されている。本実施の形態においても、第１
の実施の形態と同様にウエハ９ａの露光が終了した状態
（図８（ａ）参照）から手順を説明する。図８（ａ）に
示す状態では、開閉バルブ８Ａ，８Ｂは開状態，開閉バ
ルブ７Ａ，７Ｂは閉状態であり、チャンバ１，４Ａ，４
Ｂは真空状態、チャンバ５Ａ，５Ｂ，６Ａ，６Ｂは大気
圧状態にある。
の一例を説明する。図７は図２と同様の手順を示す図で
あり、図８は図７の各工程に対応する露光装置の平面図
である。図８に示す露光装置では、ウエハ搬送系ＷＡ，
ＷＢはメインチャンバ１に関して対称な位置に「コの字
形」に配置されている。本実施の形態においても、第１
の実施の形態と同様にウエハ９ａの露光が終了した状態
（図８（ａ）参照）から手順を説明する。図８（ａ）に
示す状態では、開閉バルブ８Ａ，８Ｂは開状態，開閉バ
ルブ７Ａ，７Ｂは閉状態であり、チャンバ１，４Ａ，４
Ｂは真空状態、チャンバ５Ａ，５Ｂ，６Ａ，６Ｂは大気
圧状態にある。
【００２２】図７の工程Ｄ１では、図８（ａ）の破線矢
印のように露光の終了したウエハ９ａを準備室チャンバ
４Ｂへ、準備室チャンバ４Ａのウエハ９ｂをメインチャ
ンバ１へ搬送する。工程Ｄ２では、メインチャンバ１に
おいてウエハ９ｂの露光を行う。この第２の実施の形態
では、工程Ｄ２と並行して後述する工程Ｄ３〜Ｄ６も同
時に行われる。図８（ｂ）は工程Ｄ３，Ｄ４を説明する
図であり、工程Ｄ３では、開閉バルブ８Ａを閉じてリー
クチャンバ５Ａを真空排気した後に、開閉バルブ７Ａを
開いてウエハ９ｃを準備室チャンバ４Ａへ搬送する。一
方、工程Ｄ３と同時に行われる工程Ｄ４では、開閉バル
ブ８Ｂを閉じてリークチャンバ５Ｂを真空排気した後
に、開閉バルブ７Ｂを開いてウエハ９ａを準備室チャン
バ４Ｂからリークチャンバ５Ｂへ搬送する。
印のように露光の終了したウエハ９ａを準備室チャンバ
４Ｂへ、準備室チャンバ４Ａのウエハ９ｂをメインチャ
ンバ１へ搬送する。工程Ｄ２では、メインチャンバ１に
おいてウエハ９ｂの露光を行う。この第２の実施の形態
では、工程Ｄ２と並行して後述する工程Ｄ３〜Ｄ６も同
時に行われる。図８（ｂ）は工程Ｄ３，Ｄ４を説明する
図であり、工程Ｄ３では、開閉バルブ８Ａを閉じてリー
クチャンバ５Ａを真空排気した後に、開閉バルブ７Ａを
開いてウエハ９ｃを準備室チャンバ４Ａへ搬送する。一
方、工程Ｄ３と同時に行われる工程Ｄ４では、開閉バル
ブ８Ｂを閉じてリークチャンバ５Ｂを真空排気した後
に、開閉バルブ７Ｂを開いてウエハ９ａを準備室チャン
バ４Ｂからリークチャンバ５Ｂへ搬送する。
【００２３】図８（ｃ）は工程Ｄ５，Ｄ６を説明する図
であり、工程Ｄ５では、開閉バルブ７Ａを閉じた後にリ
ークチャンバ５Ａをリークして大気圧に戻し、開閉バル
ブ８Ａを開いて大気チャンバ６Ａのウエハ９ｄをリーク
チャンバ５Ａへ搬送する。一方、工程Ｄ５と同時に行わ
れる工程Ｄ６では、開閉バルブ７Ｂを閉じた後にリーク
チャンバ５Ｂをリークして大気圧に戻し、開閉バルブ８
Ｂを開いてウエハ９ａを大気チャンバ６Ｂへ搬送する。
続く工程Ｅ１は工程Ｄ１と同様にウエハ９ｂ，９ｃを搬
送する工程であり、ウエハ９ｂを準備室４Ｂへ、ウエハ
９ｃをメインチャンバ１へそれぞれ搬送し、以下、工程
Ｄ２〜Ｄ６と同様の工程がウエハ９ｂに関して行われ
る。ウエハ９ｃ〜９ｅについても、同様の工程が順に行
われる。
であり、工程Ｄ５では、開閉バルブ７Ａを閉じた後にリ
ークチャンバ５Ａをリークして大気圧に戻し、開閉バル
ブ８Ａを開いて大気チャンバ６Ａのウエハ９ｄをリーク
チャンバ５Ａへ搬送する。一方、工程Ｄ５と同時に行わ
れる工程Ｄ６では、開閉バルブ７Ｂを閉じた後にリーク
チャンバ５Ｂをリークして大気圧に戻し、開閉バルブ８
Ｂを開いてウエハ９ａを大気チャンバ６Ｂへ搬送する。
続く工程Ｅ１は工程Ｄ１と同様にウエハ９ｂ，９ｃを搬
送する工程であり、ウエハ９ｂを準備室４Ｂへ、ウエハ
９ｃをメインチャンバ１へそれぞれ搬送し、以下、工程
Ｄ２〜Ｄ６と同様の工程がウエハ９ｂに関して行われ
る。ウエハ９ｃ〜９ｅについても、同様の工程が順に行
われる。
【００２４】図８では、メインチャンバ１に関してウエ
ハ搬送系ＷＡの準備室チャンバ４Ａとウエハ搬送系ＷＢ
の準備室チャンバ４Ｂとが対称な位置、すなわち、メイ
ンチャンバ１を挟んで直線的に接続したが、装置レイア
ウトの条件によっては、図９に示すように準備室チャン
バ４Ａ，４Ｂが９０度の角度を成すように配置してもよ
い。なお、露光装置の露光手順は図８の装置と同様であ
る。
ハ搬送系ＷＡの準備室チャンバ４Ａとウエハ搬送系ＷＢ
の準備室チャンバ４Ｂとが対称な位置、すなわち、メイ
ンチャンバ１を挟んで直線的に接続したが、装置レイア
ウトの条件によっては、図９に示すように準備室チャン
バ４Ａ，４Ｂが９０度の角度を成すように配置してもよ
い。なお、露光装置の露光手順は図８の装置と同様であ
る。
【００２５】本実施の形態においては、上述したように
工程Ｄ３および工程Ｄ４の真空排気が同時に行われ、ま
た、工程Ｄ５と工程Ｄ６のリーク動作が同時に行われる
ように制御装置２４によってバルブ１７Ａ，１７Ｂ，１
８Ａ，１８Ｂ，２０の開閉動作が制御される。本実施の
形態では、第１の実施の形態と同様に露光工程（工程Ｄ
２）の間に、ウエハ搬送工程（工程Ｄ３〜Ｄ６）を並行
して行うため、スループットを向上させることができ
る。また、図８に示した装置のように、リークチャンバ
５Ａ，５Ｂがメインチャンバ１に関して対称な位置に配
置され、上述したように、リークチャンバ５Ａ，５Ｂの
真空排気やリークを同時に行うため、真空排気やリーク
に伴う装置の変形が互いに打ち消し合うように作用し、
露光に対するそれらの影響が非常に小さくなるという利
点がある。
工程Ｄ３および工程Ｄ４の真空排気が同時に行われ、ま
た、工程Ｄ５と工程Ｄ６のリーク動作が同時に行われる
ように制御装置２４によってバルブ１７Ａ，１７Ｂ，１
８Ａ，１８Ｂ，２０の開閉動作が制御される。本実施の
形態では、第１の実施の形態と同様に露光工程（工程Ｄ
２）の間に、ウエハ搬送工程（工程Ｄ３〜Ｄ６）を並行
して行うため、スループットを向上させることができ
る。また、図８に示した装置のように、リークチャンバ
５Ａ，５Ｂがメインチャンバ１に関して対称な位置に配
置され、上述したように、リークチャンバ５Ａ，５Ｂの
真空排気やリークを同時に行うため、真空排気やリーク
に伴う装置の変形が互いに打ち消し合うように作用し、
露光に対するそれらの影響が非常に小さくなるという利
点がある。
【００２６】−第３の実施の形態− 図１０は本発明による荷電ビーム露光装置の第３の実施
の形態を示す図であり、第１および第２の実施の形態と
同様に荷電ビーム描画装置の概略構成を示す。４ｃ，５
ｃ，６ｃはそれぞれ準備室チャンバ４，リークチャンバ
５，大気チャンバ６の固定部であり、各固定部４ｃ，５
ｃ，６ｃによってチャンバ４，５，６はそれぞれ床Ｇに
固定されている。３０はベローズ２の一部分（図１０で
は中央部分）に取り付けられたアンカーであり、十分大
きな重量を有していて床Ｇに載置または固定される。メ
インチャンバ１は図１の装置と同様に防振装置２２上に
搭載されていて、床Ｇからの振動を防止している。
の形態を示す図であり、第１および第２の実施の形態と
同様に荷電ビーム描画装置の概略構成を示す。４ｃ，５
ｃ，６ｃはそれぞれ準備室チャンバ４，リークチャンバ
５，大気チャンバ６の固定部であり、各固定部４ｃ，５
ｃ，６ｃによってチャンバ４，５，６はそれぞれ床Ｇに
固定されている。３０はベローズ２の一部分（図１０で
は中央部分）に取り付けられたアンカーであり、十分大
きな重量を有していて床Ｇに載置または固定される。メ
インチャンバ１は図１の装置と同様に防振装置２２上に
搭載されていて、床Ｇからの振動を防止している。
【００２７】本実施の形態では、固定部４ｃ，５ｃ，６
ｃによってチャンバ４，５，６がそれぞれ床Ｇに強固に
固定されるとともに、メインチャンバ１と準備室チャン
バ４とを接続するベローズ２に上述したようなアンカー
３０が設けられるため、搬送系Ｗからベローズ２を介し
てメインチャンバ１に伝達される振動が大きく低減され
る。そのため第１の実施例と同様に、メインチャンバ１
における露光と搬送系Ｗにおけるウエハ９の搬送動作と
を並行して行うことができる。また、搬送系Ｗに関する
防振装置を省略することができて、露光装置のコスト低
減を図ることもできる。
ｃによってチャンバ４，５，６がそれぞれ床Ｇに強固に
固定されるとともに、メインチャンバ１と準備室チャン
バ４とを接続するベローズ２に上述したようなアンカー
３０が設けられるため、搬送系Ｗからベローズ２を介し
てメインチャンバ１に伝達される振動が大きく低減され
る。そのため第１の実施例と同様に、メインチャンバ１
における露光と搬送系Ｗにおけるウエハ９の搬送動作と
を並行して行うことができる。また、搬送系Ｗに関する
防振装置を省略することができて、露光装置のコスト低
減を図ることもできる。
【００２８】−第４の実施の形態− 図１１は本発明による荷電ビーム露光装置の第４の実施
の形態を示す図であり、開閉バルブ７，８の開閉動作は
制御装置２４によって制御される。本実施の形態の露光
装置は分割転写方式の電子線縮小投影露光装置であっ
て、図１１のメインチャンバ１内の概略構成を図１２に
示す。電子銃３１から放出された電子線ＥＢはコンデン
サレンズ３２で平行ビームとされ、視野選択偏向器３３
によりｘｙ平面内で偏向されて後述するマスク５０の小
領域（後述する）の一つに導かれる。マスク５０を通過
した電子線ＥＢは偏向器３４により所定量偏向（マスク
５０の小領域と対応するウエハ９の領域に入射するよう
に）された後に、レンズ３５，３６によりウエハ９上の
所定位置に所定の縮小率で結像される。マスク５０はス
テージ３７にｘｙ平面と平行に取り付けられる。露光中
にステージ３７は駆動装置３８によりｘ軸方向に連続移
動し、ｙ軸方向にステップ移動する。ステージ３７のｘ
ｙ平面内での位置はレーザ干渉計３９で検出されて制御
装置２４に出力される。なお、図１２においてｘ軸方向
は紙面と直交する方向である。
の形態を示す図であり、開閉バルブ７，８の開閉動作は
制御装置２４によって制御される。本実施の形態の露光
装置は分割転写方式の電子線縮小投影露光装置であっ
て、図１１のメインチャンバ１内の概略構成を図１２に
示す。電子銃３１から放出された電子線ＥＢはコンデン
サレンズ３２で平行ビームとされ、視野選択偏向器３３
によりｘｙ平面内で偏向されて後述するマスク５０の小
領域（後述する）の一つに導かれる。マスク５０を通過
した電子線ＥＢは偏向器３４により所定量偏向（マスク
５０の小領域と対応するウエハ９の領域に入射するよう
に）された後に、レンズ３５，３６によりウエハ９上の
所定位置に所定の縮小率で結像される。マスク５０はス
テージ３７にｘｙ平面と平行に取り付けられる。露光中
にステージ３７は駆動装置３８によりｘ軸方向に連続移
動し、ｙ軸方向にステップ移動する。ステージ３７のｘ
ｙ平面内での位置はレーザ干渉計３９で検出されて制御
装置２４に出力される。なお、図１２においてｘ軸方向
は紙面と直交する方向である。
【００２９】ウエハ９はステージ１２上にｘｙ平面と平
行に取り付けられる。露光中にステージ１２は駆動装置
４０によりｘ軸方向に連続移動し、ｙ軸方向にステップ
移動する。なお、レンズ３５，３６によりパターン像が
反転するため、露光の際のステージ１２の連続移動方向
およびステップ移動方向は、ステージ３７と逆向きであ
る。ステージ１２のｘｙ平面内での位置はレーザ干渉計
４１で検出されて制御装置２４に出力される。４２，４
３は偏向器３３，３４の電源であり制御装置２４により
制御される。
行に取り付けられる。露光中にステージ１２は駆動装置
４０によりｘ軸方向に連続移動し、ｙ軸方向にステップ
移動する。なお、レンズ３５，３６によりパターン像が
反転するため、露光の際のステージ１２の連続移動方向
およびステップ移動方向は、ステージ３７と逆向きであ
る。ステージ１２のｘｙ平面内での位置はレーザ干渉計
４１で検出されて制御装置２４に出力される。４２，４
３は偏向器３３，３４の電源であり制御装置２４により
制御される。
【００３０】図１３は図１２のマスク５０とウエハ９と
の関係を説明する図である。ウエハ９において、６０は
マスク５０のパターンが転写される領域であり、ウエハ
９上に複数設けられる。分割転写方式の露光装置では、
マスク５０のパターン領域５１はマスク５０の連続移動
方向（ｘ軸方向）が長手方向となる複数の領域５１ａ，
５１ｂ，５１ｃに分割され、さらに、各領域５１ａ〜５
１ｃは複数の小領域５２にそれぞれ分割される。同様
に、パターン領域５１に対応して、ウエハ９の各領域６
０も複数の領域６１ａ〜６１ｃにそれぞれ分割され、さ
らに、各領域６１ａ〜６１ｃは複数の小領域６２にそれ
ぞれ分割される。
の関係を説明する図である。ウエハ９において、６０は
マスク５０のパターンが転写される領域であり、ウエハ
９上に複数設けられる。分割転写方式の露光装置では、
マスク５０のパターン領域５１はマスク５０の連続移動
方向（ｘ軸方向）が長手方向となる複数の領域５１ａ，
５１ｂ，５１ｃに分割され、さらに、各領域５１ａ〜５
１ｃは複数の小領域５２にそれぞれ分割される。同様
に、パターン領域５１に対応して、ウエハ９の各領域６
０も複数の領域６１ａ〜６１ｃにそれぞれ分割され、さ
らに、各領域６１ａ〜６１ｃは複数の小領域６２にそれ
ぞれ分割される。
【００３１】マスク５０のパターンをウエハ９の領域６
０に露光する際には、マスク５０およびウエハ９の一回
の連続移動で、領域５１ａ〜５１ｃのいずれか一つの領
域に含まれるパターンを小領域５２毎に対応する領域６
１ａ〜６１ｃの対応する小領域６２に順に投影露光す
る。例えば、図１３のマスク５０を矢印Ｂ１のように−
ｘ方向に、ウエハ９を矢印Ｃ１のように＋ｘ方向にそれ
ぞれ連続移動させつつ、電子線ＥＢを矢印Ｄのようにｙ
方向に偏向させて領域５１ａの各小領域５２を順に図示
左側から右側へジグザグ状に走査する。このようにして
領域５１ａの露光が終了したならば、マスク５０をＢ２
方向（−ｙ方向）に、ウエハ９をＣ２方向（＋ｙ方向）
にそれぞれステップ移動する。次いで、マスク５０をＢ
３方向（＋ｘ方向）に、ウエハ９をＣ３方向（−ｘ方
向）に連続移動させつつ電子線ＥＢを偏向して領域５１
ｂの各小領域５２に順に照射する。領域５１ｂの露光が
終了したならば、マスク５０をＢ４方向（−ｙ方向）
に、ウエハ９をＣ４方向（＋ｙ方向）にそれぞれステッ
プ移動した後、マスク５０をＢ５方向（−ｘ方向）に、
ウエハ９をＣ５方向（＋ｘ方向）に連続移動させつつ領
域５１ｃの露光を行う。
０に露光する際には、マスク５０およびウエハ９の一回
の連続移動で、領域５１ａ〜５１ｃのいずれか一つの領
域に含まれるパターンを小領域５２毎に対応する領域６
１ａ〜６１ｃの対応する小領域６２に順に投影露光す
る。例えば、図１３のマスク５０を矢印Ｂ１のように−
ｘ方向に、ウエハ９を矢印Ｃ１のように＋ｘ方向にそれ
ぞれ連続移動させつつ、電子線ＥＢを矢印Ｄのようにｙ
方向に偏向させて領域５１ａの各小領域５２を順に図示
左側から右側へジグザグ状に走査する。このようにして
領域５１ａの露光が終了したならば、マスク５０をＢ２
方向（−ｙ方向）に、ウエハ９をＣ２方向（＋ｙ方向）
にそれぞれステップ移動する。次いで、マスク５０をＢ
３方向（＋ｘ方向）に、ウエハ９をＣ３方向（−ｘ方
向）に連続移動させつつ電子線ＥＢを偏向して領域５１
ｂの各小領域５２に順に照射する。領域５１ｂの露光が
終了したならば、マスク５０をＢ４方向（−ｙ方向）
に、ウエハ９をＣ４方向（＋ｙ方向）にそれぞれステッ
プ移動した後、マスク５０をＢ５方向（−ｘ方向）に、
ウエハ９をＣ５方向（＋ｘ方向）に連続移動させつつ領
域５１ｃの露光を行う。
【００３２】上述した一連の露光動作を繰り返して、ウ
エハ９の各領域６０にマスク５０のパターンを投影露光
する。本実施の形態では、主な振動源である開閉バルブ
７，８（図１１参照）の開閉動作がパターン露光に影響
しないように、上述したマスク５０およびウエハ９のス
テップ移動時、または、一つの領域６０への露光が終了
して他の領域６０への露光を開始するまでの間に、開閉
バルブ７，８の開閉動作が行われるように制御装置２４
で制御する。このように、ウエハ９全体の露光工程にお
いて、連続移動しながら行われる露光と次の露光との間
に開閉バルブ７，８の開閉動作を行っているので、図１
の装置に比べて露光精度への振動の影響をより低減させ
ることができる。
エハ９の各領域６０にマスク５０のパターンを投影露光
する。本実施の形態では、主な振動源である開閉バルブ
７，８（図１１参照）の開閉動作がパターン露光に影響
しないように、上述したマスク５０およびウエハ９のス
テップ移動時、または、一つの領域６０への露光が終了
して他の領域６０への露光を開始するまでの間に、開閉
バルブ７，８の開閉動作が行われるように制御装置２４
で制御する。このように、ウエハ９全体の露光工程にお
いて、連続移動しながら行われる露光と次の露光との間
に開閉バルブ７，８の開閉動作を行っているので、図１
の装置に比べて露光精度への振動の影響をより低減させ
ることができる。
【００３３】上述した発明の実施の形態と特許請求の範
囲の要素との対応において、ベローズ２は可撓性配管
を、ダンパー３は振動減衰機構を、ウエハ９，９ａ〜９
ｅは感応基板を、真空ポンプ１５〜１７およびバルブ１
８は真空排気装置を、リーク機構１９およびリークバル
ブ２０はリーク装置を、搬送系ＷＡは第１の搬送系を、
搬送系ＷＢは第２の搬送系を、アンカー３０は重量物
を、制御装置２４は請求項４の制御装置および請求項９
のバルブ制御装置をそれぞれ構成する。
囲の要素との対応において、ベローズ２は可撓性配管
を、ダンパー３は振動減衰機構を、ウエハ９，９ａ〜９
ｅは感応基板を、真空ポンプ１５〜１７およびバルブ１
８は真空排気装置を、リーク機構１９およびリークバル
ブ２０はリーク装置を、搬送系ＷＡは第１の搬送系を、
搬送系ＷＢは第２の搬送系を、アンカー３０は重量物
を、制御装置２４は請求項４の制御装置および請求項９
のバルブ制御装置をそれぞれ構成する。
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
メインチャンバと搬送装置とを可撓性配管を介して接続
することによって搬送装置からメインチャンバへ伝達さ
れる振動が低減されるため、メインチャンバで露光を行
っている最中でも感応基板の搬送が可能となり、スルー
プットの向上を図ることができる。また、請求項４の発
明のように、メインチャンバに関して対称な位置に第１
および第２の搬送系を接続し、第１および第２の搬送系
で行われる真空排気動作またはリーク動作を同時に行っ
ているため、真空排気動作またはリーク動作に伴うメイ
ンチャンバの歪みが低減し、露光精度の低下を抑えるこ
とができる。さらに、請求項５，６の発明にようにメイ
ンチャンバの搭載される防振装置から搬送系を外した
り、請求項７の発明のように可撓性配管の一部を重量物
または設置部に固定したり、請求項８の発明のようにメ
インチャンバと搬送系との間に振動減衰機構を設けたり
することによって、搬送系からメインチャンバへ伝達さ
れる振動をより低減させることができる。また、請求項
９の発明によれば、感応基板搬送に伴う開閉バルブの開
閉動作を、連続移動と次の連続移動の間、すなわち、露
光を中断している間に行うため、露光精度に影響与える
ことなくスループットを向上させることができる。
メインチャンバと搬送装置とを可撓性配管を介して接続
することによって搬送装置からメインチャンバへ伝達さ
れる振動が低減されるため、メインチャンバで露光を行
っている最中でも感応基板の搬送が可能となり、スルー
プットの向上を図ることができる。また、請求項４の発
明のように、メインチャンバに関して対称な位置に第１
および第２の搬送系を接続し、第１および第２の搬送系
で行われる真空排気動作またはリーク動作を同時に行っ
ているため、真空排気動作またはリーク動作に伴うメイ
ンチャンバの歪みが低減し、露光精度の低下を抑えるこ
とができる。さらに、請求項５，６の発明にようにメイ
ンチャンバの搭載される防振装置から搬送系を外した
り、請求項７の発明のように可撓性配管の一部を重量物
または設置部に固定したり、請求項８の発明のようにメ
インチャンバと搬送系との間に振動減衰機構を設けたり
することによって、搬送系からメインチャンバへ伝達さ
れる振動をより低減させることができる。また、請求項
９の発明によれば、感応基板搬送に伴う開閉バルブの開
閉動作を、連続移動と次の連続移動の間、すなわち、露
光を中断している間に行うため、露光精度に影響与える
ことなくスループットを向上させることができる。
【図１】本発明に係る荷電ビーム露光装置の第１の実施
の形態を示す概略構成図。
の形態を示す概略構成図。
【図２】図１の露光装置による露光手順の一例を示す
図。
図。
【図３】露光装置の平面図であり、（ａ）〜（ｄ）は図
２の各工程に対応する図。
２の各工程に対応する図。
【図４】従来の露光装置の露光手順の一例を示す図。
【図５】第１の実施の形態の他の例を示す図。
【図６】本発明に係る荷電ビーム露光装置の第２の実施
の形態を示す概略構成図。
の形態を示す概略構成図。
【図７】図６に示す露光装置の露光手順の一例を示す
図。
図。
【図８】露光装置の平面図であり、（ａ）〜（ｃ）は図
７の各工程に対応する図。
７の各工程に対応する図。
【図９】第２の実施の形態の他の例を示す図。
【図１０】本発明に係る荷電ビーム露光装置の第３の実
施の形態を示す概略構成図。
施の形態を示す概略構成図。
【図１１】本発明による荷電ビーム露光装置の第４の実
施の形態を示す概略構成図。
施の形態を示す概略構成図。
【図１２】図１１のメインチャンバ１内の概略構成を示
す模式図。
す模式図。
【図１３】マスク５０とウエハ９の関係を示す図。
【図１４】従来の荷電ビーム露光装置を示す図。
１ メインチャンバ ２ ベローズ ３ ダンパー ４，４Ａ，４Ｂ 準備室チャンバ ４ｃ，５ｃ，６ｃ 固定部 ５，５Ａ，５Ｂ リークチャンバ ６，６Ａ，６Ｂ 大気チャンバ ７，８ 開閉バルブ ９，９ａ〜９ｅ ウエハ １５〜１７，１９ 真空ポンプ １８ バルブ ２０ リークバルブ ２２，２３ 防振装置 ２４ 制御装置 ５０ マスク Ｗ，ＷＡ，ＷＢ 搬送系
Claims (9)
- 【請求項１】 （ａ）荷電ビームにより感応基板の露光
が行なわれるメインチャンバと、（ｂ）チャンバ間に設
けられる開閉バルブ，チャンバ内を真空排気する真空排
気装置およびチャンバ内を大気圧へ戻すためのリーク装
置をそれぞれ一以上具備する感応基板用搬送系とを少な
くとも一つ備える荷電ビーム露光装置において、 前記メインチャンバと前記搬送系とをそれぞれ可撓性配
管を介して接続したことを特徴とする荷電ビーム露光装
置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の荷電ビーム露光装置に
おいて、 前記メインチャンバと前記搬送系との間に開閉バルブを
設ける場合には、前記可撓性配管と前記搬送系との間に
設けるようにしたことを特徴とする荷電ビーム露光装
置。 - 【請求項３】 請求項１または２に記載の荷電ビーム露
光装置において、 感応基板を前記メインチャンバに搬入するための第１の
搬送系と、 感応基板を前記メインチャンバから搬出するための第２
の搬送系とを備えることを特徴とする荷電ビーム露光装
置。 - 【請求項４】 請求項３に記載の荷電ビーム露光装置に
おいて、 前記第１および第２の搬送系はそれぞれ真空排気装置お
よびリーク装置を具備するリークチャンバを備え、前記
各リークチャンバが前記メインチャンバに関して対称な
配置となるように前記第１および第２の搬送系を前記メ
インチャンバにそれぞれ接続し、前記第１および第２の
搬送系の各リークチャンバの真空排気動作が同時に行わ
れるとともに前記各リークチャンバのリーク動作が同時
に行われるように前記真空排気動作およびリーク動作を
制御する制御装置を設けたことを特徴とする荷電ビーム
露光装置。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれかに記載の荷電ビ
ーム露光装置において、 前記搬送系が搭載される搬送系用防振装置と、 前記メインチャンバが搭載されるメインチャンバ用防振
装置とを別々に設けたことを特徴とする荷電ビーム露光
装置。 - 【請求項６】 請求項１〜４のいずれかに記載の荷電ビ
ーム露光装置において、 前記メインチャンバが搭載される防振装置と、 前記搬送系を床等の設置部に防振装置を介さずに固定す
る固定部とを設けたことを特徴とする荷電ビーム露光装
置。 - 【請求項７】 請求項１〜６のいずれかに記載の荷電ビ
ーム露光装置において、 前記メインチャンバと前記搬送系とを接続する可撓性配
管の途中の少なくとも一箇所を、露光装置が設置される
設置部に置かれた重量物または前記設置部に固定したこ
とを特徴とする荷電ビーム露光装置。 - 【請求項８】 請求項１〜６のいずれかに記載の荷電ビ
ーム露光装置において、前記メインチャンバと前記搬送
系との間に振動減衰機構をそれぞれ設けたことを特徴と
する荷電ビーム露光装置。 - 【請求項９】 請求項１〜８のいずれかに記載の荷電ビ
ーム露光装置において、 前記荷電ビーム露光装置はパターンが形成されたマスク
と感応基板と間に相対的連続移動を複数回行わせて露光
を行う装置であって、前記開閉バルブの開閉動作が前記
連続移動と次の連続移動との間に行われるように制御す
るバルブ制御装置を設けたことを特徴とする荷電ビーム
露光装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9012614A JPH10209021A (ja) | 1997-01-27 | 1997-01-27 | 荷電ビーム露光装置 |
| EP98101410A EP0856872A3 (en) | 1997-01-27 | 1998-01-27 | Charged-particle-beam exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9012614A JPH10209021A (ja) | 1997-01-27 | 1997-01-27 | 荷電ビーム露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10209021A true JPH10209021A (ja) | 1998-08-07 |
Family
ID=11810264
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9012614A Pending JPH10209021A (ja) | 1997-01-27 | 1997-01-27 | 荷電ビーム露光装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0856872A3 (ja) |
| JP (1) | JPH10209021A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005142372A (ja) * | 2003-11-06 | 2005-06-02 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
| KR100680054B1 (ko) * | 2000-02-24 | 2007-02-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 마스크 운반 장치 및 방법 |
| US7397040B2 (en) | 2000-11-30 | 2008-07-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| JP2014526802A (ja) * | 2011-09-12 | 2014-10-06 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． | 基板処理装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1396759A3 (en) * | 2002-08-30 | 2006-08-02 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| EP1394611A1 (en) * | 2002-08-30 | 2004-03-03 | ASML Netherlands BV | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3968885A (en) * | 1973-06-29 | 1976-07-13 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for handling workpieces |
| US4030622A (en) * | 1975-05-23 | 1977-06-21 | Pass-Port Systems, Inc. | Wafer transport system |
| FR2620049B2 (fr) * | 1986-11-28 | 1989-11-24 | Commissariat Energie Atomique | Procede de traitement, stockage et/ou transfert d'un objet dans une atmosphere de haute proprete, et conteneur pour la mise en oeuvre de ce procede |
| DE68921341T2 (de) * | 1989-10-30 | 1995-08-17 | Canon Kk | Ausrichtevorrichtung und eine damit versehene Synchrotron-Röntgenbelichtungsvorrichtung. |
| US5344365A (en) * | 1993-09-14 | 1994-09-06 | Sematech, Inc. | Integrated building and conveying structure for manufacturing under ultraclean conditions |
-
1997
- 1997-01-27 JP JP9012614A patent/JPH10209021A/ja active Pending
-
1998
- 1998-01-27 EP EP98101410A patent/EP0856872A3/en not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100680054B1 (ko) * | 2000-02-24 | 2007-02-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 마스크 운반 장치 및 방법 |
| US7397040B2 (en) | 2000-11-30 | 2008-07-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| JP2005142372A (ja) * | 2003-11-06 | 2005-06-02 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
| JP2014526802A (ja) * | 2011-09-12 | 2014-10-06 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． | 基板処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0856872A3 (en) | 2000-12-13 |
| EP0856872A2 (en) | 1998-08-05 |
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