JPH0324773B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電子線描画装置に係るもので、特に描
画マスク又はウエハなど試料の交換装置の改良に
関する。

電子線描画装置を生産ライン等で使用する場
合、１枚の試料の描画に要する時間を短かくする
ことが非常に重要なことである。それにともなつ
て、電子線描画装置を生産ラインに使用するため
には、試料の交換等を短時間行なわなければなら
ない。従来方式の試料交換装置は第１図に示すよ
うに試料室１の横に予備室２を設け、上記予備室
内には試料カセツト３を上下に動かせるマガジン
４を内蔵した構造をしている。このような方法で
描画するには予備室内に、試料カセツトを数枚入
れ試料室と同程度の真空にし、ゲートバルブ５を
開け、試料装填棒６により試料室内テーブル７上
に送り、１枚ずつ描画をしていく。以上を繰返し
予備室内に入れた全ての試料を描画し終つたら、
予備室内を大気にし、試料をとり出すものであ
る。この方式によると予備室内に試料カセツトを
入れ、真空にする時間と描画が終わつて、大気に
もどす時間またマガジン室に試料を入れる時間等
描画がされていなく時間的ロスがある。また、予
備室内に入れる試料の枚数がふえるほど予備室が
大きくなり、それだけ真空にする時間が長くなり
ロス時間がふえる。このようなことから上記方式
によると連続して描画できないため生産ラインで
の使用が難しいなど改良が望まれる。さらに描画
直後の試料を取出す事が必要なこともしばしばあ
り、上記方法の改良が必要である。

本発明の目的は上述した従来装置のもつ不都合
を除去するために、従来の予備室ととは独立に２
つの室を新たに設け、試料が第１室から予備室
（第２室）、予備室から第３室と流れていくような
構成にし、試料交換室を真空にする時間、大気に
もどす時間を短くし、描画を連続的に行えるよう
にしたことにある。

本発明の要点は、第１室、予備室（第２室）、
第３室というように３つの室を設けたことによつ
て、試料カセツトの出し入れが独立に行われるこ
と、また各室の第１室及び第３室を非常に小さく
することができ真空にする時間によるロス時間を
少なくしたこと、さらに試料カセツトの出入口を
専用にし流れを直線的にしたことによつて例えば
文献J.APaivanas ＆ J.K.Hassan；A′new air
Film Technique for low Contact Handling
of Silicon Wafers.Solid State Jec，April
1980、P148などに示すような他のオプシヨンと
の連結をスムーズにしたことにある。

以下図面によつて本発明の一実施例を詳細に説
明する。第２図は本実施例による電子線描画装置
の試料室と、予備室（第２室）と第１室と、第３
室等との関係を示す概要図で、第３図は第２図の
Ａ方向から見た概要図である。図において、１は
気密に保持されている試料室である。内部には試
料テーブル７が設けられていて、モーター等の駆
動源（図示省略）によつて所望の位置に移動でき
るようになつている。８は試料を入れる第１室で
あり９の排気管を有している。試料１０を１０
ａ，１０ｂに挿搬するための移動棒１１及び試料
を１０ａの位置から１０ｃに挿搬するための操作
棒１２が真空シールされて装着されている。１３
は第３室であり排気管１４を有している。第１室
８は、予備室（第２室）２の側壁に気密的に取付
けられており、ゲートバルブ１５ａで仕切られて
いる。また、第３室１３も予備室（第２室）２の
側壁に気密的に取付けられており、ゲートバルブ
１５ｂで仕切られている。また、第１室、予備室
（第２室）、第３室には、試料が各室の定位置にセ
ツトされるような構造のものが組込まれている
（図示省略）。また、排気管９，１４，１６は単独
で各室を排気できると共にリーク装置（図示省
略）も所有している（９，１４は共有してもよ
い）。

本発明装置は以下のような方法で使用する。第
１室８を大気にし、試料１０は第１室８に入れ、
試料室と同程度の真空にする。ゲートバルブ１５
ａを開け移動棒１１によつて、試料を予備室内の
１０ａの位置におし入れ、ゲートバルブ１５ａを
閉じる。１０ａの位置にある試料を操作棒１２に
より試料室内のテーブル上の１０ｃの位置にセツ
トし描画を行う。この間に第１室には前記と同様
に試料を入れて真空にする。この場合第１室と一
緒に第３室も真空にしておく。描画終了後操作棒
１２によつてテーブル上の１０ｃの位置から予備
室内の１０ａの位置に試料をもどす。次にゲート
バルブ１５ａ，１５ｂを開け、第１と第３室にあ
る試料を移動棒１１によつて、第１室内の試料は
予備室（第２室）へ、予備室内の試料は第３室
へ、同時に移動させる。次にゲートバルブを閉
め、予備室内の試料は操作棒１２によつてテーブ
ル上の１０ｃの位置へセツトすると同時に第１と
第３室は真空から大気にもどし第１室には試料を
入れ第３室からは描画された試料をとり出す。

以上のような操作をくり返すことによつて試料
は次々と描画できる。また、予備室への試料の出
し入れは描画中同時に行つているため、ロス時間
を短くすることができる。また、従来方式のよう
に数十枚はいる予備室を真空にするのとちがつ
て、試料が１枚はいればより第１室と第３室を真
空にすればよいので真空引の時間の短縮にもな
る。また、試料の入口と出口を別にしてあるの
で、前記文献に示したようなものを使用し、生産
ラインの途中に使用することも可能になる。

本発明によれば試料の出し入れが同時に独立し
て行え、試料の描画時間に第１室、第３室の真空
引きとリークができる。また、各室を小さくする
ことができ真空引きの時間の短縮にもなり、全体
的に時間のロスが短くなる。また、第１室、第３
室にオプシヨンとして連続したあるいは数十枚の
試料を次々準備室へ入れる機構、第３室から同様
に取り出す機構をつけることによつて連続して描
画が行える。また、生産ラインにつなげることも
可能である。さらに描画直後の試料を手に入れる
ことができるため装置の調整、データ設定に短時
間で対応することができ、作業性が非常に良いな
ど利点が多い。なお、第１室、予備室、第３室内
には、１枚の試料しか図では示していないが必要
に応じて複数枚入れても良い。また予備室と試料
室との間には、試料の２次露光を避けるためゲー
トバルブをつけても良い。要は本発明の要旨を変
えることなく種々変形して使用することができ
る。

以上述べたように本発明によれば第１、第２、
第３室をもつた試料交換装置を付けることによつ
て電子ビーム描画装置の調整試験を短時間で行え
るようになり、さらに生産ラインでの連続描画が
簡単に行なえる等効果は大である。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の試料交換室の概略図、第２図は
本発明の要旨を説明するための概略図、第３図は
第２図のＡ方向から見た概略図である。 第２図及び第３図において１…試料室、２…予
備室（第２室）、３…試料カセツト、４…マガジ
ン室、５…ゲートバルブ、６…試料装填棒、７…
テーブル、８…第１室、９，１４，１６…排気
管、１０…試料、１１…移動棒、１２…操作棒、
１３…第３室、１５…バルブである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 電子線描画装置に於ける試料の交換装置であ
   つて、試料交換室が、描画すべき試料を装填する
   第１の部屋と、描画を行う試料室との間で気密状
   態で試料の受け渡しを行う第２の部屋と、描画さ
   れた試料を取り出すための第３の部屋とからな
   り、前記第１および第３の部屋はそれぞれ真空排
   気可能で、かつ前記第２の部屋と選択的に連通可
   能に仕切られており、前記第１の部屋に装填され
   た試料は第１の搬送手段により前記第２の部屋に
   搬送されたのち第２の搬送手段により前記試料室
   に送られて所定位置に位置決めされた後に描画さ
   れ、この描画された試料は前記第２の部屋に前記
   第２の搬送手段により戻されたのち前記第３の部
   屋に前記第１の搬送手段により搬送されるよう構
   成されてなることを特徴とする電子線描画装置に
   於ける試料交換装置。 ２ 前記第１の搬送手段は描画された試料を第２
   の部屋から第３の部屋に搬送すると同時に、新た
   な試料を第１の部屋から第２の部屋に搬送するよ
   うに構成されてなることを特徴とする特許請求の
   範囲第１項記載の電子描画装置に於ける試料交換
   装置。 ３ 前記第１乃至第３の部屋はそれぞれほぼ同一
   直線上に沿つて配置され、かつ前記試料室と前記
   第２の部屋とは前記直線とは異なる直線上にほぼ
   そつて配置されていることを特徴とする特許請求
   の範囲第１項記載の電子線描画装置に於ける試料
   交換装置。 ４ 第１および第３の部屋は互いに独立に真空排
   気可能てであることを特徴とする特許請求の範囲
   第１項記載の電子線描画装置に於ける試料交換装
   置。 ５ 第１の部屋と第２の部屋、第２の部屋と第３
   の部屋とはそれぞれ真空シール用ゲートバルブを
   介して仕切られていることを特徴とする特許請求
   の範囲第１項記載の電子線描画装置に於ける試料
   交換装置。