JPS6158252A - 真空排気リ−ク装置 - Google Patents
真空排気リ−ク装置Info
- Publication number
- JPS6158252A JPS6158252A JP17834584A JP17834584A JPS6158252A JP S6158252 A JPS6158252 A JP S6158252A JP 17834584 A JP17834584 A JP 17834584A JP 17834584 A JP17834584 A JP 17834584A JP S6158252 A JPS6158252 A JP S6158252A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- leak
- valve
- exchange chamber
- chamber
- sample
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、真空排気リーク装置に係り、特にウェーハあ
るいはマスクは取り扱う半導体装置の真空排気リーク装
置に関する。
るいはマスクは取り扱う半導体装置の真空排気リーク装
置に関する。
従来、真空排気装置のリーク装置は真空予備排気系の一
部あるいは試料交換室の一部にリーク弁を設け、空気ま
たは窒素ガスを試料交換室に導入して大気圧とし、試料
交換全行っていた。しかし、リーク時に試料交換室内の
各種機構あるいは試料交換室の内壁に付着している微小
ゴミが、リークの度に舞い上がり、ウェーハあるいはマ
スクの表面に付着し、半導体の生産に著しい障害を与え
ていた。
部あるいは試料交換室の一部にリーク弁を設け、空気ま
たは窒素ガスを試料交換室に導入して大気圧とし、試料
交換全行っていた。しかし、リーク時に試料交換室内の
各種機構あるいは試料交換室の内壁に付着している微小
ゴミが、リークの度に舞い上がり、ウェーハあるいはマ
スクの表面に付着し、半導体の生産に著しい障害を与え
ていた。
本発明の目的は、上記欠点をなくシ、ウェー・・あるい
はマスク等の試料の交換時に発生する試料上へのゴミの
付着を防止する真空排気装置のＩＪ ＋り装置を提供す
ることである。
はマスク等の試料の交換時に発生する試料上へのゴミの
付着を防止する真空排気装置のＩＪ ＋り装置を提供す
ることである。
本発明は、真空排気装置のリークロｔウェー−・またに
マスク等の試料に対し対向する側に設け、リーク口から
はフィルタを通した清浄空気または窒素ガス等を流出さ
せて、試料交換室内のゴミの舞い上がりによる試料表面
へのゴミの付着を防止するようにしたものである。
マスク等の試料に対し対向する側に設け、リーク口から
はフィルタを通した清浄空気または窒素ガス等を流出さ
せて、試料交換室内のゴミの舞い上がりによる試料表面
へのゴミの付着を防止するようにしたものである。
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。ここ
では都合上、クエーー・やマスク等の観察用走査形電子
顕微鏡を例にして説明する。
では都合上、クエーー・やマスク等の観察用走査形電子
顕微鏡を例にして説明する。
試料室１に試料交換室２が接萩されており、この双方の
真空室はエアロツクパルプ３により仕切られている。シ
リコンウェー−・上に微細に描かれたパターンを有する
ウェー−４ｉ！搬送装置１５上に載置される。搬送装置
１５はエアロックパルプ３全通して試料ステージ１６上
にウエーノ・４金移して再び試料交換室２内に戻る。エ
アロツクパルプ３が閉じられた後、試料ステージ１６上
のウエート４は、対物レンズ５により収束された電子線
（図示せず）下で、微細なレジストパターンや微細配線
等の寸法を計測され、終了すると搬送装置１５により再
び試料交換室２内に戻される。
真空室はエアロツクパルプ３により仕切られている。シ
リコンウェー−・上に微細に描かれたパターンを有する
ウェー−４ｉ！搬送装置１５上に載置される。搬送装置
１５はエアロックパルプ３全通して試料ステージ１６上
にウエーノ・４金移して再び試料交換室２内に戻る。エ
アロツクパルプ３が閉じられた後、試料ステージ１６上
のウエート４は、対物レンズ５により収束された電子線
（図示せず）下で、微細なレジストパターンや微細配線
等の寸法を計測され、終了すると搬送装置１５により再
び試料交換室２内に戻される。
このような系において、ウェーハ４交換の一連の動作を
以下に説明する。ウェーハカセット（図示せず）内のウ
ェー−・４を大気圧の試料交換室２にある搬送装置１５
上に載置する。次に、パルプ１０．１２．１３を切換え
て、試料交換室２を荒引ポンプ１４および主排気ポンプ
１１により高真空にする。更にすでに高真空に排気しで
ある試料室１にエアロックパルプ３全通して前述の方法
により装着し、ウェーハ４を計測し、終了すると搬送装
置１５により試料交換室２に戻す。試料交換室２には、
ウェーハ４に対向した位置に、リークバルブ６、フィル
タ７、減圧弁８．高圧ガス源９からなるリーク装置のリ
ーク口を設け、荒引ポンプ１４と主排気ポンプ１１によ
る排気ｆｔ遮断した後、リークバルブ６を開き、リーク
ガス全試料交換室２内に導き大気圧にして、ウェーハ４
を取り出す。試料交換室２の詳細を第２図に示す。試料
交換室２は、交換室ペース２−１および交換室フタ２−
２．リークポート２−３＋真空７−ル用のバッキング１
７からなる。
以下に説明する。ウェーハカセット（図示せず）内のウ
ェー−・４を大気圧の試料交換室２にある搬送装置１５
上に載置する。次に、パルプ１０．１２．１３を切換え
て、試料交換室２を荒引ポンプ１４および主排気ポンプ
１１により高真空にする。更にすでに高真空に排気しで
ある試料室１にエアロックパルプ３全通して前述の方法
により装着し、ウェーハ４を計測し、終了すると搬送装
置１５により試料交換室２に戻す。試料交換室２には、
ウェーハ４に対向した位置に、リークバルブ６、フィル
タ７、減圧弁８．高圧ガス源９からなるリーク装置のリ
ーク口を設け、荒引ポンプ１４と主排気ポンプ１１によ
る排気ｆｔ遮断した後、リークバルブ６を開き、リーク
ガス全試料交換室２内に導き大気圧にして、ウェーハ４
を取り出す。試料交換室２の詳細を第２図に示す。試料
交換室２は、交換室ペース２−１および交換室フタ２−
２．リークポート２−３＋真空７−ル用のバッキング１
７からなる。
このような構成でリークガス、例えばドライ空気、ある
いはドライ窒素ガスをフィルタ７、リークバルブ６を介
してリークボート２−３から放出させるため、常に清浄
なリー・クガスがウエーノ・４□ 表面に吹き付けら
れるごとになり、その表面はリーク期間中においても清
浄に保たれる。さらに、リークを完了して交換室フタ２
−２を開き、ウエート４を真空ピンセット等で保持して
取り出す場合でも、常に清浄ガスが吹き出しており、ウ
ェーハ４は清浄に保たれる。
いはドライ窒素ガスをフィルタ７、リークバルブ６を介
してリークボート２−３から放出させるため、常に清浄
なリー・クガスがウエーノ・４□ 表面に吹き付けら
れるごとになり、その表面はリーク期間中においても清
浄に保たれる。さらに、リークを完了して交換室フタ２
−２を開き、ウエート４を真空ピンセット等で保持して
取り出す場合でも、常に清浄ガスが吹き出しており、ウ
ェーハ４は清浄に保たれる。
従来のごとき真空配管の一部あるいは試料交換室の下部
等にリーク弁を付けた場合には試料交換室のゴミ金券き
上げないようにするため、非常にゆっくりとリークさせ
なければならず、試料交換時に長い時間（例えば、約５
ｔの容器で１〜２分）を要していたが、本発明によれば
、大量にリークしてもウェー・・表面にゴミを巻き込む
ことがなく短時間（従来の１１５〜１／１０ ）に操作
を完了できる。
等にリーク弁を付けた場合には試料交換室のゴミ金券き
上げないようにするため、非常にゆっくりとリークさせ
なければならず、試料交換時に長い時間（例えば、約５
ｔの容器で１〜２分）を要していたが、本発明によれば
、大量にリークしてもウェー・・表面にゴミを巻き込む
ことがなく短時間（従来の１１５〜１／１０ ）に操作
を完了できる。
以上詳述したように本発明の一実施例によれば、（１）
ウェーハ表面にゴミを巻き込まないでリークできる
。
ウェーハ表面にゴミを巻き込まないでリークできる
。
（２） リークするガスの量を増大させ、リーク時間
を短縮可能である。
を短縮可能である。
（３）試料交換室からウェーＩ−を取り出す場合も、ク
リーンガスの吹き出る環境下で作業でき、ウェーハは清
浄に保たれる。
リーンガスの吹き出る環境下で作業でき、ウェーハは清
浄に保たれる。
という効果がある。
説明の都合上、ウェーＩ・観察用走査形電子顕微鏡に・
ついで述べたが、ドライエツチング装置、電子線描画装
置等、大気圧から真空中に試料を導入するすべての装置
に適用可能である。また、試料としてもウェーハのみな
らず、マスクあるいは光ディスクや磁気ディスク等の固
体サンプルであって、リーク時の空気あるいは窒素ガス
の噴射により変形あるいは破損しない試料であれば、何
でも同様の効果が得られる。
ついで述べたが、ドライエツチング装置、電子線描画装
置等、大気圧から真空中に試料を導入するすべての装置
に適用可能である。また、試料としてもウェーハのみな
らず、マスクあるいは光ディスクや磁気ディスク等の固
体サンプルであって、リーク時の空気あるいは窒素ガス
の噴射により変形あるいは破損しない試料であれば、何
でも同様の効果が得られる。
本発明によれば、ウェー７・等の固体試料に対しその表
面にゴミを巻き込むことなく真空装置のリークができ、
またリークガス量を増大させ、リーク時間金約１１５〜
１／１０に短縮可能であり、試料交換中においてもクリ
ーンガスの吹き出る環鏡下で作条できるので、試料は常
に清浄に保たれるという効果があり、ゴミを極端にきら
いスループツへを増大させる必要のある中導体製造装置
等に著しい効果をもたらす。
面にゴミを巻き込むことなく真空装置のリークができ、
またリークガス量を増大させ、リーク時間金約１１５〜
１／１０に短縮可能であり、試料交換中においてもクリ
ーンガスの吹き出る環鏡下で作条できるので、試料は常
に清浄に保たれるという効果があり、ゴミを極端にきら
いスループツへを増大させる必要のある中導体製造装置
等に著しい効果をもたらす。
第１図は試料室および本発明の排気リーク装置を備えた
試料交換室の断面図、第２図は第１図の試料交換装置の
詳細説明図である。 １・・・試料室、２・・・試料交換室、２−１・・・交
換室べ−４，２−２・・・交換室フタ、２−３・・・リ
ークボート、３・・・エアロツクパルプ、４・・・ウェ
ーハ、５・・・対物レンズ、６・・・リークバルブ、７
・・・フィルタ、８・・・減圧弁、９・・・電圧ガス源
、１０，１２．１３・・・パルプ、１１・・・主排気ポ
ンプ、１４・・・荒引ポンプ、１５・・・搬送装置、１
６・・・試料ステージ、１７・・・バッキング。
試料交換室の断面図、第２図は第１図の試料交換装置の
詳細説明図である。 １・・・試料室、２・・・試料交換室、２−１・・・交
換室べ−４，２−２・・・交換室フタ、２−３・・・リ
ークボート、３・・・エアロツクパルプ、４・・・ウェ
ーハ、５・・・対物レンズ、６・・・リークバルブ、７
・・・フィルタ、８・・・減圧弁、９・・・電圧ガス源
、１０，１２．１３・・・パルプ、１１・・・主排気ポ
ンプ、１４・・・荒引ポンプ、１５・・・搬送装置、１
６・・・試料ステージ、１７・・・バッキング。
Claims (3)
- １．試料室と連通しエアロック弁により仕切られている
試料交換室の真空排気リーク装置において、リーク装置
のガスリーク口を試料交換室の試料表面に対向する側に
設け、リークガスを試料表面に吹き付けることを特徴と
する真空排気リーク装置。 - ２．特許請求の範囲第１項において、リーク装置が高圧
ガス源と減圧弁とフィルタとリークバルブとからなるこ
とを特徴とする真空排気リーク装置。 - ３．特許請求の範囲第２項において、リークバルブが、
試料取り換え期間中開き、真空排気開始時に閉じるよう
にしたことを特徴とする真空排気リーク装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17834584A JPS6158252A (ja) | 1984-08-29 | 1984-08-29 | 真空排気リ−ク装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17834584A JPS6158252A (ja) | 1984-08-29 | 1984-08-29 | 真空排気リ−ク装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6158252A true JPS6158252A (ja) | 1986-03-25 |
Family
ID=16046869
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17834584A Pending JPS6158252A (ja) | 1984-08-29 | 1984-08-29 | 真空排気リ−ク装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6158252A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63202917A (ja) * | 1987-02-18 | 1988-08-22 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置および処理装置の開放方法 |
| JPH02184333A (ja) * | 1989-01-12 | 1990-07-18 | Tokyo Electron Ltd | ロードロック装置を備えた処理装置 |
| US5118915A (en) * | 1990-05-30 | 1992-06-02 | Mitsubishi Denki K.K. | Electric discharge machine |
| US5579718A (en) * | 1995-03-31 | 1996-12-03 | Applied Materials, Inc. | Slit valve door |
-
1984
- 1984-08-29 JP JP17834584A patent/JPS6158252A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63202917A (ja) * | 1987-02-18 | 1988-08-22 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置および処理装置の開放方法 |
| JPH02184333A (ja) * | 1989-01-12 | 1990-07-18 | Tokyo Electron Ltd | ロードロック装置を備えた処理装置 |
| JP2566308B2 (ja) * | 1989-01-12 | 1996-12-25 | 東京エレクトロン株式会社 | ロードロック装置を備えた処理装置 |
| US5118915A (en) * | 1990-05-30 | 1992-06-02 | Mitsubishi Denki K.K. | Electric discharge machine |
| US5579718A (en) * | 1995-03-31 | 1996-12-03 | Applied Materials, Inc. | Slit valve door |
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