JP2000067793A - ステージ装置およびそれを備えた光学装置 - Google Patents
ステージ装置およびそれを備えた光学装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、ウェハ等の試料を真空中で移動可能
に保持するステージ装置およびそれを備えた光学装置に
関し、試料を真空下で容易、高効率、且つ高精度に移動
することのできるステージ装置および光学装置を提供す
ることを目的とする。さらに、試料を収納する真空室を
高真空度にすることのできるステージ装置および光学装
置を提供することを目的とする。 【解決手段】所定の真空度でウェハ１８を収納する第１
真空室１と、開口３ａが形成された開口面３ｂを有する
隔壁部３を挟んで第１真空室１と隣接し、前記所定の真
空度よりも低い真空度の第２真空室２と、開口面３ｂと
対向する対向面４ａを有し、第２真空室２に設けられた
気体軸受５により移動可能に支持され、開口３ａを介し
てウェハ１８を保持する移動ステージ４および試料台１
７とを備えるように構成する。
に保持するステージ装置およびそれを備えた光学装置に
関し、試料を真空下で容易、高効率、且つ高精度に移動
することのできるステージ装置および光学装置を提供す
ることを目的とする。さらに、試料を収納する真空室を
高真空度にすることのできるステージ装置および光学装
置を提供することを目的とする。 【解決手段】所定の真空度でウェハ１８を収納する第１
真空室１と、開口３ａが形成された開口面３ｂを有する
隔壁部３を挟んで第１真空室１と隣接し、前記所定の真
空度よりも低い真空度の第２真空室２と、開口面３ｂと
対向する対向面４ａを有し、第２真空室２に設けられた
気体軸受５により移動可能に支持され、開口３ａを介し
てウェハ１８を保持する移動ステージ４および試料台１
７とを備えるように構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウェハ等の試料を
真空中で移動可能に保持するステージ装置およびそれを
備えた光学装置に関する。
真空中で移動可能に保持するステージ装置およびそれを
備えた光学装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造工程においては、マス
クあるいはレチクルに形成された回路パターンがウェハ
上に転写される。そして、ウェハ上に回路パターンが正
確に形成されているか否かを検査するために光学装置の
１つである検査装置が用いられる。例えば、荷電粒子線
を用いてウェハを検査する検査装置では、ステージ装置
を用いて真空中で試料のウェハを保持させて移動させ、
ウェハの全面を検査できるようになっている。
クあるいはレチクルに形成された回路パターンがウェハ
上に転写される。そして、ウェハ上に回路パターンが正
確に形成されているか否かを検査するために光学装置の
１つである検査装置が用いられる。例えば、荷電粒子線
を用いてウェハを検査する検査装置では、ステージ装置
を用いて真空中で試料のウェハを保持させて移動させ、
ウェハの全面を検査できるようになっている。
【０００３】このような検査装置に用いられるステージ
装置を図５の斜視図を参照して説明する。図５では、ス
テージ３１の移動方向に平行に移動軸を取るものとす
る。このステージ装置は、試料のウェハを載置するため
のステージ３１を有している。ステージ３１には円柱状
の４本のガイドバー３２が移動軸にほぼ平行に接続され
ており、各ガイドバー３２は円筒状の空気軸受３３内に
収納されるようになっている。これらステージ３１、ガ
イドバー３２、および空気軸受３３は、真空室内に収納
されている。
装置を図５の斜視図を参照して説明する。図５では、ス
テージ３１の移動方向に平行に移動軸を取るものとす
る。このステージ装置は、試料のウェハを載置するため
のステージ３１を有している。ステージ３１には円柱状
の４本のガイドバー３２が移動軸にほぼ平行に接続され
ており、各ガイドバー３２は円筒状の空気軸受３３内に
収納されるようになっている。これらステージ３１、ガ
イドバー３２、および空気軸受３３は、真空室内に収納
されている。
【０００４】図５に示した４本のガイドバー３２および
空気軸受３３のうち図中左方の１本のガイドバー３２お
よび空気軸受３３はそれらの断面構造を示している。空
気軸受３３は、圧縮空気源（図５中のＡｉｒ）４２から
供給管３９、通気穴３４ａを介して供給される空気をガ
イドバー３２の周囲に吹き込むエアパッド３４を有して
いる。また、空気軸受３３は、ガイドバー３２の移動方
向に沿ってエアパッド３４の前後に排気溝３５および排
気溝３６を有している。排気溝３５は、排気穴３５ａお
よび排気管３８を介して排気ポンプ４１（図５中のＰｕ
ｍｐ２）に接続されており、エアパッド３４からガイド
バー３２の周囲に吹き込まれた空気を排出するようにな
っている。排気溝３６は、排気穴３６ａおよび排気管３
７を介して排気ポンプ４０（図５中のＰｕｍｐ１）に接
続されており、排気溝３５で排気しきれなかった空気を
排出するようになっている。
空気軸受３３のうち図中左方の１本のガイドバー３２お
よび空気軸受３３はそれらの断面構造を示している。空
気軸受３３は、圧縮空気源（図５中のＡｉｒ）４２から
供給管３９、通気穴３４ａを介して供給される空気をガ
イドバー３２の周囲に吹き込むエアパッド３４を有して
いる。また、空気軸受３３は、ガイドバー３２の移動方
向に沿ってエアパッド３４の前後に排気溝３５および排
気溝３６を有している。排気溝３５は、排気穴３５ａお
よび排気管３８を介して排気ポンプ４１（図５中のＰｕ
ｍｐ２）に接続されており、エアパッド３４からガイド
バー３２の周囲に吹き込まれた空気を排出するようにな
っている。排気溝３６は、排気穴３６ａおよび排気管３
７を介して排気ポンプ４０（図５中のＰｕｍｐ１）に接
続されており、排気溝３５で排気しきれなかった空気を
排出するようになっている。
【０００５】このため、空気軸受３３とガイドバー３２
との間には、エアパッド３４により連続して空気が吹き
込まれ、当該吹き込まれた空気が排気溝３５および排気
溝３６に一次的に貯められ、排気穴３５ａ、３６ａから
排気される。したがって、空気軸受３３から真空室内へ
真空度に悪影響を及ぼすほど空気分子が漏れ出すことは
なく、空気軸受３３およびガイドバー３２間にはほぼ一
定の圧力の気体層が形成され、空気軸受３３およびガイ
ドバー３２間が所定の間隔を持って維持されるようにな
る。
との間には、エアパッド３４により連続して空気が吹き
込まれ、当該吹き込まれた空気が排気溝３５および排気
溝３６に一次的に貯められ、排気穴３５ａ、３６ａから
排気される。したがって、空気軸受３３から真空室内へ
真空度に悪影響を及ぼすほど空気分子が漏れ出すことは
なく、空気軸受３３およびガイドバー３２間にはほぼ一
定の圧力の気体層が形成され、空気軸受３３およびガイ
ドバー３２間が所定の間隔を持って維持されるようにな
る。
【０００６】また、ステージ３１には円柱状の駆動用バ
ー４３が移動軸に平行に接続されている。駆動用バー４
３は、真空室外の図示しないリニアモータに接続されて
おり、リニアモータの駆動により移動軸に沿って移動可
能になっている。また、駆動用バー４３には真空室内外
の空気の流れを常に遮断しつつ移動軸に沿って伸縮する
ことのできるベローズ部材４４が接続されている。した
がって、真空室内の真空度に影響を与えることなくステ
ージ３１を移動軸に沿って移動させることができる。
ー４３が移動軸に平行に接続されている。駆動用バー４
３は、真空室外の図示しないリニアモータに接続されて
おり、リニアモータの駆動により移動軸に沿って移動可
能になっている。また、駆動用バー４３には真空室内外
の空気の流れを常に遮断しつつ移動軸に沿って伸縮する
ことのできるベローズ部材４４が接続されている。した
がって、真空室内の真空度に影響を与えることなくステ
ージ３１を移動軸に沿って移動させることができる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のステージ装置では、ステージ３１の移動軸に沿った
移動における高い位置決め精度を確保するには、ステー
ジ３１に対して４本のガイドバー３２を移動軸に平行に
接続し、さらに、ガイドバー３２に対応する空気軸受３
３についても移動軸に平行に設置するといった微妙な調
整が必要であり、これら調整は困難であるという問題が
ある。また、ステージ３１の移動ストロークを長くしよ
うとすると、ステージ３１の移動方向の前後に移動スト
ロークに応じた長さのガイドバー３２を設けなければな
らず、ステージ装置自体が大きくなってしまう問題があ
る。
来のステージ装置では、ステージ３１の移動軸に沿った
移動における高い位置決め精度を確保するには、ステー
ジ３１に対して４本のガイドバー３２を移動軸に平行に
接続し、さらに、ガイドバー３２に対応する空気軸受３
３についても移動軸に平行に設置するといった微妙な調
整が必要であり、これら調整は困難であるという問題が
ある。また、ステージ３１の移動ストロークを長くしよ
うとすると、ステージ３１の移動方向の前後に移動スト
ロークに応じた長さのガイドバー３２を設けなければな
らず、ステージ装置自体が大きくなってしまう問題があ
る。
【０００８】また、上記従来のステージ装置では、ステ
ージ３１を移動させる際に、ベローズ部材４４を伸縮さ
せるためにリニアモータの駆動力の一部が使われてしま
い、十分な駆動力をステージ３１に効率よく伝えること
ができないという問題がある。さらに、ベローズ部材４
４の伸縮時に生ずる振動によりステージ３１に振動が発
生して、ステージ３１の位置決め精度を低下させる問題
がある。リニアモータを真空室内部に設ければ、ベロー
ズ部材４４を用いる必要がなくなるので、ステージ３１
の位置決め精度の低下を防止できる。しかしながら、真
空室内を高真空度にするような場合には、真空室内のリ
ニアモータで生じた熱を逃がすための冷却用の配管や配
線等の肉厚を厚くしたりテフロン加工等を施したりする
必要が生じ、コストがかかるという問題が生じる。
ージ３１を移動させる際に、ベローズ部材４４を伸縮さ
せるためにリニアモータの駆動力の一部が使われてしま
い、十分な駆動力をステージ３１に効率よく伝えること
ができないという問題がある。さらに、ベローズ部材４
４の伸縮時に生ずる振動によりステージ３１に振動が発
生して、ステージ３１の位置決め精度を低下させる問題
がある。リニアモータを真空室内部に設ければ、ベロー
ズ部材４４を用いる必要がなくなるので、ステージ３１
の位置決め精度の低下を防止できる。しかしながら、真
空室内を高真空度にするような場合には、真空室内のリ
ニアモータで生じた熱を逃がすための冷却用の配管や配
線等の肉厚を厚くしたりテフロン加工等を施したりする
必要が生じ、コストがかかるという問題が生じる。
【０００９】また、真空中では真空室内にあるすべての
部材の表面からガスが放出されるために、試料を収納す
る真空室を高真空度にするためには真空室内の部材の表
面積をできる限り小さくすることが重要である。しかし
ながら、上記のステージ装置では、ステージ３１、ガイ
ドバー３２、空気軸受３３、リニアモータ等のかなりの
部材を試料が収納された真空室に設けているために、当
該真空室を高真空度にすることが困難である。
部材の表面からガスが放出されるために、試料を収納す
る真空室を高真空度にするためには真空室内の部材の表
面積をできる限り小さくすることが重要である。しかし
ながら、上記のステージ装置では、ステージ３１、ガイ
ドバー３２、空気軸受３３、リニアモータ等のかなりの
部材を試料が収納された真空室に設けているために、当
該真空室を高真空度にすることが困難である。
【００１０】本発明の目的は、試料を高真空下で容易、
高効率、且つ高精度に移動させることのできるステージ
装置および光学装置を提供することにある。さらに、本
発明の目的は、試料を収納する真空室を高真空度にする
ことのできるステージ装置および光学装置を提供するこ
とにある。
高効率、且つ高精度に移動させることのできるステージ
装置および光学装置を提供することにある。さらに、本
発明の目的は、試料を収納する真空室を高真空度にする
ことのできるステージ装置および光学装置を提供するこ
とにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の一実施の形態を
表す図１乃至図４に対応付けて説明すると、上記目的
は、所定の真空度で試料（１８）を収納する第１真空室
（１）と、開口（３ａ）が形成された開口面（３ｂ）を
有する隔壁部（３）を挟んで第１真空室（１）と隣接
し、前記所定の真空度よりも低い真空度の第２真空室
（２）と、開口面（３ｂ）と対向する対向面（４ａ）を
有し、第２真空室（２）に設けられた気体軸受（５、２
３、２６）により移動可能に支持され、開口（３ａ）を
介して試料（１８）を保持する移動手段（４および１
７）とを備えたことを特徴とするステージ装置によって
達成される。
表す図１乃至図４に対応付けて説明すると、上記目的
は、所定の真空度で試料（１８）を収納する第１真空室
（１）と、開口（３ａ）が形成された開口面（３ｂ）を
有する隔壁部（３）を挟んで第１真空室（１）と隣接
し、前記所定の真空度よりも低い真空度の第２真空室
（２）と、開口面（３ｂ）と対向する対向面（４ａ）を
有し、第２真空室（２）に設けられた気体軸受（５、２
３、２６）により移動可能に支持され、開口（３ａ）を
介して試料（１８）を保持する移動手段（４および１
７）とを備えたことを特徴とするステージ装置によって
達成される。
【００１２】また、本発明のステージ装置おいて、開口
面（３ｂ）と対向面（４ａ）との間隔を調整する間隔調
整機構（２４および２５、または２７乃至３０）をさら
に備えたことを特徴とする。また、本発明のステージ装
置において、第１真空室（１）内を所定の真空度に維持
するように排気する第１排気手段（１０）と、第２真空
室（２）内を所定の真空度より低い真空度に維持するよ
うに排気する第２排気手段（１２）とをさらに備えたこ
とを特徴とする。また、本発明のステージ装置におい
て、開口面（３ｂ）は開口（３ａ）を取り囲む排気溝
（６）を有し、排気溝（６）内を排気する第３排気手段
（１１）をさらに備えたことを特徴とする。また、本発
明のステージ装置において、移動手段（４および１７）
はリニアモータ（９）で駆動され、リニアモータ（９）
は第１真空室（１）外に設けられていることを特徴とす
る。
面（３ｂ）と対向面（４ａ）との間隔を調整する間隔調
整機構（２４および２５、または２７乃至３０）をさら
に備えたことを特徴とする。また、本発明のステージ装
置において、第１真空室（１）内を所定の真空度に維持
するように排気する第１排気手段（１０）と、第２真空
室（２）内を所定の真空度より低い真空度に維持するよ
うに排気する第２排気手段（１２）とをさらに備えたこ
とを特徴とする。また、本発明のステージ装置におい
て、開口面（３ｂ）は開口（３ａ）を取り囲む排気溝
（６）を有し、排気溝（６）内を排気する第３排気手段
（１１）をさらに備えたことを特徴とする。また、本発
明のステージ装置において、移動手段（４および１７）
はリニアモータ（９）で駆動され、リニアモータ（９）
は第１真空室（１）外に設けられていることを特徴とす
る。
【００１３】また、上記目的は、処理対象の試料（１
８）を真空中で移動可能に保持するステージ装置と、試
料（１８）に光線または荷電粒子線を照射する照射系
（１６）とを備えた光学装置において、ステージ装置
は、本発明のステージ装置であることを特徴とする光学
装置によって達成される。
８）を真空中で移動可能に保持するステージ装置と、試
料（１８）に光線または荷電粒子線を照射する照射系
（１６）とを備えた光学装置において、ステージ装置
は、本発明のステージ装置であることを特徴とする光学
装置によって達成される。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の一実施の形態によるステ
ージ装置およびそれを備えた光学装置の一例としての検
査装置を図１乃至図４を用いて説明する。まず、本実施
の形態による検査装置の概略の構成を図１を用いて説明
する。図１は検査装置の断面を示しており、以下、図中
に示した座標系を用いて説明する。
ージ装置およびそれを備えた光学装置の一例としての検
査装置を図１乃至図４を用いて説明する。まず、本実施
の形態による検査装置の概略の構成を図１を用いて説明
する。図１は検査装置の断面を示しており、以下、図中
に示した座標系を用いて説明する。
【００１５】本検査装置は、壁部１ａおよび隔壁部３に
よって形成される第１真空室１と、壁部２ａおよび隔壁
部３によって形成される第２真空室２とを備えている。
壁部１ａおよび隔壁部３、壁部２ａおよび隔壁部３は、
それぞれＯ−リング１９、２０によってシールされてお
り、真空もれ（リーク）が発生しないようになってい
る。
よって形成される第１真空室１と、壁部２ａおよび隔壁
部３によって形成される第２真空室２とを備えている。
壁部１ａおよび隔壁部３、壁部２ａおよび隔壁部３は、
それぞれＯ−リング１９、２０によってシールされてお
り、真空もれ（リーク）が発生しないようになってい
る。
【００１６】壁部１ａには、第１真空室１内を高真空度
（例えば、１０−５ 〜１０−６Ｔｏｒｒ）に排気する
ターボポンプ（図１中のＴＰ）１０が接続されている。
ターボポンプ１０は第１真空室１内が所定の真空度に達
してから作動させるので、ターボポンプ１０の後段に
は、第１真空室１内をターボポンプ１０が動作可能な真
空度にするために排気するロータリーポンプ１２（図１
中のＲＰ）が接続されている。
（例えば、１０−５ 〜１０−６Ｔｏｒｒ）に排気する
ターボポンプ（図１中のＴＰ）１０が接続されている。
ターボポンプ１０は第１真空室１内が所定の真空度に達
してから作動させるので、ターボポンプ１０の後段に
は、第１真空室１内をターボポンプ１０が動作可能な真
空度にするために排気するロータリーポンプ１２（図１
中のＲＰ）が接続されている。
【００１７】また、壁部１ａには、試料台１７に載置さ
れているウェハ（試料）１８を観察するための電子ビー
ムコラム１６が備えられている。壁部１ａおよび電子ビ
ームコラム１６はＯ−リング２１によってシールされて
おり、リークが発生しないようになっている。電子ビー
ムコラム１６は、図示しない電子銃によって電子ビーム
を発生させ、発生させた電子ビームを電子レンズによっ
て収束させた後、偏向コイルによって走査させて、試料
台１７に載置されているウェハ１８に照射させる。そし
て、照射によって発生する２次電子や反射される電子を
検出し、検出した電子に基づいてウェハ１８の表面に形
成されたパターンを検出するようになっている。
れているウェハ（試料）１８を観察するための電子ビー
ムコラム１６が備えられている。壁部１ａおよび電子ビ
ームコラム１６はＯ−リング２１によってシールされて
おり、リークが発生しないようになっている。電子ビー
ムコラム１６は、図示しない電子銃によって電子ビーム
を発生させ、発生させた電子ビームを電子レンズによっ
て収束させた後、偏向コイルによって走査させて、試料
台１７に載置されているウェハ１８に照射させる。そし
て、照射によって発生する２次電子や反射される電子を
検出し、検出した電子に基づいてウェハ１８の表面に形
成されたパターンを検出するようになっている。
【００１８】隔壁部３には開口３ａが形成されており、
第１真空室１と第２真空室２とが連通するようになって
いる。隔壁部３の第２真空室２側の面には、Ｘ−Ｚ断面
がＬ字形状および逆Ｌ字形状からなる軸受固定部８が固
定されている。第２真空室２内の隔壁部３および軸受固
定部８によって囲まれた一領域には、Ｙ方向に移動可能
な移動ステージ４が設けられている。移動ステージ４に
は、２つの軸受部５ａ、５ｂからなる空気軸受（気体軸
受）５が接続されている。
第１真空室１と第２真空室２とが連通するようになって
いる。隔壁部３の第２真空室２側の面には、Ｘ−Ｚ断面
がＬ字形状および逆Ｌ字形状からなる軸受固定部８が固
定されている。第２真空室２内の隔壁部３および軸受固
定部８によって囲まれた一領域には、Ｙ方向に移動可能
な移動ステージ４が設けられている。移動ステージ４に
は、２つの軸受部５ａ、５ｂからなる空気軸受（気体軸
受）５が接続されている。
【００１９】空気軸受５の−Ｘ側の軸受部５ａは、＋Ｚ
側、−Ｚ側、および−Ｘ側に隔壁部３および軸受固定部
８と対向する面を有しており、各面には隔壁部３または
軸受固定部８との間に圧縮空気を送り込むエアパッド７
が設けられている。また、空気軸受５の＋Ｘ側の軸受部
５ｂは、＋Ｚ側、−Ｚ側および＋Ｘ側に隔壁部３および
軸受固定部８と対向する面を有しており、各面には隔壁
部３または軸受固定部８との間に圧縮空気を送り込むエ
アパッド７が設けられている。エアパッド７には、第２
真空室２の外部に備えられた圧縮空気源１４（図１中の
Ａｉｒ）から、継手１５、チューブ１３および通気口７
ａを介して圧縮空気が供給されるようになっている。な
お、継手１５は壁部２ａにＯ−リング２２を挟んで固定
され、リークが発生しないようになっている。また、チ
ューブ１３は、比較的低真空度に維持される第２真空室
２内に設けられているために、高真空度に対応させる必
要がなく、コストを抑えることができる。
側、−Ｚ側、および−Ｘ側に隔壁部３および軸受固定部
８と対向する面を有しており、各面には隔壁部３または
軸受固定部８との間に圧縮空気を送り込むエアパッド７
が設けられている。また、空気軸受５の＋Ｘ側の軸受部
５ｂは、＋Ｚ側、−Ｚ側および＋Ｘ側に隔壁部３および
軸受固定部８と対向する面を有しており、各面には隔壁
部３または軸受固定部８との間に圧縮空気を送り込むエ
アパッド７が設けられている。エアパッド７には、第２
真空室２の外部に備えられた圧縮空気源１４（図１中の
Ａｉｒ）から、継手１５、チューブ１３および通気口７
ａを介して圧縮空気が供給されるようになっている。な
お、継手１５は壁部２ａにＯ−リング２２を挟んで固定
され、リークが発生しないようになっている。また、チ
ューブ１３は、比較的低真空度に維持される第２真空室
２内に設けられているために、高真空度に対応させる必
要がなく、コストを抑えることができる。
【００２０】したがって、上記の空気軸受５によると、
＋Ｘ側、−Ｘ側の軸受部５ａ、５ｂの＋Ｚ側および−Ｚ
側のエアパッド７から送り込まれる空気により、空気軸
受５および移動ステージ４がＺ方向に関して隔壁部３お
よび軸受固定部８と間隔を保つように支持され、軸受部
５ａの−Ｘ側のエアパッド７および軸受部５ｂの＋Ｘ側
のエアパッド７によって送り込まれる空気により、空気
軸受５および移動ステージ４がＸ方向に関して軸受固定
部８と間隔を保つように支持される。
＋Ｘ側、−Ｘ側の軸受部５ａ、５ｂの＋Ｚ側および−Ｚ
側のエアパッド７から送り込まれる空気により、空気軸
受５および移動ステージ４がＺ方向に関して隔壁部３お
よび軸受固定部８と間隔を保つように支持され、軸受部
５ａの−Ｘ側のエアパッド７および軸受部５ｂの＋Ｘ側
のエアパッド７によって送り込まれる空気により、空気
軸受５および移動ステージ４がＸ方向に関して軸受固定
部８と間隔を保つように支持される。
【００２１】移動ステージ４は、隔壁部３の開口３ａの
周囲の面（開口面）３ｂと対向する平面（対向面）４ａ
を有しており、移動ステージ４の対向面４ａと隔壁部３
の開口面３ｂとの間隔は上記の空気軸受５によって数ミ
クロン（例えば、３〜１０ミクロン）の間隔に保たれて
いる。なお、第１真空室１の真空度を高めるためには、
移動ステージ４の対向面４ａと隔壁部３の開口面３ｂと
の間隔をできるだけ小さくすることが好ましい。
周囲の面（開口面）３ｂと対向する平面（対向面）４ａ
を有しており、移動ステージ４の対向面４ａと隔壁部３
の開口面３ｂとの間隔は上記の空気軸受５によって数ミ
クロン（例えば、３〜１０ミクロン）の間隔に保たれて
いる。なお、第１真空室１の真空度を高めるためには、
移動ステージ４の対向面４ａと隔壁部３の開口面３ｂと
の間隔をできるだけ小さくすることが好ましい。
【００２２】移動ステージ４の＋Ｚ側には隔壁部３の開
口３ａを通じて第１真空室１内に位置するようにウェハ
１８を載置する試料台１７が設けられている。したがっ
て、第１真空室１内には、空気軸受５や後述のリニアモ
ータ９等の部材が存在せず、第１真空室１内にある部材
の表面積を小さくすることができ、部材から発生するガ
スを抑えることができる。隔壁部３の開口面３ｂには、
開口３ａを囲むように凹状の排気溝６が形成されてお
り、排気溝６は排気口６ａを介して排気溝６内を排気す
るためのターボポンプ（図１中のＴＰ）１１に繋がれて
いる。ターボポンプ１１は排気溝６内を、例えば、１０
−３〜１０−４Ｔｏｒｒの真空度に維持させることがで
きるようになっている。ターボポンプ１１は排気溝６内
が所定の真空度に達してから作動させるので、ターボポ
ンプ１１の後段には、排気溝６内をターボポンプ１１が
動作可能な真空度にするために排気するロータリーポン
プ１２が接続されている。
口３ａを通じて第１真空室１内に位置するようにウェハ
１８を載置する試料台１７が設けられている。したがっ
て、第１真空室１内には、空気軸受５や後述のリニアモ
ータ９等の部材が存在せず、第１真空室１内にある部材
の表面積を小さくすることができ、部材から発生するガ
スを抑えることができる。隔壁部３の開口面３ｂには、
開口３ａを囲むように凹状の排気溝６が形成されてお
り、排気溝６は排気口６ａを介して排気溝６内を排気す
るためのターボポンプ（図１中のＴＰ）１１に繋がれて
いる。ターボポンプ１１は排気溝６内を、例えば、１０
−３〜１０−４Ｔｏｒｒの真空度に維持させることがで
きるようになっている。ターボポンプ１１は排気溝６内
が所定の真空度に達してから作動させるので、ターボポ
ンプ１１の後段には、排気溝６内をターボポンプ１１が
動作可能な真空度にするために排気するロータリーポン
プ１２が接続されている。
【００２３】移動ステージ４の−Ｚ側には、リニアモー
タ９の可動子９ａが接続され、可動子９ａは固定子９ｂ
と間隔を開けて対向するように配置されている。リニア
モータ９は、可動子９ａと固定子９ｂとの相互作用によ
り可動子９ａがＹ方向に移動できるようになっている。
なお、リニアモータ９は第２真空室２内に配置されてい
るが、後述するように第２真空室２内は比較的低い真空
度であるので、リニアモータ９により発生した熱を取り
除くための冷却水を循環させる図示しない配管や配線等
は、高真空度に対応させる必要がなく、コストがかから
ない。壁部２ａには、第２真空室２内を第１真空室１内
より低い真空度（例えば、数〜数百Ｔｏｒｒ）に排気す
るロータリーポンプ１２が接続されている。
タ９の可動子９ａが接続され、可動子９ａは固定子９ｂ
と間隔を開けて対向するように配置されている。リニア
モータ９は、可動子９ａと固定子９ｂとの相互作用によ
り可動子９ａがＹ方向に移動できるようになっている。
なお、リニアモータ９は第２真空室２内に配置されてい
るが、後述するように第２真空室２内は比較的低い真空
度であるので、リニアモータ９により発生した熱を取り
除くための冷却水を循環させる図示しない配管や配線等
は、高真空度に対応させる必要がなく、コストがかから
ない。壁部２ａには、第２真空室２内を第１真空室１内
より低い真空度（例えば、数〜数百Ｔｏｒｒ）に排気す
るロータリーポンプ１２が接続されている。
【００２４】ここで、移動ステージ４の対向面４ａ、お
よび隔壁部３の開口３ａおよび排気溝６について図２を
参照して詳細に説明する。図２は、隔壁部３、軸受固定
部８、移動ステージ４および空気軸受５等を矢印Ｐ、Ｑ
に示すように分解した状態の検査装置の移動ステージ４
回りの斜視図を示している。なお、図２では、図１の座
標軸に対応する座標軸をとるものとする。また、図２中
の破線ａは、移動ステージ４および試料台１７が最も＋
Ｙ側に移動した際の隔壁部３に対するこれら位置を示
し、破線ｂは、移動ステージ４および試料台１７が最も
−Ｙ側に移動した際の隔壁部３に対するこれらの位置を
示している。
よび隔壁部３の開口３ａおよび排気溝６について図２を
参照して詳細に説明する。図２は、隔壁部３、軸受固定
部８、移動ステージ４および空気軸受５等を矢印Ｐ、Ｑ
に示すように分解した状態の検査装置の移動ステージ４
回りの斜視図を示している。なお、図２では、図１の座
標軸に対応する座標軸をとるものとする。また、図２中
の破線ａは、移動ステージ４および試料台１７が最も＋
Ｙ側に移動した際の隔壁部３に対するこれら位置を示
し、破線ｂは、移動ステージ４および試料台１７が最も
−Ｙ側に移動した際の隔壁部３に対するこれらの位置を
示している。
【００２５】隔壁部３の開口３ａは、図２に示すよう
に、試料台１７の移動を妨げないように移動範囲（破線
ａ〜破線ｂ）を包含する大きさとなっている。移動ステ
ージ４の対向面４ａは、図２に示すように移動範囲にお
いて常に開口３ａに対向するようになっている。これに
より、第１真空室１および第２真空室２は、移動ステー
ジ４の対向面４ａおよび隔壁部３の開口面３ｂとの間の
わずかな隙間のみでしか連通しないようになっている。
また、隔壁部３の排気溝６は、移動ステージ４の移動範
囲（破線ａ〜破線ｂ）において、常に対向面４ａと対向
する位置に設けられている。
に、試料台１７の移動を妨げないように移動範囲（破線
ａ〜破線ｂ）を包含する大きさとなっている。移動ステ
ージ４の対向面４ａは、図２に示すように移動範囲にお
いて常に開口３ａに対向するようになっている。これに
より、第１真空室１および第２真空室２は、移動ステー
ジ４の対向面４ａおよび隔壁部３の開口面３ｂとの間の
わずかな隙間のみでしか連通しないようになっている。
また、隔壁部３の排気溝６は、移動ステージ４の移動範
囲（破線ａ〜破線ｂ）において、常に対向面４ａと対向
する位置に設けられている。
【００２６】次に、本実施の形態によるステージ装置お
よび検査装置の動作を説明する。本検査装置では、ロー
タリーポンプ１２によって、第１真空室１内、排気溝６
内、第２真空室２内を排気させる。そして、第１真空室
内が所定の真空度になった後には、ターボポンプ１０を
動作させて第１真空室内を排気する。また、排気溝６内
が所定の真空度になった後には、ターボポンプ１１を動
作させて排気溝６内を排気する。これによって、第１真
空室１内は高真空度に維持され、第２真空室２内は第１
真空室内より低い真空室で維持されるようになる。この
ような動作と共に、圧縮空気源１４から継手１５、チュ
ーブ１３、通気口７ａを介して空気軸受５のエアパッド
７に圧縮空気を供給する。これによって、移動ステージ
４の対向面４ａと隔壁部３の開口面３ｂ間が所定の隙間
に維持されつつ、移動ステージ４をＹ方向に移動させる
ことができるようになっている。
よび検査装置の動作を説明する。本検査装置では、ロー
タリーポンプ１２によって、第１真空室１内、排気溝６
内、第２真空室２内を排気させる。そして、第１真空室
内が所定の真空度になった後には、ターボポンプ１０を
動作させて第１真空室内を排気する。また、排気溝６内
が所定の真空度になった後には、ターボポンプ１１を動
作させて排気溝６内を排気する。これによって、第１真
空室１内は高真空度に維持され、第２真空室２内は第１
真空室内より低い真空室で維持されるようになる。この
ような動作と共に、圧縮空気源１４から継手１５、チュ
ーブ１３、通気口７ａを介して空気軸受５のエアパッド
７に圧縮空気を供給する。これによって、移動ステージ
４の対向面４ａと隔壁部３の開口面３ｂ間が所定の隙間
に維持されつつ、移動ステージ４をＹ方向に移動させる
ことができるようになっている。
【００２７】ここで、上記動作中の検査装置内の空気の
状態について説明する。検査装置においては、第１真空
室１内は第２真空室２内より高い真空度に維持されてお
り、また、第１真空室１と第２真空室２とは連通してい
るので、第２真空室２から第１真空室１へ向かって空気
が流れることになる。しかしながら、第１真空室１と第
２真空室２とは移動ステージ４の対向面４ａおよび隔壁
部３の開口面３ｂとのわずかな隙間のみを介して連通し
ているだけであるので、第２真空室２内から第１真空室
１側へ流れる空気は微量である。したがって、エアパッ
ド７から送出される空気の大部分はロータリーポンプ１
２によって排気される。
状態について説明する。検査装置においては、第１真空
室１内は第２真空室２内より高い真空度に維持されてお
り、また、第１真空室１と第２真空室２とは連通してい
るので、第２真空室２から第１真空室１へ向かって空気
が流れることになる。しかしながら、第１真空室１と第
２真空室２とは移動ステージ４の対向面４ａおよび隔壁
部３の開口面３ｂとのわずかな隙間のみを介して連通し
ているだけであるので、第２真空室２内から第１真空室
１側へ流れる空気は微量である。したがって、エアパッ
ド７から送出される空気の大部分はロータリーポンプ１
２によって排気される。
【００２８】また、移動ステージ４の対向面４ａおよび
隔壁部３の開口面３ｂとのわずかな隙間を第２真空室２
内から第１真空室１側へ流れる空気の大部分は、排気溝
６から排気溝６ａを介してターボポンプ１１によって排
気される。このため、第１真空室１内に流れ込む空気の
量は非常に微量となり、第１真空室１内の真空度にほと
んど影響を与えることがない。また、上述のように第１
真空室１内には、試料台１７等のわずかな部材しか存在
しないので、部材から発生するガスは真空度にほとんど
影響を及ぼさない。したがって、第１真空室１内の真空
度を高真空度に維持することができる。また、検査装置
においては、移動ステージ４が移動しても、移動ステー
ジ４の対向面４ａおよび隔壁部３の開口面３ｂとが常に
わずかな隙間に維持されるようになっているので、上記
状態が移動中常に維持される。
隔壁部３の開口面３ｂとのわずかな隙間を第２真空室２
内から第１真空室１側へ流れる空気の大部分は、排気溝
６から排気溝６ａを介してターボポンプ１１によって排
気される。このため、第１真空室１内に流れ込む空気の
量は非常に微量となり、第１真空室１内の真空度にほと
んど影響を与えることがない。また、上述のように第１
真空室１内には、試料台１７等のわずかな部材しか存在
しないので、部材から発生するガスは真空度にほとんど
影響を及ぼさない。したがって、第１真空室１内の真空
度を高真空度に維持することができる。また、検査装置
においては、移動ステージ４が移動しても、移動ステー
ジ４の対向面４ａおよび隔壁部３の開口面３ｂとが常に
わずかな隙間に維持されるようになっているので、上記
状態が移動中常に維持される。
【００２９】このように第１真空室１内を高真空度に維
持した状態で、電子ビームコラム１６において、電子銃
によって電子ビームが照射され、照射された電子ビーム
は、電子レンズによって収束され、偏向コイルによって
走査され、試料台１７上のウェハ１８に照射される。こ
のような動作と共に、リニアモータ９が移動ステージ４
および試料台１７を駆動してウェハ１８を移動させて、
ウェハ１８全面に電子ビームを照射させることができる
ようになる。さらに、上記の動作と共に、電子ビームコ
ラム１６において、ウェハ１８からの２次電子や反射さ
れた電子が検出され、検出された電子に基づいてウェハ
１８に形成されているパターンが検出され、設計パター
ンと比較されて設計通りであるか否かが検査される。
持した状態で、電子ビームコラム１６において、電子銃
によって電子ビームが照射され、照射された電子ビーム
は、電子レンズによって収束され、偏向コイルによって
走査され、試料台１７上のウェハ１８に照射される。こ
のような動作と共に、リニアモータ９が移動ステージ４
および試料台１７を駆動してウェハ１８を移動させて、
ウェハ１８全面に電子ビームを照射させることができる
ようになる。さらに、上記の動作と共に、電子ビームコ
ラム１６において、ウェハ１８からの２次電子や反射さ
れた電子が検出され、検出された電子に基づいてウェハ
１８に形成されているパターンが検出され、設計パター
ンと比較されて設計通りであるか否かが検査される。
【００３０】このように本検査装置によれば、真空度を
維持するためのベローズ部材を設ける必要がないため
に、リニアモータの駆動を効率よく試料台１７の移動に
利用することができ、また、ベローズ部材による振動が
発生しないので、試料台１７の位置決め精度を向上させ
ることができる。さらに、試料を収納する第１真空室１
内の試料を保持して移動するための部材の表面積を抑え
ることができるので、部材から発生するガスによる真空
度の低下を防いで、第１真空室１を高真空度にすること
ができる。また、本検査装置では、図５に示す従来のス
テージ装置のようにステージの移動方向の前後に空気軸
受を備えておく必要がないので、装置サイズを抑えるこ
とができる。また、空気軸受の構成も単純な形状であ
り、従来に比してステージの位置決め精度を確保するた
めの調整作業は容易である。
維持するためのベローズ部材を設ける必要がないため
に、リニアモータの駆動を効率よく試料台１７の移動に
利用することができ、また、ベローズ部材による振動が
発生しないので、試料台１７の位置決め精度を向上させ
ることができる。さらに、試料を収納する第１真空室１
内の試料を保持して移動するための部材の表面積を抑え
ることができるので、部材から発生するガスによる真空
度の低下を防いで、第１真空室１を高真空度にすること
ができる。また、本検査装置では、図５に示す従来のス
テージ装置のようにステージの移動方向の前後に空気軸
受を備えておく必要がないので、装置サイズを抑えるこ
とができる。また、空気軸受の構成も単純な形状であ
り、従来に比してステージの位置決め精度を確保するた
めの調整作業は容易である。
【００３１】次に、本実施の形態による検査装置の空気
軸受５の他の例を図３を参照して説明する。図３は、空
気軸受の−Ｘ側の軸受部周辺を示している。図３におい
て図１と同様な機能を有する構成要素には同一符号を付
して重複する説明を省略する。空気軸受２３は、図１に
示す空気軸受５において、通気口７ａから＋Ｚ側のエア
パッド７に至る圧縮空気の流路にノズル径を変えること
のできる可変ノズル部材２４を備え、通気口７ａから−
Ｚ側のエアパッド７に至る圧縮空気の流路にノズル径を
変えることのできる可変ノズル部材２５を備えたもので
ある。
軸受５の他の例を図３を参照して説明する。図３は、空
気軸受の−Ｘ側の軸受部周辺を示している。図３におい
て図１と同様な機能を有する構成要素には同一符号を付
して重複する説明を省略する。空気軸受２３は、図１に
示す空気軸受５において、通気口７ａから＋Ｚ側のエア
パッド７に至る圧縮空気の流路にノズル径を変えること
のできる可変ノズル部材２４を備え、通気口７ａから−
Ｚ側のエアパッド７に至る圧縮空気の流路にノズル径を
変えることのできる可変ノズル部材２５を備えたもので
ある。
【００３２】空気軸受２３によると、可変ノズル部材２
４、２５のノズル径を変えることにより、エアパッド７
から隔壁部３または軸受固定部８側に送り込む空気の量
を調節することができ、隔壁部３と移動ステージ４との
間隔（図中のΔＺ）を調節することができる。この結
果、第２真空室２から第１真空室１側へ流れる空気の量
を調節することができ、第１真空室１内の真空度を調整
することができる。したがって、試料の種類、あるいは
観察の内容に応じて要求される真空度に、第１真空室１
内を調整することができる。
４、２５のノズル径を変えることにより、エアパッド７
から隔壁部３または軸受固定部８側に送り込む空気の量
を調節することができ、隔壁部３と移動ステージ４との
間隔（図中のΔＺ）を調節することができる。この結
果、第２真空室２から第１真空室１側へ流れる空気の量
を調節することができ、第１真空室１内の真空度を調整
することができる。したがって、試料の種類、あるいは
観察の内容に応じて要求される真空度に、第１真空室１
内を調整することができる。
【００３３】次に、本実施の形態による検査装置の空気
軸受５のさらに他の例を図４を参照して説明する。図４
は、空気軸受の−Ｘ側の軸受部周辺を示している。図４
において図１と同様な機能を有する構成要素には同一符
号を付して重複する説明を省略する。空気軸受２６は、
＋Ｚ側のエアパッド７に圧縮空気を供給する通気口２７
と、−Ｚ側および−Ｘ側のエアパッド７に圧縮空気を供
給する通気口２８とを備え、圧縮空気源１４と各通気口
２７、２８との間に圧縮空気の圧力を調節するレギュレ
ータ２９、３０を備えている。
軸受５のさらに他の例を図４を参照して説明する。図４
は、空気軸受の−Ｘ側の軸受部周辺を示している。図４
において図１と同様な機能を有する構成要素には同一符
号を付して重複する説明を省略する。空気軸受２６は、
＋Ｚ側のエアパッド７に圧縮空気を供給する通気口２７
と、−Ｚ側および−Ｘ側のエアパッド７に圧縮空気を供
給する通気口２８とを備え、圧縮空気源１４と各通気口
２７、２８との間に圧縮空気の圧力を調節するレギュレ
ータ２９、３０を備えている。
【００３４】空気軸受２６によると、レギュレータ２
９、３０を調節することにより、＋Ｚ側のエアパッド７
から隔壁部３側に送り込む圧縮空気の圧力と、−Ｚ側の
エアパッド７から軸受固定部８側に送り込む圧縮空気の
圧力とを調節することができ、隔壁部３と移動ステージ
４との間隔（図中のΔＺ）を調節することができる。こ
の結果、第２真空室２から第１真空室１側へ流れる空気
の量を調節することができ、第１真空室１内の真空度を
調整することができる。したがって、試料の種類、ある
いは観察の内容に応じて要求される真空度に、第１真空
室１内を調整することができる。
９、３０を調節することにより、＋Ｚ側のエアパッド７
から隔壁部３側に送り込む圧縮空気の圧力と、−Ｚ側の
エアパッド７から軸受固定部８側に送り込む圧縮空気の
圧力とを調節することができ、隔壁部３と移動ステージ
４との間隔（図中のΔＺ）を調節することができる。こ
の結果、第２真空室２から第１真空室１側へ流れる空気
の量を調節することができ、第１真空室１内の真空度を
調整することができる。したがって、試料の種類、ある
いは観察の内容に応じて要求される真空度に、第１真空
室１内を調整することができる。
【００３５】上記実施の形態では、移動ステージ４と空
気軸受５とを別の部材として説明したが、これらを一体
の部材としてもよい。また、上記実施の形態では、ロー
タリーポンプ、ターボポンプを用いた例を説明したが、
本発明はこれらに限られず、他の種類のポンプを用いる
こともできる。また、上記実施の形態では、ターボポン
プ１０、１１の後段に第２真空室２内の排気を行うロー
タリーポンプ１２を接続していたが、本発明はこれに限
られず、ターボポンプ１０、１１の後段にロータリーポ
ンプ１２とは別系統のロータリーポンプを接続するよう
にしてもよい。
気軸受５とを別の部材として説明したが、これらを一体
の部材としてもよい。また、上記実施の形態では、ロー
タリーポンプ、ターボポンプを用いた例を説明したが、
本発明はこれらに限られず、他の種類のポンプを用いる
こともできる。また、上記実施の形態では、ターボポン
プ１０、１１の後段に第２真空室２内の排気を行うロー
タリーポンプ１２を接続していたが、本発明はこれに限
られず、ターボポンプ１０、１１の後段にロータリーポ
ンプ１２とは別系統のロータリーポンプを接続するよう
にしてもよい。
【００３６】また、上記実施の形態では、直線移動する
１軸のステージ装置で説明したが、本発明はこれに限ら
れず、２軸に移動するステージ装置や、回転移動するス
テージ装置等にも適用することができる。また、上記実
施の形態では、ウェハを試料とする装置について説明し
たが、本発明はこれに限られず、マスクや液晶基板など
のガラス基板等を試料とする装置にも適用することがで
きる。
１軸のステージ装置で説明したが、本発明はこれに限ら
れず、２軸に移動するステージ装置や、回転移動するス
テージ装置等にも適用することができる。また、上記実
施の形態では、ウェハを試料とする装置について説明し
たが、本発明はこれに限られず、マスクや液晶基板など
のガラス基板等を試料とする装置にも適用することがで
きる。
【００３７】また、上記実施の形態では、検査装置につ
いて説明したが、本発明はこれに限られず、例えば、パ
ターンを転写する露光装置、電子顕微鏡、荷電粒子線で
パターンを転写あるいは形成するエレクトロンビーム装
置等の他の光学装置にも適用することができる。また、
上記実施の形態では、光学装置に備えられているステー
ジ装置について説明したが、本発明はこれに限られず、
真空室に収容した試料を移動させるステージ装置であれ
ば適用することができる。
いて説明したが、本発明はこれに限られず、例えば、パ
ターンを転写する露光装置、電子顕微鏡、荷電粒子線で
パターンを転写あるいは形成するエレクトロンビーム装
置等の他の光学装置にも適用することができる。また、
上記実施の形態では、光学装置に備えられているステー
ジ装置について説明したが、本発明はこれに限られず、
真空室に収容した試料を移動させるステージ装置であれ
ば適用することができる。
【００３８】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、試料を真
空下で容易、高効率且つ高精度に移動することができ
る。さらに、本発明によれば、試料を収納する真空室を
高真空度にすることができる。
空下で容易、高効率且つ高精度に移動することができ
る。さらに、本発明によれば、試料を収納する真空室を
高真空度にすることができる。
【図１】本発明の一実施の形態によるステージ装置およ
びそれを備えた検査装置の概略の構成を示す図である。
びそれを備えた検査装置の概略の構成を示す図である。
【図２】本発明の一実施の形態による検査装置の一部を
分解した斜視図である。
分解した斜視図である。
【図３】本発明の一実施の形態による空気軸受の他の例
を示す図である。
を示す図である。
【図４】本発明の一実施の形態による空気軸受のさらに
他の例を示す図である。
他の例を示す図である。
【図５】従来のステージ装置の概略の構成を示す図であ
る。
る。
１ 第１真空室 １ａ 壁部 ２ 第２真空室 ２ａ 壁部 ３ 隔壁部 ３ａ 開口 ３ｂ 開口面 ４ 移動ステージ ４ａ 対向面 ５、２３、２６ 空気軸受 ５ａ、５ｂ 軸受部 ６ 排気溝 ７ エアパッド ７ａ、２７、２８ 通気口 ８ 軸受固定部 ９ リニアモータ ９ａ 可動子 ９ｂ 固定子 １０、１１ ターボポンプ １２ ロータリーポンプ １３ チューブ １４ 圧縮空気源 １５ 継手 １６ 電子ビームコラム １７ 試料台 １８ ウェハ １９、２０、２１、２２ Ｏ−リング ２４、２５ 可変ノズル部材 ２９、３０ レギュレータ
Claims (6)
- 【請求項１】所定の真空度で試料を収納する第１真空室
と、 開口が形成された開口面を有する隔壁部を挟んで前記第
１真空室と隣接し、前記所定の真空度よりも低い真空度
の第２真空室と、 前記開口面と対向する対向面を有し、前記第２真空室に
設けられた気体軸受により移動可能に支持され、前記開
口を介して前記試料を保持する移動手段とを備えたこと
を特徴とするステージ装置。 - 【請求項２】請求項１記載のステージ装置おいて、 前記開口面と前記対向面との間隔を調整する間隔調整機
構をさらに備えたことを特徴とするステージ装置。 - 【請求項３】請求項１または２に記載のステージ装置に
おいて、 前記第１真空室内を前記所定の真空度に維持するように
排気する第１排気手段と、 前記第２真空室内を前記所定の真空度より低い真空度に
維持するように排気する第２排気手段とをさらに備えた
ことを特徴とするステージ装置。 - 【請求項４】請求項１乃至３のいずれかに記載のステー
ジ装置において、 前記開口面は前記開口を取り囲む排気溝を有し、 前記排気溝内を排気する第３排気手段をさらに備えたこ
とを特徴とするステージ装置。 - 【請求項５】請求項１乃至４のいずれかに記載のステー
ジ装置において、 前記移動手段はリニアモータで駆動され、前記リニアモ
ータは前記第１真空室外に設けられていることを特徴と
するステージ装置。 - 【請求項６】処理対象の試料を真空中で移動可能に保持
するステージ装置と、前記試料に光線または荷電粒子線
を照射する照射系とを備えた光学装置において、 前記ステージ装置は、請求項１乃至５のいずれかに記載
のステージ装置であることを特徴とする光学装置。
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|---|---|---|---|
| JP22919298A JP4314648B2 (ja) | 1998-08-13 | 1998-08-13 | ステージ装置およびそれを備えた光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22919298A JP4314648B2 (ja) | 1998-08-13 | 1998-08-13 | ステージ装置およびそれを備えた光学装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000067793A true JP2000067793A (ja) | 2000-03-03 |
| JP4314648B2 JP4314648B2 (ja) | 2009-08-19 |
Family
ID=16888257
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22919298A Expired - Lifetime JP4314648B2 (ja) | 1998-08-13 | 1998-08-13 | ステージ装置およびそれを備えた光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4314648B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6932873B2 (en) * | 2002-07-30 | 2005-08-23 | Applied Materials Israel, Ltd. | Managing work-piece deflection |
| JP2007134729A (ja) * | 2000-06-02 | 2007-05-31 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ投影装置、支持アセンブリ、およびデバイス製造方法 |
| JP2010151322A (ja) * | 2010-04-01 | 2010-07-08 | Sigma Technos Kk | Ｘｙステージ |
-
1998
- 1998-08-13 JP JP22919298A patent/JP4314648B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007134729A (ja) * | 2000-06-02 | 2007-05-31 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ投影装置、支持アセンブリ、およびデバイス製造方法 |
| JP4512081B2 (ja) * | 2000-06-02 | 2010-07-28 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | リソグラフィ投影装置、支持アセンブリ、およびデバイス製造方法 |
| US6932873B2 (en) * | 2002-07-30 | 2005-08-23 | Applied Materials Israel, Ltd. | Managing work-piece deflection |
| JP2010151322A (ja) * | 2010-04-01 | 2010-07-08 | Sigma Technos Kk | Ｘｙステージ |
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| Publication number | Publication date |
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| JP4314648B2 (ja) | 2009-08-19 |
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