JP5079672B2 - 音響共振器を有するリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Claims (5)
- パターニングデバイスから基板にパターンを転写するように構成されたリソグラフィ装置であって、
前記パターンデバイスによりパターンが付与されたパターン付き放射ビームを通過させ、前記パターンの転写に不要な放射ビームをシールドするためのシールドと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
前記シールド内に設けられ、前記リソグラフィ装置の音響振動を少なくとも部分的に減衰させるように構成された音響共振器と、
を含み、
前記シールドは、前記パターン付き放射ビームを通過させる開口部を有し、
前記音響共振器は、
周囲壁によって囲まれた、ガスを留めるための空間と、
前記ガスを前記空間に放出する、互いに異なる容量を有する複数のガスダクトと、
を含むヘルムホルツ共振器であり、
前記空間および前記複数のダクトは、前記シールド内に含まれており、
前記複数のガスダクトは、前記開口部と前記空間とを連通している、
リソグラフィ装置。 - 前記ダクトの壁が、前記ダクト内に音響抵抗を提供するように、少なくとも部分的にリブまたは起伏となっている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記空間の前記周囲壁の少なくとも一部がアクティブエレメントによって形成され、前記空間の容量の変化をもたらす前記アクティブエレメントの変位を提供するように前記アクティブエレメントが駆動されることができる、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
前記パターニングデバイスを支持するように構成されたサポートと、
前記基板を保持するように構成された基板テーブルと、
をさらに備える、
請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - パターン付き放射ビームを形成するために放射ビームをパターン形成すること、
シールドにより、前記パターン付き放射ビームを通過させ、前記パターンの転写に不要な放射ビームをシールドすること、
前記パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影すること、および
前記投影の間に音響振動を少なくとも部分的に減衰させること、を含み、
前記減衰が、
前記シールド内に設けられたヘルムホルツ共振器によって実行されるものであり、
前記ヘルムホルツ共振器が、
周囲壁によって囲まれた、ガスを留めるための空間と、
前記ガスを前記空間に放出する、互いに異なる容量を有する複数のガスダクトと、を含み、
前記空間および前記複数のダクトが、前記シールド内に含まれており、
前記複数のガスダクトが、前記パターン付き放射ビームの通過を可能にする開口部と前記空間とを連通するように構成されている、
デバイス製造方法。
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