JP2003288856A - 荷電粒子ビーム装置 - Google Patents
荷電粒子ビーム装置Info
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 振動系（ステージ移動系）の減衰振動（残留
振動）及び／若しくは外乱振動による固有振動の励起振
動を速やかに減衰させる。 【解決手段】 ステージ２４に、ピエゾ素子３１と重り
３３付き金属板３２とから成る機械的動吸振器を取り付
ける。又、ピエゾ素子３１を容量分としたＬＣＲ共振回
路を形成する。機械的動吸振器の固有振動周波数がステ
ージの固有振動周波数に一致若しくは近似するように機
械的動吸振器を構成する。又、ＬＣＲ共振回路の共振周
波数が機械的動吸振器の固有振動周波数に一致若しくは
近似するようにＬＣＲ共振回路を構成する。
振動）及び／若しくは外乱振動による固有振動の励起振
動を速やかに減衰させる。 【解決手段】 ステージ２４に、ピエゾ素子３１と重り
３３付き金属板３２とから成る機械的動吸振器を取り付
ける。又、ピエゾ素子３１を容量分としたＬＣＲ共振回
路を形成する。機械的動吸振器の固有振動周波数がステ
ージの固有振動周波数に一致若しくは近似するように機
械的動吸振器を構成する。又、ＬＣＲ共振回路の共振周
波数が機械的動吸振器の固有振動周波数に一致若しくは
近似するようにＬＣＲ共振回路を構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する分野】本発明は、動吸振器を備えた荷電
粒子ビーム装置に関する。
粒子ビーム装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、走査電子顕微鏡により試料を観
察したり、電子ビーム描画装置により半導体材料上にＩ
Ｃパターンを描いたり、集束イオンビーム装置により材
料上の所定の箇所をエッチングする等、荷電粒子ビーム
装置を使用して、試料や材料等の被照射対象物の観察や
加工等を行うことは良く知られている。
察したり、電子ビーム描画装置により半導体材料上にＩ
Ｃパターンを描いたり、集束イオンビーム装置により材
料上の所定の箇所をエッチングする等、荷電粒子ビーム
装置を使用して、試料や材料等の被照射対象物の観察や
加工等を行うことは良く知られている。
【０００３】図１は走査電子顕微鏡の１概略例を示して
いる。図中１は試料チャンバーで、２は該試料チャンバ
ーの上に載置された電子光学系鏡筒である。該試料チャ
ンバー１及び電子光学系鏡筒２内は共に排気装置（図示
せず）により高真空状態になるように排気されている。
いる。図中１は試料チャンバーで、２は該試料チャンバ
ーの上に載置された電子光学系鏡筒である。該試料チャ
ンバー１及び電子光学系鏡筒２内は共に排気装置（図示
せず）により高真空状態になるように排気されている。
【０００４】図示されていないが、該電子光学系鏡筒内
には、電子ビームを発生させるための電子銃、該電子銃
からの電子ビームを集束させるための集束レンズ、前記
試料チャンバー１内に配置された試料Ｓ上を電子ビーム
で走査させるための偏向器、電子ビームを該試料Ｓ上に
集束させるための対物レンズ等が設けられている。
には、電子ビームを発生させるための電子銃、該電子銃
からの電子ビームを集束させるための集束レンズ、前記
試料チャンバー１内に配置された試料Ｓ上を電子ビーム
で走査させるための偏向器、電子ビームを該試料Ｓ上に
集束させるための対物レンズ等が設けられている。
【０００５】前記試料チャンバー１の対向する両側部に
は孔３，４が開けられており、該各孔にベアリング５，
６を介して傾斜台支持軸７，８が回転可能にはめ込まれ
ている。
は孔３，４が開けられており、該各孔にベアリング５，
６を介して傾斜台支持軸７，８が回転可能にはめ込まれ
ている。
【０００６】これらの傾斜台支持軸７，８の一端部は、
試料チャンバー１内において、断面がコの字状の傾斜台
９の側面部に固定されており、傾斜台９を支持するよう
に成っている。
試料チャンバー１内において、断面がコの字状の傾斜台
９の側面部に固定されており、傾斜台９を支持するよう
に成っている。
【０００７】傾斜台支持軸８は円筒形を成しており、そ
の他端部は、試料チャンバー１外において、周囲にギア
が切られたハウジングＨに取り付けられている。
の他端部は、試料チャンバー１外において、周囲にギア
が切られたハウジングＨに取り付けられている。
【０００８】ハウジングＨの外周に切られたギアは、試
料チャンバー１の側面に取り付けられた支持台１０に支
持されたモーター１１の回転軸１２の周囲に設けられた
歯車１３に噛み合っている。
料チャンバー１の側面に取り付けられた支持台１０に支
持されたモーター１１の回転軸１２の周囲に設けられた
歯車１３に噛み合っている。
【０００９】ハウジングＨにはモーター１４が取り付け
られており、該モーターの回転軸１５の中心軸が傾斜台
支持軸８の中心軸と一致するように、該モーターの回転
軸１５は傾斜台支持軸８の中心及び傾斜台９の側面に開
けられた孔１６を貫通している。
られており、該モーターの回転軸１５の中心軸が傾斜台
支持軸８の中心軸と一致するように、該モーターの回転
軸１５は傾斜台支持軸８の中心及び傾斜台９の側面に開
けられた孔１６を貫通している。
【００１０】このモーターの回転軸１５の先端部にはプ
ーリー１７が取り付けられている。このプーリー１７の
直下には、ボールネジ１８に取り付けられた別のプーリ
ー１９が配置されており、２つのプーリーには金属ベル
ト２０が懸架されている。ボールネジ１８は、傾斜台９
の底面上に取り付けられた軸受け２１（例えば、スラス
トアンギュラ玉軸受け）と２２（例えば、深溝玉軸受
け）により回転可能に支持されている。
ーリー１７が取り付けられている。このプーリー１７の
直下には、ボールネジ１８に取り付けられた別のプーリ
ー１９が配置されており、２つのプーリーには金属ベル
ト２０が懸架されている。ボールネジ１８は、傾斜台９
の底面上に取り付けられた軸受け２１（例えば、スラス
トアンギュラ玉軸受け）と２２（例えば、深溝玉軸受
け）により回転可能に支持されている。
【００１１】このボールネジ１８にはボールナット２３
が螺合されており、このボールナット２３は、試料Ｓを
支持したステージ２４に取り付けられたハウジング２５
に取り付けられている。
が螺合されており、このボールナット２３は、試料Ｓを
支持したステージ２４に取り付けられたハウジング２５
に取り付けられている。
【００１２】ステージ２４は、試料チャンバー１に取り
付けられたレール（図示せず）に、該レール上を移動可
能に支持されている。
付けられたレール（図示せず）に、該レール上を移動可
能に支持されている。
【００１３】尚、当然のことながら、試料チャンバーに
開けられた孔３，４等を通じて試料チャンバ内に大気が
漏れないように工夫されているが、ここでは、特に、説
明及び図示はしない。
開けられた孔３，４等を通じて試料チャンバ内に大気が
漏れないように工夫されているが、ここでは、特に、説
明及び図示はしない。
【００１４】又、試料チャンバー１には図示しないが、
試料Ｓを電子ビームで走査した時に試料Ｓから発生した
二次電子を検出する二次電子検出器等が取り付けられて
いる。
試料Ｓを電子ビームで走査した時に試料Ｓから発生した
二次電子を検出する二次電子検出器等が取り付けられて
いる。
【００１５】又、モーター１４，回転軸１５，プーリー
１７，金属ベルト２０，プーリー１９，ボールネジ１
８，軸受け２１，軸受け２２，レール（図示せず）は、
試料Ｓを一方方向に移動させるための機構であり、説明
の都合上、試料の一方方向移動機構しか示さなかった
が、実際には、該方向に対し垂直な方向の移動機構も設
けられている。
１７，金属ベルト２０，プーリー１９，ボールネジ１
８，軸受け２１，軸受け２２，レール（図示せず）は、
試料Ｓを一方方向に移動させるための機構であり、説明
の都合上、試料の一方方向移動機構しか示さなかった
が、実際には、該方向に対し垂直な方向の移動機構も設
けられている。
【００１６】この様な構成の走査電子顕微鏡により試料
Ｓを観察する場合には、電子銃からの電子ビームを集束
レンズにより試料Ｓ上に集束させ、偏向器により該電子
ビームで試料Ｓ上の所定領域を走査し、該走査により試
料Ｓから発生した二次電子を二次電子検出器で検出し、
ＣＲＴ（図示せず）の如き表示装置画面上に二次電子に
基づく試料像を表示させる。
Ｓを観察する場合には、電子銃からの電子ビームを集束
レンズにより試料Ｓ上に集束させ、偏向器により該電子
ビームで試料Ｓ上の所定領域を走査し、該走査により試
料Ｓから発生した二次電子を二次電子検出器で検出し、
ＣＲＴ（図示せず）の如き表示装置画面上に二次電子に
基づく試料像を表示させる。
【００１７】この際、観察すべき視野の選択は、前記試
料移動機構（モーター１４，回転軸１５，プーリー１
７，金属ベルト２０，プーリー１９，ボールネジ１８，
軸受け２１，軸受け２２，ボールナット２３，ハウジン
グ２５，レール（図示せず））により、ステージ２４を
移動させることにより行う。即ち、モーター１４の作動
により回転軸１５が回転し、その回転をプーリー１７，
金属ベルト２０及びプーリー１９によりボールネジ１８
に伝え、該ボールネジ１８の回転をボールナット２３に
より直線運動に変換し、ハウジング２５を介してステー
ジ２４をレール（図示せず）に沿って移動させている。
料移動機構（モーター１４，回転軸１５，プーリー１
７，金属ベルト２０，プーリー１９，ボールネジ１８，
軸受け２１，軸受け２２，ボールナット２３，ハウジン
グ２５，レール（図示せず））により、ステージ２４を
移動させることにより行う。即ち、モーター１４の作動
により回転軸１５が回転し、その回転をプーリー１７，
金属ベルト２０及びプーリー１９によりボールネジ１８
に伝え、該ボールネジ１８の回転をボールナット２３に
より直線運動に変換し、ハウジング２５を介してステー
ジ２４をレール（図示せず）に沿って移動させている。
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】所で、この様な試料移
動機構とステージ２４から成るステージ移動系は有限な
剛性を持つため、ばね−質量振動系を成しており、ばね
成分として無視できないものとしては、ハウジング２
５，ボールナット２３，ボールネジ１８，軸受け２１，
及び金属ベルト２０等が考えられる。
動機構とステージ２４から成るステージ移動系は有限な
剛性を持つため、ばね−質量振動系を成しており、ばね
成分として無視できないものとしては、ハウジング２
５，ボールナット２３，ボールネジ１８，軸受け２１，
及び金属ベルト２０等が考えられる。
【００１９】さて、試料移動機構によりステージを所定
量移動させ、ステージを停止させた際、この振動系（ス
テージ移動系）の固有振動数に相当する減衰振動が生じ
ることがある。又、床振動や騒音等の外乱振動の侵入に
よりこの振動系（ステージ移動系）の固有振動が励起さ
れる場合がある。
量移動させ、ステージを停止させた際、この振動系（ス
テージ移動系）の固有振動数に相当する減衰振動が生じ
ることがある。又、床振動や騒音等の外乱振動の侵入に
よりこの振動系（ステージ移動系）の固有振動が励起さ
れる場合がある。
【００２０】この様に振動系（ステージ移動系）に減衰
振動（残留振動）及び／若しくは外乱振動による固有振
動の励起が発生すると観察像にノイズが入る。
振動（残留振動）及び／若しくは外乱振動による固有振
動の励起が発生すると観察像にノイズが入る。
【００２１】本発明は、この様な問題点を解決する為に
なされたもので、新規な荷電粒子ビーム装置を提供する
ことを目的とするものである。
なされたもので、新規な荷電粒子ビーム装置を提供する
ことを目的とするものである。
【００２２】
【課題を解決するための手段】本発明の荷電粒子ビーム
装置は、荷電粒子ビームが照射される被照射物を支持
し、ステージ移動機構により少なくとも一方向に移動可
能に成されたステージが設けられた被照射物チャンバー
を備えた荷電粒子ビーム装置において、ステージに動吸
振器が取り付けられており、その動吸振器はピエゾ素子
を備え且つ該ピエゾ素子を容量分としたＬＣＲ共振回路
が形成されており、動吸振器の固有振動周波数がステー
ジの固有振動周波数に一致若しくは近似するように動吸
振器が構成され、ＬＣＲ共振回路の共振周波数が動吸振
器の固有振動周波数に一致若しくは近似するようにＬＣ
Ｒ共振回路が構成されていることを特徴とする。
装置は、荷電粒子ビームが照射される被照射物を支持
し、ステージ移動機構により少なくとも一方向に移動可
能に成されたステージが設けられた被照射物チャンバー
を備えた荷電粒子ビーム装置において、ステージに動吸
振器が取り付けられており、その動吸振器はピエゾ素子
を備え且つ該ピエゾ素子を容量分としたＬＣＲ共振回路
が形成されており、動吸振器の固有振動周波数がステー
ジの固有振動周波数に一致若しくは近似するように動吸
振器が構成され、ＬＣＲ共振回路の共振周波数が動吸振
器の固有振動周波数に一致若しくは近似するようにＬＣ
Ｒ共振回路が構成されていることを特徴とする。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
施の形態を詳細に説明する。
【００２４】図２は本発明の一例として走査電子顕微鏡
の１概略例を示したもので、図中前記図１と同一記号の
付されたものは同一構成要素を示す。
の１概略例を示したもので、図中前記図１と同一記号の
付されたものは同一構成要素を示す。
【００２５】図中３１は梁状のピエゾ素子で、ステージ
２４′の側面の一部に金属板３２を介してネジ止めされ
ている。３３は金属板３２の端部に取り付けられた重り
ある。
２４′の側面の一部に金属板３２を介してネジ止めされ
ている。３３は金属板３２の端部に取り付けられた重り
ある。
【００２６】これらピエゾ素子３１と重り３３が取り付
けられた金属板３２をステージ２４′に取り付ける時に
は、このステージ２４′の固有振動周波数と、これらピ
エゾ素子３１と重り３３が取り付けられた金属板３２か
ら成る一体物の固有振動周波数が一致若しくは近似する
ように、ピエゾ素子３１や金属板３２の厚さや長さ、或
いは、重り３３大きさを考慮して、ピエゾ素子３１、金
属板３２及び重り３３を選択することにより、ピエゾ素
子３１及び重り付き金属板３２で機械的動吸振器を形成
する。
けられた金属板３２をステージ２４′に取り付ける時に
は、このステージ２４′の固有振動周波数と、これらピ
エゾ素子３１と重り３３が取り付けられた金属板３２か
ら成る一体物の固有振動周波数が一致若しくは近似する
ように、ピエゾ素子３１や金属板３２の厚さや長さ、或
いは、重り３３大きさを考慮して、ピエゾ素子３１、金
属板３２及び重り３３を選択することにより、ピエゾ素
子３１及び重り付き金属板３２で機械的動吸振器を形成
する。
【００２７】尚、金属板３２を設けずに、ピエゾ素子に
直接重りを付けて、機械的動吸振器を形成しても良い
し、或いは、ステージ２４′の固有振動周波数に一致若
しくは近似するピエゾ素子３１が入手可能なら、ピエゾ
素子のみで機械的動吸振器を形成しても良い。
直接重りを付けて、機械的動吸振器を形成しても良い
し、或いは、ステージ２４′の固有振動周波数に一致若
しくは近似するピエゾ素子３１が入手可能なら、ピエゾ
素子のみで機械的動吸振器を形成しても良い。
【００２８】このピエゾ素子３１の両面には電極（図示
せず）が付けられており、ピエゾ素子に機械的振動が与
えられることにより、電極間に、該機械的振動周波数に
対応した周波数の電圧が発生する様に成してある。
せず）が付けられており、ピエゾ素子に機械的振動が与
えられることにより、電極間に、該機械的振動周波数に
対応した周波数の電圧が発生する様に成してある。
【００２９】又、図３に示す様に、ピエゾ素子３１を容
量成分Ｃとし、この容量成分Ｃに並列にインダクタンス
成分Ｌと抵抗成分Ｒを接続し、端子Ｔ１，Ｔ２間に或る
周波数（共振周波数）の電圧Ｖが掛かった時に、共振状
態となる並列共振回路が形成されている。図４は並列共
振回路の等価回路を示す。この並列共振回路の共振周波
数が、前記ステージ２４′の固有振動周波数、即ち、前
記動吸振器の固有振動周波数に一致若しくは近似するよ
うに、インダクタンス成分Ｌ及び抵抗成分Ｒが選択され
る。
量成分Ｃとし、この容量成分Ｃに並列にインダクタンス
成分Ｌと抵抗成分Ｒを接続し、端子Ｔ１，Ｔ２間に或る
周波数（共振周波数）の電圧Ｖが掛かった時に、共振状
態となる並列共振回路が形成されている。図４は並列共
振回路の等価回路を示す。この並列共振回路の共振周波
数が、前記ステージ２４′の固有振動周波数、即ち、前
記動吸振器の固有振動周波数に一致若しくは近似するよ
うに、インダクタンス成分Ｌ及び抵抗成分Ｒが選択され
る。
【００３０】尚、ステージ２４′の固有振動周波数の測
定は、モーダル解析等により行われる。
定は、モーダル解析等により行われる。
【００３１】この様な構成の走査電子顕微鏡において、
試料移動機構によりステージ２４′を所定量移動させ、
ステージ２４′を停止させた際、振動系（ステージ移動
系）の固有振動周波数に相当する減衰振動がステージ２
４′に生じることがある。又、床振動や騒音等の外乱振
動の侵入によりこの振動系（ステージ移動系）の固有振
動が励起される場合がある。
試料移動機構によりステージ２４′を所定量移動させ、
ステージ２４′を停止させた際、振動系（ステージ移動
系）の固有振動周波数に相当する減衰振動がステージ２
４′に生じることがある。又、床振動や騒音等の外乱振
動の侵入によりこの振動系（ステージ移動系）の固有振
動が励起される場合がある。
【００３２】この時、ステージ２４′に取り付けられた
機械的動吸振器（ピエゾ素子３１，金属板３２及び重り
３３から成る）の固有振動周波数は、ステージ２４′の
固有振動周波数と一致若しくは近似しているために、こ
の機械的動吸振器はステージ２４′に対し比較的大きな
相対振動を発生する。
機械的動吸振器（ピエゾ素子３１，金属板３２及び重り
３３から成る）の固有振動周波数は、ステージ２４′の
固有振動周波数と一致若しくは近似しているために、こ
の機械的動吸振器はステージ２４′に対し比較的大きな
相対振動を発生する。
【００３３】この時、ピエゾ素子３１の電極（図示せ
ず）間に、ステージ２４′の固有振動周波数と一致若し
くは近似した周波数で振動する電圧Ｖが発生する。
ず）間に、ステージ２４′の固有振動周波数と一致若し
くは近似した周波数で振動する電圧Ｖが発生する。
【００３４】すると、並列共振回路の端子Ｔ１とＴ２間
にこの並列共振回路の共振周波数に一致若しくは近似し
た周波数の電圧が掛かることとなり、大きな電流Ｉが流
れ、抵抗成分Ｒによりジュール熱（Ｉ２Ｒ）として消費
される。
にこの並列共振回路の共振周波数に一致若しくは近似し
た周波数の電圧が掛かることとなり、大きな電流Ｉが流
れ、抵抗成分Ｒによりジュール熱（Ｉ２Ｒ）として消費
される。
【００３５】即ち、ステージ移動系の固有振動周波数若
しくはその近傍の振動周波数の機械的振動は、並列共振
回路の抵抗成分Ｒでジュール熱（電気的エネルギー）に
変換される。従って、機械的動吸振器の機械的振動の振
幅が速やかに減衰し、この結果、ステージ２４′の機械
的振動の振動も速やかに減衰する。
しくはその近傍の振動周波数の機械的振動は、並列共振
回路の抵抗成分Ｒでジュール熱（電気的エネルギー）に
変換される。従って、機械的動吸振器の機械的振動の振
幅が速やかに減衰し、この結果、ステージ２４′の機械
的振動の振動も速やかに減衰する。
【００３６】尚、ステージ２４′の移動位置によって、
ばね成分として無視できない部材の１つであるボールネ
ジ１８の圧縮・伸張の具合が異なり、その圧縮・伸張の
具合によってステージ２４′の固有振動周波数が僅かな
がら変化することがある。
ばね成分として無視できない部材の１つであるボールネ
ジ１８の圧縮・伸張の具合が異なり、その圧縮・伸張の
具合によってステージ２４′の固有振動周波数が僅かな
がら変化することがある。
【００３７】そこで、図５に示す様に、それぞれ異なっ
た固有振動周波数（ステージの位置により起こりうる複
数の異なった固有振動周波数）を有する複数の機械的動
吸振器４０（ピエゾ素子４１，金属板４２及び重り４３
から成る）、５０（ピエゾ素子５１，金属板５２及び重
り５３から成る）、６０（ピエゾ素子６１，金属板６２
及び重り６３から成る）、７０（ピエゾ素子７１，金属
板７２及び重り７３から成る）、…………………を互い
に並列にステージ２４″に取り付け（この際、各々の機
械的動吸振器には機械的動吸振器の固有周波数に一致若
しくは近似した周波数を共振周波数とする共振回路が接
続されている）、ステージ２４がどこの位置に移動され
ても、ステージの固有振動を速やかに減衰させるように
成している。
た固有振動周波数（ステージの位置により起こりうる複
数の異なった固有振動周波数）を有する複数の機械的動
吸振器４０（ピエゾ素子４１，金属板４２及び重り４３
から成る）、５０（ピエゾ素子５１，金属板５２及び重
り５３から成る）、６０（ピエゾ素子６１，金属板６２
及び重り６３から成る）、７０（ピエゾ素子７１，金属
板７２及び重り７３から成る）、…………………を互い
に並列にステージ２４″に取り付け（この際、各々の機
械的動吸振器には機械的動吸振器の固有周波数に一致若
しくは近似した周波数を共振周波数とする共振回路が接
続されている）、ステージ２４がどこの位置に移動され
ても、ステージの固有振動を速やかに減衰させるように
成している。
【００３８】又、図５の様に複数の機械的動吸振器を設
けず、図２に示す様に機械的動吸振器は１個だけ設け、
コンデンサ成分であるピエゾ素子と並列に繋がることに
より、各々異なった周波数の電圧で共振する複数の並列
共振回路をそれぞれ並列に接続し、ステージ２４がどこ
の位置に移動されても、ステージの固有振動を速やかに
減衰させるようにしても良い。この様に成せば、構造的
にシンプルとなる。尚、この時、機械的動吸振器の固有
振動周波数は、ステージの固有振動周波数のバラツキの
中心周波数近傍の周波数に設定しておく。
けず、図２に示す様に機械的動吸振器は１個だけ設け、
コンデンサ成分であるピエゾ素子と並列に繋がることに
より、各々異なった周波数の電圧で共振する複数の並列
共振回路をそれぞれ並列に接続し、ステージ２４がどこ
の位置に移動されても、ステージの固有振動を速やかに
減衰させるようにしても良い。この様に成せば、構造的
にシンプルとなる。尚、この時、機械的動吸振器の固有
振動周波数は、ステージの固有振動周波数のバラツキの
中心周波数近傍の周波数に設定しておく。
【００３９】尚、前記例ではピエゾ素子が発生した電圧
で共振する並列共振回路を形成するように成したが、直
列共振回路を形成するように成しても良い。
で共振する並列共振回路を形成するように成したが、直
列共振回路を形成するように成しても良い。
【００４０】又、前記例では本発明を走査電子顕微鏡を
例に上げて説明したが、この様な例に限定されず、電子
ビーム描画装置、集束イオンビームによる分析装置等、
他の荷電粒子ビームにも応用可能である。
例に上げて説明したが、この様な例に限定されず、電子
ビーム描画装置、集束イオンビームによる分析装置等、
他の荷電粒子ビームにも応用可能である。
【図１】 従来の走査電子顕微鏡の１概略例を示す。
【図２】 本発明の一例である走査電子顕微鏡の１概略
例を示す。
例を示す。
【図３】 本発明の要部（制振機構）を示す。
【図４】 図３に示した要部（制振機構）の等価回路を
示す。
示す。
【図５】 本発明の要部（制振機構）の他の例を示す。
１…試料チャンバー
２…電子光学系鏡筒
３，４…孔
Ｓ…試料
５，６…ベアリング
７，８…傾斜支持軸
９…傾斜台
Ｈ…ハウジング
１０…支持台
１１…モーター
１２…回転軸
１３…歯車
１４…モーター
１５…回転軸
１６…孔
１７，１９…プーリー
１８…ボールネジ
２０…金属ベルト
２１，２２…軸受け
２３…ボールナット
２４，２４′，２４″…ステージ
２５…ハウジング
３１，４１，５１，６１，７１…ピエゾ素子
３２，４２，５２，６２，７２…金属板
３３，４３，５３，６３，７３…重り
４０，５０，６０，７０…機械的動吸振器
Ｃ…容量分
Ｌ…インダクタンス分
Ｒ…抵抗分
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｋ ５Ｆ０５６
21/68 21/30 ５４１Ｌ
５０３Ｆ
Claims (8)
- 【請求項１】 荷電粒子ビームが照射される被照射物を
支持し、ステージ移動機構により少なくとも一方向に移
動可能に成されたステージが設けられた被照射物チャン
バーを備えた荷電粒子ビーム装置において、ステージに
動吸振器が取り付けられており、その動吸振器はピエゾ
素子を備え且つ該ピエゾ素子を容量分としたＬＣＲ共振
回路が形成されており、動吸振器の固有振動周波数がス
テージの固有振動周波数に一致若しくは近似するように
動吸振器が構成され、ＬＣＲ共振回路の共振周波数が動
吸振器の固有振動周波数に一致若しくは近似するように
ＬＣＲ共振回路が構成されている荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項２】 各々固有振動周波数の異なった複数の動
吸振器をステージに取り付け、且つ、各々の動吸振器に
ＬＣＲ共振回路が形成されている請求項１記載の荷電粒
子ビーム装置。 - 【請求項３】 １個の動吸振器に対し、各々共振周波数
の異なった複数のＬＣＲ共振回路が並列に繋がれている
請求項１記載の荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項４】 ＬＣＲ共振回路は並列共振回路である請
求項１記載の荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項５】 動吸振器はピエゾ素子及び重りから成る
請求項１記載の荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項６】 動吸振器はピエゾ素子及び重りを取り付
けた金属板から成る請求項記載の荷電粒子ビーム装置。 - 【請求項７】 動吸振器はステージの移動方向に垂直な
面に取り付けられている請求項１記載の荷電粒子ビーム
装置。 - 【請求項８】 動吸振器はステージの移動方向に垂直な
両面に対向するように取り付けられている請求項２記載
の荷電粒子ビーム装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002090750A JP2003288856A (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | 荷電粒子ビーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002090750A JP2003288856A (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | 荷電粒子ビーム装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003288856A true JP2003288856A (ja) | 2003-10-10 |
Family
ID=29236011
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002090750A Withdrawn JP2003288856A (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | 荷電粒子ビーム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003288856A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1577929A3 (en) * | 2004-03-16 | 2006-10-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron beam exposure apparatus |
| JP2009121520A (ja) * | 2007-11-12 | 2009-06-04 | Univ Nagoya | 振動抑制装置 |
| JP2009141349A (ja) * | 2007-12-06 | 2009-06-25 | Asml Netherlands Bv | 音響共振器を有するリソグラフィ装置 |
| JP2021045896A (ja) * | 2019-09-18 | 2021-03-25 | 富士ゼロックス株式会社 | 露光装置および画像形成装置 |
-
2002
- 2002-03-28 JP JP2002090750A patent/JP2003288856A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1577929A3 (en) * | 2004-03-16 | 2006-10-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron beam exposure apparatus |
| US7230257B2 (en) | 2004-03-16 | 2007-06-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron beam exposure apparatus |
| JP2009121520A (ja) * | 2007-11-12 | 2009-06-04 | Univ Nagoya | 振動抑制装置 |
| JP2009141349A (ja) * | 2007-12-06 | 2009-06-25 | Asml Netherlands Bv | 音響共振器を有するリソグラフィ装置 |
| JP2021045896A (ja) * | 2019-09-18 | 2021-03-25 | 富士ゼロックス株式会社 | 露光装置および画像形成装置 |
| JP7347058B2 (ja) | 2019-09-18 | 2023-09-20 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 露光装置および画像形成装置 |
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|---|---|---|---|
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