JPH0973872A - 荷電粒子ビーム装置 - Google Patents
荷電粒子ビーム装置Info
- Publication number
- JPH0973872A JPH0973872A JP7226325A JP22632595A JPH0973872A JP H0973872 A JPH0973872 A JP H0973872A JP 7226325 A JP7226325 A JP 7226325A JP 22632595 A JP22632595 A JP 22632595A JP H0973872 A JPH0973872 A JP H0973872A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 装置の重心付近でのロッキングモードが発生
せず、試料室周りのスペースを十分に確保することがで
きる荷電粒子ビーム装置を実現する。 【解決手段】 鏡体１と試料室２とは、四角い平板状の
ベースプレート３上に載せられている。ベースプレート
３の４つの角には、支柱４ａ〜４ｄが取り付けられてお
り、また、支柱４ａ〜４ｂの上部には、支持板５ａ〜５
ｄが取り付けられている。各支持板５ａ〜５ｄと基体６
との間には、基体６からの振動を吸収するためのスプリ
ングコイルなどの弾性体７ａ〜７ｄが配置されている。
更に、試料室２と各支柱４ａ〜４ｄとの間には、それぞ
れ剛性の高い材料で形成されたサポート材８ａ〜８ｄが
取り付けられている。
せず、試料室周りのスペースを十分に確保することがで
きる荷電粒子ビーム装置を実現する。 【解決手段】 鏡体１と試料室２とは、四角い平板状の
ベースプレート３上に載せられている。ベースプレート
３の４つの角には、支柱４ａ〜４ｄが取り付けられてお
り、また、支柱４ａ〜４ｂの上部には、支持板５ａ〜５
ｄが取り付けられている。各支持板５ａ〜５ｄと基体６
との間には、基体６からの振動を吸収するためのスプリ
ングコイルなどの弾性体７ａ〜７ｄが配置されている。
更に、試料室２と各支柱４ａ〜４ｄとの間には、それぞ
れ剛性の高い材料で形成されたサポート材８ａ〜８ｄが
取り付けられている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、振動による影響を
少なくした走査電子顕微鏡や電子ビーム描画装置などの
荷電粒子ビーム装置に関する。
少なくした走査電子顕微鏡や電子ビーム描画装置などの
荷電粒子ビーム装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】走査電子顕微鏡や電子ビーム描画装置な
どでは、試料上で電子ビームを走査し、試料の微細な構
造を観察したり、試料上に微細なパターンの描画を行っ
ている。このような装置においては、装置に振動が発生
すると、高分解能の像観察が不可能となったり、パター
ンの描画精度が劣化したりする。
どでは、試料上で電子ビームを走査し、試料の微細な構
造を観察したり、試料上に微細なパターンの描画を行っ
ている。このような装置においては、装置に振動が発生
すると、高分解能の像観察が不可能となったり、パター
ンの描画精度が劣化したりする。
【０００３】そのため、この種装置では、振動の影響を
少なくするための改良が加えられている。例えば、特開
昭６３−７８４４１では、試料の微動装置、なるべくは
試料の位置に電子ビームの光学系を納めた鏡体全体の重
心の位置がくるようにすると共に、鏡体が防振台から受
ける垂直力が重心位置を見込むように、防振台の形状、
構造、配置を選定している。
少なくするための改良が加えられている。例えば、特開
昭６３−７８４４１では、試料の微動装置、なるべくは
試料の位置に電子ビームの光学系を納めた鏡体全体の重
心の位置がくるようにすると共に、鏡体が防振台から受
ける垂直力が重心位置を見込むように、防振台の形状、
構造、配置を選定している。
【０００４】このように構成することにより、外乱振動
が生じた場合にも、重心点を中心としてロッキングが生
ずることになり、試料微動装置には加速度がほとんどか
からないから、ロッキングによる試料微動装置の変位は
最小とすることができる。
が生じた場合にも、重心点を中心としてロッキングが生
ずることになり、試料微動装置には加速度がほとんどか
からないから、ロッキングによる試料微動装置の変位は
最小とすることができる。
【０００５】また、特開平５−４７６４５では、定盤の
上部に電子光学系を納めた鏡筒を固定し、定盤の下部に
試料室を固定するように構成し、試料台からの振動が、
鏡筒に伝わるのを防いでいる。
上部に電子光学系を納めた鏡筒を固定し、定盤の下部に
試料室を固定するように構成し、試料台からの振動が、
鏡筒に伝わるのを防いでいる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記した特開昭６３−
７８４４１の技術では、試料微動装置を中心としたロッ
キングモード（ある仮想の軸を中心とした回転運動）の
発生が考えられる。また、試料微動装置近傍での加速度
は小さくすることができるが、重量のある電子銃などの
鏡体最上部には、大きな加速度が発生する。このため、
重量のある電子銃を支持する構成物、例えば、レンズ
系、試料室上壁、試料室側壁などの剛性が問題となる。
７８４４１の技術では、試料微動装置を中心としたロッ
キングモード（ある仮想の軸を中心とした回転運動）の
発生が考えられる。また、試料微動装置近傍での加速度
は小さくすることができるが、重量のある電子銃などの
鏡体最上部には、大きな加速度が発生する。このため、
重量のある電子銃を支持する構成物、例えば、レンズ
系、試料室上壁、試料室側壁などの剛性が問題となる。
【０００７】また、特開平５−４７６４５の技術では、
試料室上面に定盤を配置していることから、試料室の側
部から試料室内の試料ステージなどを操作することが場
所的に困難となる。また、試料室には、各種のアタッチ
メントが取り付けられるが、大形のアタッチメントの場
合、定盤があるために、それを取り付けることが不可能
となる。更に、定盤としてかなりの剛性が要求されるた
め、定盤の重量が極めて重くなり、定盤を支える支柱に
もかなりの剛性が必要となって、装置全体が大型化する
欠点を有する。
試料室上面に定盤を配置していることから、試料室の側
部から試料室内の試料ステージなどを操作することが場
所的に困難となる。また、試料室には、各種のアタッチ
メントが取り付けられるが、大形のアタッチメントの場
合、定盤があるために、それを取り付けることが不可能
となる。更に、定盤としてかなりの剛性が要求されるた
め、定盤の重量が極めて重くなり、定盤を支える支柱に
もかなりの剛性が必要となって、装置全体が大型化する
欠点を有する。
【０００８】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、装置の重心付近でのロッキングモ
ードが発生せず、試料室周りのスペースを十分に確保す
ることができる荷電粒子ビーム装置を実現するにある。
もので、その目的は、装置の重心付近でのロッキングモ
ードが発生せず、試料室周りのスペースを十分に確保す
ることができる荷電粒子ビーム装置を実現するにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明に基づく
荷電粒子ビーム装置は、鏡筒と試料室とが載せられたベ
ースプレートの複数箇所に支柱を取り付け、支柱上部と
基体との間に弾性体を設け、弾性体の弾性主面と鏡筒と
試料室との重心の高さ方向の位置とをほぼ一致させ、支
柱上部と試料室とを剛性の高い複数のサポート材で結合
したことを特徴としており、鏡筒と試料室の重心付近で
のロッキングモードの発生を防止すると共に、試料室の
側部のスペースを十分確保するようにした。
荷電粒子ビーム装置は、鏡筒と試料室とが載せられたベ
ースプレートの複数箇所に支柱を取り付け、支柱上部と
基体との間に弾性体を設け、弾性体の弾性主面と鏡筒と
試料室との重心の高さ方向の位置とをほぼ一致させ、支
柱上部と試料室とを剛性の高い複数のサポート材で結合
したことを特徴としており、鏡筒と試料室の重心付近で
のロッキングモードの発生を防止すると共に、試料室の
側部のスペースを十分確保するようにした。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図１，図２は本発明に基づ
く走査電子顕微鏡の一例を示しており、図１は側部から
見た図、図２は上部から見た図である。図中１は電子
銃、集束レンズや対物レンズなどのレンズ系などが納め
られた鏡筒である。鏡筒１の下部には内部に試料や、試
料を水平方向に移動させたり、回転や傾斜させたりする
試料ステージが納められた試料室２が設けられている。
施の形態を詳細に説明する。図１，図２は本発明に基づ
く走査電子顕微鏡の一例を示しており、図１は側部から
見た図、図２は上部から見た図である。図中１は電子
銃、集束レンズや対物レンズなどのレンズ系などが納め
られた鏡筒である。鏡筒１の下部には内部に試料や、試
料を水平方向に移動させたり、回転や傾斜させたりする
試料ステージが納められた試料室２が設けられている。
【００１１】鏡体１と試料室２とは、四角い平板状のベ
ースプレート３上に載せられている。四角いベースプレ
ート３の４つの角には、それぞれ支柱４ａ〜４ｄが取り
付けられており、また、支柱４ａ〜４ｂの上部のそれぞ
れには、支持板５ａ〜５ｄが取り付けられている。
ースプレート３上に載せられている。四角いベースプレ
ート３の４つの角には、それぞれ支柱４ａ〜４ｄが取り
付けられており、また、支柱４ａ〜４ｂの上部のそれぞ
れには、支持板５ａ〜５ｄが取り付けられている。
【００１２】各支持板５ａ〜５ｄと基体６との間には、
基体６からの振動を吸収するためのスプリングコイルな
どの弾性体７ａ〜７ｄが配置されている。この弾性体７
ａ〜７ｄとしては、スプリングコイル以外にゴムなどの
振動を吸収するものが使用可能である。この弾性体７ａ
〜７ｄの最上部（支持板５ａ〜５ｄの下面）は弾性主面
となっており、この弾性主面と鏡筒１と試料室２の重心
Ｇの垂直方向（高さ方向）の位置とは一致している。
基体６からの振動を吸収するためのスプリングコイルな
どの弾性体７ａ〜７ｄが配置されている。この弾性体７
ａ〜７ｄとしては、スプリングコイル以外にゴムなどの
振動を吸収するものが使用可能である。この弾性体７ａ
〜７ｄの最上部（支持板５ａ〜５ｄの下面）は弾性主面
となっており、この弾性主面と鏡筒１と試料室２の重心
Ｇの垂直方向（高さ方向）の位置とは一致している。
【００１３】試料室２と各支柱４ａ〜４ｄとの間には、
それぞれ剛性の高い材料で形成されたサポート材８ａ〜
８ｄが取り付けられている。このサポート材８ａ〜８ｄ
の取り付け位置は、鏡筒１と試料室２の重心Ｇの高さ方
向の位置（弾性主面の高さ方向の位置）の近傍が望まし
い。このような構成の動作を次に説明する。
それぞれ剛性の高い材料で形成されたサポート材８ａ〜
８ｄが取り付けられている。このサポート材８ａ〜８ｄ
の取り付け位置は、鏡筒１と試料室２の重心Ｇの高さ方
向の位置（弾性主面の高さ方向の位置）の近傍が望まし
い。このような構成の動作を次に説明する。
【００１４】上記構成では、外部で振動が発生しても、
弾性体７ａ〜７ｄによってその振動は吸収され、試料室
２や鏡筒１にその振動が伝わらない。また、外部で横方
向（水平方向）の振動が発生しても、弾性体７ａ〜７ｄ
の最上部（支持板５ａ〜５ｄの下面）は弾性主面となっ
ており、この弾性主面と鏡筒１と試料室２の重心Ｇの垂
直方向（高さ方向）の位置とは一致しているので、試料
室２には重心Ｇ近傍を中心とするロッキングモードが発
生しない。そのため、高い分解能の像の観察が可能とな
る。
弾性体７ａ〜７ｄによってその振動は吸収され、試料室
２や鏡筒１にその振動が伝わらない。また、外部で横方
向（水平方向）の振動が発生しても、弾性体７ａ〜７ｄ
の最上部（支持板５ａ〜５ｄの下面）は弾性主面となっ
ており、この弾性主面と鏡筒１と試料室２の重心Ｇの垂
直方向（高さ方向）の位置とは一致しているので、試料
室２には重心Ｇ近傍を中心とするロッキングモードが発
生しない。そのため、高い分解能の像の観察が可能とな
る。
【００１５】また、上記構成では、弾性体７ａ〜７ｄの
弾性主面近傍と、試料室２の上部とを４カ所で剛性の高
いサポート材８ａ〜８ｄによって繋いだので、外部の水
平方向の振動に対して、サポート材で繋いだ試料室上面
を含む平面が仮想のプレートとなる。その結果、実際に
試料室２の上部にプレートが無いにも拘らず、プレート
が設けられた場合と同等の効果を有する。すなわち、外
部の水平方向の振動に対して、試料室２と鏡筒１は等し
く水平方向に振動する。
弾性主面近傍と、試料室２の上部とを４カ所で剛性の高
いサポート材８ａ〜８ｄによって繋いだので、外部の水
平方向の振動に対して、サポート材で繋いだ試料室上面
を含む平面が仮想のプレートとなる。その結果、実際に
試料室２の上部にプレートが無いにも拘らず、プレート
が設けられた場合と同等の効果を有する。すなわち、外
部の水平方向の振動に対して、試料室２と鏡筒１は等し
く水平方向に振動する。
【００１６】このように、試料室２の上部には実際にプ
レートが存在しておらず、また、試料室２の周囲には部
分的に支柱４ａ〜４ｄとスプリング７ａ〜７ｄが設けら
れているだけで開放状態となっているので、試料室２内
の試料ステージの駆動や、試料の交換作業を試料室２の
側部から容易に実行することができる。また、試料室２
の周りのスペースが十分に確保できるので、試料室に各
種の大きなアタッチメントを取り付けることができる。
レートが存在しておらず、また、試料室２の周囲には部
分的に支柱４ａ〜４ｄとスプリング７ａ〜７ｄが設けら
れているだけで開放状態となっているので、試料室２内
の試料ステージの駆動や、試料の交換作業を試料室２の
側部から容易に実行することができる。また、試料室２
の周りのスペースが十分に確保できるので、試料室に各
種の大きなアタッチメントを取り付けることができる。
【００１７】以上本発明の実施の形態を詳述したが、本
発明はこの形態に限定されない。例えば、走査電子顕微
鏡で説明したが、電子ビーム描画装置やイオンビーム装
置などにも本発明を適用することができる。
発明はこの形態に限定されない。例えば、走査電子顕微
鏡で説明したが、電子ビーム描画装置やイオンビーム装
置などにも本発明を適用することができる。
【００１８】
【発明の効果】本発明では、鏡筒と試料室とが載せられ
たベースプレートの複数箇所に支柱を取り付け、支柱上
部と基体との間に弾性体を設け、弾性体の弾性主面と鏡
筒と試料室との重心の高さ方向の位置とをほぼ一致さ
せ、支柱上部と試料室とを剛性の高い複数のサポート材
で結合しており、鏡筒と試料室の重心付近でのロッキン
グモードの発生を防止できると共に、試料室の側部のス
ペースを十分確保できる。
たベースプレートの複数箇所に支柱を取り付け、支柱上
部と基体との間に弾性体を設け、弾性体の弾性主面と鏡
筒と試料室との重心の高さ方向の位置とをほぼ一致さ
せ、支柱上部と試料室とを剛性の高い複数のサポート材
で結合しており、鏡筒と試料室の重心付近でのロッキン
グモードの発生を防止できると共に、試料室の側部のス
ペースを十分確保できる。
【図１】本発明に基づく走査電子顕微鏡の側部から見た
図である。
図である。
【図２】本発明に基づく走査電子顕微鏡の上部から見た
図である。
図である。
１ 鏡筒 ２ 試料室 ３ ベースプレート ４ 支柱 ５ 支持板 ６ 基体 ７ 弾性体 ８ サポート材
Claims (1)
- 【請求項１】 鏡筒と試料室とが載せられたベースプレ
ートの複数箇所に支柱を取り付け、支柱上部と基体との
間に弾性体を設け、弾性体の弾性主面と鏡筒と試料室と
の重心の高さ方向の位置とをほぼ一致させ、支柱上部と
試料室とを剛性の高い複数のサポート材で結合した荷電
粒子ビーム装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7226325A JPH0973872A (ja) | 1995-09-04 | 1995-09-04 | 荷電粒子ビーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7226325A JPH0973872A (ja) | 1995-09-04 | 1995-09-04 | 荷電粒子ビーム装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0973872A true JPH0973872A (ja) | 1997-03-18 |
Family
ID=16843420
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7226325A Withdrawn JPH0973872A (ja) | 1995-09-04 | 1995-09-04 | 荷電粒子ビーム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0973872A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002001597A1 (fr) * | 2000-06-27 | 2002-01-03 | Ebara Corporation | Appareil d'inspection a faisceau de particules chargees et procede de fabrication d'un dispositif utilisant cet appareil d'inspection |
| WO2002001596A1 (en) * | 2000-06-27 | 2002-01-03 | Ebara Corporation | Charged particle beam inspection apparatus and method for fabricating device using that inspection apparatus |
| WO2002013227A1 (fr) * | 2000-07-27 | 2002-02-14 | Ebara Corporation | Appareil d'analyse a faisceau plan |
| WO2002037526A1 (fr) * | 2000-11-02 | 2002-05-10 | Ebara Corporation | Appareil a faisceau electronique et procede de fabrication d'un dispositif a semi-conducteur comprenant ledit appareil |
| WO2002049065A1 (fr) * | 2000-12-12 | 2002-06-20 | Ebara Corporation | Dispositif a faisceau d'electrons et procede de production de dispositifs a semi-conducteur utilisant ledit dispositif a faisceau d'electrons |
| WO2008044025A1 (en) * | 2006-10-12 | 2008-04-17 | Vistec Lithography Inc. | Reduction in stage movement reaction force in an electron beam lithography machine |
-
1995
- 1995-09-04 JP JP7226325A patent/JPH0973872A/ja not_active Withdrawn
Cited By (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US8803103B2 (en) | 2000-06-27 | 2014-08-12 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| US8368031B2 (en) | 2000-06-27 | 2013-02-05 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
| WO2002001597A1 (fr) * | 2000-06-27 | 2002-01-03 | Ebara Corporation | Appareil d'inspection a faisceau de particules chargees et procede de fabrication d'un dispositif utilisant cet appareil d'inspection |
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| US7109484B2 (en) | 2000-07-27 | 2006-09-19 | Ebara Corporation | Sheet beam-type inspection apparatus |
| KR100873447B1 (ko) * | 2000-07-27 | 2008-12-11 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 시트빔식 검사장치 |
| US7417236B2 (en) | 2000-07-27 | 2008-08-26 | Ebara Corporation | Sheet beam-type testing apparatus |
| US7829871B2 (en) | 2000-07-27 | 2010-11-09 | Ebara Corporation | Sheet beam-type testing apparatus |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20021105 |