JP2546365Y2 - 荷電粒子ビーム装置 - Google Patents
荷電粒子ビーム装置Info
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- JP2546365Y2 JP2546365Y2 JP7654692U JP7654692U JP2546365Y2 JP 2546365 Y2 JP2546365 Y2 JP 2546365Y2 JP 7654692 U JP7654692 U JP 7654692U JP 7654692 U JP7654692 U JP 7654692U JP 2546365 Y2 JP2546365 Y2 JP 2546365Y2
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- Japan
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- charged particle
- particle beam
- lens barrel
- column
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は、電子ビーム描画装置や
電子顕微鏡などの荷電粒子ビーム装置に関し、特に、振
動の影響を少なくした荷電粒子ビーム装置の改良に関す
る。
電子顕微鏡などの荷電粒子ビーム装置に関し、特に、振
動の影響を少なくした荷電粒子ビーム装置の改良に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】図１は従来の電子ビーム描画装置の概念
図であり、１は電子銃や電子銃から発生した電子ビーム
を集束したり偏向したりする電子光学系を有した鏡筒で
ある。鏡筒１は描画室（チャンバー）２の上蓋３上に固
定して載せられている。描画室２内には電子ビームによ
って所望のパターンが描画される材料が入れられ、ま
た、材料をＸ，Ｙ方向に移動するステージ４も収納され
ている。描画室２は除振台５上に載せられており、外部
の振動により描画精度が劣化するのを防いでいる。６は
４本の支柱７（２本のみ図示）によって支持され、鏡筒
１の上部の高さ位置に設けられたリフト台であり、リフ
ト台６にはリフト８が取り付けられている。リフト８は
鏡筒１の上部をチャックできるように構成され、エアシ
リンダの如き昇降機構によって上下方向に駆動される。
このような構成の動作を次に説明する。
図であり、１は電子銃や電子銃から発生した電子ビーム
を集束したり偏向したりする電子光学系を有した鏡筒で
ある。鏡筒１は描画室（チャンバー）２の上蓋３上に固
定して載せられている。描画室２内には電子ビームによ
って所望のパターンが描画される材料が入れられ、ま
た、材料をＸ，Ｙ方向に移動するステージ４も収納され
ている。描画室２は除振台５上に載せられており、外部
の振動により描画精度が劣化するのを防いでいる。６は
４本の支柱７（２本のみ図示）によって支持され、鏡筒
１の上部の高さ位置に設けられたリフト台であり、リフ
ト台６にはリフト８が取り付けられている。リフト８は
鏡筒１の上部をチャックできるように構成され、エアシ
リンダの如き昇降機構によって上下方向に駆動される。
このような構成の動作を次に説明する。
【０００３】通常の動作時には、除振台５上の描画室２
内のステージ４上に被描画材料であるウエハやマスク乾
板などが載せられる。そして、鏡筒１内で発生した電子
ビームが適宜整形され、集束されて材料上に投射され
る。所望パターンの描画は、電子ビームを偏向すると共
に、ステージ４をＸ，Ｙ方向に移動させることによって
行われる。ここで、ステージ４のメンテナンスを行う場
合、リフト８によって鏡筒１の上部をチャックし、リフ
ト８を上方向に移動させる。この時、上蓋３と描画室２
との間を固定するためのネジなどが事前に取り外されて
いる。その結果、上蓋３と鏡筒１部分がリフト８によっ
て上方向に動かされ、更にリフト８による回転動作によ
り、描画室２上から取り除かれる。このようにして、描
画室２の上部は解放されることから、ステージ４のメン
テナンスを行うことができる。ステージ４のメンテナン
スが終了した後にリフト８によって上蓋３と鏡筒１部分
が描画室２上に移動させられ、更に下方向に動かされて
元の状態に復帰される。その後、描画動作を実行する際
にはリフト８は鏡筒１の上部から外され、リフト８と鏡
筒１の接触状態は解除される。リフト８と鏡筒１との接
触状態を解除する理由は、支柱７，リフト台６，リフト
８を介しての鏡筒１への外部振動の伝達を防止するため
である。
内のステージ４上に被描画材料であるウエハやマスク乾
板などが載せられる。そして、鏡筒１内で発生した電子
ビームが適宜整形され、集束されて材料上に投射され
る。所望パターンの描画は、電子ビームを偏向すると共
に、ステージ４をＸ，Ｙ方向に移動させることによって
行われる。ここで、ステージ４のメンテナンスを行う場
合、リフト８によって鏡筒１の上部をチャックし、リフ
ト８を上方向に移動させる。この時、上蓋３と描画室２
との間を固定するためのネジなどが事前に取り外されて
いる。その結果、上蓋３と鏡筒１部分がリフト８によっ
て上方向に動かされ、更にリフト８による回転動作によ
り、描画室２上から取り除かれる。このようにして、描
画室２の上部は解放されることから、ステージ４のメン
テナンスを行うことができる。ステージ４のメンテナン
スが終了した後にリフト８によって上蓋３と鏡筒１部分
が描画室２上に移動させられ、更に下方向に動かされて
元の状態に復帰される。その後、描画動作を実行する際
にはリフト８は鏡筒１の上部から外され、リフト８と鏡
筒１の接触状態は解除される。リフト８と鏡筒１との接
触状態を解除する理由は、支柱７，リフト台６，リフト
８を介しての鏡筒１への外部振動の伝達を防止するため
である。
【０００４】
【考案が解決しようとする課題】上記構造において、電
子ビーム描画の過程でＸＹステージ４が高速に移動し停
止する際のエネルギによって電子光学鏡筒１が振動す
る。この振動は描画精度に悪影響を与えるので、振動が
小さくなるようにＸＹステージの加速度の加え方を工夫
したり、ステージ４の停止後、一定の待ち時間を設けて
振動が小さくなった後に電子ビーム描画を開始してい
る。しかしながら、このような工夫によりステージ４の
移動速度を遅くせざるを得ず、待ち時間の設置と相俟っ
て描画のスループットを劣化させる。また、このような
工夫によっても振動の影響は残り、高精度な描画は不可
能である。さらに、最近描画室などのチャンバーが大き
くなり、上蓋の面積も増大しているが、上蓋の面積の増
大に伴い鏡筒の重みで上蓋が撓み、鏡筒内の電子光学系
と材料や試料などのターゲットとの間の精密な位置関係
に狂いが生じてくる。このような問題点は電子ビーム描
画装置のみならず、電子顕微鏡などの他の荷電粒子ビー
ム装置にも同様に生じている。
子ビーム描画の過程でＸＹステージ４が高速に移動し停
止する際のエネルギによって電子光学鏡筒１が振動す
る。この振動は描画精度に悪影響を与えるので、振動が
小さくなるようにＸＹステージの加速度の加え方を工夫
したり、ステージ４の停止後、一定の待ち時間を設けて
振動が小さくなった後に電子ビーム描画を開始してい
る。しかしながら、このような工夫によりステージ４の
移動速度を遅くせざるを得ず、待ち時間の設置と相俟っ
て描画のスループットを劣化させる。また、このような
工夫によっても振動の影響は残り、高精度な描画は不可
能である。さらに、最近描画室などのチャンバーが大き
くなり、上蓋の面積も増大しているが、上蓋の面積の増
大に伴い鏡筒の重みで上蓋が撓み、鏡筒内の電子光学系
と材料や試料などのターゲットとの間の精密な位置関係
に狂いが生じてくる。このような問題点は電子ビーム描
画装置のみならず、電子顕微鏡などの他の荷電粒子ビー
ム装置にも同様に生じている。
【０００５】本考案は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、荷電粒子ビームの鏡筒の振動の発
生を押さえると共に鏡筒の傾きを防止し、高精度の描画
や試料の観察を可能とする荷電粒子ビーム装置を実現す
るにある。
もので、その目的は、荷電粒子ビームの鏡筒の振動の発
生を押さえると共に鏡筒の傾きを防止し、高精度の描画
や試料の観察を可能とする荷電粒子ビーム装置を実現す
るにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本考案に基づく荷電粒子
ビーム装置は、除振台と、除振台上に載せられた荷電粒
子ビームが照射されるターゲットを有した描画室と、描
画室上に配置され、荷電粒子ビームを発生する荷電粒子
ビーム源や荷電粒子ビームの集束，偏向のための荷電粒
子ビーム光学系を有している鏡筒と、鏡筒とほぼ平行に
配置された支柱と、支柱の上部と鏡筒の上部とを一体化
するための連結部材と、除振台上に支持され、支柱を上
下方向に昇降させるための昇降手段とを備えたことを特
徴としている。
ビーム装置は、除振台と、除振台上に載せられた荷電粒
子ビームが照射されるターゲットを有した描画室と、描
画室上に配置され、荷電粒子ビームを発生する荷電粒子
ビーム源や荷電粒子ビームの集束，偏向のための荷電粒
子ビーム光学系を有している鏡筒と、鏡筒とほぼ平行に
配置された支柱と、支柱の上部と鏡筒の上部とを一体化
するための連結部材と、除振台上に支持され、支柱を上
下方向に昇降させるための昇降手段とを備えたことを特
徴としている。
【０００７】
【作用】本考案に基づく荷電粒子ビーム装置は、同一の
除振台上に鏡筒と昇降手段を設け、昇降手段によって上
下動する支柱の上部と鏡筒の上部とを一体化する。
除振台上に鏡筒と昇降手段を設け、昇降手段によって上
下動する支柱の上部と鏡筒の上部とを一体化する。
【０００８】
【実施例】以下、図面を参照して本考案の実施例を詳細
に説明する。図２は本考案に基づく電子ビーム描画装置
の一実施例を示しており、１１は除振台である。除振台
１１の上部には内部にＸＹステージ１２を収納した描画
室（チャンバー）１３が載せられており、描画室１３の
上部の上蓋１４上には電子光学鏡筒１５が載置されてい
る。上蓋１４には連結梁１６がネジ１７によって一体的
に取り付けられているが、連結梁１６には支柱１８が鏡
筒１５と平行して取り付けられている。支柱１８の上部
には調整フランジ１９を介して鏡筒１の上部に繋がって
いる連結梁２０が固定されており、この調整フランジ１
９と連結梁２０の両連結部材により、支柱１８の上部と
鏡筒１５の上部とは一体化されている。なお、調整フラ
ンジ１９は各部材の加工精度，組み立て誤差を吸収する
ために設けられている。２１も支柱であるが、支柱２１
は除振台１１に固定され、スライド棒２２のガイドの役
割を有している。２３はエア導入と排出口２４，２５を
有した昇降手段としてのエアシリンダであり、エアシリ
ンダ２３も除振台１１に固定されている。エアシリンダ
２３は上下方向にスライド棒２２を駆動するが、このス
ライド棒２２の動きは連結梁１６に伝達される。このよ
うな構成の動作を次に説明する。
に説明する。図２は本考案に基づく電子ビーム描画装置
の一実施例を示しており、１１は除振台である。除振台
１１の上部には内部にＸＹステージ１２を収納した描画
室（チャンバー）１３が載せられており、描画室１３の
上部の上蓋１４上には電子光学鏡筒１５が載置されてい
る。上蓋１４には連結梁１６がネジ１７によって一体的
に取り付けられているが、連結梁１６には支柱１８が鏡
筒１５と平行して取り付けられている。支柱１８の上部
には調整フランジ１９を介して鏡筒１の上部に繋がって
いる連結梁２０が固定されており、この調整フランジ１
９と連結梁２０の両連結部材により、支柱１８の上部と
鏡筒１５の上部とは一体化されている。なお、調整フラ
ンジ１９は各部材の加工精度，組み立て誤差を吸収する
ために設けられている。２１も支柱であるが、支柱２１
は除振台１１に固定され、スライド棒２２のガイドの役
割を有している。２３はエア導入と排出口２４，２５を
有した昇降手段としてのエアシリンダであり、エアシリ
ンダ２３も除振台１１に固定されている。エアシリンダ
２３は上下方向にスライド棒２２を駆動するが、このス
ライド棒２２の動きは連結梁１６に伝達される。このよ
うな構成の動作を次に説明する。
【０００９】描画室１３内のメンテナンスを行う場合、
上蓋１４と描画室１３を接続しているネジ（図示せず）
などを取り外し、上蓋１４と描画室１３との間の固着状
態をあらかじめ解除する。次にエアシリンダ２３を動作
させてエアシリンダ２３によってスライド棒２２を上方
向に押し上げる。スライド棒２２は連結梁１６，支柱１
８と一体化されていることから、スライド棒２２の上方
向への移動により支柱１８も上方向に移動し、結果とし
て連結梁１６と支柱１８の上部に繋がった連結梁２０を
介して鏡筒１５が上方向に持ち上げられる。その結果、
上蓋１４は描画室１３から取り外され、その後支柱１８
を軸にして回転させることにより描画室１３の上部は解
放され、内部のメンテナンスを実行することができる。
メンテナンスの終了後、上記とは逆のステップで鏡筒１
５が描画室１３上に取り付けられる。なお、鏡筒１５部
分のみ持ち上げる場合には、ネジ１７を取り外し、連結
梁１６と上蓋１４との間の固着状態を解除し、エアシリ
ンダ２３によって支柱を上方向に移動させれば良い。
上蓋１４と描画室１３を接続しているネジ（図示せず）
などを取り外し、上蓋１４と描画室１３との間の固着状
態をあらかじめ解除する。次にエアシリンダ２３を動作
させてエアシリンダ２３によってスライド棒２２を上方
向に押し上げる。スライド棒２２は連結梁１６，支柱１
８と一体化されていることから、スライド棒２２の上方
向への移動により支柱１８も上方向に移動し、結果とし
て連結梁１６と支柱１８の上部に繋がった連結梁２０を
介して鏡筒１５が上方向に持ち上げられる。その結果、
上蓋１４は描画室１３から取り外され、その後支柱１８
を軸にして回転させることにより描画室１３の上部は解
放され、内部のメンテナンスを実行することができる。
メンテナンスの終了後、上記とは逆のステップで鏡筒１
５が描画室１３上に取り付けられる。なお、鏡筒１５部
分のみ持ち上げる場合には、ネジ１７を取り外し、連結
梁１６と上蓋１４との間の固着状態を解除し、エアシリ
ンダ２３によって支柱を上方向に移動させれば良い。
【００１０】このような構成とすることにより、実際の
描画時には鏡筒１５の上部が連結梁２０，支柱１８，上
蓋１４を介して描画室１３と一体化して固定されている
ので、鏡筒１５の剛性が著しく向上し、ステージの移動
停止時などにおける鏡筒の振動の発生を極力押さえるこ
とができる。また、連結梁２０，支柱１８，連結梁１６
によって上蓋１４と鏡筒１５が支持される構造となって
おり、上蓋１４が鏡筒１５の重みによって傾くことはな
くなり、鏡筒１５と描画室１３内のＸＹステージとの位
置関係や角度関係は精密に維持され、描画精度に悪影響
を与えることはない。
描画時には鏡筒１５の上部が連結梁２０，支柱１８，上
蓋１４を介して描画室１３と一体化して固定されている
ので、鏡筒１５の剛性が著しく向上し、ステージの移動
停止時などにおける鏡筒の振動の発生を極力押さえるこ
とができる。また、連結梁２０，支柱１８，連結梁１６
によって上蓋１４と鏡筒１５が支持される構造となって
おり、上蓋１４が鏡筒１５の重みによって傾くことはな
くなり、鏡筒１５と描画室１３内のＸＹステージとの位
置関係や角度関係は精密に維持され、描画精度に悪影響
を与えることはない。
【００１１】以上、本考案の一実施例を詳述したが、本
考案はこの実施例に限定されない。例えば、電子ビーム
描画装置を例に説明したが、電子顕微鏡や更にはイオン
ビーム装置にも本考案を用いることができる。また、鏡
筒の昇降のためにエアシリンダを用いたが、油圧機構な
ど他の昇降機構を使用しても良い。
考案はこの実施例に限定されない。例えば、電子ビーム
描画装置を例に説明したが、電子顕微鏡や更にはイオン
ビーム装置にも本考案を用いることができる。また、鏡
筒の昇降のためにエアシリンダを用いたが、油圧機構な
ど他の昇降機構を使用しても良い。
【００１２】
【考案の効果】以上説明したように、本考案に基づく荷
電粒子ビーム装置は、同一の除振台上に鏡筒と昇降機構
を設け、昇降機構によって上下動する支柱の上部と鏡筒
の上部とを一体化するように構成したので、荷電粒子ビ
ームの鏡筒の振動の発生を押さえると共に鏡筒の傾きを
防止し、高精度の描画や試料の観察を可能とすることが
できる。
電粒子ビーム装置は、同一の除振台上に鏡筒と昇降機構
を設け、昇降機構によって上下動する支柱の上部と鏡筒
の上部とを一体化するように構成したので、荷電粒子ビ
ームの鏡筒の振動の発生を押さえると共に鏡筒の傾きを
防止し、高精度の描画や試料の観察を可能とすることが
できる。
【図１】従来の電子ビーム描画装置の概念図を示す。
【図２】本考案に基づく電子ビーム描画装置の一実施例
を示す図である。
を示す図である。
１１ 除振台 １２ ＸＹステージ １３ 描画室 １４ 上蓋 １５ 電子光学鏡筒 １６，２０ 連結梁 １８，２１ 支柱 １９ 調整フランジ ２２ スライド棒 ２３ エアシリンダ
Claims (1)
- 【請求項１】 除振台と、除振台上に載せられた荷電粒
子ビームが照射されるターゲットを有した描画室と、描
画室上に配置され、荷電粒子ビームを発生する荷電粒子
ビーム源や荷電粒子ビームの集束，偏向のための荷電粒
子ビーム光学系を有している鏡筒と、鏡筒とほぼ平行に
配置された支柱と、支柱の上部と鏡筒の上部とを一体化
するための連結部材と、除振台上に支持され、支柱を上
下方向に昇降させるための昇降手段とを備えた荷電粒子
ビーム装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7654692U JP2546365Y2 (ja) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | 荷電粒子ビーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7654692U JP2546365Y2 (ja) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | 荷電粒子ビーム装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0641127U JPH0641127U (ja) | 1994-05-31 |
| JP2546365Y2 true JP2546365Y2 (ja) | 1997-08-27 |
Family
ID=13608268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7654692U Expired - Lifetime JP2546365Y2 (ja) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | 荷電粒子ビーム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2546365Y2 (ja) |
-
1992
- 1992-11-06 JP JP7654692U patent/JP2546365Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0641127U (ja) | 1994-05-31 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19970422 |