JPH0641127U - 荷電粒子ビーム装置 - Google Patents
荷電粒子ビーム装置Info
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- JPH0641127U JPH0641127U JP7654692U JP7654692U JPH0641127U JP H0641127 U JPH0641127 U JP H0641127U JP 7654692 U JP7654692 U JP 7654692U JP 7654692 U JP7654692 U JP 7654692U JP H0641127 U JPH0641127 U JP H0641127U
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 荷電粒子ビーム鏡筒の振動の発生を押さえる
と共に鏡筒の傾きを防止し、高精度の描画や試料の観察
を可能とする装置を実現する。 【構成】 除振台11と、除振台11上に載せられた荷
電粒子ビームが照射されるターゲットを有した描画室1
3と、描画室13上に配置され、荷電粒子ビームを発生
する荷電粒子ビーム源や荷電粒子ビームの集束,偏向の
ための荷電粒子ビーム光学系を有している鏡筒15と、
鏡筒15とほぼ平行に配置された支柱18と、支柱18
の上部と鏡筒15の上部とを一体化するための連結部材
と、除振台11上に支持され、支柱18を上下方向に昇
降させるための昇降手段とを備えた荷電粒子ビーム装
置。
と共に鏡筒の傾きを防止し、高精度の描画や試料の観察
を可能とする装置を実現する。 【構成】 除振台11と、除振台11上に載せられた荷
電粒子ビームが照射されるターゲットを有した描画室1
3と、描画室13上に配置され、荷電粒子ビームを発生
する荷電粒子ビーム源や荷電粒子ビームの集束,偏向の
ための荷電粒子ビーム光学系を有している鏡筒15と、
鏡筒15とほぼ平行に配置された支柱18と、支柱18
の上部と鏡筒15の上部とを一体化するための連結部材
と、除振台11上に支持され、支柱18を上下方向に昇
降させるための昇降手段とを備えた荷電粒子ビーム装
置。
Description
【0001】
本考案は、電子ビーム描画装置や電子顕微鏡などの荷電粒子ビーム装置に関し 、特に、振動の影響を少なくした荷電粒子ビーム装置の改良に関する。
【0002】
図1は従来の電子ビーム描画装置の概念図であり、1は電子銃や電子銃から発 生した電子ビームを集束したり偏向したりする電子光学系を有した鏡筒である。 鏡筒1は描画室(チャンバー)2の上蓋3上に固定して載せられている。描画室 2内には電子ビームによって所望のパターンが描画される材料が入れられ、また 、材料をX,Y方向に移動するステージ4も収納されている。描画室2は除振台 5上に載せられており、外部の振動により描画精度が劣化するのを防いでいる。 6は4本の支柱7(2本のみ図示)によって支持され、鏡筒1の上部の高さ位置 に設けられたリフト台であり、リフト台6にはリフト8が取り付けられている。 リフト8は鏡筒1の上部をチャックできるように構成され、エアシリンダの如き 昇降機構によって上下方向に駆動される。このような構成の動作を次に説明する 。
【0003】 通常の動作時には、除振台5上の描画室2内のステージ4上に被描画材料であ るウエハやマスク乾板などが載せられる。そして、鏡筒1内で発生した電子ビー ムが適宜整形され、集束されて材料上に投射される。所望パターンの描画は、電 子ビームを偏向すると共に、ステージ4をX,Y方向に移動させることによって 行われる。ここで、ステージ4のメンテナンスを行う場合、リフト8によって鏡 筒1の上部をチャックし、リフト8を上方向に移動させる。この時、上蓋3と描 画室2との間を固定するためのネジなどが事前に取り外されている。その結果、 上蓋3と鏡筒1部分がリフト8によって上方向に動かされ、更にリフト8による 回転動作により、描画室2上から取り除かれる。このようにして、描画室2の上 部は解放されることから、ステージ4のメンテナンスを行うことができる。ステ ージ4のメンテナンスが終了した後にリフト8によって上蓋3と鏡筒1部分が描 画室2上に移動させられ、更に下方向に動かされて元の状態に復帰される。その 後、描画動作を実行する際にはリフト8は鏡筒1の上部から外され、リフト8と 鏡筒1の接触状態は解除される。リフト8と鏡筒1との接触状態を解除する理由 は、支柱7,リフト台6,リフト8を介しての鏡筒1への外部振動の伝達を防止 するためである。
【0004】
上記構造において、電子ビーム描画の過程でXYステージ4が高速に移動し停 止する際のエネルギによって電子光学鏡筒1が振動する。この振動は描画精度に 悪影響を与えるので、振動が小さくなるようにXYステージの加速度の加え方を 工夫したり、ステージ4の停止後、一定の待ち時間を設けて振動が小さくなった 後に電子ビーム描画を開始している。しかしながら、このような工夫によりステ ージ4の移動速度を遅くせざるを得ず、待ち時間の設置と相俟って描画のスルー プットを劣化させる。また、このような工夫によっても振動の影響は残り、高精 度な描画は不可能である。さらに、最近描画室などのチャンバーが大きくなり、 上蓋の面積も増大しているが、上蓋の面積の増大に伴い鏡筒の重みで上蓋が撓み 、鏡筒内の電子光学系と材料や試料などのターゲットとの間の精密な位置関係に 狂いが生じてくる。このような問題点は電子ビーム描画装置のみならず、電子顕 微鏡などの他の荷電粒子ビーム装置にも同様に生じている。
【0005】 本考案は、このような点に鑑みてなされたもので、その目的は、荷電粒子ビー ムの鏡筒の振動の発生を押さえると共に鏡筒の傾きを防止し、高精度の描画や試 料の観察を可能とする荷電粒子ビーム装置を実現するにある。
【0006】
本考案に基づく荷電粒子ビーム装置は、除振台と、除振台上に載せられた荷電 粒子ビームが照射されるターゲットを有した描画室と、描画室上に配置され、荷 電粒子ビームを発生する荷電粒子ビーム源や荷電粒子ビームの集束,偏向のため の荷電粒子ビーム光学系を有している鏡筒と、鏡筒とほぼ平行に配置された支柱 と、支柱の上部と鏡筒の上部とを一体化するための連結部材と、除振台上に支持 され、支柱を上下方向に昇降させるための昇降手段とを備えたことを特徴として いる。
【0007】
本考案に基づく荷電粒子ビーム装置は、同一の除振台上に鏡筒と昇降手段を設 け、昇降手段によって上下動する支柱の上部と鏡筒の上部とを一体化する。
【0008】
以下、図面を参照して本考案の実施例を詳細に説明する。図2は本考案に基づ く電子ビーム描画装置の一実施例を示しており、11は除振台である。除振台1 1の上部には内部にXYステージ12を収納した描画室(チャンバー)13が載 せられており、描画室13の上部の上蓋14上には電子光学鏡筒15が載置され ている。上蓋14には連結梁16がネジ17によって一体的に取り付けられてい るが、連結梁16には支柱18が鏡筒15と平行して取り付けられている。支柱 18の上部には調整フランジ19を介して鏡筒1の上部に繋がっている連結梁2 0が固定されており、この調整フランジ19と連結梁20の両連結部材により、 支柱18の上部と鏡筒15の上部とは一体化されている。なお、調整フランジ1 9は各部材の加工精度,組み立て誤差を吸収するために設けられている。21も 支柱であるが、支柱21は除振台11に固定され、スライド棒22のガイドの役 割を有している。23はエア導入と排出口24,25を有した昇降手段としての エアシリンダであり、エアシリンダ23も除振台11に固定されている。エアシ リンダ23は上下方向にスライド棒22を駆動するが、このスライド棒22の動 きは連結梁16に伝達される。このような構成の動作を次に説明する。
【0009】 描画室13内のメンテナンスを行う場合、上蓋14と描画室13を接続してい るネジ(図示せず)などを取り外し、上蓋14と描画室13との間の固着状態を あらかじめ解除する。次にエアシリンダ23を動作させてエアシリンダ23によ ってスライド棒22を上方向に押し上げる。スライド棒22は連結梁16,支柱 18と一体化されていることから、スライド棒22の上方向への移動により支柱 18も上方向に移動し、結果として連結梁16と支柱18の上部に繋がった連結 梁20を介して鏡筒15が上方向に持ち上げられる。その結果、上蓋14は描画 室13から取り外され、その後支柱18を軸にして回転させることにより描画室 13の上部は解放され、内部のメンテナンスを実行することができる。メンテナ ンスの終了後、上記とは逆のステップで鏡筒15が描画室13上に取り付けられ る。なお、鏡筒15部分のみ持ち上げる場合には、ネジ17を取り外し、連結梁 16と上蓋14との間の固着状態を解除し、エアシリンダ23によって支柱を上 方向に移動させれば良い。
【0010】 このような構成とすることにより、実際の描画時には鏡筒15の上部が連結梁 20,支柱18,上蓋14を介して描画室13と一体化して固定されているので 、鏡筒15の剛性が著しく向上し、ステージの移動停止時などにおける鏡筒の振 動の発生を極力押さえることができる。また、連結梁20,支柱18,連結梁1 6によって上蓋14と鏡筒15が支持される構造となっており、上蓋14が鏡筒 15の重みによって傾くことはなくなり、鏡筒15と描画室13内のXYステー ジとの位置関係や角度関係は精密に維持され、描画精度に悪影響を与えることは ない。
【0011】 以上、本考案の一実施例を詳述したが、本考案はこの実施例に限定されない。 例えば、電子ビーム描画装置を例に説明したが、電子顕微鏡や更にはイオンビー ム装置にも本考案を用いることができる。また、鏡筒の昇降のためにエアシリン ダを用いたが、油圧機構など他の昇降機構を使用しても良い。
【0012】
以上説明したように、本考案に基づく荷電粒子ビーム装置は、同一の除振台上 に鏡筒と昇降機構を設け、昇降機構によって上下動する支柱の上部と鏡筒の上部 とを一体化するように構成したので、荷電粒子ビームの鏡筒の振動の発生を押さ えると共に鏡筒の傾きを防止し、高精度の描画や試料の観察を可能とすることが できる。
【図1】従来の電子ビーム描画装置の概念図を示す。
【図2】本考案に基づく電子ビーム描画装置の一実施例
を示す図である。
を示す図である。
11 除振台 12 XYステージ 13 描画室 14 上蓋 15 電子光学鏡筒 16,20 連結梁 18,21 支柱 19 調整フランジ 22 スライド棒 23 エアシリンダ
Claims (1)
- 【請求項1】 除振台と、除振台上に載せられた荷電粒
子ビームが照射されるターゲットを有した描画室と、描
画室上に配置され、荷電粒子ビームを発生する荷電粒子
ビーム源や荷電粒子ビームの集束,偏向のための荷電粒
子ビーム光学系を有している鏡筒と、鏡筒とほぼ平行に
配置された支柱と、支柱の上部と鏡筒の上部とを一体化
するための連結部材と、除振台上に支持され、支柱を上
下方向に昇降させるための昇降手段とを備えた荷電粒子
ビーム装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7654692U JP2546365Y2 (ja) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | 荷電粒子ビーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7654692U JP2546365Y2 (ja) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | 荷電粒子ビーム装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0641127U true JPH0641127U (ja) | 1994-05-31 |
JP2546365Y2 JP2546365Y2 (ja) | 1997-08-27 |
Family
ID=13608268
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7654692U Expired - Lifetime JP2546365Y2 (ja) | 1992-11-06 | 1992-11-06 | 荷電粒子ビーム装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2546365Y2 (ja) |
-
1992
- 1992-11-06 JP JP7654692U patent/JP2546365Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2546365Y2 (ja) | 1997-08-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19970422 |