JP2001023881A - 露光装置 - Google Patents
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- JP2001023881A JP2001023881A JP11193649A JP19364999A JP2001023881A JP 2001023881 A JP2001023881 A JP 2001023881A JP 11193649 A JP11193649 A JP 11193649A JP 19364999 A JP19364999 A JP 19364999A JP 2001023881 A JP2001023881 A JP 2001023881A
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- actuator
- sound pressure
- exposure apparatus
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 配設室内の騒音が及ぼす精密機器の位置精度
等への影響を抑制する。 【解決手段】 配設室10内に配設され、本体構造体2
4、25がアクティブ除振装置26によって支持された
露光装置11において、配設室内の騒音を検出するため
の音圧検出手段30a〜30dを備え、この音圧検出手
段の出力に基づいてアクティブ除振装置26が備えるア
クチュエータを駆動するように構成する。
等への影響を抑制する。 【解決手段】 配設室10内に配設され、本体構造体2
4、25がアクティブ除振装置26によって支持された
露光装置11において、配設室内の騒音を検出するため
の音圧検出手段30a〜30dを備え、この音圧検出手
段の出力に基づいてアクティブ除振装置26が備えるア
クチュエータを駆動するように構成する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、空調機器等から発
生する騒音に起因した露光精度への影響を排除もしくは
軽減した露光装置に関する。
生する騒音に起因した露光精度への影響を排除もしくは
軽減した露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ICパターン線幅の微細化要求に応える
半導体露光装置の技術開発によって、0.15μmも光
露光の守備範囲となってきた。このような微細化要求に
対応するには、従来の半導体露光装置では問題にもしな
かった外乱要因が及ぼすパターン線幅への影響を考慮す
る必要性に迫られている。そのような外乱要因の1つと
して、半導体露光装置を一定の雰囲気になすための設備
機械である空調機器から発生する振動・騒音が挙げられ
る。振動と騒音は、波の伝播媒体が異なるのみで物理現
象は同じである。前者は振動源の振動が構造部材などの
部材を伝播媒体として伝わってくる振動であり、後者は
振動源の振動が空気の疎密波として伝わってくる振動で
ある。
半導体露光装置の技術開発によって、0.15μmも光
露光の守備範囲となってきた。このような微細化要求に
対応するには、従来の半導体露光装置では問題にもしな
かった外乱要因が及ぼすパターン線幅への影響を考慮す
る必要性に迫られている。そのような外乱要因の1つと
して、半導体露光装置を一定の雰囲気になすための設備
機械である空調機器から発生する振動・騒音が挙げられ
る。振動と騒音は、波の伝播媒体が異なるのみで物理現
象は同じである。前者は振動源の振動が構造部材などの
部材を伝播媒体として伝わってくる振動であり、後者は
振動源の振動が空気の疎密波として伝わってくる振動で
ある。
【0003】従来、振動に対しては、これを高精度な加
速度センサによって検出し、続いて適切な処理を施して
構造体に駆動力を付与するアクチュエータにフィードバ
ックすることによって、能動的に振動を抑制乃至減衰さ
せることが極く普通に行なわれている。しかし空気媒体
を伝播してくる騒音に起因した本体構造体の振動は、こ
の影響が軽微であるため、問題にされることはなかっ
た。しかし、先にも述べたように、昨今のICパターン
の微細化要求に応えるためには、騒音に起因して発生す
る本体構造体の振動も抑制する必要に迫られている。
速度センサによって検出し、続いて適切な処理を施して
構造体に駆動力を付与するアクチュエータにフィードバ
ックすることによって、能動的に振動を抑制乃至減衰さ
せることが極く普通に行なわれている。しかし空気媒体
を伝播してくる騒音に起因した本体構造体の振動は、こ
の影響が軽微であるため、問題にされることはなかっ
た。しかし、先にも述べたように、昨今のICパターン
の微細化要求に応えるためには、騒音に起因して発生す
る本体構造体の振動も抑制する必要に迫られている。
【0004】まず騒音の大きさを表す物理量であるSP
L(Sound PressureLevel)を定義
しておこう。この量は、人間の聴感特性を加味して補正
が施される騒音レベル(dBA)とは異なり、音波によ
る圧力を示す物理的な量であり、SPL[dB]と単位
面積に発生する力P[dyn/cm2]の間の関係は次
式で与えられる。
L(Sound PressureLevel)を定義
しておこう。この量は、人間の聴感特性を加味して補正
が施される騒音レベル(dBA)とは異なり、音波によ
る圧力を示す物理的な量であり、SPL[dB]と単位
面積に発生する力P[dyn/cm2]の間の関係は次
式で与えられる。
【0005】P=10x[dyn/cm2] ここで、x=(SPL−74)/20、である。例え
ば、表面積1[m2]の物体にSPL=80[dB]の
騒音が作用した場合、0.020[kgf]の力が掛か
る。したがって、空調機器などから発生した騒音が空気
媒体を伝達して半導体露光装置に作用したときには、ラ
ンダム状に、周期的に、もしくは一定バイアス状に、大
表面積を有する本体構造体に外乱を与えると考えられ
る。
ば、表面積1[m2]の物体にSPL=80[dB]の
騒音が作用した場合、0.020[kgf]の力が掛か
る。したがって、空調機器などから発生した騒音が空気
媒体を伝達して半導体露光装置に作用したときには、ラ
ンダム状に、周期的に、もしくは一定バイアス状に、大
表面積を有する本体構造体に外乱を与えると考えられ
る。
【0006】さて、半導体露光装置における空調機器か
ら発生する騒音に着目し、これを低減しようとする公知
例は幾つか存在する。従来例を開示するものとして、ま
ず、特開平10−300125号公報(空調装置)と特
開平10−308343号公報(空調装置)を挙げる。
何れも、騒音を低減するために、空調機器の運転状態を
制御することを提案している。具体的には、空調機器に
おける熱交換器や送風機の能力を上げたり下げたりする
ことによって騒音を抑制する。騒音の源たる熱交換器や
送風機の運転状態を増減させるのであるから、特にそれ
らの能力を下げた状態で運転すれば確実に騒音を低減で
きる。しかしながら、もちろん、運転状態のレベルを低
下させれば、維持すべき温度を変動させてしまう訳であ
り、騒音によって引き起こされる振動は低減できても温
度変動という他の外乱要因を大きくしてしまうに過ぎな
い。
ら発生する騒音に着目し、これを低減しようとする公知
例は幾つか存在する。従来例を開示するものとして、ま
ず、特開平10−300125号公報(空調装置)と特
開平10−308343号公報(空調装置)を挙げる。
何れも、騒音を低減するために、空調機器の運転状態を
制御することを提案している。具体的には、空調機器に
おける熱交換器や送風機の能力を上げたり下げたりする
ことによって騒音を抑制する。騒音の源たる熱交換器や
送風機の運転状態を増減させるのであるから、特にそれ
らの能力を下げた状態で運転すれば確実に騒音を低減で
きる。しかしながら、もちろん、運転状態のレベルを低
下させれば、維持すべき温度を変動させてしまう訳であ
り、騒音によって引き起こされる振動は低減できても温
度変動という他の外乱要因を大きくしてしまうに過ぎな
い。
【0007】次の従来例として、特開平9−26513
7号公報(露光装置の環境制御方法及び装置)を挙げよ
う。同公開公報では、配設室内で発生する音をマイクロ
フォンで検出して、検出した音と逆位相の音をスピーカ
で発生させることによって、音響雑音を能動的に打ち消
すことを提案している。所謂、能動騒音制御(Acti
ve Noise Control;以下、ANCと略
記)技術の半導体露光装置(ステッパおよびスキャナ)
への展開を図っている。近年、ANCは自動車内、公衆
電話ブース、建設機械運転室などの消音を目指して活発
に研究開発がなされている。自動車内消音への実適用に
ついては、過去に1例だけ存在するが、その後、一般的
なものとしての普及はみられていない。自動車価格の押
し上げを普及阻害の原因としているむきもあるが、不規
則なロードノイズや車内のマルチパスの影響等を考慮し
て実効ある消音を達成することが困難であるという問題
を抱えている。一方、建設機械運転室へのANC適用に
ついては、ISO14001の認証取得のための対策の
1つとして普及への兆しがみられる。
7号公報(露光装置の環境制御方法及び装置)を挙げよ
う。同公開公報では、配設室内で発生する音をマイクロ
フォンで検出して、検出した音と逆位相の音をスピーカ
で発生させることによって、音響雑音を能動的に打ち消
すことを提案している。所謂、能動騒音制御(Acti
ve Noise Control;以下、ANCと略
記)技術の半導体露光装置(ステッパおよびスキャナ)
への展開を図っている。近年、ANCは自動車内、公衆
電話ブース、建設機械運転室などの消音を目指して活発
に研究開発がなされている。自動車内消音への実適用に
ついては、過去に1例だけ存在するが、その後、一般的
なものとしての普及はみられていない。自動車価格の押
し上げを普及阻害の原因としているむきもあるが、不規
則なロードノイズや車内のマルチパスの影響等を考慮し
て実効ある消音を達成することが困難であるという問題
を抱えている。一方、建設機械運転室へのANC適用に
ついては、ISO14001の認証取得のための対策の
1つとして普及への兆しがみられる。
【0008】さて、騒音を含めた振動対策としては、振
動源そのものに対して直接的対策を施すことが最も効果
がある。続いて、振動伝達経路に対して、振動伝播を遮
断するか、もしくは減衰させる対策が採られる。最後
に、振動源にも振動伝達経路にも対策を講じることがで
きない場合、ANCのように能動的な制御によって振動
を抑制ないしキャンセルする装置が採用される。
動源そのものに対して直接的対策を施すことが最も効果
がある。続いて、振動伝達経路に対して、振動伝播を遮
断するか、もしくは減衰させる対策が採られる。最後
に、振動源にも振動伝達経路にも対策を講じることがで
きない場合、ANCのように能動的な制御によって振動
を抑制ないしキャンセルする装置が採用される。
【0009】ここで、半導体露光装置を納める配設室内
の騒音は、主には空調機器から発生する低周波の規則的
な振動を源としており、ANC適用に際しての技術的な
困難はない。しかし、検出器としてのマイクロフォン
と、アクチュエータおよび熱源としてのスピーカを備え
ることが煩雑である。特に後者を新規に備えることが装
置性能の劣化要因を増やすものとなる。
の騒音は、主には空調機器から発生する低周波の規則的
な振動を源としており、ANC適用に際しての技術的な
困難はない。しかし、検出器としてのマイクロフォン
と、アクチュエータおよび熱源としてのスピーカを備え
ることが煩雑である。特に後者を新規に備えることが装
置性能の劣化要因を増やすものとなる。
【0010】以下、図面を参照することによって、従来
技術の問題を説明する。図2は、半導体露光装置が備え
る従来の空調機器の概略図である。同図に示すように、
空調装置は、チャンバ10を有し、このチャンバ10内
に投影露光装置11を収納する配設室12を形成する。
この配設室12に隣接して所定の設定温度の空気を送風
する空調路13が形成され、この空調路13からフィル
タ14を介して配設室12に空気が送風され、この配設
室12を清浄かつ恒温に維持するように機能する。空調
路13には、熱交換器15と送風機16とからなる空調
機器17を備える。また、外気を導く外気導入口18、
配設室12と連通する連通口19、配設室12の空気を
外部へと排出する排気口20が形成されている。
技術の問題を説明する。図2は、半導体露光装置が備え
る従来の空調機器の概略図である。同図に示すように、
空調装置は、チャンバ10を有し、このチャンバ10内
に投影露光装置11を収納する配設室12を形成する。
この配設室12に隣接して所定の設定温度の空気を送風
する空調路13が形成され、この空調路13からフィル
タ14を介して配設室12に空気が送風され、この配設
室12を清浄かつ恒温に維持するように機能する。空調
路13には、熱交換器15と送風機16とからなる空調
機器17を備える。また、外気を導く外気導入口18、
配設室12と連通する連通口19、配設室12の空気を
外部へと排出する排気口20が形成されている。
【0011】さて、配設室12内には、投影露光装置1
1が設置されている。この主要な構成要素は、次の通り
である。まず、不図示の光源から射出された光がICの
回路パターンであるレチクル21に照射され、これを通
過した光は投影光学系22を通ってウエハ23に照射さ
れる。これにより、レチクル21のパターンは1/5も
しくは1/4に縮小されてウエハ23上に投影される。
ウエハ23はウエハステージ(XYステージ)24の上
に載置されている。そして、ウエハステージ24はステ
ージ定盤(除振台)25に搭載されている。26はアク
ティブ除振装置のアクティブマウントである。このユニ
ットの機能は、ウエハステージ24の急激な加減速を伴
うステップアンドリピート運転、もしくは急激な加減速
を伴う高速スキャン運転による駆動反力で発生するステ
ージ定盤25を含めた本体構造体の揺れを抑制するこ
と、および投影露光装置11を設置している床の振動が
投影光学系22を含めた本体構造体に侵入してこないよ
うにすることである。
1が設置されている。この主要な構成要素は、次の通り
である。まず、不図示の光源から射出された光がICの
回路パターンであるレチクル21に照射され、これを通
過した光は投影光学系22を通ってウエハ23に照射さ
れる。これにより、レチクル21のパターンは1/5も
しくは1/4に縮小されてウエハ23上に投影される。
ウエハ23はウエハステージ(XYステージ)24の上
に載置されている。そして、ウエハステージ24はステ
ージ定盤(除振台)25に搭載されている。26はアク
ティブ除振装置のアクティブマウントである。このユニ
ットの機能は、ウエハステージ24の急激な加減速を伴
うステップアンドリピート運転、もしくは急激な加減速
を伴う高速スキャン運転による駆動反力で発生するステ
ージ定盤25を含めた本体構造体の揺れを抑制するこ
と、および投影露光装置11を設置している床の振動が
投影光学系22を含めた本体構造体に侵入してこないよ
うにすることである。
【0012】最近では、ウエハ23に焼き付けられるI
Cパターンの線幅がサブμmとなっており、したがっ
て、投影露光装置11に対しては、露光精度に影響する
温度変化や、空気中の塵などによる環境変化を極力与え
ないようにする必要がある。そのために、投影露光装置
11は、空気を清浄にかつ恒温に保持する空調装置を備
えた配設室12内に置かれているのである。
Cパターンの線幅がサブμmとなっており、したがっ
て、投影露光装置11に対しては、露光精度に影響する
温度変化や、空気中の塵などによる環境変化を極力与え
ないようにする必要がある。そのために、投影露光装置
11は、空気を清浄にかつ恒温に保持する空調装置を備
えた配設室12内に置かれているのである。
【0013】しかしながら、ICの集積度向上にともな
い、従来においては問題にもしなかった配設室12内の
騒音が及ぼす露光精度への悪影響の存在が分かってき
た。悪いことに、今後のICの集積度向上というトレン
ドのもとでは、騒音の悪影響をますます増大させてしま
うのである。つまり、ICの集積度とともにスループッ
ト(生産性)向上を図っており、ウエハステージ24は
高い加速度で加減速運転されている。この運転による駆
動反力を吸収して本体構造体の振動を抑制するために、
アクティブマウント26のアクチュエータも、より高い
駆動力を発生させるようになっている。つまり、ウエハ
ステージ24やアクティブマウント26などのアクチュ
エータから発生する発熱を増大させている。この発熱を
抑制して配設室12内の恒温性を保持するためには、空
調機器17の能力増強を行なわねばならないのである。
すると、配設室12内の騒音はますます大きくなり、露
光精度への悪影響も増大してくるという悪循環に陥る危
険が大きいと言えるのである。
い、従来においては問題にもしなかった配設室12内の
騒音が及ぼす露光精度への悪影響の存在が分かってき
た。悪いことに、今後のICの集積度向上というトレン
ドのもとでは、騒音の悪影響をますます増大させてしま
うのである。つまり、ICの集積度とともにスループッ
ト(生産性)向上を図っており、ウエハステージ24は
高い加速度で加減速運転されている。この運転による駆
動反力を吸収して本体構造体の振動を抑制するために、
アクティブマウント26のアクチュエータも、より高い
駆動力を発生させるようになっている。つまり、ウエハ
ステージ24やアクティブマウント26などのアクチュ
エータから発生する発熱を増大させている。この発熱を
抑制して配設室12内の恒温性を保持するためには、空
調機器17の能力増強を行なわねばならないのである。
すると、配設室12内の騒音はますます大きくなり、露
光精度への悪影響も増大してくるという悪循環に陥る危
険が大きいと言えるのである。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題を整理すると以下の通りである。近年の半導体
露光装置に求められる微細化要求に応えるには、環境制
御が行なわれる配設室内の騒音が及ぼす精密機器の位置
精度等への影響も無視できなくなった。すなわち、空調
機器の運転によって発生する騒音は、配設室内の空気の
疎密波を生成し、これが半導体露光装置の本体構造体
を、ランダムに、周期的に、もしくは一定バイアス状に
加振する。この加振によって、本体構造体に搭載する精
密機器などの精度は劣化し、以って半導体露光装置の微
細化を妨げている。
する課題を整理すると以下の通りである。近年の半導体
露光装置に求められる微細化要求に応えるには、環境制
御が行なわれる配設室内の騒音が及ぼす精密機器の位置
精度等への影響も無視できなくなった。すなわち、空調
機器の運転によって発生する騒音は、配設室内の空気の
疎密波を生成し、これが半導体露光装置の本体構造体
を、ランダムに、周期的に、もしくは一定バイアス状に
加振する。この加振によって、本体構造体に搭載する精
密機器などの精度は劣化し、以って半導体露光装置の微
細化を妨げている。
【0015】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するた
め、本発明の第1の露光装置は、配設用の室内に配設さ
れ、本体構造体がアクティブ除振装置によって支持され
た露光装置において、前記配設室内の騒音を検出するた
めの音圧検出手段を備え、この音圧検出手段の出力に基
づいて前記アクティブ除振装置が備えるアクチュエータ
を駆動するように構成したことを特徴とする。
め、本発明の第1の露光装置は、配設用の室内に配設さ
れ、本体構造体がアクティブ除振装置によって支持され
た露光装置において、前記配設室内の騒音を検出するた
めの音圧検出手段を備え、この音圧検出手段の出力に基
づいて前記アクティブ除振装置が備えるアクチュエータ
を駆動するように構成したことを特徴とする。
【0016】第2の露光装置は、第1の露光装置におい
て、前記配設室内の空気を清浄かつ恒温に保つための空
調機器を備えることを特徴とする。
て、前記配設室内の空気を清浄かつ恒温に保つための空
調機器を備えることを特徴とする。
【0017】第3の露光装置は、第1または第2の露光
装置において、前記音圧検出手段は1つまたは複数のマ
イクロフォンであることを特徴とする。
装置において、前記音圧検出手段は1つまたは複数のマ
イクロフォンであることを特徴とする。
【0018】第4の露光装置は、第1〜第3のいずれか
の露光装置において、前記アクティブ除振装置は、前記
アクチュエータとして、空気ばねアクチュエータおよび
リニアモータに代表される電磁アクチュエータもしくは
圧電素子に代表される変位発生型アクチュエータを備
え、前記音圧検出手段の出力に基づいて、前記騒音の低
周波成分による影響を制御するために前記空気ばねアク
チュエータを駆動し、前記騒音の高周波成分による影響
を制御するために前記電磁アクチュエータまたは変位発
生型アクチュエータを駆動するものであることを特徴と
する。
の露光装置において、前記アクティブ除振装置は、前記
アクチュエータとして、空気ばねアクチュエータおよび
リニアモータに代表される電磁アクチュエータもしくは
圧電素子に代表される変位発生型アクチュエータを備
え、前記音圧検出手段の出力に基づいて、前記騒音の低
周波成分による影響を制御するために前記空気ばねアク
チュエータを駆動し、前記騒音の高周波成分による影響
を制御するために前記電磁アクチュエータまたは変位発
生型アクチュエータを駆動するものであることを特徴と
する。
【0019】第5の露光装置は、第1〜第4のいずれか
の露光装置において、前記アクティブ除振装置は、前記
音圧検出手段の出力に基づく信号をフィードフォワード
信号として用いて前記アクチュエータを駆動するもので
あることを特徴とする。
の露光装置において、前記アクティブ除振装置は、前記
音圧検出手段の出力に基づく信号をフィードフォワード
信号として用いて前記アクチュエータを駆動するもので
あることを特徴とする。
【0020】これら本発明の構成において、露光装置を
納める配設室内の騒音は主に空調機器から発生する低周
波の規則的な振動を源としており、ANC適用に際して
の技術的な困難はないが、検出器としてのマイクロフォ
ンと、アクチュエータおよび熱源としてのスピーカを備
えることが煩雑である。特に後者を新規に備えることが
装置性能の劣化要因を増やすものとなる。そこで、本発
明では、露光装置がアクチュエータを有するアクティブ
除振装置を備えていることに注目して本発明の構成を採
用している。すなわち、配設室内の騒音の程度を表すS
PLによって加振を受けるのは、主にはアクティブ除振
装置によって支持されている本体構造体である。このア
クティブ除振装置は、本体構造体を支持するためのアク
チュエータを備えており、音圧検出手段としてのマイク
ロフォンの検出出力に基づいてアクティブ除振装置のア
クチュエータを駆動することができる。つまり、騒音は
音圧検出手段としてのマイクロフォンで検出するもの
の、その検出出力に基づいてアクティブ除振装置内のア
クチュエータを駆動して、騒音に起因する本体構造体の
振動を抑制乃至軽減するようにしている。このような技
術を音響フィードフォワードと称することにする。
納める配設室内の騒音は主に空調機器から発生する低周
波の規則的な振動を源としており、ANC適用に際して
の技術的な困難はないが、検出器としてのマイクロフォ
ンと、アクチュエータおよび熱源としてのスピーカを備
えることが煩雑である。特に後者を新規に備えることが
装置性能の劣化要因を増やすものとなる。そこで、本発
明では、露光装置がアクチュエータを有するアクティブ
除振装置を備えていることに注目して本発明の構成を採
用している。すなわち、配設室内の騒音の程度を表すS
PLによって加振を受けるのは、主にはアクティブ除振
装置によって支持されている本体構造体である。このア
クティブ除振装置は、本体構造体を支持するためのアク
チュエータを備えており、音圧検出手段としてのマイク
ロフォンの検出出力に基づいてアクティブ除振装置のア
クチュエータを駆動することができる。つまり、騒音は
音圧検出手段としてのマイクロフォンで検出するもの
の、その検出出力に基づいてアクティブ除振装置内のア
クチュエータを駆動して、騒音に起因する本体構造体の
振動を抑制乃至軽減するようにしている。このような技
術を音響フィードフォワードと称することにする。
【0021】
【実施例】図1は本発明の一実施例に係る半導体露光装
置を示す。同図において、30a〜30dは音圧検出手
段としてのマイクロフォンである。図中、4個の音圧検
出手段を備えているが、この個数に限定されるものでは
ない。予め、配設室12各所の音圧を計測しておき、騒
音とステージ定盤25を含む本体構造体の姿勢精度への
相関が高い箇所および騒音の計測方位を定めておけば、
複数個の音圧検出手段30a〜30dを備える必要性は
必ずしもない。相関が高い計測部位を選ぶことができれ
ば、配設室12内の1箇所に設けた音圧検出手段の出力
だけを使う。また図1では、正面2箇所のアクティブマ
ウント26のみが示されているが、図の紙面奥の方にさ
らに少なくとも1つのアクティブマウント26を配置
し、少なくとも3つ以上のアクティブマウント26を備
えていることが普通である。また、図1のアクティブマ
ウント26では、鉛直方向にだけ駆動力を発生する表記
としているが、少なくとも3つ以上の各アクティブマウ
ント26では、鉛直と水平の両方向に駆動力を発生する
メカニズムを備えているものとする。
置を示す。同図において、30a〜30dは音圧検出手
段としてのマイクロフォンである。図中、4個の音圧検
出手段を備えているが、この個数に限定されるものでは
ない。予め、配設室12各所の音圧を計測しておき、騒
音とステージ定盤25を含む本体構造体の姿勢精度への
相関が高い箇所および騒音の計測方位を定めておけば、
複数個の音圧検出手段30a〜30dを備える必要性は
必ずしもない。相関が高い計測部位を選ぶことができれ
ば、配設室12内の1箇所に設けた音圧検出手段の出力
だけを使う。また図1では、正面2箇所のアクティブマ
ウント26のみが示されているが、図の紙面奥の方にさ
らに少なくとも1つのアクティブマウント26を配置
し、少なくとも3つ以上のアクティブマウント26を備
えていることが普通である。また、図1のアクティブマ
ウント26では、鉛直方向にだけ駆動力を発生する表記
としているが、少なくとも3つ以上の各アクティブマウ
ント26では、鉛直と水平の両方向に駆動力を発生する
メカニズムを備えているものとする。
【0022】ここで、アクティブマウント26内のセン
サとしては、位置検出手段としての変位センサ、振動検
出センサとしての加速度センサもしくは速度センサ、そ
して加圧検出手段としての圧力センサもしくは荷重セン
サ、が好適に使用され、これらの信号が制御装置27に
導かれている。そうして、制御装置27で生成した駆動
信号によってアクティブマウント26のアクチュエータ
を駆動し、ステージ定盤25を含めた本体構造体を安定
に姿勢制御している。ここで、アクチュエータとして
は、空気ばね、電磁モータ、圧電素子、電歪素子などが
使われる。このセンサ出力に基づくフィードバック制御
により、アクティブ除振装置におけるアクティブマウン
ト26によって支持されたステージ定盤25を含む本体
構造体は、適切なダンピングの付与によって安定化され
たうえで所定の位置に定位させることができる。
サとしては、位置検出手段としての変位センサ、振動検
出センサとしての加速度センサもしくは速度センサ、そ
して加圧検出手段としての圧力センサもしくは荷重セン
サ、が好適に使用され、これらの信号が制御装置27に
導かれている。そうして、制御装置27で生成した駆動
信号によってアクティブマウント26のアクチュエータ
を駆動し、ステージ定盤25を含めた本体構造体を安定
に姿勢制御している。ここで、アクチュエータとして
は、空気ばね、電磁モータ、圧電素子、電歪素子などが
使われる。このセンサ出力に基づくフィードバック制御
により、アクティブ除振装置におけるアクティブマウン
ト26によって支持されたステージ定盤25を含む本体
構造体は、適切なダンピングの付与によって安定化され
たうえで所定の位置に定位させることができる。
【0023】さて、本実施例では、本発明に従い、配設
室12内に設けた音圧検出手段30a〜30dの信号
を、制御装置27に導き、騒音が及ぼす本体構造体への
影響を模擬する伝達関数を介して駆動信号を生成するこ
とによってアクティブ除振装置におけるアクティブマウ
ント26内のアクチュエータをフィードフォワード駆動
する。より具体的に、このような音響フィードフォワー
ドを実装するアクティブ除振装置の1つの構成例を図3
と図4を用いて説明する。図3は、アクティブマウント
26とそれらによって支持される機械構成の概略を、図
4は図3に対応する制御装置の構成を示すものである。
室12内に設けた音圧検出手段30a〜30dの信号
を、制御装置27に導き、騒音が及ぼす本体構造体への
影響を模擬する伝達関数を介して駆動信号を生成するこ
とによってアクティブ除振装置におけるアクティブマウ
ント26内のアクチュエータをフィードフォワード駆動
する。より具体的に、このような音響フィードフォワー
ドを実装するアクティブ除振装置の1つの構成例を図3
と図4を用いて説明する。図3は、アクティブマウント
26とそれらによって支持される機械構成の概略を、図
4は図3に対応する制御装置の構成を示すものである。
【0024】まず、図3の説明を行なう。同図におい
て、40は除振台41に搭載されたXYステージ(ウエ
ハステージ24と同じと考えてよい)、26−1〜26
−3は除振台41を支えるアクティブマウントである。
1脚のアクティブマウントの中には、鉛直方向および水
平方向の2軸を制御するために必要な個数の加速度セン
サAC、位置センサPO、圧力センサPR、サーボバル
ブSV、空気ばねアクチュエータASが内蔵されてい
る。ここで、AC、POなどの次に付けた記号は、図中
の座標系に従う方位とアクティブマウント26−1〜2
6−3の配置場所を示す。例えば、Y2とは、Y軸方向
であって左側に配置したアクティブマウント26−2の
中にあるものを指す。
て、40は除振台41に搭載されたXYステージ(ウエ
ハステージ24と同じと考えてよい)、26−1〜26
−3は除振台41を支えるアクティブマウントである。
1脚のアクティブマウントの中には、鉛直方向および水
平方向の2軸を制御するために必要な個数の加速度セン
サAC、位置センサPO、圧力センサPR、サーボバル
ブSV、空気ばねアクチュエータASが内蔵されてい
る。ここで、AC、POなどの次に付けた記号は、図中
の座標系に従う方位とアクティブマウント26−1〜2
6−3の配置場所を示す。例えば、Y2とは、Y軸方向
であって左側に配置したアクティブマウント26−2の
中にあるものを指す。
【0025】次に、図4の説明を行なう。同図では、振
動センサとしての加速度センサAC−Z1,AC−Z
2,AC−Z3,AC−X1,AC−Y2,AC−Y3
の出力信号を使った加速度フィードバックループ、加圧
力検出手段としての圧力センサPR−Z1,PR−Z
2,PR−Z3,PR−X1,PR−Y2,PR−Y3
の出力信号を使った圧力フィードバックループ、位置検
出手段としての例えば変位センサPO−Z1,PO−Z
2,PO−Z3,PO−X1,PO−Y2,PO−Y3
の出力信号を使った位置フィードバックループが施され
ている。
動センサとしての加速度センサAC−Z1,AC−Z
2,AC−Z3,AC−X1,AC−Y2,AC−Y3
の出力信号を使った加速度フィードバックループ、加圧
力検出手段としての圧力センサPR−Z1,PR−Z
2,PR−Z3,PR−X1,PR−Y2,PR−Y3
の出力信号を使った圧力フィードバックループ、位置検
出手段としての例えば変位センサPO−Z1,PO−Z
2,PO−Z3,PO−X1,PO−Y2,PO−Y3
の出力信号を使った位置フィードバックループが施され
ている。
【0026】まず、変位センサPO−Z1,PO−Z
2,PO−Z3,PO−X1,PO−Y2,PO−Y3
は位置計測手段の変位センサであり、その出力は位置目
標値出力部51の出力(Z10 ,Z20 ,Z30 ,X10 ,
Y20 ,Y30)と比較されて、各軸の位置偏差信号(e
z1 ,ez2 ,ez3 ,ex1 ,ey2 ,ey3)となる。こ
れらの偏差信号は、除振台41の並進運動と各軸回りの
回転運動の合計6自由度の運動モード位置偏差信号(e
x ,ey ,ez ,eθx ,eθy ,eθz)を演算出力
する位置信号に関する運動モード抽出演算手段52に導
かれる。これらの出力信号は、運動モードごとにほぼ非
干渉で位置の特性を調整する位置に関するゲイン補償器
53に導かれる。このループを位置フィードバックルー
プと称する。
2,PO−Z3,PO−X1,PO−Y2,PO−Y3
は位置計測手段の変位センサであり、その出力は位置目
標値出力部51の出力(Z10 ,Z20 ,Z30 ,X10 ,
Y20 ,Y30)と比較されて、各軸の位置偏差信号(e
z1 ,ez2 ,ez3 ,ex1 ,ey2 ,ey3)となる。こ
れらの偏差信号は、除振台41の並進運動と各軸回りの
回転運動の合計6自由度の運動モード位置偏差信号(e
x ,ey ,ez ,eθx ,eθy ,eθz)を演算出力
する位置信号に関する運動モード抽出演算手段52に導
かれる。これらの出力信号は、運動モードごとにほぼ非
干渉で位置の特性を調整する位置に関するゲイン補償器
53に導かれる。このループを位置フィードバックルー
プと称する。
【0027】次に、振動計測手段の代表である加速度セ
ンサAC−Z1,AC−Z2,AC−Z3,AC−X
1,AC−Y2,AC−Y3の出力は高周波ノイズを除
去する等の適切なフィルタリング処理が施されて、即座
に加速度に関する運動モード抽出演算手段54への入力
となる。その出力は運動モード加速度信号(ax ,
ay,az ,aθx ,aθy ,aθz)である。運動モー
ドごとに最適なダンピングを設定するべく、運動モード
加速度信号(ax ,ay ,az ,aθx ,aθy ,aθ
z)は次段の加速度信号に関するゲイン補償器55に導
かれている。このゲインを調整することによって運動モ
ードごとに最適なダンピング特性が得られる。このルー
プを加速度フィードバックループと称する。
ンサAC−Z1,AC−Z2,AC−Z3,AC−X
1,AC−Y2,AC−Y3の出力は高周波ノイズを除
去する等の適切なフィルタリング処理が施されて、即座
に加速度に関する運動モード抽出演算手段54への入力
となる。その出力は運動モード加速度信号(ax ,
ay,az ,aθx ,aθy ,aθz)である。運動モー
ドごとに最適なダンピングを設定するべく、運動モード
加速度信号(ax ,ay ,az ,aθx ,aθy ,aθ
z)は次段の加速度信号に関するゲイン補償器55に導
かれている。このゲインを調整することによって運動モ
ードごとに最適なダンピング特性が得られる。このルー
プを加速度フィードバックループと称する。
【0028】位置に関するゲイン補償器53の出力と、
加速度に関するゲイン補償器55の出力である負帰還信
号は加算されて運動モード別のPI補償器56に導かれ
る。ここで、Pは比例動作を、Iは積分動作を意味す
る。この部位にPI補償器を設けた理由については、特
願平9−68995号によって詳しく述べている。数式
を用いた詳細な説明は割愛して簡単に述べると以下の通
りである。
加速度に関するゲイン補償器55の出力である負帰還信
号は加算されて運動モード別のPI補償器56に導かれ
る。ここで、Pは比例動作を、Iは積分動作を意味す
る。この部位にPI補償器を設けた理由については、特
願平9−68995号によって詳しく述べている。数式
を用いた詳細な説明は割愛して簡単に述べると以下の通
りである。
【0029】まず、圧力フィードバック無しの場合であ
って、加速度を検出してそれに適切なゲインを掛けたも
のを、サーボバルブSVを励磁する電圧電流変換器の前
段にフィードバックすると、その操作量はダンピングと
して作用する。サーボバルブSVを含めた空気ばねアク
チュエータの特性が概ね積分特性であるため、加速度信
号が積分されて速度としての効果をもつためである。と
ころが、圧力フィードバックを施したときには、積分特
性は消滅して1次遅れ系となる。したがって、このよう
な1次遅れ系に対して加速度フィードバックを施しても
ダンピングとしての効果はもたない。そこで、加速度の
ゲインフィードバックをダンピングとして作用させるた
めに積分特性を復活させる。この役割をもつ補償器がP
I補償器56となっている。PI補償器56は補償器と
して作りだされた完全な積分特性をもつので、先に説明
した位置フィードバックループに積分器を含まなくても
定常位置偏差零で位置決めできる。故に、このループに
おける補償器はゲイン補償器53になっている。
って、加速度を検出してそれに適切なゲインを掛けたも
のを、サーボバルブSVを励磁する電圧電流変換器の前
段にフィードバックすると、その操作量はダンピングと
して作用する。サーボバルブSVを含めた空気ばねアク
チュエータの特性が概ね積分特性であるため、加速度信
号が積分されて速度としての効果をもつためである。と
ころが、圧力フィードバックを施したときには、積分特
性は消滅して1次遅れ系となる。したがって、このよう
な1次遅れ系に対して加速度フィードバックを施しても
ダンピングとしての効果はもたない。そこで、加速度の
ゲインフィードバックをダンピングとして作用させるた
めに積分特性を復活させる。この役割をもつ補償器がP
I補償器56となっている。PI補償器56は補償器と
して作りだされた完全な積分特性をもつので、先に説明
した位置フィードバックループに積分器を含まなくても
定常位置偏差零で位置決めできる。故に、このループに
おける補償器はゲイン補償器53になっている。
【0030】さて、PI補償器56の出力である運動モ
ード駆動信号(dx,dy,dz,dθx,dθx,d
θx)は運動モード分配演算手段57への入力となり、
その出力は各軸の空気ばねアクチュエータが発生すべき
駆動信号(dz1 ,dz2 ,d z3 ,dx1 ,dy2 ,
dy3)となる。ここで、駆動信号(dz1 ,dz2 ,d
z3 ,dx1 ,dy2 ,dy3)によって励磁される系に
は、特願平9−68995号で開示した各軸ごとに独立
な圧力フィードバックループが構成されている。すなわ
ち、空気ばねアクチュエータの内圧を計測するための圧
力センサに代表される圧力計測手段PR−Z1,PR−
Z2,PR−Z3,PR−X1,PR−Y2,PR−Y
3の出力は、圧力検出手段58によって電気信号となし
て負帰還されており、圧力目標値出力部59の信号と先
に記述した各軸の駆動信号(dz1 ,dz2 ,dz3 ,d
x1 ,dy2 ,dy3)とを加算して圧力に関するPI補償
器60に導かれている。このPI補償器60の出力は、
各軸のサーボバルブSV−Z1,SV−Z2,SV−Z
3,SV−X1,SV−Y2,SV−Y3に電流を通し
て弁の開閉を行なわせるための電圧電流変換器(図面
中、VI変換と略記)61を駆動している。ここで、圧
力目標値出力部59は、各軸の空気ばねアクチュエータ
が発生すべき平衡状態の圧力値を指定するものである。
このようなループを圧力フィードバックループと称す
る。
ード駆動信号(dx,dy,dz,dθx,dθx,d
θx)は運動モード分配演算手段57への入力となり、
その出力は各軸の空気ばねアクチュエータが発生すべき
駆動信号(dz1 ,dz2 ,d z3 ,dx1 ,dy2 ,
dy3)となる。ここで、駆動信号(dz1 ,dz2 ,d
z3 ,dx1 ,dy2 ,dy3)によって励磁される系に
は、特願平9−68995号で開示した各軸ごとに独立
な圧力フィードバックループが構成されている。すなわ
ち、空気ばねアクチュエータの内圧を計測するための圧
力センサに代表される圧力計測手段PR−Z1,PR−
Z2,PR−Z3,PR−X1,PR−Y2,PR−Y
3の出力は、圧力検出手段58によって電気信号となし
て負帰還されており、圧力目標値出力部59の信号と先
に記述した各軸の駆動信号(dz1 ,dz2 ,dz3 ,d
x1 ,dy2 ,dy3)とを加算して圧力に関するPI補償
器60に導かれている。このPI補償器60の出力は、
各軸のサーボバルブSV−Z1,SV−Z2,SV−Z
3,SV−X1,SV−Y2,SV−Y3に電流を通し
て弁の開閉を行なわせるための電圧電流変換器(図面
中、VI変換と略記)61を駆動している。ここで、圧
力目標値出力部59は、各軸の空気ばねアクチュエータ
が発生すべき平衡状態の圧力値を指定するものである。
このようなループを圧力フィードバックループと称す
る。
【0031】なお、圧力フィードバックループでは、空
気ばねアクチュエータの内圧を圧力センサに代表される
圧力計測手段PRによって検出してこれをフィードバッ
クしているが、空気ばねアクチュエータが発生する荷重
をロードセンサに代表される荷重計測手段によって検出
してこの出力を負帰還してなる荷重フィードバックを構
成したときにも上述の圧力フィードバックループと同様
の機能が実現できる。そこで、圧力計測手段と荷重計測
手段とを併せて加圧力計測手段と呼び、圧力フィードバ
ックループと荷重フィードバックループとを併せて加圧
力フィードバックループと呼ぶことにする。ここでは、
加圧力フィードバックループの中の圧力フィードバック
ループを使って技術内容を説明した。
気ばねアクチュエータの内圧を圧力センサに代表される
圧力計測手段PRによって検出してこれをフィードバッ
クしているが、空気ばねアクチュエータが発生する荷重
をロードセンサに代表される荷重計測手段によって検出
してこの出力を負帰還してなる荷重フィードバックを構
成したときにも上述の圧力フィードバックループと同様
の機能が実現できる。そこで、圧力計測手段と荷重計測
手段とを併せて加圧力計測手段と呼び、圧力フィードバ
ックループと荷重フィードバックループとを併せて加圧
力フィードバックループと呼ぶことにする。ここでは、
加圧力フィードバックループの中の圧力フィードバック
ループを使って技術内容を説明した。
【0032】さて、本実施例では、従来のアクティブ除
振装置の一構成に対して新たに音響フィードフォワード
ループを付加している。図1において、30a〜30d
は音圧検出手段としての例えばマイクロフォンであり、
この出力信号を音響フィードフォワード演算手段31に
導いている。ここでは、投影露光装置11を設置する配
設室12内空間の音圧分布に基づき、アクティブ除振装
置の姿勢に対する補正の量および方位を演算する。方位
とは、アクティブ除振装置によって支持される本体構造
体の運動姿勢のことであり、例えば、x軸方向の並進運
動に対して音響フィードフォワードを効かせることを意
味する。
振装置の一構成に対して新たに音響フィードフォワード
ループを付加している。図1において、30a〜30d
は音圧検出手段としての例えばマイクロフォンであり、
この出力信号を音響フィードフォワード演算手段31に
導いている。ここでは、投影露光装置11を設置する配
設室12内空間の音圧分布に基づき、アクティブ除振装
置の姿勢に対する補正の量および方位を演算する。方位
とは、アクティブ除振装置によって支持される本体構造
体の運動姿勢のことであり、例えば、x軸方向の並進運
動に対して音響フィードフォワードを効かせることを意
味する。
【0033】この音響フィードフォワード演算手段31
の中身については、予め、配設室12内の空間の音圧と
アクティブ除振装置によって支持する本体構造体が受け
る加振力との相関を詳細に計測しておき、音圧に起因す
る本体構造体への加振力を相殺するように演算内容を定
めればよい。あるいは適応制御の手法を用いることもで
きる。配設室12内の音圧から本体構造体が受ける加振
力までの伝達特性を適応同定によって逐次推定を行な
い、その結果に基づいて音響フィードフォワード演算手
段31の演算内容を更新できる。
の中身については、予め、配設室12内の空間の音圧と
アクティブ除振装置によって支持する本体構造体が受け
る加振力との相関を詳細に計測しておき、音圧に起因す
る本体構造体への加振力を相殺するように演算内容を定
めればよい。あるいは適応制御の手法を用いることもで
きる。配設室12内の音圧から本体構造体が受ける加振
力までの伝達特性を適応同定によって逐次推定を行な
い、その結果に基づいて音響フィードフォワード演算手
段31の演算内容を更新できる。
【0034】さて、図4の構成は、本体構造体を支持す
るアクチュエータとしてサーボバルブSVで駆動する空
気ばねが使用されたアクティブ除振装置の構成であっ
て、そこに音響フィードフォワードを付加したものであ
る。しかし、アクティブ除振装置のアクチュエータとし
ては、空気ばねのみに限定されるものではなく、空気ば
ねに加えて応答性の良好な電磁モータを併用するハイブ
リッドのアクティブ除振装置も存在し、半導体露光装置
の中で実際に稼働している。この場合、空気ばねと電磁
モータのどちらか一方を単独で駆動する音響フィードフ
ォワードを掛けてもよいし、両アクチュエータに対して
騒音の周波数帯域を考慮した音響フィードフォワードを
施すこともできる。すなわち、低周波の騒音に対する影
響を抑制するためには、アクティブ除振装置のアクチュ
エータとして空気ばねアクチュエータを使用し、一方、
高周波の騒音に対する影響を抑制するために、アクティ
ブ除振装置のアクチュエータとしてリニアモータに代表
される電磁アクチュエータもしくは圧電素子に代表され
る変位発生型アクチュエータを好適に使用することがで
きる。
るアクチュエータとしてサーボバルブSVで駆動する空
気ばねが使用されたアクティブ除振装置の構成であっ
て、そこに音響フィードフォワードを付加したものであ
る。しかし、アクティブ除振装置のアクチュエータとし
ては、空気ばねのみに限定されるものではなく、空気ば
ねに加えて応答性の良好な電磁モータを併用するハイブ
リッドのアクティブ除振装置も存在し、半導体露光装置
の中で実際に稼働している。この場合、空気ばねと電磁
モータのどちらか一方を単独で駆動する音響フィードフ
ォワードを掛けてもよいし、両アクチュエータに対して
騒音の周波数帯域を考慮した音響フィードフォワードを
施すこともできる。すなわち、低周波の騒音に対する影
響を抑制するためには、アクティブ除振装置のアクチュ
エータとして空気ばねアクチュエータを使用し、一方、
高周波の騒音に対する影響を抑制するために、アクティ
ブ除振装置のアクチュエータとしてリニアモータに代表
される電磁アクチュエータもしくは圧電素子に代表され
る変位発生型アクチュエータを好適に使用することがで
きる。
【0035】
【発明の効果】本発明の効果は以下の通りである。 (1)露光装置を配設する配設室内の恒温性および清浄
性を損なうことなく、この中を静寂な環境となすことが
できる。 (2)したがって、騒音に起因した精密機器の位置精度
などへの影響を除去もしくは軽減することができる。 (3)つまり、今後さらに微細な線幅の実現が要求され
る露光装置に対して、極めて実効のある環境を提供する
ことができる、という効果がある。 (4)もって、露光装置の生産性に寄与するところ大と
いう効果がある。
性を損なうことなく、この中を静寂な環境となすことが
できる。 (2)したがって、騒音に起因した精密機器の位置精度
などへの影響を除去もしくは軽減することができる。 (3)つまり、今後さらに微細な線幅の実現が要求され
る露光装置に対して、極めて実効のある環境を提供する
ことができる、という効果がある。 (4)もって、露光装置の生産性に寄与するところ大と
いう効果がある。
【図1】 本発明の一実施例に係る半導体露光装置を示
す図である。
す図である。
【図2】 半導体露光装置における従来の空調機器を示
す概略図である。
す概略図である。
【図3】 図1の装置におけるアクティブ除振装置の機
械構成の一例を示す斜視図である。
械構成の一例を示す斜視図である。
【図4】 図1の装置における音響フィードフォワード
を実装したアクティブ除振装置の一構成を示すブロック
図である。
を実装したアクティブ除振装置の一構成を示すブロック
図である。
10:チャンバ、11:投影露光装置、12:配設室、
13:空調路、14:フィルタ、15:熱交換器、1
6:送風機、17:空調機器、18:外気導入口、1
9:連通口、20:排気口、21:レチクル、22:投
影光学系、23:ウエハ、24:ウエハステージ、2
5:ステージ定盤、26(26−1〜26−3):アク
ティブ除振装置のアクティブマウント、27:制御装
置、30a〜30d:音圧検出手段、31:音響フィー
ドフォワード手段、40:XYステージ、41:除振
台、51:位置目標値出力部、52:位置信号に関する
運動モード抽出演算手段、53:位置に関するゲイン補
償器、54:加速度に関する運動モード抽出演算手段、
55:加速度信号に関するゲイン補償器、56:運動モ
ード別のPI補償器、57:運動モード分配演算手段、
58:圧力検出手段、59:圧力目標値出力部、60:
圧力に関するPI補償器、61:電圧電流変換器ステー
ジ、AC(AC−Z1,AC−Z2,AC−Z3,AC
−X1,AC−Y2,AC−Y3):加速度センサ、A
S(AS−Z1,AS−Z2,AS−Z3,AS−X
1,AS−Y2,AS−Y3):空気ばねアクチュエー
タ、PO(PO−Z1,PO−Z2,PO−Z3,PO
−X1,PO−Y2,PO−Y3)変位センサ、PR
(PR−Z1,PR−Z2,PR−Z3,PR−X1,
PR−Y2,PR−Y3):圧力センサ、SV(SV−
Z1,SV−Z2,SV−Z3,SV−X1,SV−Y
2,SV−Y3):サーボバルブ。
13:空調路、14:フィルタ、15:熱交換器、1
6:送風機、17:空調機器、18:外気導入口、1
9:連通口、20:排気口、21:レチクル、22:投
影光学系、23:ウエハ、24:ウエハステージ、2
5:ステージ定盤、26(26−1〜26−3):アク
ティブ除振装置のアクティブマウント、27:制御装
置、30a〜30d:音圧検出手段、31:音響フィー
ドフォワード手段、40:XYステージ、41:除振
台、51:位置目標値出力部、52:位置信号に関する
運動モード抽出演算手段、53:位置に関するゲイン補
償器、54:加速度に関する運動モード抽出演算手段、
55:加速度信号に関するゲイン補償器、56:運動モ
ード別のPI補償器、57:運動モード分配演算手段、
58:圧力検出手段、59:圧力目標値出力部、60:
圧力に関するPI補償器、61:電圧電流変換器ステー
ジ、AC(AC−Z1,AC−Z2,AC−Z3,AC
−X1,AC−Y2,AC−Y3):加速度センサ、A
S(AS−Z1,AS−Z2,AS−Z3,AS−X
1,AS−Y2,AS−Y3):空気ばねアクチュエー
タ、PO(PO−Z1,PO−Z2,PO−Z3,PO
−X1,PO−Y2,PO−Y3)変位センサ、PR
(PR−Z1,PR−Z2,PR−Z3,PR−X1,
PR−Y2,PR−Y3):圧力センサ、SV(SV−
Z1,SV−Z2,SV−Z3,SV−X1,SV−Y
2,SV−Y3):サーボバルブ。
Claims (5)
- 【請求項1】 配設用の室内に配設され、本体構造体が
アクティブ除振装置によって支持された露光装置におい
て、前記配設室内の騒音を検出するための音圧検出手段
を備え、この音圧検出手段の出力に基づいて前記アクテ
ィブ除振装置が備えるアクチュエータを駆動するように
構成したことを特徴とする露光装置。 - 【請求項2】 前記配設室内の空気を清浄かつ恒温に保
つための空調機器を備えることを特徴とする請求項1に
記載の露光装置。 - 【請求項3】 前記音圧検出手段は1つまたは複数のマ
イクロフォンであることを特徴とする請求項1または2
に記載の露光装置。 - 【請求項4】 前記アクティブ除振装置は、前記アクチ
ュエータとして、空気ばねアクチュエータおよびリニア
モータに代表される電磁アクチュエータもしくは圧電素
子に代表される変位発生型アクチュエータを備え、前記
音圧検出手段の出力に基づいて、前記騒音の低周波成分
による影響を制御するために前記空気ばねアクチュエー
タを駆動し、前記騒音の高周波成分による影響を制御す
るために前記電磁アクチュエータまたは変位発生型アク
チュエータを駆動するものであることを特徴とする請求
項1〜3のいずれか1項に記載の露光装置。 - 【請求項5】 前記アクティブ除振装置は、前記音圧検
出手段の出力に基づく信号をフィードフォワード信号と
して用いて前記アクチュエータの駆動を行なうものであ
ることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載
の露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11193649A JP2001023881A (ja) | 1999-07-07 | 1999-07-07 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11193649A JP2001023881A (ja) | 1999-07-07 | 1999-07-07 | 露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001023881A true JP2001023881A (ja) | 2001-01-26 |
Family
ID=16311465
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11193649A Pending JP2001023881A (ja) | 1999-07-07 | 1999-07-07 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001023881A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1959158A1 (de) * | 2007-02-14 | 2008-08-20 | Integrated Dynamics Engineering GmbH | Verfahren zur Anpassung eines Schwingungsisolationssystems |
KR101415313B1 (ko) | 2006-02-28 | 2014-07-04 | 마이크로닉 마이데이터 아베 | 기판 처리 및 분석용 플랫폼, 장치, 시스템, 그리고 방법 |
WO2015159513A1 (en) * | 2014-04-14 | 2015-10-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Stage control apparatus, processing apparatus, measurement apparatus, and exposure apparatus |
CN113296366A (zh) * | 2020-02-05 | 2021-08-24 | 佳能株式会社 | 振动控制装置、曝光装置以及物品制造方法 |
-
1999
- 1999-07-07 JP JP11193649A patent/JP2001023881A/ja active Pending
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