KR101162527B1 - 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 - Google Patents

노광 장치 및 디바이스 제조 방법 Download PDF

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가부시키가이샤 니콘
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Abstract

스테이지에 유지된 기판 (W) 에 마스크의 이미지를 투영하는 투영 광학계를 갖고, 이 투영 광학계와 상기 스테이지 사이에 특정 가스 분위기를 형성하기 위한 분위기 형성 기구 (70, 71) 를 구비하는 노광 장치에 있어서, 상기 분위기 형성 기구 (70, 71) 는, 상기 스테이지 또는 상기 기판 (W) 과 접촉한 것에 기인하는 힘을 완화시켜, 이 힘이 상기 투영 광학계 (PL) 에 전달되는 것을 억제하는 완충부 (71a, 71b) 를 갖는다. 이러한 구성에 의해, 스테이지 또는 기판 (W) 과 분위기 형성 기구 (70, 71) 가 접촉한 것에 기인하는 힘이 투영 광학계 (PL) 에 전달됨으로써 발생하는 투영 광학계 (PL) 의 손상을 방지할 수 있다.
Figure R1020067003372
투영 광학계, 스테이지, 마스크, 액티브 제진장치, 분위기 형성기구, 완충부

Description

노광 장치 및 디바이스 제조 방법{EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE PRODUCING METHOD}
기술분야
본 발명은, 반도체 소자, 액정 표시 소자, 촬상 소자 (CCD 등), 박막 자기 헤드 등의 전자 디바이스를 제조할 때에 사용되는 노광 장치 및 디바이스 제조 방법에 관한 것이다.
본원은, 2003년 9월 3일에 출원된 일본 특허출원 2003-311923호에 대하여 우선권을 주장하며, 그 내용을 여기에 원용한다.
배경기술
반도체 소자나 액정 표시 소자 등의 전자 디바이스를 포토리소그래피 공정으로 제조할 때에, 패턴이 형성된 마스크 또는 레티클 (이하, 레티클이라고 한다) 의 패턴 이미지를 투영 광학계를 통하여 감광재 (레지스트) 가 도포된 기판 상의 각 투영 (쇼트) 영역에 투영하는 투영 노광 장치가 사용되고 있다. 전자 디바이스의 회로는, 상기 투영 노광 장치에 의해 피노광 기판 상에 회로 패턴을 노광함으로써 전사되어, 후처리에 의해 형성된다.
최근 집적 회로의 고밀도 집적화, 즉 회로 패턴의 미세화가 진행되고 있다. 이 때문에, 투영 노광 장치에 있어서의 노광용 조명빔 (노광광) 이 단파장화되는 경향이 있다. 즉, 지금까지 주류였던 수은 램프를 대신하여 KrF 엑시머레이저 (파장: 248㎚) 와 같은 단파장 광원이 사용되게 되고, 더욱 단파장인 ArF 엑시머레이저 (193㎚) 를 사용한 노광 장치의 실용화도 최종 단계에 진입하고 있다. 또한, 더욱 개량된 고밀도 집적화를 목표로, F2 레이저 (157㎚) 를 사용한 노광 장치의 개발이 진행되고 있다.
파장 약 190㎚ 이하의 빔은 진공 자외역에 속하고, 이들 빔은 공기를 투과하지 못한다. 이것은, 공기 중에 포함된 산소 분자ㆍ물 분자ㆍ이산화탄소 분자 등의 물질 (이하, 흡광 물질이라고 한다) 에 의해 빔의 에너지가 흡수되기 때문이다.
진공 자외역의 노광광을 사용한 노광 장치에 있어서, 피노광 기판 상에 노광광을 충분한 조도로 도달시키기 위해서는, 노광광의 광로 상의 공간으로부터 흡광 물질을 저감하거나 또는 배제시킬 필요가 있다. 그 때문에, 노광 장치에서는 광로 상의 공간을 케이스체로 둘러싸고, 그 케이스체 내에 노광광을 투과하는 투과성 가스를 공급하고 있다. 이 경우, 예를 들어 전체 광로 길이를 1000㎜ 로 하면, 광로 상의 공간 내의 흡광 물질의 농도는 1ppm 정도 이하인 것이 실용적인 것으로 되어 있다.
그러나, 노광 장치에서는 기판이 빈번하게 교환되기 때문에, 광로 상의 공간 중, 투영 광학계와 기판 사이의 공간의 흡광 물질을 배제하는 데에 어려움이 따른다. 예를 들어, 이 공간을 케이스체로 둘러싸는 데에 있어서, 기판 교환용 기구도 포함하여 둘러싸는 대형 케이스체를 설치하는 구성이 있다. 그러나 이 구 성에서는, 케이스체의 대형화에 수반하여 케이스체 내에 공급하는 가스의 소비량이 많아져 비용적 부담이 커진다.
그 때문에, 노광 장치에서는, 투영 광학계와 기판 사이에 국소적인 가스 분위기를 형성하는 분위기 형성 기구를 배치하여, 광로 상의 공간으로부터 흡광 물질을 배제시키는 기술이 생각되고 있다. 이 구성에서는, 분위기 형성 기구는, 투영 광학계와 기판 사이에, 기판에 대하여 수 ㎜ 정도의 클리어런스가 형성된 상태에서 배치된다 (일본 공개특허공보 2001-210587호 참조).
이러한 노광 장치에 있어서, 기판을 탑재하기 위한 스테이지와 투영 광학계는 각각 다른 지지대에 의해 지지되어 있다. 이러한 스테이지측의 지지대와 투영 광학계측의 지지대에는, 바닥면으로부터의 진동을 억제하기 위한 액티브 제진 (除震) 장치가 각각 형성되어 있고, 이들 액티브 제진 장치의 독립된 구동에 의해 스테이지와 투영 광학계의 간격을 소정 상태로 유지하고 있다. 이 액티브 제진 장치에 어떠한 트러블이 발생하여 투영 광학계와 스테이지가 서로 접근하도록 움직인 경우, 투영 광학계와 기판 사이에 분위기 형성 기구가 배치되어 있지 않으면, 그 이동량은 투영 광학계와 기판 사이의 간격에 비교하여 충분히 작기 때문에 특별히 중대한 문제가 발생할 가능성이 낮았다. 그러나, 기판과 투영 광학계 사이에 상기 서술한 바와 같은 분위기 형성 기구가 배치되면, 기판과 분위기 형성 기구의 클리어런스가 상기 서술한 이동량보다 작아진다. 그리고, 액티브 제진 장치에 어떠한 트러블이 발생하여 투영 광학계와 스테이지가 서로 접근하면, 스테이지 또는 기판과 분위기 형성 기구가 접촉할 가능성이 있다. 이와 같이 스테이지 또는 기판과 분위기 형성 기구가 접촉하면, 이 접촉에 기인하는 힘이 분위기 형성 기구를 통해 투영 광학계에 전달되어, 투영 광학계의 결상 성능을 변화시킨다.
발명의 개시
본 발명은, 상기 서술하는 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 스테이지 또는 기판과 분위기 형성 기구가 접촉하는 것에 기인하는 힘이 투영 광학계에 전달됨으로써 발생되는 투영 광학계의 결상 성능 변화를 방지하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본원발명의 제 1 양태는, 스테이지 (45) 에 유지된 기판 (W) 에 마스크 (R) 의 이미지를 투영하는 투영 광학계 (PL) 를 갖고, 이 투영 광학계와 상기 스테이지 또는 상기 기판과의 사이에 특정 유체 분위기를 형성하기 위한 분위기 형성 기구를 구비하는 노광 장치에 있어서, 상기 분위기 형성 기구는, 상기 스테이지 또는 상기 기판과 접촉한 것에 기인하는 힘을 완화시켜, 이 힘이 상기 투영 광학계에 전달되는 것을 억제하는 완충부를 갖는 구성을 채용한다.
이러한 본 발명에 관련된 노광 장치에 의하면, 분위기 형성 기구가 스테이지 또는 기판과 접촉한 경우라도, 그 접촉에 의한 힘이 투영 광학계에 전달되는 것이 완충부에 의해 억제된다.
본원발명의 제 2 양태는, 상기 완충부 (71a, 71b) 가, 신축함으로써 상기 분위기 형성 기구의 상기 투영 광학계측과 상기 스테이지측을 상대적으로 접근시키는 신축 기구를 갖는 구성을 채용한다.
본원발명의 제 3 양태는, 제 2 양태의 노광 장치에 있어서, 상기 분위기 형성 기구는, 상기 특정 유체 분위기를 형성하는 분위기 형성부를 갖고, 상기 완충부 는, 상기 분위기 형성부와, 상기 투영 광학계를 유지하는 경통과의 사이를 접속하는 가요성 부재를 추가로 구비하는 구성을 채용한다.
본원발명의 제 4 양태는, 제 2 양태의 노광 장치에 있어서, 상기 분위기 형성 기구는, 상기 특정 유체 분위기를 형성하는 분위기 형성부와, 그 분위기 형성부를 지지대에 지지하는 지지부를 갖고, 상기 지지부가 상기 신축 기구를 겸하는 구성을 채용한다.
본원발명의 제 5 양태는, 제 4 양태의 노광 장치에 있어서, 상기 지지부는, 상기 지지대에 장착되는 일단부를 구비하는 제 1 지지부와, 상기 제 1 지지부의 타단부에 걸리는 일단부 및 상기 분위기 형성부에 장착되는 타단부를 구비하는 제 2 지지부를 갖고, 상기 분위기 형성부와, 상기 스테이지 또는 상기 기판이 접촉했을 때에, 상기 제 1 지지부의 타단부와 상기 제 2 지지부의 일단부의 걸림이 해제되는 구성을 채용한다.
본원발명의 제 6 양태는, 제 5 양태의 노광 장치에 있어서, 상기 제 1 지지부의 타단부는, 상기 투영 광학계로부터 이간되는 방향에 형성된 제 1 플랜지부를 갖고, 상기 제 2 지지부의 일단부는, 상기 투영 광학계를 향하여 형성된 제 2 플랜지부를 갖고, 상기 제 1 지지부와 상기 제 2 지지부는, 상기 제 2 플랜지부가 상기 제 1 플랜지부에 탑재되는 것에 의해 서로 걸리는 구성을 채용한다.
본원발명의 제 7 양태는, 제 2 양태의 노광 장치에 있어서, 상기 분위기 형성 기구는, 상기 특정 유체 분위기를 형성하는 분위기 형성부를 갖고, 상기 신축 기구는, 일단부가 상기 지지대에 장착되고, 타단부가 상기 분위기 형성부에 장착되 는 끈형상 부재를 갖는 구성을 채용한다.
본원발명의 제 8 양태는, 상기 완충부 (120, 121, 72) 는, 형상 변화함으로써 상기 분위기 형성 기구의 상기 투영 광학계측과 상기 스테이지측을 상대적으로 접근시키는 형상 변화부를 갖는 구성을 채용한다.
본원발명의 제 9 양태는, 상기 형상 변화부에는 탄성 변형 부재 (120) 가 사용되는 구성을 채용한다.
본원발명의 제 10 양태는, 상기 형상 변화부에는 소성 변형 부재 (121) 가 사용되는 구성을 채용한다.
본원발명의 제 11 양태는, 제 1 양태의 노광 장치에 있어서, 상기 분위기 형성 기구는, 상기 특정 유체 분위기를 형성하는 분위기 형성부를 갖고, 상기 완충부는, 상기 분위기 형성부의 일부에 형성되는 구성을 채용한다.
본원발명의 제 12 양태는, 제 11 양태의 노광 장치에 있어서, 상기 분위기 형성 기구는, 상기 완충부를 개재하여 상기 분위기 형성부를 지지하는 구성을 채용한다.
본원발명의 제 13 양태는, 제 11 양태의 노광 장치에 있어서, 상기 완충부는, 상기 분위기 형성부 중, 상기 스테이지 또는 상기 기판측의 일부에 형성되는 구성을 채용한다.
본원발명의 제 14 양태는, 제 13 양태의 노광 장치에 있어서, 상기 완충부는, 소성 변형 부재 또는 탄성 변형 부재로 형성되는 구성을 채용한다.
본원발명의 제 15 양태는, 제 1 양태의 노광 장치에 있어서, 상기 분위기 형 성 기구는, 상기 특정 유체 분위기를 형성하는 분위기 형성부를 갖고, 상기 완충부는, 상기 분위기 형성부의 적어도 일부를 형성하고, 또한 취성 재료로 구성되는 구성을 채용한다.
본원발명의 제 16 양태는, 상기 분위기 형성부와 상기 투영 광학계 사이에는, 상기 스테이지 또는 상기 기판과 상기 분위기 형성 기구가 접촉했을 때에 상기 분위기 형성부가 이동하는 거리 이상의 클리어런스 (clearance ; d) 가 형성되어 있는 구성을 채용한다.
다음으로, 본원발명의 제 17 양태는, 본원발명에서의 노광 장치를 사용하여, 상기 마스크 상에 형성된 디바이스 패턴을 상기 기판 상에 전사하는 공정을 포함하는 구성을 채용한다.
도면의 간단한 설명
도 1 은 본 발명을 적용한 노광 장치 (10) 의 개략 구성을 나타내는 도면이다.
도 2 는 노광 장치 (10) 에 있어서의 투영 광학계 (PL) 및 웨이퍼 스테이지 (46) 의 지지 구조를 설명하기 위한 모식도이다.
도 3 은 제 1 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 의 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 부근을 확대한 모습을 나타낸 도면이다.
도 4 는 제 1 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 의 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 부근을 확대한 모습을 나타낸 도면이다.
도 5 는 제 1 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 의 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 부근을 확대한 모습을 나타낸 도면이다.
도 6 은 제 1 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 에 있어서 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 접촉했을 때의 모습을 나타낸 도면이다.
도 7 은 제 2 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 의 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 부근을 확대한 모습을 나타낸 도면이다.
도 8 은 제 2 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 에 있어서 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 접촉했을 때의 모습을 나타낸 도면이다.
도 9 는 제 3 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 의 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 부근을 확대한 모습을 나타낸 도면이다.
도 10 은 제 3 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 에 있어서 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 접촉했을 때의 모습을 나타낸 도면이다.
도 11 은 제 4 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 의 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 부근을 확대한 모습을 나타낸 도면이다.
도 12 는 제 5 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 의 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 부근을 확대한 모습을 나타낸 도면이다.
도 13 은 제 5 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 에 있어서 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 접촉했을 때의 모습을 나타낸 도면이다.
도 14 는 액침 노광 장치의 분위기 형성부 (150) 의 구성을 나타낸 도면이다.
도 15 는 디바이스의 제조 공정의 일례를 나타내는 플로우차트도이다.
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
이하, 도면을 참조하여 본 발명에 관련된 노광 장치 및 디바이스 제조 방법의 일실시형태에 관해서 설명한다. 또, 이하의 실시형태는, 노광용 에너지빔으로서 진공 자외광을 사용하는 스텝 앤드 스캔 방식의 투영 노광 장치에 본 발명을 적용한 것이다.
(제 1 실시형태)
도 1 은 본 발명을 적용한 노광 장치 (10) 의 개략 구성을 나타내는 도면이다. 이 도면에 있어서, 노광 장치 (10) 의 기구부는, 조명 광학계 (21), 레티클 조작부 (22), 투영 광학계 (PL) 및 웨이퍼 조작부 (23) 로 크게 나뉘어져 있다. 조명 광학계 (21), 레티클 조작부 (22) 및 투영 광학계 (PL) 는, 각각 조명계 챔버 (25), 레티클실 (26) 및 경통 (27) 의 내부에, 외기 (여기서는 후술하는 환경 제어용 챔버 내의 기체) 로부터 격리되면서 기밀성이 높아진 상태로 수납되어 있다. 또한, 노광 장치 (10) 는 전체적으로, 내부의 기대 (期待) 온도가 소정의 목표 범위 내로 제어된 환경 제어용 챔버 (도시 생략) 의 내부에 수납되어 있다.
노광 광원 (20) 으로는, 본 실시형태에 있어서, 진공 자외역의 파장 157㎚ 의 펄스 레이저광을 발생하는 F2 레이저 광원이 사용되고 있다. 노광 광원 (20) 의 사출단은, 조명계 챔버 (25) 의 하부에 장착되어 있다. 노광시에 노광 광원 (20) 으로부터 조명계 챔버 (25) 내에 사출된 노광광 (IL: 에너지빔) 은, 미러 (30) 에 의해 상방으로 반사되고, 진동 등에 의한 광축 어긋남을 맞추기 위한 자동 추미(追尾)부 (도시 생략) 및 조명계의 단면 형상의 정형과 광량의 제어를 행하는 빔정형 광학계 (31) 를 통하여 옵티컬ㆍ인터그레이터 (호모게니저) 로서의 플라이아이 렌즈 (또는 로드 렌즈) (32) 에 입사된다. 플라이아이 렌즈 (32) 의 사출면에는 개구 조리개 (도시 생략) 가 배치되고, 플라이아이 렌즈 (32) 및 개구 조리개를 통과한 노광광 (IL) 은, 미러 (34) 에 의해 거의 수평방향으로 편향되어 릴레이 렌즈 (35) 를 통해 시야 조리개 (레티클 블라인드: 36) 에 도달한다.
시야 조리개 (36) 의 배치면은 노광 대상인 레티클 (R) 의 패턴면과 광학적으로 거의 공액이고, 시야 조리개 (36) 는, 그 패턴면에서의 가늘고 긴 직사각형 조명 영역의 형상을 규정하는 고정 블라인드와, 주사 노광의 개시시 및 종료시에 불필요한 부분에 대한 노광을 방지하기 위해 그 조명 영역을 닫는 가동 블라인드를 구비하고 있다. 시야 조리개 (36) 를 통과한 노광광 (IL) 은, 릴레이 렌즈 (37), 미러 (38) 및 조명계 챔버 (25) 의 선단부에 고정된 콘덴서 렌즈계 (39) 를 통하여 레티클 (R) 의 패턴면 상의 직사각형 (슬릿형상) 조명 영역을 균일한 조도 분포로 조명한다. 노광 광원 (20)～콘덴서 렌즈계 (39) 에 의해 조명 광학계 (21) 가 구성되고, 조명 광학계 (21) 내의 노광광 (IL) 의 광로, 즉 노광 광원 (20) 으로부터 콘덴서 렌즈계 (39) 까지의 광로가 조명계 챔버 (25) 에 의해서 밀폐되어 있다.
조명 광학계 (21) 로부터의 노광광 하에서, 레티클 (R) 의 조명 영역 내의 패턴의 이미지가 투영 광학계 (PL) 를 통하여 투영 배율 (β: β 는 예를 들어 1/4, 1/5 등) 로, 감광재 (포토레지스트) 가 도포된 웨이퍼 (W: 기판) 상에 투영된 다. 웨이퍼 (W) 는 예를 들어 반도체 (규소 등) 또는 SOI (silicon on insulator) 등의 원판 형상의 기판이다.
레티클 조작부 (22) 에 있어서, 레티클 (R) 은 레티클 스테이지 (40) 상에 유지되어 있다. 레티클 스테이지 (40) 는 도시를 생략한 레티클 베이스 상에서 후술하는 웨이퍼 스테이지와 동기하여 Y 방향으로 레티클 (R) 을 미소 구동한다. 레티클 스테이지 (40) 의 위치 및 회전각은 도시를 생략한 레이저 간섭계에 의해서 고정밀도로 계측되고, 이 계측치 및 장치 전체의 동작을 통괄 제어하는 컴퓨터로 이루어지는 주제어계 (24) 로부터의 제어 신호에 근거하여 레티클 스테이지 (40) 가 구동된다. 레티클 스테이지 (40) 및 도시를 생략한 노광광 (IL) 의 광로, 즉 콘덴서 렌즈계 (39) 로부터 투영 광학계 (PL) 까지의 광로가 레티클실 (26) 에 의해서 밀폐되어 있다.
투영 광학계 (PL) 를 구성하는 복수의 광학 소자가 경통 (27) 내에 수납되어 있고, 투영 광학계 (PL) 의 레티클측 광학 소자로부터 웨이퍼측 광학 소자까지의 광로가 경통 (27) 내에 밀폐되어 있다.
여기서, 본 실시형태와 같이 노광광 (IL) 이 F2 레이저광인 경우에는, 투과율이 양호한 광학 초재(礎材)는, 형석 (CaF2 의 결정), 불소나 수소 등을 도프한 석영 유리 및 불화마그네슘 (MgF2) 등으로 한정된다. 그래서, 이들 투과율이 양호한 광학 초재를 사용하여 굴절 광학계를 구성해도 된다. 또, 고투과율인 광학 재료의 종류가 한정되기 때문에 원하는 결상 특성 (색 수차 특성 등) 을 얻기가 곤란한 경우에는, 굴절 광학 소자와 반사경을 조합한 반사 굴절 광학계를 채용해도 된다.
웨이퍼 조작부 (23) 에 있어서, 웨이퍼 (W) 는 웨이퍼 홀더 (45) 상의 탑재면에 흡착 유지되고, 웨이퍼 홀더 (45) 는 웨이퍼 스테이지 (46) 상에 고정되어 있다. 웨이퍼 스테이지 (46) 는 후술하는 웨이퍼 정반 상에서 상기 서술한 레티클 스테이지와 동기하여 Y 방향으로 웨이퍼 (W) 를 연속 이동시킴과 함께, X 방향 및 Y 방향으로 웨이퍼 (W) 를 스텝 이동시킨다. 또한, 웨이퍼 스테이지 (46) 는, 도시를 생략한 오토포커스 센서에 의해서 계측되는 웨이퍼 (W) 표면의 광축 (AX) 방향의 위치 (포커스 위치) 에 관한 정보에 근거하여 오토포커스 방식으로 웨이퍼 (W) 의 표면을 투영 광학계 (PL) 의 이미지면에 맞춘다. 웨이퍼 스테이지 (46) 의 X 방향, Y 방향의 위치 및 X 축 둘레의 회전각 (피칭량), Y 축 둘레의 회전각 (롤링량), Z 축 둘레의 회전각 (요잉량; yawing) 은 레이저 간섭계 (47) 에 의해 고정밀도로 계측되고, 이 계측치 및 주제어계 (24) 로부터의 제어 신호에 근거하여 스테이지 구동계 (48) 를 통해 웨이퍼 스테이지 (46) 가 구동된다. 또, 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 에 장착되고, 레이저 간섭계 (47) 로부터의 레이저빔 (측장빔) 을 반사하는 반사경 (47a) 은 각각 별도의 각주(角柱) 형상 미러로 이루어지는 구성, 또는 일체형의 L 자형 미러로 이루어지는 구성, 또는 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 의 측면을 경면 가공하여 미러로서 사용하는 구성 등, 여러 가지 구성을 적용할 수 있다. 또한, 웨이퍼 홀더 (45), 웨이퍼 스테이지 (46) 및 웨이퍼 정반 등에 의해서 웨이퍼 조작부 (23) 가 구성되고, 웨이퍼 조작부 (23) 의 측방에 반송계로서의 웨이퍼 로더 등 (도시 생략) 이 배치되어 있다.
여기서, 도 2 에 나타내는 모식도를 참조하여 투영 광학계 (PL) 및 웨이퍼 스테이지 (46) 의 지지 구조에 관해서 개략적으로 설명한다. 투영 광학계 (PL) 의 경통 (27) 의 외주에는, 이 경통 (27) 과 일체화된 플랜지부 (101) 가 형성되어 있다. 그리고, 경통 (27) 은, 제 1 지지대 (102) 에 액티브 제진 장치 (103) 를 통해 거의 수평으로 지지된 경통 정반 (104) 에 상방 또는 측방으로부터 삽입되고, 또 플랜지부 (101) 가 걸림으로써 지지된다. 또, 경통 정반 (104) 은 주물(鑄物)로 구성된다.
액티브 제진 장치 (103) 는, 경통 정반 (104) 의 각 코너부에 설치되고 (또, 도면에서 안쪽 깊숙이 있는 액티브 제진 장치에 관해서는 도시 생략), 내압 (內壓)이 조정 가능한 에어 마운트 (105) 와 보이스 코일 모터 (106) 를 구비한다. 에어 마운트 (105) 와 보이스 코일 모터 (106) 는 제 1 지지대 (102) 상에 직렬로 배치되어 있다.
본 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 는, 이들 액티브 제진 장치 (103) 에 의해서, 제 1 지지대 (102) 를 통하여 외부로부터 전달되는 진동이 투영 광학계 (PL) 에 전달되는 것을 마이크로 G 레벨에서 절연한다.
웨이퍼 스테이지 (46) 의 하방에는 웨이퍼 정반 (107) 이 배치되어 있다. 이 웨이퍼 정반 (107) 은, 상기 제 1 지지대 (102) 와는 별체로서 형성된 제 2 지지대 (108) 의 상방에 액티브 제진 장치 (109) 를 통하여 거의 수평으로 지지되어 있다. 액티브 제진 장치 (109) 는, 웨이퍼 정반 (107) 의 각 코너부에 배치되 고 (또, 도면에서 안쪽 깊숙이 있는 액티브 제진 장치에 관해서는 도시 생략), 에어 마운트 (110) 와 보이스 코일 모터 (111) 가 제 2 지지대 (108) 상에 병렬로 배치된 구성을 갖고 있다. 그리고, 웨이퍼 스테이지 (46) 의 저면에는 비접촉 베어링인 에어 베어링 (112) 이 복수 설치되어 있고, 이들 에어 베어링 (112) 에 의해서 웨이퍼 스테이지 (46) 가 웨이퍼 정반 (107) 의 상방에, 예를 들어 수 마이크론 정도의 클리어런스를 사이에 두고 부상 지지되어 있다. 또, 본 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 는, 액티브 제진 장치 (109) 에 의해 제 2 지지대 (108) 를 통해 외부로부터 전달되는 진동이 웨이퍼 스테이지 (46) 에 전달되는 것을 마이크로 G 레벨에서 절연하고 있다.
도 1 로 돌아가, 본 실시형태의 노광광 (IL) 은 파장 157㎚ 의 자외광이기 때문에, 그 노광광 (IL) 에 대한 흡광 물질로는, 산소 (O2), 물 (수증기: H2O), 일산화탄소 (CO), 탄산 가스 (이산화탄소: CO2), 유기물 및 할로겐화물 등이 있다. 한편, 노광광 (IL) 이 투과되는 기체 (에너지 흡수가 거의 없는 물질) 로는, 질소 가스 (N2), 수소 (H2), 헬륨 (He), 네온 (Ne), 아르곤 (Ar), 크립톤 (Kr), 크세논 (Xe), 라돈 (Rn) 으로 이루어지는 희가스가 있다. 이후, 이 질소 가스 및 희가스를 합하여 「투과성 가스」라고 부르기로 한다.
본 실시형태의 노광 장치 (10) 는, 광로 상의 공간, 즉 조명계 챔버 (25), 레티클실 (26) 및 경통 (27) 의 각 내부에 진공 자외역의 빔에 대하여 에너지 흡수가 적은 상기 투과성 가스를 공급하여 채우고, 그 기압을 대기압과 같은 정도 또는 보다 높게 (예를 들어, 대기압에 대하여 0.001～10% 의 범위 내에서 높게) 하는 가스 공급ㆍ배기계 (50) 를 구비하고 있다. 가스 공급ㆍ배기계 (50) 는, 배기용 진공 펌프 (51A, 51B, 51C), 투과성 가스가 고순도의 상태로 압축 또는 액화되어 저장된 봄베 (53) 및 개폐 제어되는 밸브 (52A, 52B, 52C) 등을 포함한다. 또, 이들의 수 및 설치 장소에 관해서는 도시한 것에 한정되지 않는다. 질소 가스는 파장이 150㎚ 정도 이하의 빛에 대해서는 흡광 물질로서 작용하고, 헬륨 가스는 파장 100㎚ 정도까지 투과성 가스로서 사용할 수 있다. 또한, 헬륨 가스는 열전도율이 질소 가스의 약 6 배이고, 기압 변화에 대한 굴절률의 변동량이 질소 가스의 약 1/8 이기 때문에, 특히 고투과율과 광학계의 결상 특성의 안정성이나 냉각성에서 우수하다. 또, 헬륨 가스는 고가이기 때문에, 노광광 (IL) 의 파장이 F2 레이저광과 같이 150㎚ 이상이면, 운전 비용을 저감시키기 위해 그 투과성 가스로서 질소 가스를 사용해도 된다.
또, 워킹ㆍ디스턴스부 (WD), 즉 투영 광학계 (PL) 의 선단부 (사출단) 와 웨이퍼 (W) 사이의 공간에는, 분위기 형성 기구에 의해서 특정 유체의 분위기가 형성되어 있다. 또, 여기서는 특정 유체로서 상기 투과성 가스를 사용하는 것으로 설명한다. 분위기 형성 기구는, 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 에 배치되는 분위기 형성부 (70), 일단부가 유체 공급ㆍ배기계 (50) 의 봄베 (53) 에 접속되고, 타단부가 분위기 형성부 (70) 에 접속되는 가스 공급 배관 (62), 이 가스 공급 배관 (62) 의 중도 부위에 배치되는 밸브 (63), 일단부가 배기용 진공 펌프 (60) 에 접속되고, 타단부가 분위기 형성부 (70) 에 접속되는 제 1 배기 배관 (61) 및 제 2 배기 배관 (64) 을 구비한다. 또, 본 실시형태에서는, 분위기 형성부 (70) 는, 투영 광학계 (PL) 를 유지하는 경통 (27) 에 후술하는 지지부 (71) 에 의해서 지지된다. 또한, 본 실시형태에서는, 경통 (27) 이 분위기 형성부 (70) 를 지지하는 지지대로서 기능한다.
도 3 내지 도 5 에 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 부근을 확대한 모습을 나타낸다. 또, 도 3 은 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 부근을 도 1 에서의 X 방향에서 본 모습을 나타내는 도면이고, 도 4 는 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 부근을 Y 방향에서 본 모습을 나타내는 도면이고, 도 5 는 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 근방을 상방에서부터 본 모습을 나타내는 도면이다.
도 3 내지 도 5 에 나타내는 바와 같이, 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 에 있어서, 분위기 형성부 (70) 는, 노광광 (IL) 의 광로를 둘러싸도록 배치되어 있다. 이 분위기 형성부 (70) 에는, 가스 공급 배관 (62) 의 타단부가 접속되는 가스 공급구 (65) 와 제 1 배기관 (61) 의 타단부가 접속되는 제 1 가스 흡기구 (66) 가 배치되어 있다. 이들 가스 공급구 (65) 와 제 1 가스 흡기구 (66) 는, 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 에 있어서의 투과성 가스의 흐름을 똑같게 하도록 각각 가스 공급 배관 (62) 과 제 1 배기관 (61) 의 관직경보다도 큰 개구단을 갖고 있고, 각각에 의해서 투영 광학계 (PL) 의 광축 (AX) 을 사이에 끼우도록 하면서 서로 대향 배치되어 있다.
그리고 분위기 형성부 (70) 는, 노광광 (IL) 의 광로를 둘러싸고, 또 가스 공급구 (65) 및 제 1 흡기구 (66) 의 외측에 배치되고, 제 2 배기관 (64) 의 타단부가 접속되는 제 2 흡기구 (67) 를 구비한다. 이와 같이, 제 2 흡기구 (67) 가 가스 공급구 (65) 및 제 1 흡기구 (66) 의 외측에서 노광광 (IL) 의 광로를 둘러싸도록 형성됨으로써, 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 사이에 유출된 투과성 가스는 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 의 외부로 누출되지 않고 흡기되고, 또 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 의 외부로부터 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 내로 새롭게 침입하려고 하는 기체는 제 2 흡기구 (67) 로부터 노광광 (IL) 의 광로에 도달하기 이전에 흡기된다. 이 때문에, 본 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 는, 노광광 (IL) 의 광로를 확실히 투과성 가스 분위기로 할 수 있음과 함께, 투과성 가스가 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 의 외부로 누출되는 것을 방지할 수 있다.
분위기 형성부 (70) 의 상부와 투영 광학계 (PL) 의 선단부 사이에는, 상기 서술한 액티브 제진 장치의 각각의 독립 구동에 기인하여 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 또는 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 접촉했을 때에 분위기 형성부 (70) 가 이동하는 거리 이상의 클리어런스 (d) 가 형성되어 있다. 또, 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 또는 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 는, 노광 장치 (10) 의 통상적인 가동에 있어서 접촉하는 일은 없지만, 예를 들어 외부로부터 노광 장치 (10) 에 큰 진동이 가해진 경우 등과 같은 트러블시에 상기 서술한 액티브 제진 장치 (103, 109) 가 독립 구동함으로써 접촉하는 경우가 있다.
본 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 에는, 클리어런스 (d) 로부터의 투과 성 가스의 누출을 방지하기 위한 필름형 부재 (68) 가 투영 광학계 (PL) 의 광축 (AX) 을 둘러싸도록 분위기 형성부 (70) 의 상부와 경통 (27) 의 선단부 사이에 설치되어 있다. 이 필름형 부재 (68) 는, 투과성 가스가 투과하지 못하는 가요(可撓)성을 갖는 재료로 형성되어 있고, 예를 들어 에발 (상품명) 등으로 이루어진다. 필름형 부재 (68) 는 가요성을 갖고 있기 때문에, 분위기 형성부 (70) 를 통하여 투영 광학계 (PL) 에 진동의 전달을 억제할 수 있다. 또, 상기 필름형 부재 (68) 는, 본 발명에 관련된 완충부 기구의 일부를 구성하는 것이다.
지지부 (71) 는, 분위기 형성부 (70) 를 경통 (27) 에 지지하기 위한 것으로, 경통 (27) 과 분위기 형성부 (70) 사이에 복수 배치되어 있다. 지지부 (71) 는, 일단부가 경통 (27) 에 고정되는 제 1 지지부 (71a) 와, 일단부가 분위기 형성부 (70) 에 고정되는 제 2 지지부 (71b) 로 구성되어 있다. 제 1 지지부 (71a) 의 타단부에는 투영 광학계 (PL) 로부터 이간되는 방향을 향하여 돌출되는 제 1 플랜지부 (71a1) 가 형성되어 있고, 제 2 지지부 (71b) 의 타단부에는 투영 광학계 (PL) 의 광축 (AX) 을 향하여 돌출되고 상기 제 1 플랜지부 (71a1) 에 상방으로부터 걸리는 제 2 플랜지부 (71b1) 가 형성되어 있다. 그리고, 제 1 플랜지부 (71a1) 에 제 2 플랜지부 (71b1) 가 탑재됨으로써, 제 1 플랜지부 (71a1) 와 제 2 플랜지부 (71b1) 가 서로 걸려, 분위기 형성부 (70) 가 경통 (27) 에 지지된다. 또, 본 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 에서는, 지지부 (71) 가 본 발명에 관련된 완충부의 일부 및 신축 기구의 기능을 갖고 있다. 본 실시형태에서는, 필름형 부재 (68) 및 지지부 (71) 가 상호 작용함으로써, 본원발명에 관련된 완충부로서 기능한다.
따라서, 도 6 에 나타내는 바와 같이, 지지부 (71) 는, 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 또는 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 접촉하여 분위기 형성부 (70) 가 도 1 에서의 Z 방향으로 이동한 경우에, 제 1 플랜지부 (71a1) 와 제 2 플랜지부 (71b1) 의 걸림이 해제됨으로써 Z 방향으로 신축한다. 또, 제 1 플랜지부 (71a1) 와 제 2 플랜지부 (71b1) 사이에 댐퍼를 배치하여, 이 댐퍼를 Z 방향으로 신축시킬 수 있다. 본 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 는, 이 지지부 (71) 및 필름형 부재 (68) 의 신축에 의해, 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 또는 웨이퍼 (W) (본 발명에 관련된 노광 장치의 스테이지측) 와 분위기 형성부 (70) (본 발명에 관련된 투영 광학계측) 를 상대적으로 접근시키고, 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 또는 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 접촉한 것에 기인하는 힘이 투영 광학계 (PL) 에 전달되는 것을 억제한다. 이 때문에, 본 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 에 있어서는, 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 또는 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 접촉한 것에 기인하는 힘이 지지부 (71) 및 필름형 부재 (68) 가 신축하는 것에 의해 완충되기 때문에, 투영 광학계 (PL) 의 결상 성능 변화를 방지하는 것이 가능해진다. 또한, 전술한 바와 같이 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 또는 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 접촉했을 때에는 분위기 형성부 (70) 의 중량이 웨이퍼 스테이지 (46) 에 가해지지만, 분위기 형성부 (70) 의 중량은 그다지 크지 않기 때문에 웨이퍼 스테이지 (46) 가 손상되는 일은 없다.
또, 제 1 지지부 (71a) 는, 전술한 바와 같이 일단부가 경통 (27) 에 고정되어 있지 않아도 되고, 예를 들어 경통 정반 (104) 에 고정되어 있어도 된다. 즉, 경통 정반 (104) 이 본 발명의 지지대로서 기능한다.
또한, 상기 실시형태에 있어서 복수의 지지부 (71) 에 의해 분위기 형성부 (70) 를 지지했지만, 이것에 한정되는 것이 아니라, 예를 들어 노광광 (IL) 의 광로를 둘러싸는 원통 형상의 단일한 지지부에 의해 분위기 형성부 (70) 를 지지해도 된다.
이러한 본 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 는, 통상 가동시에는, 투과성 가스 분위기로 유지된 광로를 통해, 레티클 (R) 의 패턴 이미지를 웨이퍼 (W) 상의 각 쇼트 영역에 투영하고 있다.
(제 2 실시형태)
다음으로, 도 7 및 도 8 을 참조하여 본 발명에 관련된 노광 장치의 제 2 실시형태에 관해서 설명한다. 또, 본 제 2 실시형태에 있어서는, 분위기 형성부 (70) 의 일부에 형상 변화부 (120) 를 형성한 형태에 관해서 설명한다. 또한, 본 제 2 실시형태에 있어서, 상기 제 1 실시형태와 동일한 기능을 갖는 것은 동일 부호를 붙이고, 그 설명을 생략 또는 간략화한다.
도 7 은 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 부근을 상기 제 1 실시형태에서 설명한 도 1 에서의 X 방향에서 본 모습을 나타내는 도면이다. 이 도 7 에 있어서, 형상 변화부 (120) 는, 투과성 가스를 투과시키지 않는 탄성체 부재 (예를 들어 고무나 탄성 플라스틱 등) 로 이루어지고, 분위기 형성부 (70) 의 상부, 즉 가스 공급구 (65) 상부 및 제 1 흡기구 (66) 상부의 적어도 일부를 구성하고 있다.
본 제 2 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 는, 형상 변화부 (120) 가 상기 서술한 제 1 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 가 구비하고 있는 신축 기구 및 필름형 부재 (68) 를 겸하고 있다. 또, 본 제 2 실시형태에 있어서는, 형상 변화부 (120) 가 본 발명에 관련된 완충부 및 지지부의 기능을 갖고 있다.
이와 같이 구성된 본 제 2 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 에 있어서, 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 또는 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 접촉하여 분위기 형성부 (70) 가 도 1 에서의 Z 방향으로 이동한 경우에는, 도 8 에 나타내는 바와 같이, 형상 변화부 (120) 자체가 형상 변화된다. 이것에 의해, 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 또는 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 접촉한 것에 기인하는 힘이 완충되기 때문에, 본 제 2 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 는, 상기 제 1 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 와 동일한 효과를 나타낼 수 있다.
(제 3 실시형태)
다음으로, 도 9 및 도 10 을 참조하여 본 발명에 관련된 노광 장치의 제 3 실시형태에 관해서 설명한다. 도 9 는, 본 제 3 실시형태에 관련된 노광 장치에 있어서의 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 부근을 상기 제 1 실시형태에서 설명한 도 1 에서의 X 방향에서 본 모습을 나타내는 도면이다. 이 도 9 에 있어서 형상 변화부 (121) 는 소성 변형 부재 (예를 들어, 유리나 금속 등) 로 이루어져 있고, 본 제 3 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 의 그밖의 구성은 상기 제 2 실시형태와 동일하다.
이와 같이 구성된 본 제 3 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 에 있어서, 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 또는 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 접촉하여 분위기 형성부 (70) 가 도 1 에서의 Z 방향으로 이동한 경우에는, 형상 변화부 (121) 가 소성 변형한다. 예를 들어, 형상 변화부 (121) 가 유리로 이루어지는 경우에는, 도 10 에 나타내는 바와 같이, 형상 변화부 (121) 가 소성 변형함으로써 파괴된다. 이것에 의해, 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 또는 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 접촉한 것에 기인하는 힘이 완충되기 때문에, 본 제 3 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 는, 상기 제 1 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 와 동일한 효과를 나타낼 수 있다. 또, 전술한 바와 같이 형상 변화부 (121) 가 파괴된 경우에는 분위기 형성부 (70) 를 교환할 필요가 있지만, 분위기 형성부 (70) 는 투영 광학계 (PL) 와 비교하여 저렴하게 제조할 수 있다. 이 때문에, 투영 광학계 (PL) 를 교환하는 경우와 비교하여 용이하게 노광 장치를 재가동시키는 것이 가능하다.
또, 형상 변화부 (121) 로서 테플론 (등록상표) 등으로 이루어지는 얇은 금속판을 사용해도 되고, 이 경우에는, 형상 변화부 (121) 가 예를 들어 구부러져 꺾임으로써 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 또는 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 접촉한 것에 기인하는 힘을 완충시킨다.
또, 형상 변화부 (121) 를, 소성 변형하지 않고서 파괴되는 취성 재료로 형성해도 된다. 이 취성 재료로는, 알루미나, 지르코니아, 질화알루미늄 등의 세 라믹스 등을 사용할 수 있다.
(제 4 실시형태)
다음으로, 도 11 을 참조하여 본 발명에 관련된 노광 장치의 제 4 실시형태에 관해서 설명한다. 도 11 은, 본 제 4 실시형태에 관련된 노광 장치에 있어서의 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 부근을 상기 제 1 실시형태에서 설명한 도 1 에서의 X 방향에서 본 모습을 나타내는 도면이다. 이 도면에 나타내는 바와 같이, 본 제 4 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 는, 상기 제 2 및 제 3 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 에 있어서 설명한 형상 변화부 (120 (121)) 가 분위기 형성부 (70) 의 하부의 일부, 즉 가스 공급구 (65) 하부 및 제 1 흡기구 (66) 하부의 적어도 일부에 구비되어 있다. 또, 본 제 4 실시형태에 있어서, 분위기 형성부 (70) 의 상부가 직접 경통 (27) 에 고정됨으로써 분위기 형성부 (70) 를 지지하는 구조를 가지고 있어, 분위기 형성부 (70) 의 상부가 본 발명에 관련된 지지부의 기능을 갖고 있다. 또한, 형상 변화부 (120 (121)) 가 본 발명에 관련된 완충부의 기능을 갖고 있다. 또한, 본 제 4 실시형태에 관련된 노광 장치의 상기 서술한 것 외의 구성은 상기 제 1 실시형태와 동일하다.
이와 같이 구성된 본 제 4 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 에 있어서, 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 또는 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 접촉하여 분위기 형성부 (70) 가 도 1 에서의 Z 방향으로 이동한 경우에는, 형상 변화부 (121) 가 탄성 변형 또는 소성 변형한다. 이것에 의해, 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 또는 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 접촉한 것에 기인하는 힘이 완충되기 때문에, 본 제 4 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 는, 상기 제 1 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 와 동일한 효과를 나타낼 수 있다.
(제 5 실시형태)
다음으로 도 12 및 도 13 을 참조하여 본 발명에 관련된 노광 장치의 제 5 실시형태에 관해서 설명한다. 또, 본 제 5 실시형태에 있어서는, 본 발명에 관련된 노광 장치가 분위기 형성부 (70) 와는 별체(別體)로 형상이 변할 수 있는 지지부 (72) 를 갖고 있는 형태에 관해서 설명한다.
도 12 는, 본 제 5 실시형태에 관련된 노광 장치의 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 부근을 상기 제 1 실시형태에서 설명한 도 1 에서의 X 방향에서 본 모습을 나타내는 도면이다. 이 도 12 에 나타내는 바와 같이, 본 제 5 실시형태에 관련된 노광 장치는, 상기 제 1 실시형태에서 설명한 지지부 (71) 대신에 형상이 가변인 지지부 (72) 를 갖고 있고, 그밖의 구성은 상기 제 1 실시형태와 동일하다. 이 형상이 가변인 지지부 (72) 로는, 예를 들어 체인 등의 끈형상 부재를 사용할 수 있다.
이와 같이 구성된 본 제 5 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 에 있어서, 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 또는 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 접촉하여 분위기 형성부 (70) 가 도 1 에서의 Z 방향으로 이동한 경우에는, 지지부 (72) 가 도 13 에 나타내는 바와 같이 형상 변화한다. 이것에 의해, 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 또는 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 접촉한 것에 기인하는 힘이 완충되기 때문에, 본 제 5 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 는, 상기 제 1 실시형태에 관련된 노광 장치 (10) 와 동일한 효과를 나타낼 수 있다.
이상, 첨부 도면을 참조하면서 본 발명에 관련된 노광 장치의 실시형태에 관해서 설명하였지만, 본 발명은 상기 서술한 실시형태에 한정되지 않음은 물론이다. 당업자라면, 특허청구범위에 기재된 기술 사상의 범위 내에서 각종 변경예 또는 수정예를 상도해 낼 수 있음이 분명하여, 그들에 관해서도 당연히 본 발명의 기술적 범위에 속하는 것으로 이해된다.
또, 상기 실시형태에 있어서, 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 또는 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 수직으로 접촉한 경우를 도시하였다. 그러나, 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 또는 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 비스듬하게 접촉한 경우라도 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 또는 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 접촉한 것에 기인하는 힘은 완충된다.
또, 상기 실시형태에 관련된 노광 장치에, 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 또는 웨이퍼 (W) 와 분위기 형성부 (70) 가 접촉한 것에 기인하는 힘이 완충된 것을 검지하는 센서를 구비해도 된다. 또한, 이 센서로부터 얻어지는 정보에 근거하여 노광 장치의 가동을 일시적으로 정지하는 비상 정지 수단을 구비해도 된다.
또한, 상기 실시형태에 관련된 분위기 형성부를 모두 제 2, 제 3, 제 4 실시 형태에서 설명한 형상 변화부 (120 (121)) 로 구성해도 된다.
또한, 본 발명에 관련된 분위기 형성 기구를 액침 노광 장치에 적용해도 된다.
상기 서술한 형태에서는, 투영 광학계 (PL) 의 선단부와 웨이퍼 (W) 사이의 공간에 특정 유체로서 투과성 가스를 공급하는 구성에 관해서 설명하였다. 그러나, 액침 노광 장치에 적용하는 경우에는, 투과성 가스 대신에 액침 노광용 액체를 공급한다. 액침 노광용 액체를 공급하는 경우에는, 가스 공급 배관 (62) 대신에 액체 공급 배관을 사용하고, 또, 제 1 배기 배관 (61) 및 제 2 배기 배관 (64) 대신에 제 1 배수 배관 및 제 2 배수 배관을 사용한다.
그리고, 본 발명에 관련된 분위기 형성 기구를 액침 노광 장치에 적용한 다른 실시형태를 도 14 를 참조하여 설명한다. 액침 노광 장치에서는, 투영 광학계 (PL) 를 구성하는 선단부의 광학 소자 (2F) 는 경통 (27) 으로부터 노출되어 있고, 액침 영역 (AR) 의 액체 (LQ) 와 접촉한다. 분위기 형성부 (150) 는, 도시를 생략한 액체 공급 기구에 접속되고, 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 에 액체 (LQ) 를 공급하는 액체 공급로 (151) 와, 도시를 생략한 액체 회수 기구에 접속되고, 워킹ㆍ디스턴스부 (WD) 로부터 액체 (LQ) 를 회수하는 액체 회수로 (152) 를 구비한다.
액체 공급로 (151) 는, 기판 (W) 표면에 대향하도록 배치된 액체 공급구 (151A) 를 구비하고, 또, 액체 회수로 (152) 는, 기판 (W) 표면에 대향하도록 배치된 액체 회수구 (152A) 를 구비한다. 액체 공급구 (151A) 는, 투영 광학계 (PL) 의 투영 영역 (AR) 을 사이에 개재시킨 X 축방향 양측의 각각의 위치에 형성되어 있고, 액체 회수구 (152A) 는, 투영 광학계 (PL) 의 투영 영역 (AR) 에 대하여 액체 공급구 (151A) 의 외측에서 투영 영역 (AR) 을 둘러싸도록 형성되어 있다. 이와 같이 구성된 분위기 형성부 (150) 에 의해, 투영 광학계 (PL) 와 웨이퍼 (W) 사이에는, 투영 영역 (AR) 을 포함하는 기판 (W) 상의 일부에, 투영 영역 (AR) 보다도 크면서 기판 (W) 보다 작은 액체 분위기를 형성할 수 있다. 이와 같이, 액체 분위기를 형성하는 분위기 형성부 (150) 는, 제 1 실시형태에서 설명한 바와 같이, 지지부 (71) 에 의해 지지하거나, 또, 분위기 형성부 (150) 자체의 일부를, 제 2, 제 3 실시형태에서 설명한 바와 같이, 형상 변화부 (120, 121) 로 구성해도 된다. 또, 분위기 형성부 (150) 의 전체 또는 적어도 일부 (예를 들어, 웨이퍼 스테이지 (46) 측) 를 경통 (27) 이나 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 를 구성하는 재료보다 깨지기 쉬운 재질의 취성 재료 (예를 들어, 유리나 알루미나, 지르코니아, 질화알루미늄 등의 세라믹스 등) 로 구성하여, 웨이퍼 스테이지 (46) (웨이퍼 홀더 (45)) 와 분위기 형성부 (150) 가 접촉했을 때에, 분위기 형성부 (150) 의 일부가 파손되도록 해도 된다.
또, 액침 노광 장치에 본 발명을 통용하는 경우, 국제공개 제2004/019128호에 개시되어 있는 바와 같이, 투영 광학계를 구성하는 광학 소자 중, 이미지면 (웨이퍼) 측의 광학 소자 (평행 평면판) 및 물체면 (레티클) 측의 양쪽의 광로 공간을 액체로 채우는 투영 광학계를 채용할 수도 있다. 또한, 웨이퍼 스테이지 (46) 는, 일본 공개특허공보 평11-135400에 도시되어 있는 계측용 스테이지를 포함한다.
또, 각 실시형태에 있어서, 분위기 형성부 (70, 150) 를 지지하는 지지대로 서 경통 (27) 을 예로 설명하였지만, 이 구성에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 지지대로서 경통 정반 (104) 을 사용할 수도 있다. 그 때에, 투과 가스의 공급시 또는 흡기시에 발생하는 분위기 형성부 (70) 자체의 진동, 또는 액체의 공급시 또는 회수시에 발생하는 분위기 형성부 (150) 자체의 진동이 투영 광학계 (PL) 에 영향을 주지 않도록, 진동을 분리시킨 상태에서 경통 정반 (104) 에 장착할 수 있다.
액침 노광 장치에 있어서, 노광광으로서 ArF 엑시머레이저광 (파장 193㎚) 을 사용하는 경우에는, 액침 노광용 액체 (LQ) 로서 순수가 공급된다. 파장 193㎚ 정도의 노광광에 대하여 순수 (물) 의 굴절률 (n) 은 거의 1.44 정도로 알려져 있고, 기판 (P) 상에서는 1/n, 즉 약 134㎚ 로 단파장화되어 높은 해상도가 얻어진다. 순수는, 반도체 제조 공장 등에서 용이하게 대량으로 입수할 수 있음과 함께, 기판 (웨이퍼) 위의 포토레지스트나 광학 소자 (렌즈) 등에 대한 악영향이 없다는 이점이 있다. 또한, 순수는 환경에 대한 악영향이 없음과 함께, 불순물의 함유율이 극히 낮아, 기판의 표면, 및 투영 광학계의 선단면에 형성되어 있는 광학 소자의 표면을 세정하는 작용도 기대할 수 있다.
이와 같이, 노광광의 광원으로서 ArF 엑시머레이저광을 사용한 경우, 또한 초점 심도는 공기 중과 비교하여 약 n 배, 즉 약 1.44 배로 확대된다.
또한 액체로는, 그 밖에도, 노광광에 대한 투과성이 있고 가능한 한 굴절률이 높으며, 투영 광학계나 기판 표면에 도포되어 있는 포토레지스트에 대하여 안정적인 것을 사용하는 것도 가능하다.
또한, 노광광으로서 F2 레이저광을 사용하는 경우, 액체 (LQ) 로는 F2 레이저광을 투과 가능한 예를 들어 불소계 오일이나 과불화폴리에테르 (PFPE) 등의 불소계 액체를 사용하면 된다.
또한, 본 발명에 관련된 노광 장치는, 주사 노광형의 투영 노광 장치뿐만 아니라, 일괄 노광형 (스테퍼형) 의 투영 노광 장치 등에 적용 가능하다. 또한, 투영 광학계의 배율은 축소 배율뿐만 아니라, 등배나 확대여도 된다.
또한, 본 발명에 관련된 노광 장치의 에너지빔으로서, ArF 엑시머레이저광 (파장 193㎚) 을 사용하는 경우나, Kr2 레이저광 (파장 146㎚), Ar2 레이저광 (파장 126㎚), YAG 레이저광 등의 고조파 또는 반도체 레이저의 고조파 등의 파장이 200㎚～100㎚ 정도인 진공 자외광에도 적용할 수 있다.
또한, 엑시머레이저나 F2 레이저광 등 대신에, DFB (Distributed feedback: 분포 귀환형) 반도체 레이저 또는 화이버 레이저로부터 발진되는 적외역 또는 가시역의 단일 파장 레이저를, 예를 들어 에르븀 (Er) (또는 에르븀과 이테르븀 (Yb) 의 양쪽) 이 도프된 화이버 증폭기로 증폭하고, 비선형 광학 결정을 사용하여 자외광으로 파장 변환한 고조파를 사용해도 된다.
또한, 노광 장치의 용도로는 반도체 제조용 노광 장치에 한정되지 않고, 예를 들어 사각형의 유리 플레이트에 액정 표시 소자 패턴을 노광하는 액정용의 노광 장치나, 박막 자기 헤드를 제조하기 위한 노광 장치에도 널리 적용할 수 있다.
이상과 같은 본 실시형태의 노광 장치는, 본원 특허청구의 범위에 열거된 각 구성 요소를 포함하는 각종 서브 시스템을, 소정의 기계적 정밀도, 전기적 정밀도, 광학적 정밀도를 유지하도록 조립함으로써 제조된다. 이들 각종 정밀도를 확보하기 위해, 이 조립 전후에는 각종 광학계에 관해서는 광학적 정밀도를 달성하기 위한 조정, 각종 기계계에 관해서는 기계적 정밀도를 달성하기 위한 조정, 각종 전기계에 관해서는 전기적 정밀도를 달성하기 위한 조정이 이루어진다. 각종 서브 시스템으로부터 노광 장치에 대한 조립 공정은, 각종 서브 시스템 상호의, 기계적 접속, 전기 회로의 배선 접속, 기압 회로의 배관 접속 등이 포함된다. 이 각종 서브 시스템으로부터 노광 장치에 대한 조립 공정 전에, 각 서브 시스템 각각의 조립 공정이 있음은 물론이다. 각종 서브 시스템의 노광 장치에 대한 조립이 종료되면 종합 조정이 실시되어, 노광 장치 전체적으로 각종 정밀도가 확보된다. 또, 노광 장치의 제조는 온도 및 클린도 등이 관리된 클린 룸에서 실시하는 것이 바람직하다.
그리고 반도체 소자 등의 디바이스는, 도 15 에 나타내는 바와 같이 디바이스의 기능ㆍ성능을 설계하는 단계 (201), 이 설계 단계에 기초하여 마스크 (레티클) 를 제작하는 단계 (202), 규소 재료로부터 웨이퍼를 제조하는 단계 (203), 본 발명에 관련된 노광 장치에 의해서 레티클의 패턴을 웨이퍼에 노광하는 웨이퍼 처리 단계 (204), 디바이스 조립 단계 (다이싱 공정, 본딩 공정, 패키지 공정을 포함한다: 205), 검사 단계 (206) 등을 거쳐 제조된다.
산업상이용가능성
본 발명에 의하면, 분위기 형성 기구가 스테이지 또는 기판과 접촉한 경우라 도, 스테이지 또는 기판과 분위기 형성 기구가 접촉하는 것에 기인하는 힘이 투영 광학계에 전달됨으로써 생기는 투영 광학계의 성능 변화를 방지할 수 있다.

Claims (45)

  1. 스테이지에 유지된 기판에, 마스크에 형성된 패턴의 이미지를 투영하는 투영 광학계와, 상기 투영 광학계와 상기 스테이지 또는 상기 기판과의 사이에 특정 유체 분위기를 형성하기 위한 분위기 형성 기구를 구비하는 노광 장치로서,
    상기 분위기 형성 기구는, 상기 스테이지 또는 상기 기판과 접촉한 것에 기인하는 힘을 완화시켜, 그 힘이 상기 투영 광학계에 전달되는 것을 억제하는 완충부를 갖는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 완충부는, 신축함으로써 상기 분위기 형성 기구의 상기 투영 광학계측과 상기 스테이지측을 상대적으로 접근시키는 신축 기구를 갖는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 분위기 형성 기구는, 상기 특정 유체 분위기를 형성하는 분위기 형성부를 갖고,
    상기 완충부는, 상기 분위기 형성부와, 상기 투영 광학계를 유지하는 경통과의 사이를 접속하는 가요성 부재를 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 분위기 형성 기구는, 상기 특정 유체 분위기를 형성하는 분위기 형성부와, 그 분위기 형성부를 지지대에 지지하는 지지부를 갖고,
    상기 지지부는 상기 스테이지 또는 상기 기판의 접촉에 의해 축소되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 지지부는, 상기 지지대에 장착되는 일단부를 구비하는 제 1 지지부와, 상기 제 1 지지부의 타단부에 걸리는 일단부 및 상기 분위기 형성부에 장착되는 타단부를 구비하는 제 2 지지부를 갖고,
    상기 분위기 형성부와, 상기 스테이지 또는 상기 기판이 접촉했을 때에, 상기 제 1 지지부의 타단부와 상기 제 2 지지부의 일단부의 걸림이 해제되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 제 1 지지부의 타단부는 상기 투영 광학계로부터 이간되는 방향에 형성된 제 1 플랜지부를 갖고,
    상기 제 2 지지부의 일단부는 상기 투영 광학계를 향하여 형성된 제 2 플랜지부를 갖고,
    상기 제 1 지지부와 상기 제 2 지지부는 상기 제 2 플랜지부가 상기 제 1 플랜지부에 탑재되는 것에 의해 서로 걸리는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 분위기 형성 기구는 상기 특정 유체 분위기를 형성하는 분위기 형성부와, 그 분위기 형성부를 지지대에 지지하는 지지부를 갖고,
    상기 지지부는 일단부가 상기 지지대에 장착되고 타단부가 상기 분위기 형성부에 장착되는 끈형상 부재를 갖는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 완충부는, 형상 변화함으로써 상기 분위기 형성 기구의 상기 투영 광학계측과 상기 스테이지측을 상대적으로 접근시키는 형상 변화부를 갖는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 형상 변화부에는 탄성 변형 부재가 사용되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 형상 변화부에는 소성 변형 부재가 사용되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 분위기 형성 기구는 상기 특정 유체 분위기를 형성하는 분위기 형성부를 갖고,
    상기 완충부는 상기 분위기 형성부의 일부에 형성되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 분위기 형성 기구는 상기 완충부를 개재하여 상기 분위기 형성부를 지지하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  13. 제 11 항에 있어서,
    상기 완충부는 상기 분위기 형성부 중 상기 스테이지 또는 상기 기판측의 일부에 형성되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  14. 제 11 항에 있어서,
    상기 완충부는 소성 변형 부재 또는 탄성 변형 부재로 형성되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  15. 제 1 항에 있어서,
    상기 분위기 형성 기구는 상기 특정 유체 분위기를 형성하는 분위기 형성부를 갖고,
    상기 완충부는, 상기 분위기 형성부의 적어도 일부를 형성하고, 또 취성 재료로 구성되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  16. 제 1 항에 있어서,
    상기 분위기 형성 기구와 상기 투영 광학계 사이에는, 상기 스테이지 또는 상기 기판과 상기 분위기 형성 기구가 접촉했을 때에 분위기 형성부가 이동하는 거리 이상의 클리어런스 (clearance) 가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  17. 패턴이 형성된 마스크 및 투영 광학계를 통한 노광광으로, 스테이지에 유지된 기판을 노광하는 노광 장치로서,
    상기 투영 광학계와 상기 스테이지 또는 상기 기판과의 사이에 특정 유체 분위기를 형성하는 분위기 형성 기구를 구비하고,
    상기 분위기 형성 기구는, 상기 스테이지 또는 상기 기판과 접촉함으로써 전체 또는 적어도 일부가 파손되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 분위기 형성 기구는, 상기 적어도 일부가 취성 재료로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  19. 제 17 항에 있어서,
    상기 분위기 형성 기구는,
    상기 투영 광학계와 상기 스테이지 또는 상기 기판과의 사이에 배치되고, 상기 특정 유체 분위기를 형성하는 분위기 형성 부재와,
    상기 분위기 형성 부재를 지지대에 지지하는 지지부를 갖고,
    상기 스테이지 또는 상기 기판과 접촉함으로써, 상기 분위기 형성 부재의 일부가 파손되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  20. 제 19 항에 있어서,
    상기 지지대는, 상기 투영 광학계를 유지하는 경통, 또는 상기 경통을 지지하는 경통 정반인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  21. 제 17 항에 있어서,
    상기 분위기 형성 기구는,
    상기 투영 광학계와 상기 스테이지 또는 상기 기판과의 사이에 배치되고, 또한 상기 특정 유체 분위기를 형성하고, 지지대에 지지되는 지지부를 구비하는 분위기 형성 부재를 갖고,
    상기 스테이지 또는 상기 기판과 접촉함으로써, 상기 지지부가 파손되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  22. 제 21 항에 있어서,
    상기 지지대는, 상기 투영 광학계를 유지하는 경통, 또는 상기 경통을 지지하는 경통 정반인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  23. 패턴이 형성된 마스크 및 투영 광학계를 통한 노광광으로, 스테이지에 유지된 기판을 노광하는 노광 장치로서,
    상기 투영 광학계와 상기 스테이지 또는 상기 기판과의 사이에 특정 유체 분위기를 형성하는 분위기 형성 기구를 구비하고,
    상기 분위기 형성 기구는, 상기 스테이지 또는 상기 기판과 접촉함으로써, 적어도 일부의 형상이 변화하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  24. 제 23 항에 있어서,
    상기 분위기 형성 기구는, 상기 적어도 일부가 탄성 재료 또는 소성 재료로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  25. 제 24 항에 있어서,
    상기 분위기 형성 기구는,
    상기 투영 광학계와 상기 스테이지 또는 상기 기판과의 사이에 배치되고, 상기 특정 유체 분위기를 형성하는 분위기 형성 부재와,
    상기 분위기 형성 부재를 지지대에 지지하는 지지부를 갖고,
    상기 스테이지 또는 상기 기판과 접촉함으로써, 상기 지지부가 탄성 변형 또는 소성 변형하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  26. 제 24 항에 있어서,
    상기 분위기 형성 기구는,
    상기 투영 광학계와 상기 스테이지 또는 상기 기판과의 사이에 배치되고, 또한 상기 특정 유체 분위기를 형성하고, 지지대에 지지되는 지지부를 구비하는 분위기 형성 부재를 갖고,
    상기 스테이지 또는 상기 기판과 접촉함으로써, 상기 지지부가 탄성 변형 또는 소성 변형하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  27. 제 23 항에 있어서,
    상기 분위기 형성 기구는,
    상기 투영 광학계와 상기 스테이지 또는 상기 기판과의 사이에 배치되고, 상기 특정 유체 분위기를 형성하는 분위기 형성 부재와,
    상기 분위기 형성 부재를 지지대에 지지하는 지지부를 갖고,
    상기 스테이지 또는 상기 기판과 접촉함으로써, 상기 지지부가 신축하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  28. 제 23 항에 있어서,
    상기 분위기 형성 기구는,
    상기 투영 광학계와 상기 스테이지 또는 상기 기판과의 사이에 배치되고, 상기 특정 유체 분위기를 형성하는 분위기 형성 부재와,
    상기 분위기 형성 부재를 지지대에 지지하는 끈형상 부재를 갖는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  29. 제 25 항에 있어서,
    상기 지지대는, 상기 투영 광학계를 유지하는 경통, 또는 상기 경통을 지지하는 경통 정반인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  30. 제 1 항 내지 제 29 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 분위기 형성 기구는, 상기 투영 광학계와 상기 스테이지 또는 상기 기판과의 사이에, 액침 영역을 형성하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  31. 패턴이 형성된 마스크 및 투영 광학계를 통해, 기판을 노광하는 노광 장치로서,
    상기 기판을 유지하는 스테이지와,
    상기 스테이지와 상기 투영 광학계 사이에 배치되고, 상기 투영 광학계와 상기 기판 또는 상기 스테이지와의 사이에, 특정 유체 분위기를 형성하는 분위기 형성부와,
    상기 분위기 형성부를 지지대에 지지하는 형상 변화부를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  32. 제 31 항에 있어서,
    상기 형상 변화부에는, 탄성체 부재가 사용되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  33. 제 31 항에 있어서,
    상기 형상 변화부에는, 소성 변형 부재가 사용되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  34. 제 31 항에 있어서,
    상기 형상 변화부에는, 취성 재료가 사용되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  35. 제 31 항에 있어서,
    상기 형상 변화부에는, 끈형상 부재가 사용되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  36. 제 35 항에 있어서,
    상기 끈형상 부재는, 체인인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  37. 제 31 항 내지 제 36 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 지지대는, 상기 투영 광학계를 유지하는 경통인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  38. 제 31 항 내지 제 36 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 지지대는, 경통을 지지하는 경통 정반인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  39. 제 31 항 내지 제 36 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 분위기 형성부는, 상기 투영 광학계와 상기 기판 또는 상기 스테이지와의 사이에, 액침 영역을 형성하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  40. 제 31 항 내지 제 36 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 형상 변화부는, 상기 스테이지 또는 상기 기판의 접촉에 따라 신축하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  41. 제 32 항에 있어서,
    상기 탄성체 부재는, 상기 스테이지 또는 상기 기판의 접촉에 따라 탄성 변형하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  42. 제 33 항에 있어서,
    상기 소성 변형 부재는, 상기 스테이지 또는 상기 기판의 접촉에 따라 소성 변형하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  43. 제 34 항에 있어서,
    상기 취성 재료가 사용된 상기 형상 변화부는, 상기 스테이지 또는 상기 기판의 접촉에 의해 파괴되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  44. 제 35 항에 있어서,
    상기 끈형상 부재는, 상기 스테이지 또는 상기 기판의 접촉에 의해 변형하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  45. 제 1 항 내지 제 29 항, 제 31 항 내지 제 36 항, 제 41 항 내지 제 44 항 중 어느 한 항에 기재된 노광 장치를 사용하여, 상기 마스크 상에 형성된 디바이스 패턴을 상기 기판 상에 전사하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스 제조 방법.
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