JP4886289B2 - マスク及びこれを用いた半導体素子の製造方法及び薄膜トランジスタ表示板の製造方法 - Google Patents
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Description
PDPは、気体放電によって発生するプラズマを用いて文字や映像を表示する装置であり、有機EL表示装置は、特定の有機物または高分子等の電界発光を用いて文字または映像を表示する。液晶表示装置は、二つの表示板の間に入っている液晶層に電場を印加し、この電場の強度を調節して液晶層を通過する光の透過率を調節することによって所望の画像を得る。
一般的に、前記のような表示板は、マスクを用いたフォトエッチング工程により、基板上に形成された薄膜をパターニングして、多層の配線または絶縁膜の接触孔等を形成して完成される。
マスクが遮光部、半透過部及び透過部を含み、半透過部では入射光に対する位相差があるため、半透過部では光の干渉、回折により光強度が低下する。ここで、半透過部では、−70°〜+70°の位相差が生じるため、光の透過率が20〜40%に減少するように調整される。よって、遮光部に対応する第1領域には第1厚さの感光膜パターン、半透過部に対応する第2領域には第2厚さ(第1厚さ>第2厚さ)の感光膜パターンが形成され、透過部に対応する第3領域には感光膜が形成されない。このとき、特に、半透過部での入射光に対する位相差が−70°〜+70°であるため、位相の衝突が発生せず、フォーカスの特性が比較的平坦となる。そのため、半透過部に対応する第2厚さの感光膜が断線したり厚く残る現象を防ぐことができ、また再現性を確保しながら均一な厚さに形成することができる。
半透過部の透過率が20〜40%であるので、遮光部よりも厚みの薄い感光膜を形成することができる。
本願第3発明は、第1発明において、遮光部は不透明物質からなる遮光膜を備えることが好ましい。
本願第4発明は、第3発明において、遮光膜はクロムを含むのが好ましい。
本発明の一実施例によるマスクは、光を透過させる透過部、光の一部分だけを透過させる半透過部、及び光を遮断する遮光部を含み、半透過部は入射光に対して−70°〜+70°の位相差を生じさせる。
本願第7発明は、第6発明において、表示装置は液晶表示装置または有機発光表示装置であることができる。
本願第8発明は、本発明の一実施例による薄膜トランジスタ表示板の製造方法において、絶縁基板上にゲート電極を有するゲート線を形成し、ゲート線を覆うゲート絶縁膜を形成する。ゲート絶縁膜上に半導体を形成し、半導体上に、互いに分離され、かつソース電極を有するデータ線及びドレイン電極を形成し、データ線を覆い、ドレイン電極を露出する接触孔を有している保護膜を形成する。次に、接触孔を通じてドレイン電極と接続される画素電極を形成する。この時、半導体とデータ線及びドレイン電極の形成段階は、一つのマスクを用いたフォトエッチング工程からなり、マスクは通過する光に対して−70°〜+70°の位相差を発生させる半透過膜を含む半透過部と、データ線及びドレイン電極に対応し遮光膜を含む遮光部と、遮光部及び反透過部を除いた透過部とを有する。前記半透過膜がMoSiを含み、前記半透過膜は窒化硅化モリブデン、酸化硅化モリブデン、炭化硅化モリブデン、炭化酸化硅化モリブデン、炭化窒化硅化モリブデン、酸化窒化硅化モリブデン、炭化酸化窒化硅化モリブデン成分の膜であって、成分含量は炭素が0〜20at%(原子パーセント)、酸素が0〜60at%、窒素が0〜60at%、ケイ素が20〜60at%であり、その他は金属成分の膜である。
本願第10発明は、第9発明において、フォトエッチング工程において、チャンネル領域及び配線領域は、各々半透過部及び遮光部に整列することが好ましい。
本願第12発明は、半導体、抵抗性接触部材、データ線及びドレイン電極の形成段階は、ゲート絶縁膜上にケイ素層、不純物ケイ素層及び導電体層を積層する段階、導電体層上に、ソース電極及びドレイン電極の間のチャンネル領域に位置する第1部分と、前記第1部分よりも厚くてデータ線及びドレイン電極に対応する配線領域に位置する第2部分とを有する感光膜パターンを形成する段階、感光膜パターンをエッチングマスクとして配線領域及びチャンネル領域を除いた残りの領域に対応する導電体層をエッチングする段階、第1部分を除去してチャンネル領域の導電体層を露出する段階、残りの領域に対応するケイ素層及び不純物ケイ素層をエッチングする段階、チャンネル領域に位置した導電体層及び不純物ケイ素層を除去する段階、並びに第2部分を除去する段階を含む。
また、中間厚さを有する感光膜パターンにおいて、互いに異なる薄膜を一つのフォトエッチング工程によってパターニングして、製造工程を単純化し、製造費用を節減することができる。
図面は、各種層及び領域を明確に表現するために、厚さを拡大して示している。明細書全体を通じて類似した部分については同一な図面符号を付けている。層、膜、領域、板などの部分が、他の部分の“上に”あるとする時、これは他の部分の“すぐ上に”ある場合に限らず、その中間に更に他の部分がある場合も含む。逆に、ある部分が他の部分の“すぐ上に”あるとする時、これは中間に他の部分がない場合を意味する。
本発明の実施例による薄膜トランジスタ表示板には、絶縁基板110上にゲート信号を伝達する複数のゲート線121及び維持電極線131が形成されている。
ゲート線121は、図1中主に横方向に延在しており、各ゲート線121の一部は複数のゲート電極124をなす。各ゲート線121の一部はゲート電極124をなし、各ゲート線121は外部からのゲート信号をゲート線121に伝達するための接触部を有し、接触部であるゲート線121の端部129は他の部分よりも広い幅を有することが望ましい。また、ゲート線121の端部129は、基板110上に直接形成されているゲート駆動回路の出力端に接続される。
ゲート線121及び維持電極線131は、Al、Al合金、Ag、Ag合金、Cr、Ti、Ta、Mo、Cu等の金属等で形成される。図2に示すように、本実施例において、ゲート線121は、物理的な性質が異なる二つの膜、つまり下部膜121pとその上の上部膜121qとを含む。下部膜121pは、ゲート信号の遅延や電圧降下を減らせるように、低い比抵抗の金属、例えばアルミニウム(Al)やアルミニウム合金等のアルミニウム系列の金属からなり、1,000〜3,000Åの厚さを有する。これとは異なって、上部膜121qは、他の物質、特にIZO(indium zinc oxide)またはITO(indium tin oxide)との物理的、化学的、電気的な接触特性が優れた物質、例えばモリブデン(Mo)、モリブデン合金(例:モリブデン−タングステン(MoW)合金)、クロム(Cr)等からなり、100〜1,000Åの厚さを有する。下部膜121pと上部膜121qとの組み合わせの例としては、純粋なアルミニウムまたはアルミニウム−ネオジム(Nd)合金/モリブデンがあり、位置が互いに入れ替わることもある。図2で、ゲート電極124の下部膜及び上部膜は、各々図面符号124p、124qで、ゲート線121の端部129の下部膜及び上部膜は、各々図面符号129p、129qで、維持電極線131の下部膜及び上部膜は、各々図面符号131p、131qで示した。
ゲート線121と維持電極線131の上には、窒化ケイ素(SiNx)等からなるゲート絶縁膜140が形成されている。
線状及び島型抵抗性接触部材161、165上には、複数のデータ線171を始めとして複数のドレイン電極175が形成されている。
データ線171及びドレイン電極175もゲート線121と同様に、その側面が約30〜80゜の角度で各々傾いている。
この時、半導体151は、薄膜トランジスタが位置するチャンネル部154を除いて、データ線171、ドレイン電極175及びその下部の抵抗性接触部材161、165と実質的に同一な平面パターンを有している。詳細には、線状半導体151は、データ線171及びドレイン電極175とその下部の抵抗性接触部材161、165の下に存在しており、さらに、ソース電極173とドレイン電極175間にこれらによって覆われずに露出された部分を有している。
保護膜180には、ドレイン電極175の少なくとも一部とデータ線171の端部179とをそれぞれ露出する複数の接触孔185、182が備えられている。一方、複数の接触孔181がゲート絶縁膜140及び保護膜180を貫通して、ゲート線121の端部129を露出する。
画素電極190は、接触孔185を通じてドレイン電極175と物理的・電気的に接続され、ドレイン電極175からデータ電圧が印加される。
データ電圧が印加された画素電極190は、共通電圧が印加される他の表示板(図示せず)の共通電極(図示せず)と共に電場を生成することで液晶層の液晶分子を再配列する。
接触補助部材81、82は、接触孔181、182を通じてゲート線及びデータ線の端部129、179とそれぞれ連結される。接触補助部材81、82は、ゲート線121及びデータ線171の各端部129、179と駆動集積回路のような外部装置との接着性を補完し、これらを保護する役割をするもので、これらの適用は必須ではなく選択的である。
以下、図1乃至図3に示す構造を有する液晶表示装置用薄膜トランジスタ表示板を本発明の一実施例によって製造する方法について、図4乃至図13B及び図1乃至図3を参照して詳細に説明する。
上部膜121q、131q及び下部膜121p、131pのパターニングは、アルミニウム及びモリブデンに対していずれも側面傾斜を与えながらエッチングすることができるアルミニウムエッチング液であるCH3COOH(酢酸)/HNO3(硝酸)/H3PO4(リン酸)/H2Oを用いた湿式エッチングによって行うのが好ましい。
ここで、スリットの間に位置したパターンの線幅やパターン間の間隔、つまりスリットの幅は露光時に用いる露光器の分解能より小さいのが好ましい。また、半透過膜を用いる場合には、マスクを作製するとき、透過率を調節するために、異なる透過率を有する薄膜を用いるか、或いは厚さの異なる薄膜を用いることができる。
つまり、マスクが遮光部410、半透過部420及び透過部430を含み、半透過部420では入射光に対する位相差があるため、半透過部420では光の干渉、回折により光強度が低下する。ここで、半透過部420では、−70°〜+70°の位相差が生じるため、光の透過率が20〜40%に減少するように調整される。よって、遮光部410に対応する第1領域には第1厚さの感光膜パターン、半透過部420に対応する第2領域には第2厚さ(第1厚さ>第2厚さ)の感光膜パターンが形成され、透過部430に対応する第3領域には感光膜が形成されない。このとき、特に、半透過部420での入射光に対する位相差が−70°〜+70°であるため、位相の衝突が発生せず、フォーカスの特性が比較的平坦となる。そのため、半透過部420に対応する第2厚さの感光膜が断線したり厚く残る現象を防ぐことができ、また再現性を確保しながら均一な厚さに形成することができる。
(1)その他の領域(B)に位置した導電体層170、不純物非晶質シリコン層160及び非晶質シリコン層150の第3部分の除去、
(2)チャンネル領域(C)に位置した感光膜の第2部分54の除去、
(3)チャンネル領域(C)に位置した導電体層170及び不純物非晶質シリコン層160の第2部分の除去、
(4)配線領域(A)に位置した感光膜の第1部分52の除去。
(1)その他の領域(B)に位置した導電体層170の第3部分の除去、
(2)チャンネル領域(C)に位置した感光膜の第2部分54の除去、
(3)その他の領域(B)に位置した不純物非晶質シリコン層160及び非晶質シリコン層150の第3部分の除去、
(4)チャンネル領域(C)に位置した導電体層170の第2部分の除去、
(5)配線領域(A)に位置した感光膜の第1部分52の除去、
(6)チャンネル領域(C)に位置した不純物非晶質シリコン層160の第2部分の除去。
図7A及び7Bに示すように、その他の領域(B)に露出されている導電体層170を湿式エッチングまたは乾式エッチング法で除去し、下部の不純物非晶質シリコン層160の第3部分を露出する。アルミニウム系列の導電膜は、主に湿式エッチングで実施し、モリブデン系列の導電膜は、湿式及び乾式エッチングを選択的に実施することができる。なお、多重膜に対しては、選択的に湿式及び乾式エッチングを実施することができる。また、二重膜がアルミニウム及びモリブデンを含むときには、一つの湿式エッチング条件にてパターニングすることもできる。乾式エッチングを用いるとき、感光膜52、54の上部がある程度の厚さにエッチングされることがある。
次に、図8A及び図8Bのように、チャンネル領域(C)に残っている第2部分54の感光膜をアッシング処理して除去するエッチングバック(etch back)工程を行う。この時、チャンネル領域(C)の感光膜の第2部分54が除去されて下の導電体174の第2部分が露出し、感光膜の第1部分52の一部も除去されて感光膜52の幅が狭くなり、感光膜52及び導電体174間のアンダーカット構造は無くなる。
次に、図10、図11A及び11Bに示すように、チャンネル領域(C)に位置した残りの導電体174及び線状の不純物半導体164の第2部分をエッチングして除去する。
このようにして、導電体174の各々が一つのデータ線171及び複数のドレイン電極175に分離されて完成し、不純物半導体164が各々一つの線状抵抗性接触部材161と複数の島状抵抗性接触部材165に分離されて完成する。
次に、前記したように、本発明の実施例によるマスクの構造について詳細に説明する。
図14のように、本発明の実施例によるマスク400は、石英等のように透明な物質からなる基板401と、基板401上に形成され、半透過部420及び遮光部410に形成されている半透過膜402と、遮光部410に形成されている遮光膜403とを含む。半透過部420には、半透過膜402のみが配置されて、通過する光の透過率が調節され、遮光部410には遮光膜403が配置されて、通過する光のほとんどを遮断し、透過部430には遮光膜及び半透過膜が配置されていないため光のほとんどが通過する。
本実施例において、液晶表示装置用薄膜トランジスタ表示板の製造方法を通じて説明したが、本実施例によるマスクは、有機発光表示装置用表示板の製造方法、及び表示板でなく他の半導体素子の製造方法においても用いることができる。また、半透過部のパターン及び透過率が少なくとも二つ以上になるようにマスクを設計して、少なくとも二つ以上の互いに異なる薄膜を共にパターニングする工程で多様に適用することができる。
また、中間厚さを有する感光膜パターンにて互いに異なる薄膜を一つのフォトエッチング工程でパターニングして、製造工程を単純化し、製造費用を節減することができる。
110 基板
121、129 ゲート線
124 ゲート電極
140 ゲート絶縁膜
151、154 半導体
161、163、165 抵抗性接触部材
171、179 データ線
173 ソース電極
175 ドレイン電極
180 保護膜
181、182、185 接触孔
190 画素電極
400 マスク
401 基板
402 半透過膜
403 遮光漠
Claims (12)
- 光を透過させる透過部と、
光の一部分だけを透過させる半透過部と、
光を遮断する遮光部とを含むマスクであって、
前記半透過部は、位相差を生じさせる半透過膜を含むことにより、入射光に対して−70°〜+70°の位相差を生じさせ、
前記半透過膜がMoSiを含み、前記半透過膜は窒化硅化モリブデン、酸化硅化モリブデン、炭化硅化モリブデン、炭化酸化硅化モリブデン、炭化窒化硅化モリブデン、酸化窒化硅化モリブデン、炭化酸化窒化硅化モリブデン成分の膜であって、成分含量は炭素が0〜20at%(原子パーセント)、酸素が0〜60at%、窒素が0〜60at%、ケイ素が20〜60at%であり、その他は金属成分の膜であり、
前記マスクは400〜440nm範囲の波長帯の光を発光するGH複合光源に適用される、マスク。 - 前記半透過部は、前記透過部に対して20〜40%の透過率を有する、請求項1に記載のマスク。
- 前記遮光部は、不透明物質からなる遮光膜を含む、請求項1に記載のマスク。
- 前記遮光膜はクロムを含む、請求項3に記載のマスク。
- 基板上に形成されている二つ以上の薄膜上に感光膜を塗布する段階、
一つのマスクを用いて400〜440nm範囲の波長帯の光を発光するGH複合光源に適用することで前記感光膜を露光して現像し、第1部分と前記第1部分よりも厚い第2部分とを含む感光膜パターンを形成する段階、及び
前記感光膜パターンをエッチングマスクとして前記二つ以上の薄膜を共にエッチングする段階
を含み、
前記マスクは、前記第1部分に対応する位置に配置されている半透過膜と、前記第2部分に対応する位置に配置されている遮光膜とを含み、
前記半透過膜は、入射光に対して−70°〜+70°の位相差を生じさせ、
前記半透過膜がMoSiを含み、前記半透過膜は窒化硅化モリブデン、酸化硅化モリブデン、炭化硅化モリブデン、炭化酸化硅化モリブデン、炭化窒化硅化モリブデン、酸化窒化硅化モリブデン、炭化酸化窒化硅化モリブデン成分の膜であって、成分含量は炭素が0〜20at%(原子パーセント)、酸素が0〜60at%、窒素が0〜60at%、ケイ素が20〜60at%であり、その他は金属成分の膜である、
半導体素子の製造方法。 - 前記半導体素子は表示装置に用いる、請求項5に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記表示装置は液晶表示装置または有機発光表示装置である、請求項6に記載の半導体素子の製造方法。
- 絶縁基板上にゲート電極を有するゲート線を形成する段階、
前記ゲート線を覆うゲート絶縁膜を形成する段階、
前記ゲート絶縁膜上に半導体を形成する段階、
前記半導体上に互いに分離され、かつソース電極を有するデータ線及びドレイン電極を形成する段階、
前記データ線を覆い、前記ドレイン電極を露出する接触孔を有している保護膜を形成する段階、
前記接触孔を通じて前記ドレイン電極と接続される画素電極を形成する段階
を含み、
前記半導体と前記データ線及び前記ドレイン電極の形成段階は、一つのマスクを用いたフォトエッチング工程によって行われ、
前記マスクは、通過する光に対して−70°〜+70°の位相差を生じさせる半透過膜を含む半透過部と、前記データ線及び前記ドレイン電極に対応し遮光膜を含む遮光部と、
前記遮光部と前記半透過部を除く透過部とを有し、
前記半透過膜がMoSiを含み、前記半透過膜は窒化硅化モリブデン、酸化硅化モリブデン、炭化硅化モリブデン、炭化酸化硅化モリブデン、炭化窒化硅化モリブデン、酸化窒化硅化モリブデン、炭化酸化窒化硅化モリブデン成分の膜であって、成分含量は炭素が0〜20at%(原子パーセント)、酸素が0〜60at%、窒素が0〜60at%、ケイ素が20〜60at%であり、その他は金属成分の膜であり、
前記マスクを用いたフォトエッチング工程は400〜440nm範囲の波長帯の光を発光するGH複合光源を用いる、
薄膜トランジスタ表示板の製造方法。 - 前記フォトエッチング工程において、前記マスクを用いて露光及び現像した感光膜パターンは、前記ソース電極及びドレイン電極の間のチャンネル領域に位置する第1部分と、前記第1部分よりも厚くて前記データ線及びドレイン電極に対応する配線領域に位置する第2部分とを有する、請求項8に記載の薄膜トランジスタ表示板の製造方法。
- 前記フォトエッチング工程において、前記チャンネル領域及び前記配線領域は、各々前記半透過部及び前記遮光部に整列される、請求項9に記載の薄膜トランジスタ表示板の製造方法。
- 前記半導体と前記データ線及びドレイン電極との間に抵抗性接触部材を形成する段階をさらに含む、請求項10に記載の薄膜トランジスタ表示板の製造方法。
- 前記半導体、前記抵抗性接触部材、前記データ線及び前記ドレイン電極の形成段階は、
前記ゲート絶縁膜上にケイ素層、不純物ケイ素層及び導電体層を積層する段階、
前記導電体層上に、前記ソース電極及びドレイン電極の間のチャンネル領域に位置する第1部分と、前記第1部分よりも厚くて前記データ線及びドレイン電極に対応する配線領域に位置する第2部分とを有する感光膜パターンを形成する段階、
前記感光膜パターンをエッチングマスクとして前記配線領域及びチャンネル領域を除いた残りの領域に対応する前記導電体層をエッチングする段階、
前記第1部分を除去して、前記チャンネル領域の前記導電体層を露出する段階、
前記残りの領域に対応する前記ケイ素層及び不純物ケイ素層をエッチングする段階、
前記チャンネル領域に位置した前記導電体層及び不純物ケイ素層を除去する段階、及び
前記第2部分を除去する段階
を含む、請求項11に記載の薄膜トランジスタ表示板の製造方法。
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