JP2021524393A - 部分カバレッジ多層減衰積層体 - Google Patents

Abstract

本明細書は、少なくとも１つの拘束層及び少なくとも１つの不連続減衰層を含む多層減衰積層体を提供する。少なくとも１つの不連続減衰層は、１つ以上の減衰材料領域及び１つ以上のギャップ領域を含み、ここで、少なくとも１つの不連続減衰層の少なくとも１つの減衰材料領域によるカバレッジの割合は、９９％未満である。また、前記多層減衰積層体を使用するシステム及び方法を提供する。

Description

本出願は、２０１８年５月１７日付けで出願された米国仮出願番号６２／６７２，８５５号の利益を主張し、その全体が本明細書に参考として組み込まれる。

本発明は、一般に、振動を散逸させるために有用な多層減衰積層体に関する。

自動車市場、家電製品市場及びエレクトロ二クス市場等の多数の市場において、好ましくない振動及び関連する騒音の発生を低減する必要がある。例えば、自動車産業は、軽量車両の採用が増加する傾向にある。そのため、より軽量のアルミニウム及びポリマー材料の使用が増加している。しかし、このような設計及び材料を使用すると、車両の振動及び振動関連の騒音に関する問題がさらに発生する。

一般に、騒音及び振動の問題は、振動に対する抵抗力を高めるための構造形状の補強、及び振動振幅を減少させるための構造体の減衰という２つのアプローチにより管理されている。これらの解決策と共に、アコースティック技術を用いて、例えば、自動車のキャビンの乗客まで届く前に音波をその供給源から吸収、反射及び分離することができる。

構造的な減衰アプローチは、補強又は拘束キャリア材料及び減衰材料を含む減衰テープ又は積層体の適用を含むことができる。これらの拘束及び減衰材料は、典型的に振動エネルギーを吸収して散逸させるように構造体に貼り付けることが可能な積層配列で構成される。しかし、所望の振動減衰の特徴を達成するためには、これら減衰テープは比較的太く、高価な接着剤を多量に含み、適用されるシステムの重量全体を著しく増加し得る。したがって、振動低減が改善された、及び／又は費用効率の高い、及び重量効率の高い資材所要量が減少した減衰積層体が依然として求められている。

一実施形態において、本発明は、約２００Ｈｚでの複合損失係数が約０．０５を超える多層減衰積層体に関する。多層減衰積層体は、約５μｍ〜約３０００μｍの範囲の厚さを有し得る少なくとも１つの拘束層を含む。多数の実施形態において、少なくとも１つの拘束層は金属を含む。多層減衰積層体は、約２μｍ〜約５０００μｍの範囲の厚さを有する不連続減衰層をさらに含むことができる。多数の実施形態において、不連続減衰層は、少なくとも１つの拘束層に直接隣接する。不連続減衰層は、１つ以上の減衰材料領域及び１つ以上のギャップ領域を含むことができ、ここで、１つ以上の減衰材料領域による不連続減衰層のカバレッジの割合は、約９９％未満である。多数の実施形態において、１つ以上の減衰材料領域による不連続減衰層のカバレッジの割合は、９０％未満である。他の実施形態において、１つ以上の減衰材料領域による不連続減衰層のカバレッジの割合は、約８０％未満である。多数の実施形態において、１つ以上の減衰材料領域による不連続減衰層のカバレッジの割合は、約７０％未満である。また、他の実施形態において、１つ以上の減衰材料領域によるカバレッジの割合は、約５０％を超える。多数の実施形態において、１つ以上のギャップ領域の平均幅は、約０．２００ｃｍ未満である。多数の実施形態において、多層減衰積層体は、少なくとも１つの拘束層に対向する第１の減衰層に接続されたライナー層をさらに含む。多数の実施形態において、不連続減衰層は、第１の不連続減衰層であり、少なくとも１つの拘束層は、内部拘束層であり、多層減衰積層体は、少なくとも１つのさらなる不連続減衰層及び外部拘束層をさらに含む。一部の実施形態において、内部拘束層の少なくとも一部が、第１の不連続減衰層と少なくとも１つのさらなる不連続減衰層との間に配置されてもよく、少なくとも１つのさらなる不連続減衰層の少なくとも一部が、内部拘束層と外部拘束層との間に配置されてもよい。多数の実施形態において、少なくとも１つのさらなる不連続減衰層は、１つ以上のさらなる不連続層減衰材料領域及び１つ以上のさらなる不連続減衰層のギャップ領域を含む。１つ以上のさらなる不連続減衰層の減衰材料領域による外部拘束層のカバレッジの割合は、約９９％未満であってもよい。

他の実施形態において、本発明は上述のような多層減衰積層体を含むシステムに関する。前記システムは、多層減衰積層体の不連続減衰層に接続されたベース基板をさらに含む。

他の実施形態において、本発明は、ベース基板の振動を減少させる方法に関する。前記方法は、振動を受けるベース基板を提供するステップを含む。前記方法は、さらに、ベース基板を上述した多層減衰積層体の不連続減衰層に接続するステップを含む。

本発明は、添付の図面を参照し、同様の図面符号は、同様の部分を示す。

開示している多層減衰積層体の不連続減衰層における１つ以上の減衰材料領域、及び１つ以上のギャップ領域の例示的な構成を示す。 従来の多層拘束層減衰積層体、及び不連続減衰層を有する２つの多層拘束層減衰積層体の側面図を示す。 図１の積層体の複合損失係数のグラフである。 １．０００ｃｍの減衰領域幅、及び０．２００ｃｍのギャップ領域幅を有する少なくとも１つの不連続減衰層の上面図を示す。 ０．５０ｃｍの減衰領域幅、及び０．１００ｃｍのギャップ領域幅を有する少なくとも１つの不連続減衰層の上面図である。 ０．２５０ｃｍの減衰領域幅、及び０．０５ｃｍのギャップ領域幅を有する少なくとも１つの不連続減衰層の上面図を示す。 厚さ５ｍｉｌの少なくとも１つの不連続減衰層をそれぞれ有する、図３〜図５の積層体の複合損失係数のグラフである。 厚さ２ｍｉｌの少なくとも１つの不連続減衰層をそれぞれ有する、図３〜図５の積層体の複合損失係数のグラフである。

本発明は、一般に、例えば振動を受けるベース基板上に採用される場合、積層体に含まれる減衰材料の量を減少させると共に、有利な剛性（ｓｔｉｆｆｎｅｓｓ）の改善及び振動の減少を提供する多層減衰積層体に関する。例えば、フレキシブル又は非硬性（ｎｏｎ‐ｒｉｇｉｄ）構造体に対して、構造体の任意の振動の周波数及び／又は振幅を最小化することが有益である。このような振動の低減は、構造体の安定性を有益に高め、疲労及び応力を減少させ、作動寿命を延ばし、騒音の発生又は車両の乗客の不快感等、好ましくない振動による副作用を減少させる。

従来、積層体又はテープ等の減衰処理は、振動する構造体に貼り付けられるように構成された拘束要素及び減衰要素を含む。拘束層減衰処理と称されるこれらの処理は、処理が貼り付けられている構造体で観察される振動の発生及び強度を減少させることができる。しかし、これら従来の積層体では、前記処理の拘束層及び減衰層は、通常、前記補強層及び減衰層が互いに実質的に同一空間を占める積層構成において共に適用される。即ち、従来の拘束された減衰装置の層は、それぞれ均一な厚さを有し、意図的な孔又はギャップを有さない材料の実質的に連続したシートであり得る。

多層減衰積層体において不連続減衰層を使用することで、減衰性能が驚くほど有利に改善できる。特に、層の１つ以上の減衰材料領域が積層体の拘束層の完全なカバレッジを提供しないように、減衰層が１つ以上のギャップ領域で構成される場合、拘束層減衰積層体の有効性及び効率性が向上し得るということが見出されている。また、開示している減衰層の不連続特性により、より少ない減衰材料を用いて製造することができる。これは、これら減衰処理の製造コストを有利に削減する上で大きな影響を与え得る。材料の減少により、エンドユーザーが構造体を減衰するにあたり向上した効果を達成できる一方、構造体の単位表面積当たりに適用される減衰製品の総質量を減少させることができる。

不連続減衰層
一実施形態において、改善した減衰性能を有する多層減衰積層体が開示されている。減衰積層体及びその構成要素である減衰層の減衰性能は、これらの複合損失係数（ＣＬＦ）特性の観点から説明できる。材料又は装置の複合損失係数は、振動エネルギーを熱エネルギーに転換する能力の尺度である。一般的な実行では、高度に減衰されるものとして選択された個別の層の材料又は組成物は、０．８以上の複合損失係数を有することができる。層状構造物において、構造物全体の複合損失係数の合計は、一般に０．０５以上の値で効果的であるとみなされる。多層減衰積層体の複合損失係数は、例えば、標準プロトコルＡＳＴＭ Ｅ７５６‐０５（２０１７）に記載のように決定できる。本明細書に記載の開示された多層減衰積層体は、約０．０５０超、例えば、約０．０６０超、約０．０７０超、約０．０８０超、約０．０９０超、約０．１００超、約０．２００超、約０．３００超、約０．４００超、又は約０．５００超の２００Ｈｚにおける複合損失係数を有することができる。

多数の実施形態において、多層減衰積層体は、少なくとも１つの拘束層及び少なくとも１つの不連続減衰層を含む。不連続減衰層は、１つ以上の減衰材料領域及び１つ以上のギャップ領域を含む。減衰材料領域は、高い弾性、非弾性、粘性及び／又は粘弾性のため選択された１つ以上の減衰材料をそれぞれ含む非連続減衰層の部分である。ギャップ領域は、減衰材料領域のものより低い弾性、非弾性、粘性及び／又は粘弾性を有する１つ以上の材料をそれぞれ含んでもよい不連続減衰層の部分である。減衰層の１つ以上のギャップ領域それぞれは、１つ以上の減衰材料領域、不連続減衰層の１つ以上のエッジ、又はこれらの組み合わせにより結合され得る。減衰層に１つ以上のギャップ領域が存在することにより、１つ以上の減衰材料領域は、少なくとも１つの拘束層の不完全なカバレッジを提供することになり、例えば、減衰材料領域は、少なくとも１つの拘束層と実質的に同一の空間を占めない。本明細書で用いられる、「カバレッジ」及び「カバレッジの割合」という用語は、拘束層の平面に対する減衰層領域の突出部によって覆われる拘束層領域の割合を示す。これは、多層減衰積層体における材料の低減及びその結果としての質量の減少という利点につながる。また、所定の不連続減衰積層体層の構成は、減衰性能の向上という驚くほど有利な利点を提供する。

例えば、減衰材料領域による不連続減衰層のカバレッジの割合は、約５０％〜約９９％、例えば、約６０％〜約９０％、約７０％〜約８６％、約７２％〜約９０％、約７５％〜約９３％、約７８％〜約９６％、又は約８０％〜約９９％の範囲であり得る。上限に関しては、減衰材料領域による少なくとも１つの拘束層のカバレッジの割合は、約９９％未満、例えば、約９６％未満、約９３％未満、約９０％未満、約８６％未満、約８３％未満、約８０％未満、約７８％未満、約７５％未満、又は約７２％未満であり得る。下限に関しては、減衰材料領域による少なくとも１つの拘束層のカバレッジの割合は、約５０％超、例えば、約５５％超、約６０％超、約６５％超、約７０％超、約７２％超、約７５％超、約７８％超、約８０％超、８３％超、約８６％超、約９０％超、約９３％超、又は約９６％超であり得る。また、減衰材料領域による少なくとも１つの拘束層のカバレッジの割合は、９０％以下であり得る。また、より高いカバレッジの割合、例えば、約９９％超、及び、より低いカバレッジの割合、例えば、５０％未満も考慮される。より高いカバレッジの割合、及びより低いカバレッジの割合に対する限界は、特定の幾何学的構造、厚さ、及び接着剤レオロジーを含むファクターによって変動し得るが、これらに限定されない。

不連続減衰層の減衰材料領域及びギャップ領域の数と形状は、大きく変わり得る。一部の態様において、減衰層は、パターン又は他の構成を提供してもよい。所定の態様において、減衰層は、小さな領域幅を維持するために、１つ以上の蛇行状（図１Ａ）又は螺旋状（図１Ｂ）の構成で共に配列される単一の減衰材料領域及び単一のギャップ領域を含む。例えば、減衰材料領域は、ギャップ領域内で蛇行状を有することができ、又はギャップ領域は、減衰領域内で蛇行状を有することができ、また、他の例では、減衰材料領域は、ギャップ領域内に１つ以上の螺旋状の部分を有することができ、又は、ギャップ領域は、減衰材料領域内に１つ以上の螺旋状の部分を有することができる。所定の態様において、減衰層は、単一の減衰材料領域及び多重ギャップ領域を含む。単一の減衰材料領域及び多数のギャップ領域は、例えば、減衰材料領域がハッチングの境界を形成し、ギャップ領域が、ハッチングの内部を形成するクロスハッチ構成（ｃｒｏｓｓｈａｔｃｈｅｄ ｃｏｎｆｉｇｕｒａｔｉｏｎ）に配列できる。他の態様において、減衰層は、代わりにパターン又は他の構成がなくてもよい。この非パターンにおいては、不規則な形状及び／又は間隔を有するギャップ及び減衰材料領域があってもよい。他の実施形態において、構成／割当てと非パターンの両方の組み合わせがあってもよい。代案として、不連続減衰層の減衰領域及びギャップ領域に対するパターンの形状は、次の方法で一般化できる。１）減衰領域は、不連続減衰層の無限に多くの分離サブセットＤｉの連合体であり得、ギャップ領域は、無限に多くの分離サブセットＤｉの補完体であり得る。又は、２）代案として、ギャップ領域は、不連続減衰層の無限に多くの分離サブセットＧｉの連合体であり得、減衰領域は、無限に多くの分離サブセットＧｉの連合体であり得る。これらのシナリオでは、ｉは１〜無限大の範囲のインデックス変数である。また、分離サブセットＤｉ（又はＧｉ）は閉鎖されて接続され、又は、閉鎖されて局部的に接続され得る。さらに、分離サブセットＤｉ（又はＧｉ）は、無限に多くの非分離の空ではない接続されたサブセットの連合体であり得る。接続されたサブセットＤｉ（又はＧｉ）の例を以下に示す。サブセットＤｉは、凸、凹、等辺、等角、球形、無限辺形（ａｐｅｒｉｏｇｏｎ）、自己交差型（ｓｅｌｆ‐ｉｎｔｅｒｓｅｃｔｉｎ）、又は抽象的ポリトープのユークリッド実現物（Ｅｕｃｌｉｄｅａｎ ｒｅａｌｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ ａｎ ａｂｓｔｒａｃｔ ｐｏｌｙｔｏｐｅ）であり得る任意のｎ辺の多角形であり得る。ここで、ｎは多角形の辺の数であり、範囲は、１〜無限大であり得る。例として、任意の凸正多角形、等辺等角の（ｒｅｇｕｌａｒ）又は斜めの（ｓｋｅｗｅｄ）平行四辺形を含み得る等辺等角の、又は斜めの四辺形、台形、菱形、凧形、自己交差四辺形（ｓｅｌｆ‐ｉｎｔｅｒｓｅｃｔｉｎｇ ｑｕａｄｒｉｌａｔｅｒａｌ）、逆平行四辺形、星型多角形、逆矩形（ｃｒｏｓｓｅｄ ｒｅｃｔａｎｇｌｅ）、サッケーリの四角形（Ｓａｃｃｈｅｒｉ ｑｕａｄｒｉｌａｔｅｒａｌ）、及び、凸又は凹であり得る任意の閉じられたユークリッドセットが挙げられるが、これらに限定されない。サブセットＤｉ（又はＧｉ）は、ある方法では交点が共集合であるように任意のパターンで配列できる。例として、いくつかだけ挙げると、ギャップ領域によって分離されたＤｉ（又は減衰領域によって分離されたＧｉ）の並列積層、ユークリッドタイリング（Ｅｕｃｌｉｄｅａｎ ｔｉｌｉｎｇ）、均一なタイリング、非周期的タイリング、螺旋型タイリング、凸又は凹の均一なタイリングが挙げられるが、これらに限定されない。

所定の態様において、減衰層は単一のギャップ領域及び多数の減衰材料領域を含む。単一のギャップ領域及び多数の減衰材料領域は、例えば、ギャップ材料領域がハッチングの境界を形成し、減衰材料領域がハッチングの内部を形成するクロスハッチング構成（図１Ｃ）で配列できる。他の例において、減衰材料領域はハッチングの境界を形成し、ギャップ領域はハッチングの内部を形成する。所定の態様において、減衰層はチェッカーボード状パターン（図１Ｄ）、一連の直線（図１Ｅ）、角張ったジグザグ（図１Ｆ）、曲線、円、又は多角形の任意の組み合わせで共に配列された多数の減衰材料領域と多数のギャップ領域とを含む。１つ以上の減衰材料領域及び１つ以上のギャップ領域の配列は、１つ以上の繰り返しブロックのパターンであってもよく、又はこのようなパターンがなくてもよい。一部の実施形態において、減衰材料領域は、実質的にランダムな構成を有し得る。

一部の実施形態において、及び図１Ｅに示すように、不連続減衰層の減衰材料領域及びギャップ領域は、互いに実質的に平行な、実質的に矩形の形状を有する。減衰材料領域の矩形形状は、同じか又は異なる平均幅を有することができる。減衰材料領域の矩形形状は、同じか又は異なる長さを有することができる。ギャップ領域の矩形形状は、同じか又は異なる幅を有することができる。ギャップ領域の矩形形状は、同じか又は異なる長さを有することができる。振動を受ける構造体又は基板の表面に適用される場合、減衰材料領域は、例えば、構造体又は基板に対して実質的に平行か又は実質的に垂直であり得る。例えば、開示している減衰積層体が振動ビームに適用される場合、積層体の不連続減衰層の減衰材料領域は、ビームに対して実質的に平行か又は実質的に垂直であり得る。

本明細書で用いるように、領域の幅に関する言及は、領域の長さ方向の境界上の地点から領域の反対側の境界上の最も近い地点までの距離を示すために用いられ、ここで、長さ方向の境界は、最も長い経路の長さを有する境界である。本明細書で用いるように、領域の平均幅に関する言及は、長さ方向の境界に沿った全ての地点で測定したときの幅の平均を示すために用いられる。本明細書で用いるように、多数の領域の平均幅に関する言及は、これらの全ての領域の平均幅の平均を示すために用いられる。例えば、不連続減衰層の１つ以上のギャップ領域の平均幅は、減衰層におけるそれぞれのギャップ領域の平均幅の平均である。

不連続減衰層のギャップ領域の平均幅は、例えば、約０．００５ｃｍ〜約１．０００ｃｍ、例えば、約０．０１０ｃｍ〜約０．９００ｃｍ、約０．０１０ｃｍ〜約０．８００ｃｍ、約０．０１０ｃｍ〜約０．７００ｃｍ、約０．０１０ｃｍ〜約０．６００ｃｍ、約０．０１０ｃｍ〜約０．５００ｃｍ、約０．０１０ｃｍ〜約０．４００ｃｍ、約０．３００ｃｍ〜約０．１２４ｃｍ、約０．０１０ｃｍ〜約０．２００ｃｍ、例えば、約０．０１０ｃｍ〜約０．１２４ｃｍ、約０．０２９ｃｍ〜約０．１４３ｃｍ、約０．０４８ｃｍ〜約０．１６２ｃｍ、約０．０６７ｃｍ〜約０．１８１ｃｍ、又は約０．０８６ｃｍ〜約０．２００ｃｍの範囲であり得る。上限に関しては、ギャップ領域の平均幅は、約０．２００ｃｍ未満、例えば、約０．１８１ｃｍ未満、約０．１６２ｃｍ未満、約０．１４３ｃｍ未満、約０．１２４ｃｍ未満、約０．１０５ｃｍ未満、約０．０８６ｃｍ未満、約０．０６７ｃｍ未満、約０．０４８ｃｍ未満、又は約０．０２９ｃｍ未満であり得る。下限に関しては、ギャップ領域の平均幅は、０．０１０ｃｍ超、例えば、約０．０２９ｃｍ超、約０．０４８ｃｍ超、約０．０６７ｃｍ超、約０．０８６ｃｍ超、約０．１０５ｃｍ超、約０．１２４ｃｍ超、約０．１４３ｃｍ超、約０．１６２ｃｍ超、又は約０．１８１ｃｍ超であり得る。また、さらに大きな幅、例えば、約０．２００ｃｍ超、及びさらに小さな幅、例えば、約０．０１０ｃｍ未満も考慮される。

不連続減衰層の減衰材料領域の平均幅は、例えば、約０．０５０ｃｍ〜約１．０００ｃｍ、例えば、約０．０５０ｃｍ〜約０．９００ｃｍ、約０．０５０ｃｍ〜約０．８００ｃｍ、約０．０５０ｃｍ〜約０．７００ｃｍ、約０．０５０ｃｍ〜約０．６２０ｃｍ、約０．１４５ｃｍ〜約０．７１５ｃｍ、約０．２４０ｃｍ〜約０．８１０ｃｍ、約０．３３５ｃｍ〜約０．９０５ｃｍ、又は約０．４３０ｃｍ〜約１．０００ｃｍの範囲であり得る。上限に関しては、減衰材料領域の平均幅は、約１．０００ｃｍ未満、例えば、約０．９０５ｃｍ未満、約０．８１０ｃｍ未満、約０．７１５ｃｍ未満、約０．６２０ｃｍ未満、約０．５２５ｃｍ未満、約０．４３０ｃｍ未満、約０．３３５ｃｍ未満、約０．２４０ｃｍ未満、又は約０．１４５ｃｍ未満であり得る。下限に関しては、減衰材料領域の平均幅は、約０．０５０ｃｍ超、例えば、約０．１４５ｃｍ超、約０．２４０ｃｍ超、約０．３３５ｃｍ超、約０．４３０ｃｍ超、約０．６２０ｃｍ超、約０．７１５ｃｍ超、約０．８１０ｃｍ超、又は約０．９０５ｃｍ超であり得る。不連続減衰層の減衰材料領域の平均幅は、例えば、約１．０００ｃｍ以下であり得る。また、さらに大きな幅、例えば、約１．０００ｃｍ超、及びさらに小さな幅、例えば、約０．０５０ｃｍ未満も考慮される。

不連続減衰層の厚さは、例えば、約２μｍ〜約５０００μｍ、例えば、約２μｍ〜約２２０μｍ、約４．４μｍ〜約４８０μｍ、約９．６μｍ〜約１０００μｍ、約２１μｍ〜約２３００μｍ、又は約４６μｍ〜約５０００μｍの範囲であり得る。上限に関しては、不連続減衰層の厚さは、約５０００μｍ未満、例えば、約２３００μｍ未満、約１０００μｍ未満、約４８０μｍ未満、約２２０μｍ未満、約１００μｍ未満、約４６μｍ未満、約２１μｍ未満、約９．６μｍ未満、又は約４．４μｍ未満であり得る。下限に関しては、不連続減衰層の厚さは、約２μｍ超、約４．４μｍ超、約９．６μｍ超、約２１μｍ超、約４６μｍ超、約１００μｍ超、約２２０μｍ超、約４８０μｍ超、約１０００μｍ超、又は約２３００μｍ超であり得る。また、さらに厚い厚さ、例えば、約５０００μｍ超、及びさらに薄い厚さ、例えば、約２μｍ未満も考慮される。

一部の実施形態において、それぞれの減衰材料領域の減衰材料は、弾性、非弾性、粘性及び／又は粘弾性材料を含むことができる。例えば、減衰材料は圧縮可能であり得、且つ復元力を含むことができる。一態様において、減衰材料は、ゴム、プラスチック、例えば、ナイロン、皮革、繊維、発泡体、スポンジ、ゲル等を含むことができる。一部の実施形態において、減衰材料は、１つ以上の接着剤を含む。一部の実施形態において、減衰材料は、１つ以上の感圧接着剤を含む。多数の実施形態において、接着剤はアクリル、ゴム、シリコーン、ハイブリッド、ブチル、ポリウレタン、オレフィン、ポリエステル又はこれら接着剤の組み合わせであり得る。

一部の実施形態において、減衰材料は、１つ以上のシリコーン接着剤を含むことができる。シリコーン接着剤は、ポリジメチルシロキサン、ポリジメチル／メチルビニルシロキサン、ポリジメチル／メチルフェニルシロキサン、ポリジメチル／ジフェニルシロキサン、及びこれらの混合物等のポリオルガノシロキサン分散液又はゴムを含むことができる。シリコーン接着剤は、ＭＱ樹脂又は樹脂混合物等のシリコーン樹脂を含むことができる。市販のこれらのシリコーン接着剤組成物の非限定的な例としては、いずれもＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ（米国ミシガン州ミッドランド所在）社から入手可能な接着剤７６５１、７６５２、７６５７、Ｑ２‐７４０６、Ｑ２‐７５６６、Ｑ２‐７７３５及び７９５６、Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ（米国ニューヨーク州ウォーターフォード所在）社から入手可能なＳＩＬＧＲＩＰ（商標）ＰＳＡ５１８、５９０、５９５、６１０、９１５、９５０及び６５７４、Ｓｈｉｎ‐Ｅｔｓｕ Ｓｉｌｉｃｏｎｅ（米国オハイオ州アクロン所在）社から入手可能なＫＲＴ‐００９及びＫＲＴ‐０２６が挙げられる。

他の実施形態において、減衰材料は、１つ以上のゴム系接着剤を含むことができる。ゴム系接着剤は、スチレンブロックコポリマーと多様な粘着性樹脂、オイル、フィラー、顔料及び酸化防止剤の組み合わせから構成される。多様なゴム製剤が本発明の主題であるテープの接着剤に使用できる。好ましいゴム製剤の非限定的な例としては、スチレン‐ブタジエン（ＳＢ）、スチレン‐ブタジエン‐スチレン（ＳＢＳ）、スチレン‐イソプレン（ＳＩ）、スチレン‐イソプレン‐スチレン（ＳＩＳ）、ランダムスチレン‐ブタジエン（ＳＢＲ）、スチレン‐ブタジエン‐イソプレンマルチブロック（ＳＢＩＢＳ）、又はポリイソプレンのポリマー又はコポリマーが挙げられるが、これらに限定されない。一部の実施形態において、完全に及び部分的に水素化したゴム製剤を使用することができる。上述のこれら製剤の組み合わせも使用することができる。市販の好ましいスチレン‐ブタジン‐スチレン（ＳＢＳ）の例としては、Ｋｒａｔｏｎ ＰｅｒｆｏｒｍａｎｃｅＰｏｌｙｍｅｒｓ社製のＫＲＡＴＯＮ Ｄ１１０１及びＫＲＡＴＯＮ Ｄ１１１８、Ｄｅｘｃｏ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社製のＶＥＣＴＯＲ ２５１８Ｄが挙げられる。好ましいスチレン‐イソプレン‐スチレン（ＳＩＳ）の例としては、ＫＲＡＴＯＮ Ｄ１１０７Ｐ及びＶｅｃｔｏｒ ４１１Ａが挙げられる。好ましいスチレン‐ブタジエン‐イソプレンマルチブロック（ＳＢＩＢＳ）の例は、ＫＲＡＴＯＮ Ｓ６４５５である。Ｋｒａｔｏｎ ＧＲＰ‐６９２４は、水素化スチレンブロックコポリマーの例である。本発明の主題に使用される接着剤組成物のスチレン‐ブタジエンコポリマーの成分は、一般的な構成：Ａ‐Ｂ‐Ａ又はＡ‐Ｂ‐Ａ‐Ｂ‐Ａ‐Ｂ‐（ここで、非エラストマーポリマーブロックＡはスチレンであり、エラストマーポリマーブロックＢはブタジエン、又は部分的に又は実質的に水素化したブタジエンである）を有するブロック又はマルチブロックコポリマーであってもよい。ポリマーブロックは、直鎖状又は分岐状であってもよい。典型的な分岐状構造は、中央ハブから放射状に広がり得るか、又はそうでなければ共に結合し得る少なくとも３つの分岐を有するエラストマー部分を含有してもよい。

さらに、少なくとも１つのシリコーン接着剤及び少なくとも１つのゴム接着剤の組み合わせが、減衰材料に使用されてもよい。

他の実施形態において、減衰材料は多様な固体樹脂を含むことができる。本明細書で使用する「固体樹脂」という用語は、室温／周囲の温度（約２３℃）において固体であり、接着剤の他の成分と相溶性のある任意の樹脂を表す。その非限定的な例としては、Ｃ５〜Ｃ９等の脂肪族炭化水素、水素化エステルロジン、部分水素化エステルロジン、芳香族変性エステル樹脂、ペンタエリスリトール樹脂、水素化ペンタエリスリトール樹脂、テルペン樹脂、グリセロールエステルロジン樹脂、ペンタエリスリトールトール油、テルペンフェノール、グリセロールエステルロジン樹脂、及びこれらの組み合わせが挙げられる。固体樹脂として使用される好ましい脂肪族炭化水素の非限定的な例としては、Ｅｘｘｏｎ Ｍｏｂｉｌｅ社製のＥＳＣＯＲＥＺ １３１０及びＥＳＣＯＲＥＺ ２１０１が挙げられる。好ましい水素化エステルロジンの例は、Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ等の幾つかのサプライヤーから入手可能なＦＯＲＡＬ ８５、及びＰｉｎｏｖａ社製のＨＥＲＣＯＬＹＮＤである。好ましい部分水素化エステルロジンの例は、Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製のＦＯＲＡＬＹＮである。好ましい芳香族変性エステル樹脂の例は、Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製のＰＩＣＣＯＴＡＣ ７５９０である。好ましいペンタエリスリトール樹脂の例は、Ｐｉｎｏｖａ社製のＰＥＸＡＬＹＮ ９１００である。好ましい水素化ペンタエリスリトール樹脂の例は、Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製のＰＥＮＴＡＬＹＮ Ｈである。好ましいペンタエリスリトールトール油樹脂の例は、Ａｒｉｚｏｎａ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製のＳＹＬＶＡＬＩＴＥ ＲＥ １０５Ｌである。好ましいテルペンフェノールの例は、Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製のＰＩＣＣＯＬＹＴＥ Ａ１１５である。市販のグリセロールエステルガムロジン樹脂の例は、Ｒｅｓｉｎａｌｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社から商業的に入手可能なＲＥＳＩＮＡＬＬ ６２５である。

また他の実施形態において、減衰材料はまた、本発明の主題であるシールテープの接着剤に使用される多様な液体樹脂を含んでもよい。本明細書で使用する「液体樹脂」という用語は、室温／周囲の温度（約２３℃）において液体であり、接着剤の他の成分と相溶性のある任意の樹脂を表す。多様な液体樹脂が、本発明の主題であるシールテープの接着剤に使用できる。これらの液体樹脂の非限定的な例としては、水素化樹脂エステル、テルペン樹脂、例えば、Ｃ５炭化水素等の低分子量炭化水素、及びこれらの組み合わせが挙げられる。好ましいテルペン樹脂の例は、Ａｒｉｚｏｎａ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社から入手可能なＳＹＬＶＡＲＥＳ ＴＲ Ａ２５である。好ましいＣ５炭化水素の例は、多数のサプライヤーから入手可能なＷＩＮＧＴＡＣ １０である。本発明の主題であるシールテープの接着剤の使用に適した変性ロジン樹脂の例は、水素化ロジンのエステルであるＳＴＡＹＢＥＬＩＴＥ‐ＥＥＳＴＥＲ ３‐Ｅである。ＳＴＡＹＢＥＬＩＴＥ‐Ｅは、Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社から入手可能である。

さらに、少なくとも１つの液体樹脂と少なくとも１つの固体樹脂との組み合わせが、減衰材料に使用され得る。

多数の実施形態において、減衰材料領域は感圧接着剤を含む。一部の実施形態において、減衰層及び結合層は、ブチルゴム又はポリイソブチレン系感圧接着剤を含むことができる。これらの接着剤は、多様な分子量のブチルゴム又はポリイソブチレンポリマー若しくはオリゴマーの混合物から調合できる。これらの接着剤を調合するのに有用なブチルゴムのグレードの非限定的な例としては、Ｅｘｘｏｎ Ｍｏｂｉｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製のＥｘｘｏｎ Ｂｕｔｈｙｌ ０６５、Ｂｕｔｙｌ ３６５、Ｃｈｌｏｒｏｂｕｔｙｌ １０６５、Ｃｈｌｏｒｏｂｕｔｙｌ １０５５、Ｂｒｏｍｏｂｕｔｙｌ ２２２２及びＥｘｏｎ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｅｌａｓｔｏｍｅｒ ３４３３、及びＢＡＳＦ社製のポリイソブチレンのグレードのＯｐｐａｎｏｌ Ｎ５０が挙げられる。これらのポリマーは、しばしば、ＴＰＣ Ｇｒｏｕｐ社製のＴＰＣ ７５０、ＴＰＣ １６００又はＴＰＣ ３５００等の低分子量グレードのポリイソブチレンと混合される。さらに、これらの接着剤は、Ｃ５‐Ｃ９炭化水素粘着付与剤だけでなく、ポリテルペン樹脂を含む多種多様な粘着付与樹脂と調合できる。好ましい炭化水素粘着付与樹脂としては、Ｅｘｘｏｎ Ｍｏｂｉｌ社から入手可能なＥＳＣＯＲＥＺ １３１０及びＥＳＣＯＲＥＺ ２１０１が挙げられる。ポリテルペン樹脂の例としては、Ｐｉｎｏｖａ社から入手可能なＰｉｃｃｏｌｙｔｅ Ａ１１５及びＰｉｃｃｏｌｙｔｅ Ｓ２５が挙げられる。また、前記で挙げた成分以外に、ブチルゴム及びポリイソブチレン系接着剤は、可塑化オイル、酸化防止剤、顔料及びフィラー等の添加剤を含み得るが、これらに限定されない。ブチル及びハロ‐ブチルゴム系接着剤の場合、架橋を可能とする硬化剤が添加されてもよい。これらの架橋剤の例としては、酸化亜鉛、フェノール樹脂、及び当業界で公知のその他のものがある。これら及び他の添加剤の例は、「Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｐｒｅｓｓｕｒｅ Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ Ａｄｈｅｓｉｖｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｃｈａｐｔｅｒ１４，Ｈｉｇ Ｇｉｎｓ，Ｊ．Ｊ．ｅｔａｌ．」から得ることができる。

一部の場合において、減衰材料は、アクリル系又はシリコーン系モノマーを含むことができる。一部の実施形態において、減衰材料は、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、２‐エチルヘキシルアクリレート、アクリル酸イソオクチル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸イソノニル、アクリル酸イソデシル、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メチルブチルアクリレート、４‐メチル‐２‐ペンチルアクリレート、メタクリル酸ブチル、２‐エチルヘキシルメタクリレート、及びメタクリル酸イソオクチルからなる群から選択される１つ以上のアクリル系モノマーを含む。有用なアクリル酸アルキルエステルとしては、ｎ‐ブチルアクリレート、２‐エチルヘキシルアクリレート、アクリル酸イソオクチルが挙げられる。一実施形態において、アクリル酸エステルモノマーは、酢酸ビニル、酪酸ビニル、プロピオン酸ビニル、イソ酪酸ビニル、吉草酸ビニル、バーサチック酸ビニル等のビニルエステルの存在下で重合される。ビニルエステルは、アクリレート主鎖を形成するモノマーの総重量に対して約３５重量％以下の総量で存在することができる。一実施形態において、アクリル酸エステルモノマーは、不飽和カルボン酸と共重合される。これらの中でも不飽和カルボン酸は、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、β‐カルボキシエチルアクリレート等を含むことができる。

一部の実施形態において、減衰材料は、シロキサン、シラン及びシラトラングリコールからなる群から選択される１つ以上のシリコーン系モノマーを含む。一部の実施形態において、減衰材料は、１，４‐ビス［ジメチル［２‐（５‐ノルボルネン‐２‐イル）エチル］シリル］ベンゼン、１，３‐ジシクロヘキシル‐１，１，３，３‐テトラキス（ジメチルシリルオキシ）ジシロキサン、１，３‐ジシクロヘキシル‐１，１，３，３‐テトラキス（ジメチルビニルシリルオキシ）ジシロキサン、１，３‐ジシクロヘキシル‐１，１，３，３‐テトラキス［（ノルボルネン‐２‐イル））エチルジメチルシリルオキシ］ジシロキサン、１，３‐ジビニルテトラメチルジシロキサン、１，１，３，３，５，５‐ヘキサメチル‐１，５‐ビス［２‐（５‐ノルボルネン‐２‐イル））エチル］トリシロキサン、１，１，３，３‐テトラメチル‐１，３‐ビス［２‐（５‐ノルボルネン‐２‐イル）エチル］ジシロキサン、２，４，６，８‐テトラメチル‐２，４，６，８‐テトラビニルシクロテトラシロキサン、Ｎ‐［３‐（トリメトキシシリル）プロピル］‐Ｎ’‐（４‐ビニルベンジル）エチレンジアミン、及び３‐［トリス（トリメチルシロキシ）シリル］プロプルビニルカルバメートからなる群から選択される１つ以上のシリコーン系モノマーを含む。

一部の場合において、減衰材料は、シリコーンポリマー、アクリルポリマー又はメタクリル酸ポリマーを含むことができる。好ましいアクリルポリマーとしては、いずれもＡｖｅｒｙ Ｄｅｎｎｉｓｏｎ（米国カリフォルニア州グレンデール所在）社から入手可能なＳ２０００Ｎ、Ｓ６９２Ｎ、ＡＴ２０Ｎ、ＸＰＥ １０４３、ＸＰＥ １０４５、及びＢＡＳＦ（米国ニュージャージー州フローハムパーク所在）社から入手可能なＨ９２３２が挙げられるが、これらに限定されない。一実施形態において、アクリルポリマー組成物は、ポリマーの乾燥重量で約３０重量％以下の量で、スチレン‐イソプレン‐スチレン（ＳＩＳ）、スチレン‐エチレンブチレン‐スチレン（ＳＥＢＳ）等のマルチブロックコポリマーと混合される。有用なトリブロックの例は、Ｋｒａｔｏｎ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｉｎｃ．（米国テキサス州ヒューストン所在）社から入手可能である。マルチブロックポリマーは、アクリル組成物の減衰ピーク及び他の物理的特性を変更するのに有用であり得る。他の減衰材料は、ゴムポリマーを含んでもよい。好ましいゴムポリマーとしては、エラストマー、ブチルゴム、スチレンブロックコポリマー（例えば、Ｋｒａｔｏｎ社製ＳＢＣとして公知）、シリコーンゴム、ニトリルゴム、イソプレン、ブタジエンが挙げられるが、これらに限定されない。一部の実施形態において、ゴムポリマー組成物は、アクリルポリマー及び／又はアクリルポリマーと混合されてもよい。

多様な官能基を減衰材料のポリマーに取り入れることができる。官能基は、アクリル系モノマー又はシリコン系モノマーで形成されたポリマーに、例えば、末端セグメントとして取り入れることができる。代表的な官能基としては、ヒドロキシ、エポキシ、シアノ、イソシアネート、アミノ、アリールオキシ、アリアルコキシ、オキシム、アセト、エポキシエーテル及びビニルエーテル、アルコキシメチロール、環状エーテル、チオール、ベンゾフェノン、アセトフェノン、アシルホスフィン、チオキサントン及びベンゾフェノン、アセトフェノン、アシルホスフィン及びチオキサントンの誘導体が挙げられるが、これらに限定されない。

水素結合能を有する官能基は公知となっており、カルボキシル、アミド、ヒドロキシル、アミノ、ピリジル、オキシ、カルバモイル及びこれらの混合物を含む。一部の実施形態において、減衰材料のアクリルポリマー骨格としては、極性コモノマーのビニルピロリドン及びアクリル酸が挙げられる。水素結合官能性を有する他のモノマーの例としては、メタクリル酸、ビニルアルコール、カプロラクトン、エチレンオキシド、エチレングリコール、プロピレングリコール、２‐ヒドロキシエチルアクリレート、Ｎ‐ビニルカプロラクタム、アセトアセトキシエチルメタクリレート等が挙げられる。

一部の実施形態において、減衰材料は、さらに架橋することのできる官能性を有する１つ以上のコモノマーを含む。架橋性コモノマーの例としては、（メタ）アクリル酸、２‐ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルメタクリレート、イタコン酸、アリルグリシジルエーテル等、及びその混合物が挙げられる。上述のような官能性部位は、ポリマー鎖を架橋するか、高い側鎖を骨格に付着するか、又はそのいずれにも使用できる。

減衰材料は、多様に変えることができる架橋剤をさらに含むことができる。好ましい架橋剤の例としては、多官能性アクリレート及びメタクリレート、例えば、ジアクリレート（エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート及びヘキサンジオールジアクリレート）、ジメタクリレート（エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート及び１，３‐ブタングリコールジメタクリレート）、トリアクリレート（トリメチロールプロパントリメタクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、及びペンタエリスリトールトリメタクリレート）、及びトリメタクリレート（ペンタエリスリトールトリメタクリレート及びトリメチロールプロパントリメタクリレート）だけでなく、ジビニルエステル、例えば、ジビニルベンゼン、コハク酸ジビニル、アジピン酸ジビニル、マレイン酸ジビニル、シュウ酸ジビニル及びマロン酸ジビニルが挙げられる。

シリコーン系マトリックスで架橋を形成するために、さらなる架橋制が採用できる。一部の実施形態において、ジベンゾイルパーオキサイド等のパーオキサイド架橋剤が好ましい。一部の実施形態において、架橋剤は水素化ケイ素官能性を含有する化合物である。これら架橋剤の非限定的な例としては、いずれもＰｅｒｇａｎ（ドイツ、ボホルト所在）社から入手可能なＰＥＲＯＸＡＮ ＢＰ ５０Ｗ、ＰＥＲＯＸＡＮ ＢＩＣ及びＰＥＲＯＸＡＮ Ｂｕ、Ａｒｋｅｍａ（米国ペンシルベニア州キングオブプロシア所在）社から商業的に入手可能なＬＵＰＥＲＯＸ（登録商標）Ａ７５及びＡ９８、Ａｋｚｏ Ｎｏｂｅｌ（米国イリノイ州シカゴ所在）社製のＰＥＲＫＡＤＯＸ（登録商標）ＣＨ−５０及びＰＤ５０ＳＰＳが挙げられる。架橋結合は、一般に使用される化学システムに応じて、加熱又はその他の技術によって容易となり、及び／又は促進することができる。

減衰材料に使用できる他の例示的な化学的架橋剤としては、触媒（例えば、ジラウリン酸ジブチルすず）を有する、又は有さない、ジ‐、トリ‐又はポリ‐イソシアネート、イオン性架橋剤、及びジ‐、トリ‐又は多‐官能性のアジリジンが挙げられるが、これらに限定されない。市販の化学架橋剤の非限定的且つ例示的な例としては、ＮＯＡＨ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ（米国テキサス州サンアントニオ所在）社から入手可能なアルミニウムアセチルアセトネート（ＡＡＡ）、ＤｕＰｏｎｔ（米国デラウェア州ウィルミントン所在）社から入手可能なＴＹＺＯＲ（商標）、Ｂａｙｅｒ（米国ペンシルベニア州ピッツバーグ所在）社から入手可能なＸＡＭＡ（商標）、及びＤｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社から入手可能なＰＡＰＩ（商標）及びＶＯＲＯＮＡＴＥ（商標）が挙げられる。

減衰材料は、任意に１つ以上の粘着付与剤又は樹脂を含むことができ、これらの粘着付与剤（使用される場合）は、非常に多様であり得る。一部の場合において、減衰材料の粘着付与剤は、単一の粘着付与剤を含む。別の場合には、粘着付与剤は、多数の粘着付与剤製品の混合物を含む。好ましい市販の粘着付与剤としては、例えば、Ｌｕｈｕａ（中国所在）社製のＨＤ１１００、ＨＤ１１２０、及びＥＸＸＯＮ ＭＯＢＩＬ（米国テキサス州ヒューストン所在）社製のＥ５４００等の水素化ＤＣＰＤ樹脂（但し、これらに限定されない）が挙げられる。他の好ましい水素化樹脂としては、Ｅａｓｔｍａｎ（米国テネシー州キングスポート所在）社製のＲＥＧＡＬＩＴＥ（商標）Ｓ１１００、Ｒ１０９０、Ｒ１１００、Ｃ１００Ｒ及びＣ１００Ｗ等の完全水素化樹脂、及びＨｅｂｅｉ Ｑｉｍｉｎｇ（中国所在）社製の完全水素化Ｃ９樹脂ＱＭ‐１００Ａ及びＱＭ‐１１５Ａが挙げられる。

また、減衰材料は、任意に１つ以上の可塑剤を含むことができ、また、これらの可塑剤（使用される場合）は非常に多様であり得る。一部の実施形態において、可塑剤は高分子量及び／又は高粘度を有する。一部の場合において、可塑剤は単一の可塑剤を含む。別の場合において、可塑剤は多数の可塑剤製品の混合物を含む。好ましい商業的可塑剤としては、例えば、Ｓｉｎｏｐｅｃ（中国、北京所在）社製のＫＮ ４０１０及びＫＰ ６０３０、Ｔｉａｎｊｉｎ（中国所在）社製のＣｌａｉｒｅ Ｆ５５、Ｆｏｒｍｏｓａ Ｐｅｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ（中国所在）社製のＦ５５０、並びに多様なポリイソブテン製品が挙げられる（但し、これらに限定されない）。

減衰材料は、任意に１つ以上のワックスを含むことができ、これらのワックス（使用される場合）は多様に変えることができる。一部の場合において、ワックスは、単一のワックスを含む。別の場合において、ワックスは、多数のワックス製品の混合物を含む。ワックスは、オイルの移動を有利に改善するために高い分子量を有することができる。ワックスの例としては、微晶質ワックス、パラフィンワックス、炭化水素ワックス、及びこれらの組み合わせが挙げられる。好ましい市販のワックスとしては、例えば、Ｓａｓｏｌ（米国テキサス州ヒューストン所在）社製のＳａｓｏｌ ｗａｘ３９７１、７８３５、６４０３、６８０５及び１８００、Ｈｏｎｅｙｗｅｌｌ（米国ニュージャージー州モリスタウン所在）社製のＡ‐Ｃ１７０２、Ａ‐Ｃ６７０２及びＡ‐Ｃ５１８０、並びにＰａｒａｍｅｌｔ（米国ミシガン州マシキガン所在）社製のＭＩＣＲＯＷＡＸ（商標）ＦＧ７７３０及びＭＩＣＲＯＷＡＸ（商標）ＦＧ８１１３が挙げられる（但し、これらに限定されない）。

減衰材料は、広い範囲の作動温度にわたり、減衰性能を改善するために選択された１つ以上の粉末添加剤を含むことができる。一部の実施形態において、減衰材料は、１つ以上のアクリル系粉末添加剤を含む。好ましい市販のアクリル系粉末添加剤としては、ＳＰＨＥＲＯＭＥＲＳ（商標）ＣＡ６、ＳＰＨＥＲＯＭＥＲＳ ＣＡ １０、ＳＰＨＥＲＯＭＥＲＳ ＣＡ １５、ＫＲＡＴＯＮ（登録商標）ＳＢＳ １１０１ ＡＳ、ＫＲＡＴＯＮ ＳＢ１０１１ ＡＣ、ＫＲＡＴＯＮ ＴＭ １１１６ポリマー、ＫＲＡＴＯＮ Ｄ１１０１ Ａポリマー、ＫＲＡＴＯＮ Ｄ１１１４ Ｐポリマー、ＫＲＡＴＯＮ １１１４ Ｐポリマー、Ｚｅｏｎ社のＮＩＰＯＬ（登録商標）１０５２、ＮＩＰＯＬ １０４１、及びＺｅｏｎ社のＮＩＰＯＬ ＮＳ ６１２が挙げられる。一部の実施形態において、減衰材料は、１つ以上のシリコーン系粉末添加剤を含む。一部の実施形態において、好ましい市販のシリコーン系粉末添加剤としては、Ｓｈｉｎ‐Ｅｔｓｕ社のＫＭＰ ５９７、ＫＭＰ ６００、及びＫＭＰ ７０１が挙げられる。

一部の実施形態において、減衰材料は、１つ以上の高表面積無機フィラー、又はフィラーと顔料との組み合わせ、例えば、カーボンブラック、炭酸カルシウム、二酸化チタン、シリカ（親水性及び疎水性変性）、マイカ、タルク、カオリン、粘土、珪藻土、硫酸バリウム、硫酸アルミニウム、又はこれら二種以上の混合物が挙げられる。市販の高表面積無機フィラーの例としては、Ｅｖｏｎｉｋ Ｄｅｇｕｓｓａ Ｇｍｂｈ（ドイツ、エッセン所在）社から入手可能なものが挙げられる。上述の例を含む無機フィラーは、減衰パッチの減衰特性及びその他物理的特性を調節するために使用できる。多種多様な有機フィラーもまた使用でき、あるいは代わりに使用できる。

他の実施形態において、有用なフィラーの組み合わせは、処理及び／又は使用条件により選択されるアンチブロッキング剤を含む。これらのアンチブロッキング剤の例としては、例えば、シリカ、タルク、珪藻土及びこれらの任意の混合物が挙げられる。フィラーの粒子は、実質的に非水溶性の無機フィラー粒子に細分化できる。

細分化された実質的に非水溶性の無機フィラー粒子は、金属酸化物の粒子を含むことができる。粒子を構成する金属酸化物は、単純な金属酸化物、即ち、単一金属酸化物であるか、又は複合金属酸化物、即ち、２つ以上の金属酸化物であり得る。金属酸化物の粒子は、単一金属酸化物の粒子であり得るか、又は異なる金属酸化物の異なる粒子の混合物であり得る。好ましい金属酸化物の例としては、アルミナ、シリカ及びチタニアが挙げられるが、これらに限定されない。他の酸化物は、任意に少量で存在し得る。これらの任意の酸化物の例としては、ジルコニア、ハフニア及びイットリアが挙げられるが、これらに限定されない。任意に存在し得る他の金属酸化物は、例えば、酸化鉄のように一般に不純物として存在するものである。本明細書及び請求範囲においては、シリコンは金属とみなされる。粒子がアルミナ粒子である場合、殆どのアルミナは、アルミナモノヒドロキシドである。アルミナモノヒドロキシド粒子、ＡｌＯ（ＯＨ）及びこれらの調製は公知となっている。

金属粉末は減衰材料に使用でき、例えば、アルミニウム、銅又は特殊鋼、二硫化モリブデン、酸化鉄、例えば、黒色酸化鉄、アンチモンドープされた二酸化チタン及びニッケルドープされた二酸化チタン等の金属粉末が挙げられる。また、金属合金微粒子も使用できる。

カーボンブラック及びその他の顔料、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、酸化防止剤、難燃剤、熱又は電気導電剤、後硬化剤等の添加剤を減衰材料に混合して減衰パッチの特性を変更することができる。また、これらの添加剤は、例えば、１つ以上の阻害剤、消泡剤、着色剤、発光剤、緩衝剤、アンチブロッキング剤、湿潤剤、マット剤、帯電防止剤、酸捕捉剤、加工助剤、押出助剤等を含むことができる。紫外線吸収剤としては、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール及びヒドロベンゾフェノンが挙げられる。酸化防止剤は、例えば、ヒンダードフェノール、アミン、硫黄及びリン水酸化物分解剤、例えば、Ｉｒｇａｎｏｘ １５２０Ｌが挙げられる。フィラー、顔料、可塑剤、難燃剤、ＵＶ安定剤等は、多数の実施形態において選択事項であり、特定の実施形態においては、約０〜約３０％以上、例えば、約４０％以下の濃度で使用できる。所定の実施形態において、（無機及び／又は有機）フィラー、顔料、可塑剤、難燃剤、ＵＶ安定剤及びこれらの組み合わせの総量は、約０．１％〜約３０％、さらに特には、約１％〜約２０％である。

また、減衰材料は、１つ以上の溶媒を含むことができる。好ましい溶媒の非限定的な例としては、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、塩化メチレン、イソプロパノール、エタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、及びこれらの組み合わせが挙げられる。本発明の主題である減衰材料は、これらの溶媒に限定されず、様々な他の溶媒、添加剤及び／又は粘度調整剤、例えば反応性希釈剤を利用できることが理解されるであろう。

拘束層
開示された多層減衰積層体は、少なくとも１つの拘束層を含んでもよい。拘束層は、積層体構造体に剛性及びｓｔｉｆｆｎｅｓｓを提供し、また、積層体に多数の不連続減衰層が存在する場合は、それを規定及び区別する作用をし得る。一部の場合において、減衰積層体は、第１の不連続減衰層及び少なくとも１つのさらなる不連続減衰層を含み、ここで、第１及び少なくとも１つのさらなる不連続減衰層は、少なくとも１つの拘束層によって互いに分離される。一部の実施形態において、少なくとも１つの拘束層は内部拘束層であり、内部拘束層の少なくとも一部は、第１の不連続減衰層と少なくとも１つのさらなる不連続減衰層との間に配置される。内部拘束層の一方の面は、第１の不連続減衰層に直接隣接し得る、又は内部拘束層と第１の不連続減衰層との間に配置された１つ以上の介在層が存在し得る。内部拘束層の反対面は、少なくとも１つのさらなる不連続減衰層に直接隣接し得る、又は内部拘束層と少なくとも１つのさらなる不連続減衰層との間に配置された１つ以上の介在層が存在し得る。第１の不連続減衰層の減衰材料領域による内部拘束層のカバレッジの割合は、上述の通りであり得る。

一部の場合において、多層減衰積層体は外部拘束層を含む。外部拘束層は積層体の外面を提供し、外部環境に開放されており、且つ積層体を適用できる基板に対向する拘束層である。積層体の少なくとも１つのさらなる不連続減衰層の少なくとも一部は、第１の不連続減衰層と外部拘束層との間に配置することができる。第２の減衰層の少なくとも一部は、内部拘束層と外部拘束層との間に配置することができる。外部拘束層の一方の面は、少なくとも１つのさらなる不連続減衰層に直接隣接し得る、又は少なくとも１つのさらなる不連続減衰層と外部拘束層との間に１つ以上の介在層が存在し得る。一部の場合において、少なくとも１つのさらなる不連続減衰層の一方の面は、内部拘束層に直接隣接し、また、少なくとも１つのさらなる不連続減衰層の反対面は、外部拘束層に直接隣接する。少なくとも１つのさらなる不連続減衰層の減衰材料領域による外部拘束層のカバレッジの割合は、上述の通りであり得る。

前記減衰積層体のそれぞれの拘束層の厚さは、例えば、独立して、約５〜約３０００μｍ、例えば、約５μｍ〜約２５００μｍ、約５μｍ〜約２０００μｍ、約５μｍ〜約１５００μｍ、約５μｍ〜約１０００μｍ、約５μｍ〜約５００μｍ、約５μｍ〜約２３０μｍ、約９．５μｍ〜約４４０μｍ、約１８μｍ〜約８３０μｍ、約３４μｍ〜約１６００μｍ、又は約６５μｍ〜約３０００μｍの範囲であり得る。上限に関しては、それぞれの拘束層の厚さは、独立して、約３０００μｍ未満、例えば、約１６００μｍ未満、約８３０μｍ未満、約４４０μｍ未満、約２３０μｍ未満、約１２０μｍ未満、約６５μｍ未満、約３４μｍ未満、約１８μｍ未満、又は約９．５μｍ未満であり得る。下限に関して、それぞれの拘束層の厚さは、独立して、約５μｍ超、約９．５μｍ超、約１８μｍ超、約３４μｍ超、約６５μｍ超、約１２０μｍ超、約２３０μｍ超、約４４０μｍ超、約８３０μｍ超、又は約１６００μｍ超であり得る。また、さらに厚い厚さ、例えば、約３０００μｍ超、及びさらに薄い厚さ、例えば、約５μｍ未満も考慮される。

それぞれの拘束層は、独立して、それぞれの拘束層に補強された構造を提供するよう作用する１つ以上の補強材を含むことができ、ここで、それぞれの拘束層は、類似又は異なる組成を有することができる。補強材には、１つ以上のポリマー材料を含むことができる。ポリマー材料の非限定的な例としては、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）及び／又はポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン（ＰＳ）、及びこれらとその他の材料の組み合わせが挙げられる。

多数の実施形態において、少なくとも１つの拘束層は金属を含む。少なくとも１つの拘束層の金属は、アルミニウム、鋼、マグネシウム、ブロンズ、銅、黄銅、チタン、鉄、ベリリウム、モリブデン、タングステン又はオスミウムの少なくとも１つの金属を含んでもよい。一部の実施形態において、金属は金属粉末である。他の実施形態において、金属は金属箔である。さらに他の実施形態において、少なくとも１つの拘束層は、金属粉末及び金属箔の両方を含む。金属は補強材でもよく、１つ以上の金属又は金属合金を含むことができる。金属の非限定的な例としては、アルミニウム、鋼、マグネシウム、ブロンズ、銅、黄銅、チタン、鉄、ベリリウム、モリブデン、タングステン又はオスミウムが挙げられる。一部の実施形態において、内部拘束層及び外部拘束層は、それぞれ独立して、金属箔、例えば、アルミニウム箔である。金属箔は、アルミニウム、鋼、マグネシウム、ブロンズ、銅、黄銅、チタン、鉄、ベリリウム、モリブデン、タングステン又はオスミウムの少なくとも１つの金属を含み得るが、これらに限定されない。

補強材は、１つ以上の天然又は人工木材を含むことができる。補強材は、１つ以上の繊維を含むことができる。繊維の非限定的な例としては、大麻繊維、亜麻繊維、ガラス繊維及び炭素繊維が挙げられる。補強材としては、カーボンナノチューブ、グラフェン、ダイヤモンド、カービン、又はこれらの組み合わせを含む１つ以上の炭素系材料が挙げられる。また、複合材料及びこれら材料の組み合わせも使用できる。

ライナー層
一部の場合において、多層積層体フィルムは、不連続減衰層に接続されたライナー層をさらに含む。一実施形態において、不連続減衰層は、第１の不連続減衰層であり得る。ライナー層の一方の面は、不連続減衰層に直接隣接し得る、又は不連続減衰層とライナー層との間に１つ以上の介在層が存在し得る。一部の場合において、不連続減衰層の一方の面は、少なくとも１つの拘束層に直接隣接し、また、不連続減衰層の反対の面は、ライナー層に直接隣接する。一実施形態において、多層積層体フィルムは、少なくとも１つの拘束層に対向する第１の不連続減衰層に接続されたライナー層をさらに含む。

剥離可能なライナーは、多層減衰積層体を物体又は表面に貼り付ける準備ができるまで、剥離ライナーが本来の位置を維持するように、保護カバーとして機能することができる。ライナー又は剥離ライナーが積層体に含まれている場合、多様な材料及び構成がライナーに使用できる。多数の実施形態において、ライナーは紙又は紙系の材料である。多数の他の実施形態において、ライナーは１つ以上のポリマー材料のポリマーフィルムである。一般に、ライナーの少なくとも一方の面は、シリコーン又はシリコーン系材料等の剥離材でコーティングされる。理解されるように、ライナーの剥離コーティングされた面は、外部の不連続減衰層の他の露出面と接触して配置される。目的の表面にラベルを貼り付ける前に、ライナーが取り除かれて積層体の不連続減衰層が露出する。ライナーは、単一シート状であり得る。或いは、ライナーは、多数のセクション又はパネル状であり得る。

以下の実施形態が考えられる。特徴及び実施形態の全ての組み合わせが考えらえる。
実施形態１：少なくとも１つの拘束層と、１つ以上の減衰材料領域及び１つ以上のギャップ領域とを含む不連続減衰層とを含む多層減衰積層体であって、前記１つ以上の減衰材料領域による前記不連続減衰層のカバレッジの割合は、９９％未満であり、且つ、前記多層減衰積層体の２００Ｈｚでの複合損失係数は、０．０５を超える。

実施形態２：前記１つ以上の減衰材料領域による不連続減衰層のカバレッジの割合は、９０％未満である、実施形態１に記載の実施形態。

実施形態３：前記１つ以上の減衰材料領域による不連続減衰層のカバレッジの割合は、５０％を超える、実施形態１又は２に記載の実施形態。

実施形態４：前記１つ以上のギャップ領域の平均幅は、０．２００ｃｍ未満である、実施形態１〜３のいずれかに記載の実施形態。

実施形態５：前記１つ以上の減衰材料領域の平均幅は、１．０００ｃｍ未満である、実施形態１〜４のいずれかに記載の実施形態。

実施形態６：前記１つ以上のギャップ領域の平均幅に対する前記１つ以上の減衰材料領域の平均幅の割合は、２を超える、実施形態１〜５のいずれかに記載の実施形態。

実施形態７：前記不連続減衰層の厚さに対する前記１つ以上のギャップ領域の平均幅の割合は、１７．０未満である、実施形態１〜６のいずれかに記載の実施形態。

実施形態８：前記不連続減衰層の厚さに対する前記１つ以上の減衰材料領域の平均幅の割合は、８３未満である、実施形態１〜７のいずれかに記載の実施形態。

実施形態９：前記不連続減衰層は、少なくとも１つの拘束層に直接隣接する、実施形態１〜８のいずれかに記載の実施形態。

実施形態１０：前記不連続減衰層の厚さは、２μｍ〜５０００μｍの範囲である、実施形態１〜９のいずれかに記載の実施形態。

実施形態１１：前記少なくとも１つの拘束層の厚さは、５μｍ〜３０００μｍの範囲である、実施形態１〜１０のいずれかに記載の実施形態。

実施形態１２：前記１つ以上の減衰材料領域のそれぞれが感圧接着剤を含む、実施形態１〜１１のいずれかに記載の実施形態。

実施形態１３：少なくとも１つの拘束層は、金属を含む、実施形態１〜１２のいずれかに記載の実施形態。

実施形態１４：少なくとも１つの拘束層に対向する第１の不連続減衰層に接続されたライナー層をさらに含む、実施形態１〜１３のいずれかに記載の実施形態。

実施形態１５：前記不連続減衰層は第１の不連続減衰層であり、前記少なくとも１つの拘束層は内部拘束層であり、多層減衰積層体は、１つ以上のさらなる不連続層減衰材料領域及び１つ以上のさらなる不連続減衰層のギャップ領域を含む少なくとも１つのさらなる不連続減衰層であって、前記内部拘束層の少なくとも一部が、前記第１の不連続減衰層と前記少なくとも１つのさらなる不連続減衰層との間に配置される少なくとも１つのさらなる不連続層減衰と、外部拘束層であって、少なくとも１つのさらなる不連続減衰層の少なくとも一部が、前記内部拘束層と前記外部拘束層との間に配置され、且つ、１つ以上のさらなる不連続層減衰材料領域による少なくとも１つのさらなる不連続減衰層のカバレッジの割合が９９％未満である外部拘束層と、をさらに含む、実施形態１〜１４のいずれかに記載の実施形態。

実施形態１６：前記１つ以上のさらなる不連続層減衰材料領域による前記外部拘束層のカバレッジの割合は、９０％未満である、実施形態１５に記載の実施形態。

実施形態１７：前記１つ以上のさらなる不連続層減衰材料領域による前記外部拘束層のカバレッジは、５０％を超える、実施形態１５又は１６に記載の実施形態。

実施形態１８：前記１つ以上のさらなる減衰層のギャップ領域の平均幅は、０．２００ｃｍ未満である、実施形態１５〜１７のいずれかに記載の実施形態。

実施形態１９：前記１つ以上のさらなる不連続減衰層の減衰材料領域の平均幅は、１．０００ｃｍ未満である、実施形態１５〜１８のいずれかに記載の実施形態。

実施形態２０：前記１つ以上のさらなる不連続減衰層のギャップ領域の平均幅に対する前記１つ以上のさらなる不連続減衰層の減衰材料領域の平均幅の割合は、２を超える、実施形態１５〜１９のいずれかに記載の実施形態。

実施形態２１：前記少なくとも１つのさらなる不連続減衰層の厚さに対する前記１つ以上のさらなる不連続減衰層のギャップ領域の平均幅の割合は、１７未満である、実施形態１５〜２０のいずれかに記載の実施形態。

実施形態２２：前記少なくとも１つのさらなる不連続減衰層の厚さに対する前記１つ以上のさらなる不連続減衰層の減衰材料領域の平均幅の割合は、８３未満である、実施形態１５〜２１のいずれかに記載の実施形態。

実施形態２３：前記少なくとも１つのさらなる不連続減衰層は、前記外部拘束層に直接隣接する、実施形態１５〜２２のいずれかに記載の実施形態。

実施形態２４：前記少なくとも１つのさらなる不連続減衰層の厚さは、２μｍ〜５０００μｍの範囲である、実施形態１５〜２３のいずれかに記載の実施形態。

実施形態２５：前記外部拘束層の厚さは、５〜３０００μｍの範囲である、実施形態１５〜２４のいずれかに記載の実施形態。

実施形態２６：前記１つ以上のさらなる不連続減衰層の減衰材料領域は、感圧接着剤を含む、実施形態１５〜２５のいずれかに記載の実施形態。

実施形態２７：前記外部拘束層は、金属を含む、実施形態１５〜２６のいずれかに記載の実施形態。

実施形態２８：前記不連続減衰層は、第１の不連続減衰層であり、前記少なくとも１つの拘束層は、第１の内部拘束層であり、多層減衰積層体は、Ｎ個のさらなる不連続減衰層（ここで、Ｎは２以上の整数である）であって、それぞれのさらなる不連続減衰層は、１つ以上のさらなる減衰材料領域と１つ以上のさらなるギャップ領域とを含み、且つ、第１の内部拘束層の少なくとも一部が、第１の不連続減衰層と第１のさらなる不連続減衰層との間に配置されるＮ個のさらなる不連続減衰層と、Ｍ個のさらなる内部拘束層（ここで、Ｍは１〜Ｎ−１の範囲の整数である）であって、それぞれのＭ番目のさらなる内部拘束層の少なくとも一部が、Ｍ番目のさらなる不連続減衰層と（Ｍ＋１）番目のさらなる不連続減衰層との間に配置され、且つ、１つ以上のさらなる減衰材料領域によるＮ個のさらなる不連続減衰層のカバレッジの割合が９９％未満であるＭ個のさらなる内部拘束層と、外部拘束層であって、前記Ｎ番目のさらなる不連続減衰層の少なくとも一部が（Ｎ−１）番目のさらなる内部拘束層と外部拘束層との間に配置され、且つ、１つ以上のさらなる減衰材料領域によるＮ個のさらなる不連続減衰層のカバレッジの割合が９９％未満である外部拘束層と、をさらに含む、実施形態１〜１４のいずれかに記載の実施形態。

実施形態２９：ベース基板と、実施形態１〜２８のいずれかの実施形態の多層減衰積層体と、を含むシステムであって、前記不連続減衰層が、前記ベース基板に接続される、システム。

実施形態３０：振動を受けるベース基板を提供するステップと、実施形態１〜２８のいずれかの実施形態の多層減衰積層体の不連続減衰層を前記ベース基板に接続することにより、前記ベース基板の振動を減少させるステップとを含む、ベース基板の振動を低減させる方法。

本発明は、下記の非限定的な実施例を考慮してさらによく理解されるであろう。
実施例
Ａｖｅｒｙ Ｄｅｎｎｉｓｏｎ社から商業的に入手可能な接着剤転写テープＨＰＡ１９０５のシートを減衰材料として機能するように、０．５００インチ（１．２７０ｃｍ）幅の矩形ストリップに切断した。次いで、これらのストリップを厚さ５ｍｉｌ（１２５μｍ）のアルミニウム箔基材のシートに適用し、アルミニウム箔拘束層上に不連続減衰層の減衰材料領域を形成した。前記ストリップを前記箔に隣接するストリップの間に２つの異なるギャップ領域幅をもたせて適用した。一つの配列では、箔の表面積の約７５％が接着ストリップで覆われるように０．２５インチ幅のギャップ領域を使用した。第２の配列では、箔の表面積の約５０％が接着ストリップで覆われるように、０．５００インチ幅のギャップ領域を使用した。次に、それぞれの接着ストリップの配列を有する１枚のシートを、接着ストリップの配列が同じ別のシートに積層して、それぞれ２つの不連続減衰層と２つの拘束層とを有する多層拘束層減衰構造体を生成した。図１は、製造された二つの積層体構造体（比較例Ａ及びＢ）の側面図、及び拘束アルミニウム箔層のカバレッジ全体を提供する連続減衰接着剤層を有する従来技術の対照積層体構造体の対照群の側面図である。

前記３つの減衰積層体構造体のそれぞれのサンプルを接着ストリップに対して垂直に切断し、標準プロトコルＳＡＥ Ｊｌ６３７＿２０ｌ３０６による振動ビーム技術装置を用いて試験し、複合損失係数を決定した。図２は、比較例Ａ及びＢ、並びに対照積層体のそれぞれの温度に対する複合損失係数を示す。グラフから、不連続減衰層（比較例Ａ及びＢ）を有する積層体のピーク複合損失係数は、連続減衰層の対照群よりも低いことがわかる。これらの結果は、一部の減衰特性が、一部の不連続又はパターン化した接着減衰層を使用することにより、悪い影響を受ける可能性があることを立証している。

次に、レーザー切断機を使用して、４．９ｍｉｌのＨＰＡ１９０５接着剤転写テープの減衰材料におけるさらに狭いストリップを得た。矩形に切断された接着ストリップは、１．０００ｃｍ（比較例Ｃ）、０．５００ｃｍ（実施例１）及び０．２５０ｃｍ（実施例２）幅の減衰材料領域を形成した。減衰材料領域は、上述のようにアルミニウム箔拘束層に貼り付けと積層され、図４〜図６に示す構成を有する多層拘束層減衰構造体を作製した。図４に示す比較例Ｄの減衰層の構成により、０．２００ｃｍ幅のギャップ領域により平行に分離した１．０００ｃｍ幅の減衰材料領域を配列した。図５に示す実施例１の減衰層の構成により、０．１００ｃｍ幅のギャップ領域により平行に分離した０．５００ｃｍ幅の減衰材料領域を配列した。図６に示す実施例２の減衰層の構成により、０．０５０ｃｍ幅のギャップ領域により平行に分離した０．２５０ｃｍ幅の減衰材料領域を配列した。いずれの場合も、多層拘束層減衰構造体は、約３０ｃｍ×１０ｃｍの全長及び全幅を有し、また、不連続減衰層の減衰材料領域によるアルミニウム箔拘束層のカバレッジの割合は、約８３％であった。

比較例Ｄ、実施例１及び２の積層体に対して、振動ビーム技術装置及びＳＡＥ Ｊｌ６３７＿２０ｌ３０６プロトコルを用いて上述のような試験を行い、ＨＰＡ１９０５接着剤を用いた結果を図７に示した。グラフの複合損失係数の傾向から、比較例Ｄの多層積層体は、連続減衰層対照群と比較してピーク減衰の減少を示すことがわかる。対照的に、実施例１及び実施例２の多層積層体（図５及び図６）は、対照群と比較してピーク複合損失係数の著しい増加がみられた。これらの結果は、減衰材料領域の幅と不連続減衰層のギャップ領域が減少することにより、減衰性能が有利に向上することを立証している。

次に、レーザー切断機を使用し、Ａｖｅｒｙ Ｄｅｎｎｉｓｏｎ社から入手可能な、２．４ｍｉｌのＨＰＡ１９０２接着剤転写テープの減衰材料におけるさらに狭いストリップを得た。矩形に切断された接着ストリップは、１．０００ｃｍ（比較例Ｅ）、０．５０ｃｍ（実施例３）及び０．２５０ｃｍ（実施例４）幅の減衰材料領域を形成した。減衰材料領域は、上述のようにアルミニウム箔拘束層に貼り付けて積層され、図３〜図５に示す構成を有するが、厚さ２．４ｍｉｌ未満の減衰層を有する多層拘束層減衰構造体を作製した。図４に示す比較例Ｄの減衰層の構成により、０．２００ｃｍ幅のギャップ領域により平行に分離された１．０００ｃｍ幅の減衰材料領域を配列した。図５に示す実施例１の減衰層の構成により、０．１００ｃｍ幅のギャップ領域により平行に分離した０．５０ｃｍ幅の減衰材料領域を配列した。図６に示す実施例２の減衰層の構成により、０．０５０ｃｍ幅のギャップ領域により平行に分離した０．２５０ｃｍ幅の減衰材料領域を配列した。いずれの場合も、拘束層の減衰構造体は約３０ｃｍ×１０ｃｍの全長及び全幅を有し、不連続減衰層の減衰材料領域によるアルミニウム箔拘束層のカバレッジの割合は、約８３％であった。

図７は、少なくとも１つの不連続減衰層の厚さがそれぞれ５ｍｉｌである比較例Ｄ、実施例１及び２の積層体（図４〜図６の積層体）の振動ビーム技術試験の結果に対するグラフを示す。ＨＰＡ１９０５のデータのように、図７の複合損失係数の傾向は、比較例Ｄのように、より大きな不連続減衰層のギャップサイズを使用することによりピーク減衰が減少するのに対し、実施例４及び５のように、より小さな不連続減衰層のギャップサイズを使用することによりピーク減衰が増加することを示している。これらの結果は、減衰性能を向上させ、また、かかる性能を達成するために必要な減衰材料の量を減少させるという点において、特定の不連続減衰層の利点をさらに立証している。

図８は、２ｍｉｌの少なくとも１つの不連続減衰層の厚さをそれぞれ有する図４〜図６の積層体の複合損失係数のグラフである。図７のＨＰＡ１９０５のデータのように、図８の複合損失係数の傾向は、比較例Ｄのように、より大きな不連続減衰層のギャップサイズを使用することによりピーク減衰が減少するのに対し、実施例１及び２のように、より小さな不連続減衰層のギャップサイズを使用することによりピーク減衰が増加することを示している。これらの結果は、減衰性能を向上させ、また、かかる性能を達成するために必要な減衰材料の量を減少させる点において、特定の不連続減衰層の利点をさらに立証している。

上述した発見を下記の表１に要約した。その結果は、一部の減衰特性は、特定の不連続又はパターン化された接着剤減衰層を使用することにより、良い影響を受けることを立証している。特に、ピーク複合損失係数の改善は、０．２００ｃｍ未満の平均ギャップ領域幅、１．０００ｃｍ未満の平均減衰材料領域幅のうち１つ以上を特徴とする不連続減衰層を使用した場合に観察された。

本明細書に開示された内容を詳細に説明してきたが、本発明の思想及び範囲内での変更は、当業者にとって容易に明らかになるであろう。先の説明の観点から、当業界の関連知識及び参照文献は、背景技術及び詳細な説明について考察され、その開示は、全て本明細書に参照として組み込まれる。また、前記の開示及び下記及び／又は添付の請求範囲において、引用された様々な実施形態の一部が、全体又は部分的に組み合わせたり、相互に交換し得ることが理解されるべきである。多様な実施形態の上述の説明において、他の実施形態を参照する実施形態は、当業者に理解されるように、他の実施形態と適切に組み合わせることができる。また、当業者は、上述の説明が単なる例であって、本明細書に開示されたものの限定を意図するものではないことを理解するであろう。

減衰材料は、広い範囲の作動温度にわたり、減衰性能を改善するために選択された１つ以上の粉末添加剤を含むことができる。一部の実施形態において、減衰材料は、１つ以上のアクリル系粉末添加剤を含む。好ましい市販のアクリル系粉末添加剤としては、ＳＰＨＥＲＯＭＥＲＳ（商標）ＣＡ６、ＳＰＨＥＲＯＭＥＲＳ ＣＡ １０、ＳＰＨＥＲＯＭＥＲＳ ＣＡ １５、ＫＲＡＴＯＮ（登録商標）ＳＢＳ １１０１ ＡＳ、ＫＲＡＴＯＮ ＳＢ１０１１ ＡＣ、ＫＲＡＴＯＮ ＴＭ １１１６ポリマー、ＫＲＡＴＯＮ Ｄ１１０１ Ａポリマー、ＫＲＡＴＯＮ Ｄ１１１４ Ｐポリマー、Ｚｅｏｎ社のＮＩＰＯＬ（登録商標）１０５２、ＮＩＰＯＬ １０４１、及びＺｅｏｎ社のＮＩＰＯＬ ＮＳ ６１２が挙げられる。一部の実施形態において、減衰材料は、１つ以上のシリコーン系粉末添加剤を含む。一部の実施形態において、好ましい市販のシリコーン系粉末添加剤としては、Ｓｈｉｎ‐Ｅｔｓｕ社のＫＭＰ ５９７、ＫＭＰ ６００、及びＫＭＰ ７０１が挙げられる。

本発明は、下記の非限定的な実施例を考慮してさらによく理解されるであろう。
実施例
Ａｖｅｒｙ Ｄｅｎｎｉｓｏｎ社から商業的に入手可能な接着剤転写テープＨＰＡ１９０５のシートを減衰材料として機能するように、０．５００インチ（１．２７０ｃｍ）幅の矩形ストリップに切断した。次いで、これらのストリップを厚さ５ｍｉｌ（１２５μｍ）のアルミニウム箔基材のシートに適用し、アルミニウム箔拘束層上に不連続減衰層の減衰材料領域を形成した。前記ストリップを前記箔に隣接するストリップの間に２つの異なるギャップ領域幅をもたせて適用した。一つの配列では、箔の表面積の約７５％が接着ストリップで覆われるように０．２５インチ幅のギャップ領域を使用した。第２の配列では、箔の表面積の約５０％が接着ストリップで覆われるように、０．５００インチ幅のギャップ領域を使用した。次に、それぞれの接着ストリップの配列を有する１枚のシートを、接着ストリップの配列が同じ別のシートに積層して、それぞれ２つの不連続減衰層と２つの拘束層とを有する多層拘束層減衰構造体を生成した。図２は、製造された二つの積層体構造体（比較例Ａ及びＢ）の側面図、及び拘束アルミニウム箔層のカバレッジ全体を提供する連続減衰接着剤層を有する従来技術の対照積層体構造体の対照群の側面図である。

前記３つの減衰積層体構造体のそれぞれのサンプルを接着ストリップに対して垂直に切断し、標準プロトコルＳＡＥ Ｊｌ６３７＿２０ｌ３０６による振動ビーム技術装置を用いて試験し、複合損失係数を決定した。図３は、比較例Ａ及びＢ、並びに対照積層体のそれぞれの温度に対する複合損失係数を示す。グラフから、不連続減衰層（比較例Ａ及びＢ）を有する積層体のピーク複合損失係数は、連続減衰層の対照群よりも低いことがわかる。これらの結果は、一部の減衰特性が、一部の不連続又はパターン化した接着減衰層を使用することにより、悪い影響を受ける可能性があることを立証している。

Claims (30)

1. 少なくとも１つの拘束層と、
   １つ以上の減衰材料領域及び１つ以上のギャップ領域を含む不連続減衰層と、を含む多層減衰積層体であって、
   前記１つ以上の減衰材料領域による前記不連続減衰層のカバレッジの割合は、約９９％未満であり、且つ、
   多層減衰積層体の２００Ｈｚでの複合損失係数は、約０．０５を超える、多層減衰積層体。
2. 前記１つ以上の減衰材料領域による前記不連続減衰層のカバレッジの割合は、約９０％以下である、請求項１に記載の多層減衰積層体。
3. 前記１つ以上の減衰材料領域による前記不連続減衰層のカバレッジの割合は、約７０％以上である、請求項１又は２に記載の多層減衰積層体。
4. 前記１つ以上の減衰材料領域による前記不連続減衰層のカバレッジの割合は、約５０％を超える、請求項１〜３のいずれか一項に記載の多層減衰積層体。
5. 前記１つ以上のギャップ領域の平均幅は、約０．２００ｃｍ未満である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の多層減衰積層体。
6. 前記１つ以上の減衰材料領域の平均幅は、約１．０００ｃｍ以下である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の多層減衰積層体。
7. 前記不連続減衰層は、少なくとも１つの拘束層に直接隣接している、請求項１〜６のいずれか一項に記載の多層減衰積層体。
8. 前記不連続減衰層の厚さは、約２μｍ〜約５０００μｍの範囲である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の多層減衰積層体。
9. 前記少なくとも１つの拘束層の厚さは、約５μｍ〜約３０００μｍの範囲である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の多層減衰積層体。
10. 前記１つ以上の減衰材料領域のそれぞれが感圧接着剤を含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の多層減衰積層体。
11. 前記少なくとも１つの拘束層は、金属を含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の多層減衰積層体。
12. 前記金属は、金属箔である、請求項１１に記載の多層減衰積層体。
13. 前記金属は、アルミニウム、鋼、マグネシウム、ブロンズ、銅、黄銅、チタン、鉄、ベリリウム、モリブデン、タングステン又はオスミウムのうち少なくとも１つの金属を含む、請求項１１に記載の多層減衰積層体。
14. 前記少なくとも１つの拘束層に対向する前記不連続減衰層に接続されたライナー層をさらに含む、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の多層減衰積層体。
15. 前記不連続減衰層は、第１の不連続減衰層であり、前記少なくとも１つの拘束層は、内部拘束層であり、
    多層減衰積層体は、
    １つ以上のさらなる不連続層減衰材料領域及び１つ以上のさらなる不連続減衰層のギャップ領域を含む少なくとも１つのさらなる不連続減衰層であって、前記内部拘束層の少なくとも一部が、前記第１の不連続減衰層と少なくとも１つのさらなる不連続減衰層との間に配置される少なくとも１つのさらなる不連続減衰層と、
    外部拘束層であって、前記少なくとも１つのさらなる不連続減衰層の少なくとも一部が、内部拘束層と外部拘束層との間に配置され、且つ、１つ以上のさらなる不連続層減衰材料領域による少なくとも１つのさらなる不連続減衰層のカバレッジの割合が約９９％未満である外部拘束層と、をさらに含む、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の多層減衰積層体。
16. 前記１つ以上のさらなる不連続層減衰材料領域による前記少なくとも１つのさらなる不連続減衰層のカバレッジの割合は、約９０％以下である、請求項１５に記載の多層減衰積層体。
17. 前記１つ以上のさらなる不連続層減衰材料領域による前記少なくとも１つのさらなる不連続減衰層のカバレッジの割合は、約７０％を超える、請求項１５又は１６に記載の多層減衰積層体。
18. 前記１つ以上のさらなる不連続層減衰材料領域による前記少なくとも１つのさらなる不連続減衰層のカバレッジの割合は、約５０％を超える、請求項１５〜１７のいずれか一項に記載の多層減衰積層体。
19. 前記１つ以上のさらなる減衰層のギャップ領域の平均幅は、約０．２００ｃｍ未満である、請求項１５〜１８のいずれか一項に記載の多層減衰積層体。
20. 前記１つ以上のさらなる不連続減衰層の減衰材料領域の平均幅は、約１．０００ｃｍ未満である、請求項１５〜１９のいずれか一項に記載の多層減衰積層体。
21. 前記少なくとも１つのさらなる不連続減衰層は、前記外部拘束層に直接隣接している、請求項１５〜２０のいずれか一項に記載の多層減衰積層体。
22. 前記少なくとも１つのさらなる不連続減衰層の厚さは、約２μｍ〜約５０００μｍの範囲である、請求項１５〜２１のいずれか一項に記載の多層減衰積層体。
23. 前記外部拘束層の厚さは、約５μｍ〜約３０００μｍの範囲である、請求項１５〜２２のいずれか一項に記載の多層減衰積層体。
24. １つ以上のさらなる不連続減衰層の減衰材料領域は、感圧接着剤を含む、請求項１５〜２３のいずれか一項に記載の多層減衰積層体。
25. 前記外部拘束層は、金属を含む、請求項１５〜２４のいずれか一項に記載の多層減衰積層体。
26. 前記金属は、金属箔である、請求項２５に記載の多層減衰積層体。
27. 前記金属は、アルミニウム、鋼、マグネシウム、ブロンズ、銅、黄銅、チタン、鉄、ベリリウム、モリブデン、タングステン又はオスミウムのうち少なくとも１つの金属を含む、請求項２６に記載の多層減衰積層体。
28. 前記不連続減衰層は、第１の不連続減衰層であり、前記少なくとも１つの拘束層は、第１の内部拘束層であり、
    多層減衰積層体は、
    Ｎ個のさらなる不連続減衰層（ここで、Ｎは２以上の整数である）であって、それぞれのさらなる不連続減衰層は、１つ以上のさらなる減衰材料領域及び１つ以上のさらなるギャップ領域を含み、且つ、第１の内部拘束層の少なくとも一部が第１の不連続減衰層と第１のさらなる不連続減衰層との間に配置されるＮ個のさらなる不連続減衰層と、
    Ｍ個のさらなる内部拘束層（ここで、Ｍは１〜Ｎ−１の範囲の整数である）であって、それぞれのＭ番目のさらなる内部拘束層の少なくとも一部がＭ番目のさらなる不連続減衰層と（Ｍ＋１）番目のさらなる不連続減衰層との間に配置され、且つ、１つ以上のさらなる減衰材料領域によるＮ個のさらなる不連続減衰層のカバレッジの割合が約９９％未満であるＭ個のさらなる内部拘束層と、
    外部拘束層であって、Ｎ番目のさらなる不連続減衰層の少なくとも一部が（Ｎ−１）番目のさらなる内部拘束層と外部拘束層との間に配置され、且つ、１つ以上のさらなる減衰材料領域によるＮ個のさらなる不連続減衰層のカバレッジの割合が約９９％未満である外部拘束層と、をさらに含む、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の多層減衰積層体。
29. ベース基板と、
    請求項１〜２８のいずれか一項に記載の多層減衰積層体と、を含むシステムであって、
    不連続減衰層が前記ベース基板に接続される、システム。
30. 振動を受けるベース基板を提供するステップと、
    請求項１〜２８のいずれか一項に記載の多層減衰積層体の不連続減衰層を前記ベース基板に接続することにより、前記ベース基板の振動を減少させるステップと、を含む、ベース基板の振動を低減させる方法。

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