JP2014241182A5 - - Google Patents

Description

上述の課題を解決するために、第１の技術は、
長尺状の基体と、シード層と、下地層と、記録層とを備え、
シード層は、基体と下地層との間に設けられ、
シード層は、アモルファス状態を有し、Ｔｉ、ＣｒおよびＯを含む合金を含み、
シード層に含まれるＴｉおよびＣｒの総量に対するＴｉの割合は、３０原子％以上１００原子％以下であり、
シード層に含まれるＴｉ、ＣｒおよびＯの総量に対するＯの割合は、１５原子％以下である磁気記録媒体である。

第２の技術は、
長尺状の基体と、シード層と、下地層と、記録層とを備え、
シード層は、基体と下地層との間に設けられ、
シード層は、アモルファス状態を有し、ＴｉおよびＣｒを含む合金を含み、
シード層に含まれるＴｉおよびＣｒの総量に対するＴｉの割合は、３０原子％以上１００原子％以下である磁気記録媒体である。

第３の技術は、
長尺状の基体と、アモルファス状態を有し、ＴｉおよびＣｒを含む層と、下地層と、記録層とを備え、
ＴｉおよびＣｒを含む層は、基体と下地層との間に設けられ、
ＴｉおよびＣｒを含む層におけるＴｉおよびＣｒの総量に対するＴｉの割合は、３０原子％以上１００原子％以下である磁気記録媒体である。

第４の技術は、
長尺状の基体の表面に、シード層、下地層および記録層をＲｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ法により連続成膜する工程を備え、
シード層は、アモルファス状態を有し、Ｔｉ、ＣｒおよびＯを含む合金を含み、
シード層に含まれるＴｉおよびＣｒの総量に対するＴｉの割合は、３０原子％以上１００原子％以下であり、
シード層に含まれるＴｉ、ＣｒおよびＯの総量に対するＯの割合は、１５原子％以下である磁気記録媒体の製造方法である。

第５の技術は、
長尺状の基体を回転体の周面に沿わせて搬送しながら、該基体の表面に複数の薄膜を積層する工程を備え、
複数の薄膜のうちの少なくとも２層は、連続成膜される磁気記録媒体の製造方法である。

Claims (20)

1. 長尺状の基体と、シード層と、下地層と、記録層とを備え、
   上記シード層は、上記基体と上記下地層との間に設けられ、
   上記シード層は、アモルファス状態を有し、Ｔｉ、ＣｒおよびＯを含む合金を含み、
   上記シード層に含まれるＴｉおよびＣｒの総量に対するＴｉの割合は、３０原子％以上１００原子％以下であり、
   上記シード層に含まれるＴｉ、ＣｒおよびＯの総量に対するＯの割合は、１５原子％以下である磁気記録媒体。
2. 上記シード層により上記基体の表面の凹凸が緩和されている請求項１に記載の磁気記録媒体。
3. 上記下地層は、Ｒｕを含んでいる請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
4. 上記下地層は、第１の下地層と第２の下地層とを備え、
   上記第１の下地層が上記記録層の側に設けられ、Ｒｕを含んでいる請求項１から３のいずれかに記載の磁気記録媒体。
5. 上記記録層は、Ｃｏ、ＰｔおよびＣｒを含む粒子が酸化物で分離されたグラニュラ構造を有する請求項１から４のいずれかに記載の磁気記録媒体。
6. 上記記録層は、以下の式（１）に示す平均組成を有している請求項５に記載の磁気記録媒体。
   （Ｃｏ_xＰｔ_yＣｒ_100-x-y）_100-z−（ＳｉＯ₂）_z ・・・（１）
   （但し、式（１）中において、ｘ、ｙ、ｚはそれぞれ、６９≦ｘ≦７２、１２≦ｙ≦１６、９≦ｚ≦１２の範囲内の値である。）
7. 上記シード層と上記下地層との間に設けられた別のシード層をさらに備える請求項１から６のいずれかに記載の磁気記録媒体。
8. 上記シード層と上記下地層との間に設けられた軟磁性層をさらに備える請求項１から６のいずれかに記載の磁気記録媒体。
9. 上記軟磁性層の膜厚は、４０ｎｍ以上１４０ｎｍ以下である請求項８に記載の磁気記録媒体。
10. 上記軟磁性層は、第１の軟磁性層と、中間層と、第２の軟磁性層とを備え、
    上記中間層は、上記第１の軟磁性層と上記第２の軟磁性層との間に設けられている請求項８または９に記載の磁気記録媒体。
11. 上記軟磁性層と上記下地層との間に別のシード層をさらに備える請求項８から１０のいずれかに記載の磁気記録媒体。
12. 上記記録層上に設けられた、Ｃｏ、ＣｒおよびＰｔを含む層をさらに備える請求項１から１１のいずれかに記載の磁気記録媒体。
13. 上記シード層、上記下地層および上記記録層は、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ法により連続成膜されている請求項１から６のいずれかに記載の磁気記録媒体。
14. 長尺状の基体と、シード層と、下地層と、記録層とを備え、
    上記シード層は、上記基体と上記下地層との間に設けられ、
    上記シード層は、アモルファス状態を有し、ＴｉおよびＣｒを含む合金を含み、
    上記シード層に含まれるＴｉおよびＣｒの総量に対するＴｉの割合は、３０原子％以上１００原子％以下である磁気記録媒体。
15. 長尺状の基体と、アモルファス状態を有し、ＴｉおよびＣｒを含む層と、下地層と、記録層とを備え、
    上記ＴｉおよびＣｒを含む層は、上記基体と上記下地層との間に設けられ、
    上記ＴｉおよびＣｒを含む層におけるＴｉおよびＣｒの総量に対するＴｉの割合は、３０原子％以上１００原子％以下である磁気記録媒体。
16. 長尺状の基体の表面に、シード層、下地層および記録層をＲｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ法により連続成膜する工程を備え、
    上記シード層は、アモルファス状態を有し、Ｔｉ、ＣｒおよびＯを含む合金を含み、
    上記シード層に含まれるＴｉおよびＣｒの総量に対するＴｉの割合は、３０原子％以上１００原子％以下であり、
    上記シード層に含まれるＴｉ、ＣｒおよびＯの総量に対するＯの割合は、１５原子％以下である磁気記録媒体の製造方法。
17. 長尺状の基体を回転体の周面に沿わせて搬送しながら、該基体の表面に複数の薄膜を積層する工程を備え、
    上記複数の薄膜のうちの少なくとも２層は、連続成膜される磁気記録媒体の製造方法。
18. 上記回転体の温度が、１０℃以下であり、
    上記回転体の周面のうち上記基体が接触する領域の角度範囲が、２２０°以上であり、
    上記基体の幅１ｍｍ長さ当たりの張力が、４ｇ／ｍｍ以上であり、
    上記複数の薄膜のダイナミックレートのうち最大のものが、７０ｎｍ・ｍ／ｍｉｎ以下である請求項１７に記載の磁気記録媒体の製造方法。
19. 上記複数の薄膜は、シード層、下地層および記録層を含んでいる請求項１７または１８に記載の磁気記録媒体の製造方法。
20. 上記複数の薄膜は、軟磁性層をさらに含んでいる請求項１９に記載の磁気記録媒体の製造方法。