JP6163744B2 - 垂直磁気記録媒体 - Google Patents
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Description
平滑な表面を有する化学強化ガラス基体(HOYA社製N−10ガラス基体)を洗浄し、非磁性基体10を準備した。洗浄後の非磁性基体10を、スパッタ装置内に導入した。圧力0.3PaのArガス中でTaターゲットを用いたDCマグネトロンスパッタ法により、膜厚5nmのTa密着層20を形成した。
磁気記録層50の第3層となる第1磁気記録層51bの形成を行わなかったこと、および第2磁気記録層52の膜厚を3nmに変更したことを除いて、実施例1と同様の手順により磁気記録媒体を得た。
磁気記録層50の第3層となる第1磁気記録層51bの形成を行わなかったこと、および第2磁気記録層52の組成を65体積%Fe50Pt50−35体積%SiO2に変更したことを除いて、実施例1と同様の手順により磁気記録媒体を得た。ここで、第2磁気記録層52の膜厚を3nm、5nmおよび7nmに変化させた。
磁気記録層50の第2層および第3層となる第2磁気記録層52および第1磁気記録層51bの形成を行わなかったこと、および第1磁気記録層51aの組成を75体積%Fe50Pt50−25体積%Cに変更したことを除いて、実施例1と同様の手順により磁気記録媒体を得た。ここで、第1磁気記録層51aの膜厚を4nmおよび6nmに変化させた。
上記の実施例および比較例で得られた磁気記録媒体において、磁気記録層の磁気異方性定数Ku、角形比、α値、および保磁力Hcを測定した。磁気異方性定数Kuは、PPMS装置(Quatum Design社製;Physical Property Measurement System)を用いて自発磁化の磁場印可角度依存性を評価し、論文に基づいて算出した(非特許文献3および4参照)。角形比、保磁力Hc、およびα値は、PPMS装置によりM−Hヒステリシスループを測定することにより求めた。結果を第1表に示す。なお、比較例1の第2層の膜厚が4nmのサンプルの特性値は、シュミレーションにより求められた予測値である。さらに、実施例および比較例で得られた磁気記録媒体の磁気記録層の総膜厚と磁気異方性定数Kuとの関係を図3に示した。
20 密着層
30 下地層
40 シード層
50 磁気記録層
51a、51b 第1磁気記録層
52a、52b 第2磁気記録層
60 保護層
Claims (6)
- 非磁性基板および磁気記録層を含み、
前記磁気記録層は、2つの第1磁気記録層と、前記2つの第1磁気記録層の間に位置する1つの第2磁気記録層を含み、
前記第1磁気記録層は、規則合金を有する第1磁性結晶粒と、前記第1磁性結晶粒を取り囲み、カーボンを主成分とする材料からなる第1非磁性部とを有するグラニュラー構造を有し、
前記第2磁気記録層は、規則合金を有する第2磁性結晶粒と、前記第2磁性結晶粒を取り囲み、シリコン酸化物からなる第2非磁性部とを有するグラニュラー構造を有する
ことを特徴とする垂直磁気記録媒体。 - 前記2つの第1磁気記録層のそれぞれは1〜4nmの膜厚を有し、前記第2磁気記録層は1〜3nmの膜厚を有することを特徴とする請求項1に記載の垂直磁気記録媒体。
- 前記第1磁性結晶粒および前記第2磁性結晶粒は、同じ構成元素からなることを特徴とする請求項1または2に記載の垂直磁気記録媒体。
- 前記規則合金は、Fe、CoおよびNiからなる群から選択される少なくとも一種の元素と、Pt、Pd、AuおよびIrからなる群から選択される少なくとも一種の元素とを含む合金であることを特徴とする請求項3に記載の垂直磁気記録媒体。
- 前記規則合金は、FePt、CoPt、FePd、およびCoPdからなる群から選択されることを特徴とする請求項4に記載の垂直磁気記録媒体。
- 前記非磁性基板と前記磁気記録層との間に、ヒートシンク層、密着層、軟磁性裏打ち層、下地層、およびシード層からなる群から選択される1つまたは複数の層をさらに含むことを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の垂直磁気記録媒体。
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