JP2015130223A5 - 磁気スタック - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 6
- 229910005335 FePt Inorganic materials 0.000 claims 4
- 239000008187 granular material Substances 0.000 claims 4
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 claims 3
- 229910004140 HfO Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910034327 TiC Inorganic materials 0.000 claims 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Chemical group O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims 2
- 229910003864 HfC Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910004542 HfN Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N TiO Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910026551 ZrC Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910008322 ZrN Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 1
- REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N aluminium(3+) Chemical class [Al+3] REDXJYDRNCIFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims 1
- TWXTWZIUMCFMSG-UHFFFAOYSA-N nitride(3-) Chemical compound [N-3] TWXTWZIUMCFMSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims 1
Claims (17)
- 基板と、
結晶性分離体によって分離された磁性粒状体を含む柱状構造を有する磁気記録層と、
前記基板と前記磁気記録層の間に配置された中間層とを備え、前記中間層はTiN−X層またはMgO−Y層であり、Xは、MgO、TiC、TiO、TiO 2 、ZrN、ZrC、ZrO、ZrO 2 、HfN、HfC、HfO、およびHfO 2 のうちの少なくとも1つを含むドーパントであり、Yは、Ni、Ti、およびZrのうちの少なくとも1つを含むドーパントである、スタック。 - 前記磁性粒状体はFePtを含む、請求項1に記載のスタック。
- 前記結晶性分離体は、MgO、TiO2、ZrO2、およびTiCのうちの少なくとも1つである、請求項1または請求項2に記載のスタック。
- 前記結晶性分離体はZrO2である、請求項1または請求項2に記載のスタック。
- 前記磁気記録層は、約5体積%と約50体積%の間の量のZrO2を含む、請求項4に記載のスタック。
- 前記結晶性分離体は50%以上の結晶構造を含む、請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のスタック。
- 前記磁気記録層は、前記磁性粒状体と前記結晶性分離体の間に配置された非晶質分離体をさらに含む、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のスタック。
- 前記非晶質分離体は、酸化物および窒化物のうちの少なくとも1つである、請求項7に記載のスタック。
- 前記非晶質分離体は、C、SiO2、TiO2、WO3、Ta2O5、およびBNのうちの少なくとも1つである、請求項7に記載のスタック。
- 前記磁気記録層の厚さは、約5nmと約30nmの間である、請求項1から請求項9のいずれか1項に記載のスタック。
- 前記FePtの粒状体は、約1以上の高さ/直径のアスペクト比を有する、請求項2に記載のスタック。
- Ag、Au、Cu、Al、Cr、Mo、およびWのうちの少なくとも1つを含む合金を含むヒートシンク層をさらに備え、前記ヒートシンク層は前記中間層と前記基板の間に配置される、請求項1から請求項11のいずれか1項に記載のスタック。
- CrRuおよびMgOのうちの1つ以上を含む下地層をさらに備え、前記下地層は前記中間層と前記基板の間に配置される、請求項1から請求項12のいずれか1項に記載のスタック。
- 基板と、
結晶性分離体と非晶質分離体によって互いに分離された磁性粒状体を含む柱状構造を有する磁気記録層とを備え、前記磁性粒状体はFePtを含み、前記結晶性分離体はZrO 2 を含み、前記非晶質分離体はCを含み、さらに、
前記基板と前記磁気記録層の間に配置された中間層を備える、スタック。 - 前記磁気記録層は、約5体積%と約50体積%の間の量のZrO2と、約5〜50体積%の量のCとを含む、請求項14に記載のスタック。
- 前記磁気記録層は、約20体積%と約45体積%の間の量のZrO2と、約5〜20体積%の量のCとを含む、請求項14に記載のスタック。
- 前記磁性粒状体は、高さ/直径のアスペクト比が1以上であり、FePtを含む、請求項14から請求項16のいずれか1項に記載のスタック。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201461923561P | 2014-01-03 | 2014-01-03 | |
US61/923,561 | 2014-01-03 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015130223A JP2015130223A (ja) | 2015-07-16 |
JP2015130223A5 true JP2015130223A5 (ja) | 2018-01-11 |
JP6491882B2 JP6491882B2 (ja) | 2019-03-27 |
Family
ID=53495701
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015000266A Active JP6491882B2 (ja) | 2014-01-03 | 2015-01-05 | 磁気スタック |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9689065B2 (ja) |
JP (1) | JP6491882B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9558777B2 (en) * | 2014-11-26 | 2017-01-31 | HGST Netherlands B.V. | Heat assisted magnetic recording (HAMR) media having a highly ordered crystalline structure |
US9406329B1 (en) * | 2015-11-30 | 2016-08-02 | WD Media, LLC | HAMR media structure with intermediate layer underlying a magnetic recording layer having multiple sublayers |
JP2017224371A (ja) * | 2016-06-15 | 2017-12-21 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体及び磁気記憶装置 |
US11408065B2 (en) * | 2016-12-28 | 2022-08-09 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Coating |
CN109643556B (zh) * | 2017-03-10 | 2021-03-12 | 富士电机株式会社 | 磁记录介质 |
JP6989427B2 (ja) | 2018-03-23 | 2022-01-05 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体および磁気記録再生装置 |
TWI702294B (zh) * | 2018-07-31 | 2020-08-21 | 日商田中貴金屬工業股份有限公司 | 磁氣記錄媒體用濺鍍靶 |
JP7244721B2 (ja) | 2019-04-09 | 2023-03-23 | 株式会社レゾナック | 磁気記録媒体および磁気記憶装置 |
JP7375676B2 (ja) | 2020-05-21 | 2023-11-08 | 株式会社レゾナック | 磁気記録媒体および磁気記憶装置 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4585535A (en) * | 1985-03-11 | 1986-04-29 | Savin Corporation | Electrophoretic method of producing high-density magnetic recording media |
JPH08123924A (ja) * | 1994-10-24 | 1996-05-17 | Kyodo Printing Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JP4045144B2 (ja) * | 2002-08-15 | 2008-02-13 | 富士通株式会社 | 磁気記録媒体及び磁気記録層の成膜方法 |
KR100803217B1 (ko) | 2006-10-04 | 2008-02-14 | 삼성전자주식회사 | 자기기록매체 및 그 제조방법 |
JP2008287829A (ja) * | 2007-05-21 | 2008-11-27 | Toshiba Corp | 垂直磁気記録媒体 |
JP5646865B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2014-12-24 | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 垂直磁気記録媒体および垂直磁気記録媒体の製造方法 |
US8173282B1 (en) * | 2009-12-11 | 2012-05-08 | Wd Media, Inc. | Perpendicular magnetic recording medium with an ordering temperature reducing layer |
JP5670638B2 (ja) | 2010-01-26 | 2015-02-18 | 昭和電工株式会社 | 熱アシスト磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
JP5561766B2 (ja) * | 2010-02-04 | 2014-07-30 | 昭和電工株式会社 | 熱アシスト磁気記録媒体及び磁気記憶装置 |
JP5570270B2 (ja) * | 2010-03-29 | 2014-08-13 | 昭和電工株式会社 | 熱アシスト磁気記録媒体及び磁気記憶装置 |
JP4892073B2 (ja) * | 2010-03-30 | 2012-03-07 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体、その製造方法、及び磁気記録再生装置 |
US20130114165A1 (en) * | 2011-11-07 | 2013-05-09 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | FePt-C BASED MAGNETIC RECORDING MEDIA WITH ONION-LIKE CARBON PROTECTION LAYER |
US20130170075A1 (en) * | 2011-12-28 | 2013-07-04 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | System, method and apparatus for magnetic media with a non-continuous metallic seed layer |
US8509039B1 (en) * | 2012-06-28 | 2013-08-13 | HGST Netherlands B.V. | Thermally-assisted recording (TAR) disk with low thermal-conductivity underlayer |
US8623670B1 (en) | 2012-07-15 | 2014-01-07 | HGST Netherlands B.V. | Method for making a perpendicular thermally-assisted recording (TAR) magnetic recording disk having a carbon segregant |
MY178275A (en) * | 2012-09-27 | 2020-10-07 | Seagate Technology Llc | Magnetic stack including tin-x intermediate layer |
-
2014
- 2014-12-19 US US14/577,641 patent/US9689065B2/en active Active
-
2015
- 2015-01-05 JP JP2015000266A patent/JP6491882B2/ja active Active
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