JP2015130214A5 - - Google Patents

Claims (19)

1. 長手方向および短手方向を持つ表面を有し、
   上記表面における算術平均粗さＲａと、比率ＰＳＤ_MD,short／ＰＳＤ_TD,shortと、比率ＰＳＤ_MD,long／ＰＳＤ_TD,longとが、以下の関係式を満たす磁気記録媒体。
   Ｒａ≦３．０ｎｍ
   ＰＳＤ_MD,short／ＰＳＤ_TD,short≦０．６５
   １．３≦ＰＳＤ_MD,long／ＰＳＤ_TD,long≦２．３
   （但し、ＰＳＤ_MD,short：上記表面の長手方向における０．１５μｍ以上０．４μｍ以下の範囲内のＰＳＤ値の平均値、ＰＳＤ_TD,short：上記表面の短手方向における０．１５μｍ以上０．４μｍ以下の範囲内のＰＳＤ値の平均値、ＰＳＤ_MD,long：上記表面の長手方向における０．４μｍ以上５．０μｍ以下の範囲内のＰＳＤ値の平均値、ＰＳＤ_TD,long：上記表面の短手方向における０．４μｍ以上５．０μｍ以下の範囲内のＰＳＤ値の平均値である。）
2. 高分子樹脂を含む長尺状の基体と、
   上記基体上に積層された、上記表面を有する積層膜と
   を備える請求項１に記載の磁気記録媒体。
3. 上記基体は、凹凸面を有し、
   上記積層膜の表面は、上記基体の凹凸面に倣った凹凸面である請求項２に記載の磁気記録媒体。
4. 上記積層膜は、スパッタリング膜である請求項２または３に記載の磁気記録媒体。
5. 上記積層膜は、シード層と、下地層と、記録層とを備え、
   上記シード層は、上記基体と上記下地層との間に設けられている請求項２から４のいずれかに記載の磁気記録媒体。
6. 上記シード層は、アモルファス状態を有している請求項５に記載の磁気記録媒体。
7. 上記シード層は、ＴｉおよびＣｒを含み、
   上記シード層に含まれるＴｉおよびＣｒの総量に対するＴｉの割合は、３０原子％以上１００原子％以下である請求項５または６に記載の磁気記録媒体。
8. 上記シード層は、Ｔｉ、ＣｒおよびＯを含み、
   上記シード層に含まれるＴｉおよびＣｒの総量に対するＴｉの割合は、３０原子％以上１００原子％以下であり、
   上記シード層に含まれるＴｉ、ＣｒおよびＯの総量に対するＯの割合は、１５原子％以下である請求項５または６に記載の磁気記録媒体。
9. 上記シード層により上記基体の表面の凹凸が緩和されている請求項５から８のいずれかに記載の磁気記録媒体。
10. 上記下地層は、Ｒｕを含んでいる請求項５から９のいずれかに記載の磁気記録媒体。
11. 上記下地層は、第１の下地層と第２の下地層とを備え、
    上記第１の下地層が上記記録層の側に設けられ、Ｒｕを含んでいる請求項５から９のいずれかに記載の磁気記録媒体。
12. 上記記録層は、Ｃｏ、ＰｔおよびＣｒを含む粒子が酸化物で分離されたグラニュラ構造を有する請求項５から１１のいずれかに記載の磁気記録媒体。
13. 上記記録層は、以下の式に示す平均組成を有している請求項５から１２のいずれかに記載の磁気記録媒体。
    （Ｃｏ_xＰｔ_yＣｒ_100-x-y）_100-z−（ＳｉＯ₂）_z
    （但し、式中において、ｘ、ｙ、ｚはそれぞれ、６９≦ｘ≦７２、１２≦ｙ≦１６、９≦ｚ≦１２の範囲内の値である。）
14. 上記シード層と上記下地層との間に設けられた別のシード層をさらに備える請求項５から１３のいずれかに記載の磁気記録媒体。
15. 上記シード層と上記下地層との間に設けられた軟磁性層をさらに備える請求項５から１４のいずれかに記載の磁気記録媒体。
16. 上記軟磁性層は、第１の軟磁性層と、中間層と、第２の軟磁性層とを備え、
    上記中間層は、上記第１の軟磁性層と上記第２の軟磁性層との間に設けられている請求項１５に記載の磁気記録媒体。
17. 上記軟磁性層と上記下地層との間に別のシード層をさらに備える請求項１５または１６に記載の磁気記録媒体。
18. 上記記録層上に設けられた、Ｃｏ、ＣｒおよびＰｔを含む層をさらに備える請求項５から１７のいずれかに記載の磁気記録媒体。
19. 上記シード層、上記下地層および上記記録層は、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ法により連続成膜されている請求項５から１３のいずれかに記載の磁気記録媒体。