JP2016210192A5 - フィルム - Google Patents
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Description
本発明の目的は、第１無機酸化物層および第２無機酸化物層の両方を、エッチングにより確実にパターンニングすることができながら、オーバーエッチング部分の形成を抑制することのできるフィルムを提供することにある。
Claims (6)
- 順に、基材と、無機層とを備え、
前記基材は、厚み２μｍ以上、３００μｍ以下の高分子フィルムからなり、
前記無機層は、順に、第１無機酸化物層と、金属層と、第２無機酸化物層とを備え、
前記第１無機酸化物層および第２無機酸化物層は、水素原子を含有し、
前記第２無機酸化物層における水素原子の含有量Ｈ２の、前記第１無機酸化物層における水素原子の含有量Ｈ１に対する比（Ｈ２／Ｈ１）が、０．１０以上、１０．００以下であることを特徴とする、フィルム。 - 前記第１無機酸化物層における水素原子の含有量Ｈ１、および、前記第２無機酸化物層における水素原子の含有量Ｈ２が、ともに、５×１０１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上、８，０００×１０１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下であることを特徴とする、請求項１に記載のフィルム。
- 前記第１無機酸化物層および前記第２無機酸化物層のうち、少なくとも一方が、酸化インジウムを含有することを特徴とする、請求項１または２のいずれかに記載のフィルム。
- 前記第１無機酸化物層および前記第２無機酸化物層のいずれもが、非晶質であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載のフィルム。
- 前記第２無機酸化物層の厚みＴ２の、前記第１無機酸化物層の厚みＴ１に対する比（Ｔ２／Ｔ１）が、０．５以上、１．５以下であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載のフィルム。
- 前記第１無機酸化物層および前記第２無機酸化物層は、炭素原子をさらに含有しており、
前記第１無機酸化物層における水素原子の含有量Ｈ１と炭素原子の含有量Ｃ１との合計含有量（Ｈ１＋Ｃ１）、および、前記第２無機酸化物層における水素原子の含有量Ｈ２と炭素原子の含有量Ｃ２との合計含有量（Ｈ２＋Ｃ２）が、ともに、６×１０１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上、１０，０００×１０１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載のフィルム。
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