JP2001256633A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】高密度磁気記録においても高いＣ／Ｎを示し、
かつ優れた走行安定性を有する磁気記録媒体を提供する
こと。 【解決手段】 非磁性可撓性支持体上に、非磁性粉末と
結合剤とを含む非磁性層及び強磁性粉末と結合剤とを含
む磁性層をこの順に設けた磁気記録媒体。前記磁性層の
平均厚みｄは0.01〜0.3μｍであり、該磁性層の厚みの
標準偏差σと平均厚みｄの比がσ/d≦0.5であり、かつ
原子間力顕微鏡で測定した磁性層表面の粗さスペクトル
において、波長1〜5μmの粗さ成分の強度が、0.5nm²以
下であり、かつ波長0.5μm以上、1μm未満の粗さ成分強
度が0.02〜0.5nm²である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高密度な磁気記
録、特にＭＲヘッドを使用しての再生に適した磁気記録
媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年高密度化と共に記録波長が短くなる
傾向にあり、磁性層が厚いと出力が低下する記録時の自
己減磁損失、再生時の厚み損失の問題が大きくなってい
る。このため、磁性層を薄くすることが行われている
が、２μm以下の磁性層を直接支持体に塗布すると磁性
層の表面に非磁性支持体の影響が表れやすくなり、電磁
変換特性やドロップアウトの悪化傾向が見られる。

【０００３】この問題を解決する一つの手段に、特開昭
63-191315号公報、特開昭63-187418号公報に記されてい
るように、支持体上に同時重層塗布方式を用いて非磁性
層と磁性層をこの順に設けることにより、濃度の高い磁
性塗布液を薄く塗布する方法がある。これらの発明によ
り飛躍的に歩留まりは改良され良好な電磁変換特性を得
ることができるようになった。しかし、更に記録密度を
高めるためにトラック幅を一段と狭くした記録再生シス
テムが開発されてきている。これに対応して感度が高い
磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）を用いて再生すること
が提案され、ハードディスク等で実用化されている。磁
気テープのようなフレキシブルな磁気記録媒体において
もＭＲヘッドを使うと原理的には記録密度が向上でき
る。しかしながら既存の磁気記録媒体では出力は充分に
高くても、高ノイズであり、ＭＲヘッドを使用する場合
は必ずしも良好なＣ／Ｎを得ることができない。また、
良好なＣ／Ｎを得るには表面粗さを低減する事が一般的
であるが、記録再生装置の磁気テープ搬送系に使用され
ているテープガイドなどの固定部材との接触面積が増大
して、媒体の走行安定性が劣化する。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の目的
は、高密度磁気記録においても高いＣ／Ｎを示し、かつ
優れた走行安定性を有する磁気記録媒体を提供すること
にある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上述の課
題を達成するために磁性層、非磁性層の構成や磁性層表
面粗さに関して鋭意検討した。その結果、非磁性可撓性
支持体上に、非磁性粉末と結合剤とを含む非磁性層及び
強磁性粉末と結合剤とを含む磁性層をこの順に設けた磁
気記録媒体において、前記磁性層の平均厚みｄが0.01〜
0.3μmであり、該磁性層の厚みの標準偏差σと平均厚み
ｄの比がσ/d≦0.5であり、かつ原子間力顕微鏡で測定
した磁性層表面の粗さスペクトルにおいて、波長1〜5μ
mの粗さ成分の強度が0.5nm²以下であり、かつ波長0.5〜
1μmの粗さ成分強度が0.02〜0.5nm²であることを特徴と
する磁気記録媒体によって達成することができることを
見出した。

【０００６】本発明の磁気記録媒体においては、磁性層
の面内方向の保持力Ｈｃが119400 A/m以上318400 A/m以
下（1500 Oe以上4000 Oe以下）であり、かつ面内方向に
於ける磁性層１cm²当たりの残留磁化が５×10^-7〜５×1
0^-6 Am²（0.0005〜0.005emu）であることが好ましい。
また、本発明の磁気記録媒体においては、前記非磁性可
撓性支持体の磁性層側の原子間力顕微鏡で測定した表面
粗さスペクトルが、波長１〜５μmの粗さ成分強度が0.5
nm²以下であり、かつ波長0.5μm以上、1μm未満の粗さ
成分強度が0.02〜0.5nm²であることが好ましい。さら
に、本発明の磁気記録媒体においては、非磁性層の結合
剤重量Ｂ(L)が非磁性粉末100重量部に対して５部以上、
25部以下であり、かつＢ(L)と磁性層の結合剤重量Ｂ(U)
との比が0.1≦Ｂ(U)/Ｂ(L)≦1.0であることが好まし
い。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明の磁気記録媒体は、磁性層
の平均厚みｄが0.01〜0.3μmであり、磁性層の厚みの標
準偏差σと平均厚みｄとの比σ/d≦0.5であることが特
徴の1つである。従来の磁気誘導型ヘッドで記録再生し
た場合、これほど磁性層を薄くすると磁化量が少なく再
生出力が低下する。しかし、ＭＲヘッドで再生した場合
は感度が充分に高いので、充分な出力が得られかつ、磁
性層が薄い利点である分解能が向上できる。即ち、磁性
層の厚みの平均値ｄを0.01μm以上とすることで、必要
な磁化を確保し、また0.3μm以下とすることで分解能が
向上し、ＭＲヘッドでのＣ／Ｎを改善できる。特に、磁
性層の厚みの平均値ｄは、ＭＲヘッドでのＣ／Ｎの改善
という観点から、好ましくは0.01〜0.2μmの範囲、さら
に好ましくは0.01〜0.1μmの範囲である。しかし、上記
の様な薄い磁性層では飽和記録になるので、磁性層の厚
み変動が直接ノイズとなってしまう。そこで、磁性層の
厚み変動はない事が理想であるが、磁性層の厚みの標準
偏差σとｄとの比σ/d≦0.5とすることで、実用に耐え
得る程度のノイズに低減できる。ノイズをより低減する
という観点からは、比σ/d≦0.3であることが好まし
い。σを小さくする具体的手段としては、例えば、特許
第2566096号に記載されている様に、(1)非磁性層塗布液
をチクソトロピックにする、(2)非磁性層に針状非磁性
粉末を用いる、(3)非磁性層を塗布乾燥後に磁性層を塗
布するwet on dry方式を用いる、などがある。さらに
は、後述する非磁性層中の結合剤量と磁性層の結合剤量
を規定することで、比σ/d≦0.5とすることもできる。

【０００８】本発明の磁気記録媒体のもう一つの特徴
は、原子間力顕微鏡で測定した磁性層表面の粗さスペク
トルにおいて、波長1〜5μmの粗さ成分の強度が、0.5nm
²以下であり、かつ波長0.5μm以上、1μm未満の粗さ成
分強度が0.02〜0.5nm²であることである。磁性層表面の
粗さを原子間力顕微鏡で測定すると、粗さの波長と強度
が得られる。粗さのスペクトルとは、所定の粗さの波長
領域における、強度の変化を意味する。本発明の磁気記
録媒体の磁性層表面では、波長1〜5μmの粗さ成分の強
度が0.5nm²以下である。このようにすることにより、再
生時の振幅変調ノイズ#やＭＲヘッド使用時のサーマル
アスペリティーを低減し、結果的にＣ／Ｎ比の向上が達
成できる。波長1〜5μmの粗さ成分の強度は、好ましく
は0.3nm²以下、より好ましくは0.15nm²以下である。ま
た、波長0.5μm以上、1μm未満の粗さ成分強度は0.02〜
0.5nm²である。このようにすることにより、摩擦係数を
低くできる。波長0.5μm以上、1μm未満の粗さ成分強度
は、好ましくは0.05〜0.3nm²である。

【０００９】磁性層表面の粗さのコントロールは、例え
ば、非磁性支持体の表面をコントロールすることで行う
ことができる。即ち、非磁性支持体の磁性層塗設面の１
〜５μmの粗さ成分強度及び波長0.5μm以上、1μm未満
の粗さ成分強度をそれぞれ制御することで磁性層表面の
形状を制御できる。非磁性支持体の磁性層塗設面の形状
は、支持体を構成する樹脂中にサイズの揃った粒子を分
散させて(フィラー内添)製膜するときに粒子サイズ及び
充填密度で制御するか、樹脂中にフィラーを含ませない
かあるいは添加量を少なめにし、製膜した後に、微粒子
のフィラーを結合剤に分散させた層を形成させること
で、制御することができる。

【００１０】さらに、本発明の磁気記録媒体において
は、上記に加えて、磁性層の面内方向の保持力Ｈｃが11
9400 A/m以上318400 A/m以下（1500 Oe以上4000 Oe以
下）であり、かつ面内方向に於ける磁性層１cm²当たり
の残留磁化が５×10^-7〜５×10^-6Am²（0.0005〜0.005em
u）であることが好ましい。これにより、過剰な磁化を
減らすことで、さらにノイズを低減し分解能を向上させ
ることができる。磁性層の面内方向の保持力Ｈｃは、好
ましくは143280〜278600 A/m（1800〜3500 Oe）、さら
に好ましくは159200〜238800 A/m（2000〜3000 Oe）で
ある。磁性層の面内方向の保持力Ｈｃは、磁性層に含ま
れる強磁性粉末のＨｃを調整することで適宜変化させる
ことができる。また、面内方向に於ける磁性層１cm²当
たりの残留磁化は、記録・再生方式により適宜最適化さ
れる。残留磁化量を上記に設定する方法は種々ある。例
えば、この媒体を従来のインダクティブヘッドで再生す
るときは、上記残留磁化量の範囲で大きめの設定をする
ことが適当である。オーバーライト(O/W)の要求から磁
性層を薄目に設定（例えば0.1μm以下）するときは、磁
性粉末としてσsが大きな（例えば、140〜160 Am²/kg(1
40〜160emu/g)）合金粉末を用いるのが好ましい。一
方、ＭＲヘッドで再生するときは粒子数を増やすと同時
に残留磁化量も上記範囲の小さめの設定をすることが適
当である。この場合は磁性粉末のσsは50〜130 Am²/kg
（50〜130emu/g）のものを用い、磁性層／非磁性層の結
合剤量を少なくするなどして極力充填密度を向上させる
ことが適当である。用いる強磁性粉末としては、例え
ば、σs 100〜130 Am²/kg（100〜130emu/g）の鉄合金粉
末、σs 50〜80 Am²/kg（50〜80emu/g）の六方晶フェラ
イト、マグネタイト、Ｃｏ-フェライト等を挙げること
ができる。

【００１１】本発明の磁気記録媒体は、非磁性可撓性支
持体上に、非磁性粉末と結合剤とを含む非磁性層及び強
磁性粉末と結合剤とを含む磁性層をこの順に設けたもの
である。以下に、磁性層、非磁性層及び非磁性可撓性支
持体を構成する材料等について順次説明する。 〔磁性層〕本発明の磁気記録媒体においては、磁性層は
単一層でも、複数でも本発明の目的を達成できる。複数
磁性層の場合は、例えば特開平6-139555号公報に記載の
技術を応用できる。 〔磁性粉体〕本発明の磁気記録媒体は、磁性層の平均厚
みｄが0.01〜0.3μｍである。そこで、磁性層に含まれ
る強磁性粉末は、磁性層の平均厚みを上記範囲にするこ
とが可能なものを用い、磁性粒子サイズは熱揺らぎの影
響が出ない範囲で小さいものであることが好ましい。実
用的には、針状粒子の場合、平均長軸長0.05〜0.2μm、
短軸径0.01〜0.025μmのものが適当である。また六方晶
フェライトでは、板径0.01〜0.2μm、厚み0.001〜0.1μ
mのものが適当である。但し、これらに限らず、より小
さい粒子の強磁性粉末を用いることもできる。

【００１２】磁性層に含まれる磁性粉体としては、γ−
ＦｅＯx（x＝1.33〜1.5）、Ｃｏ変性γ−ＦｅＯx（x＝
1.33〜1.5）、ＦｅまたはＮｉまたはＣｏを主成分（75
％以上）とする強磁性合金粉末、バリウムフェライト、
ストロンチウムフェライトなど公知の強磁性粉末を使用
できる。但し、α−Ｆｅを主成分とする強磁性鉄合金粉
末とバリウムフェライトなどの六方晶フェライトが好ま
しい。これらの強磁性粉末には所定の原子以外にＡｌ，
Ｓｉ，Ｓ，Ｓｃ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒ
ｈ，Ｐｄ，Ａｇ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｂａ，Ｔａ，Ｗ，
Ｒｅ，Ａｕ，Ｈｇ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎ
ｄ，Ｐ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｓｒ，Ｂなどの原子を含んでもか
まわない。熱的な安定性向上のために、Ａｌ，Ｓｉ，Ｔ
ａ，Ｙ等を表面に被着または固溶させることもできる。
特にＨｃを高くするためには、ＣｏやＳｍ、Ｎｄ等をＦ
ｅに対して５〜40重量％添加することが周知されてい
る。これらの強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑
剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ
処理を行ってもかまわない。

【００１３】上記強磁性粉末の中で強磁性鉄合金粉末に
ついては少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよ
い。強磁性鉄合金粉末の公知の製造方法により得られた
ものを用いることができ、下記の方法をあげることがで
きる。複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素など
の還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元
性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得
る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁
性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸
塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する
方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて粉末を得
る方法などである。このようにして得られた強磁性鉄合
金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬し
たのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含
有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥さ
せる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分
圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを
施したものでも用いることができる。但し、最後の方法
が最も好ましい。

【００１４】本発明の磁性層の強磁性粉末をＢＥＴ法に
よる比表面積で表せば25〜80m²/gであり、好ましくは40
〜70m²/gである。25m²/g以下ではノイズが高くなり、80
m²/g以上では表面性が得にくく好ましくない。本発明に
おける磁性層の強磁性粉末粒子の結晶子サイズは250〜1
00オングストロ−ムであり、好ましくは200〜100オング
ストロ−ムである。酸化鉄磁性粉末のσsは50 Am²/kg
（50emu/g）以上、好ましくは70 Am²/kg（70emu/g）以
上、であり、強磁性鉄合金粉末の場合は100 Am²/kg（10
0emu/g）以上が好ましい。抗磁力は119400 A/m以上3184
00 A/m以下（1500 Oe以上4000 Oe以下）が好ましく、更
に好ましくは159200 A/m以上238800 A/m以下（2000 Oe
以上3000 Oe以下）である。針状の強磁性粉末の場合、
針状比は18以下、更に好ましくは12以下である。

【００１５】強磁性粉末の含水率は0.01〜２重量％とす
るのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉末の含
水率は最適化するのが好ましい。γ酸化鉄のタップ密度
は0.5g/ml以上が好ましく、0.8g/ml以上がさらに好まし
い。鉄合金粉末の場合は0.2〜0.8g/mlが好ましく、0.8g
/ml以上に使用とすると鉄合金粉末の圧密過程で酸化が
進みやすく、十分なσsを得ることが困難になる。タッ
プ密度が0.2g/ml以下では分散不十分になりやすい。

【００１６】また、本発明に用いられる強磁性粉末は空
孔が少ないほうが好ましくその値は20容量％以下、さら
に好ましくは５容量％以下である。また形状については
先に示した粒子サイズについての特性を満足すれば針
状、粒状、米粒状（紡錘状ともいう）、板状いずれでも
かまわない。針状又は紡錘形状の強磁性粉末の場合、針
状比は12以下が好ましい。この強磁性粉末のＳＦＤ（Sw
itching Field Distribution）0.6以下を達成するた
めには、強磁性粉末のＨｃの分布を小さくする必要があ
る。そのためには、ゲ−タイトの粒度分布をよくするこ
と、γ−ヘマタイトの焼結を防止すること、コバルト変
性の酸化鉄についてはコバルトの被着速度を従来より遅
くすることなどの方法がある。

【００１７】本発明にはまた、板状六方晶フェライトと
してバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、
鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ
置換体等、六方晶Ｃｏ粉末が使用できる。具体的にはマ
グネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロ
ンチウムフェライト、更に一部スピネル相を含有したマ
グネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロ
ンチウムフェライト等が挙げられ、特に好ましいものと
してはバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト
の各Ｃｏ置換体である。また、抗磁力を制御するため上
記六方晶フェライトにＣｏ−Ｔｉ，Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ，
Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｉｒ−Ｚｎ等の
元素を添加した物を使用することができる。六方晶フェ
ライトは、通常、六角板状の粒子であり、その粒子径は
六角板状の粒子の板の幅を意味し、電子顕微鏡を使用し
て測定する。

【００１８】本発明ではこの粒子径0.01〜0.2μm、特に
好ましくは0.03〜0.1μmの範囲に規定するものである。
また、該微粒子の平均厚さ（板厚）は0.001〜0.1μm程
度であるが、特に0.003〜0.05μmが好ましい。更に板状
比（粒子径／板厚）は１〜10であり、好ましくは３〜７
である。また、これら六方晶フェライト微粉末のＢＥＴ
法による比表面積（ＳBET）は25〜70m²/gが好ましい。

【００１９】〔結合剤〕磁性層に用いる結合剤は既知の
ものが使用でき、例えば特許第2566096号、同第2571351
号公報に記載されているものを適宜使用できる。特に、
塩化ビニル系樹脂とポリウレタン樹脂が好ましい。これ
ら結合剤には、磁性粉末との吸着を促進する官能基（Ｓ
Ｏ₃Ｍ、ＰＯ₃Ｍなど）を含んでいることが好ましく、さ
らにエポキシ基を含むものも好ましい。分子量は10000
〜100000、好ましくは20000〜60000であることが適当で
ある。使用量は、磁性粉末100重量部に対して5〜25部、
好ましくは5〜20部、さらに好ましくは5〜15部であるこ
とが適当である。磁性層に既知の研磨剤である例えば、
α-アルミナ、Ｃｒ₂Ｏ₃等を含むことが可能であるが、
平均粒径はwet on wet塗布では磁性層厚みの1/3以上５
倍以下、wet on dry塗布では磁性層厚みの1/3以上２倍
以下が好ましい。大きすぎるとサーマルアスペリティー
の原因となる場合がある。特にwet on dry塗布では研磨
剤が突起になりやすいので微粒子のものが好ましい。ｐ
Ｈ調整及び表面処理は既知の技術を適宜使用することが
できる。磁性層には、上記以外に、固体潤滑剤（粒径30
mμ以上のカーボン）や、脂肪酸や同エステルなど液体
潤滑剤を適宜添加することができる。

【００２０】〔非磁性層〕非磁性層に用いる非磁性粉末
は既知のものが使用できる。例えば特許2571351号、同2
566096号公報に例示されているものを適宜使用できる。
具体的には本発明で特に好ましい非磁性粉末は、ｐＨ５
以上の針状の金属酸化物である。これらは官能基との吸
着性が高いので、少ない結合剤でも分散がよく、また塗
膜の機械的な強度も高い。さらに、形状効果から本発明
で要求される塗布液のチクソトロピー性を得やすいのが
特徴である。粒子サイズは前記公報に記載されているも
のでよいが、小さい程好ましい。非磁性粉末のその他の
好ましい態様として、DBPを用いた吸油量が５〜10ml/10
0g、好ましくは10〜80ml/100g、更に好ましくは20〜60m
l/100gであることが適当である。比重は１〜12、好まし
くは３〜６であることが適当である。形状は、針状、球
状、多面体状、板状のいずれでも良い。強熱減量は20重
量％以下であることが好ましい。

【００２１】本発明に用いられる非磁性粉末としての無
機粉末は、モース硬度が４以上のものが好ましい。これ
らの粉体表面のラフネスファクターは0.8〜1.5が好まし
く、更に好ましいのは0.9〜1.2である。ステアリン酸
（ＳＡ）吸着量は１〜20μmol/m²、更に好ましくは２〜
15μmol/m²であることが適当である。非磁性層非磁性粉
体の25℃での水への湿潤熱は、２×10^-5 J/cm²〜６×10
^-5 J/cm² （200erg/cm²〜600erg/cm²）の範囲にあるこ
とが好ましい。また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使
用することができる。100〜400℃での表面の水分子の量
は１〜10個/100オングストロームが適当である。水中で
の等電点におけるｐＨは５〜10の間にあることが好まし
い。

【００２２】これらの粉体の表面は、その少なくとも一
部が、Ａｌ₂Ｏ₃，ＳｉＯ₂，ＴｉＯ₂，ＺｒＯ₂，Ｓｎ
Ｏ₂，Ｓｂ₂Ｏ₃，ＺｎＯで被覆されるように表面処理す
ることが好ましい。特に分散性に好ましいのは、Ａｌ₂
Ｏ₃，ＳｉＯ₂，ＴｉＯ₂，ＺｒＯ₂である。これらの化合
物が二つ以上組み合わされて被覆されても良い。使用す
る結合剤は、磁性層と同様のものでよいが、分散性を向
上させる官能基（前記）を含むことはさらに好ましい。
特許2566088号、同2634792号公報に記載されているよう
に、無機粉体に分散を促進する芳香族リン化合物で表面
処理するとさらに有効である。

【００２３】非磁性層中の結合剤重量Ｂ(L)は、主成分
となる非磁性粉末100重量部に対して５部以上、25部以
下、好ましくは８部以上、20部以下にして、磁性層結合
剤重量Ｂ(U)との比を0.1≦Ｂ(L)/Ｂ(U)≦1.0、好ましく
は0.3≦Ｂ(L)/Ｂ(U)≦0.7とすることが適当である。B
(L)が25部より多いと磁性層の充填度が低下する傾向が
ある。またＢ(L)/Ｂ(U)が１より大きいと表面粗さが増
加するばかりでなく、同時重層塗布で磁性層を薄く塗布
できなくなる場合がある。0.1より小さいと（すなわち
非磁性層結合剤が少なすぎると）塗膜の機械的な強度が
確保できなくなって、粉落ちが起きる傾向もある。さら
に、上記のように、非磁性層中の結合剤量と磁性層の結
合剤量を規定することにより、磁性層厚みｄと標準偏差
σとの比がσ/d≦0.5とすることが容易になる。

【００２４】また、非磁性層中の結合剤量を少なくし
て、非磁性層塗布液のチクソトロピー性を増大するこ
と、さらに非磁性層中の結合剤量と磁性層中の結合剤量
との比率を特定することで、塗布時に発生する上非磁性
層界面の乱れを抑制し、磁性層表面の粗さをコントロー
ルしながら、極薄い磁性層の同時重層塗布ができる。さ
らに非磁性層の結合剤が少なく、同時重層塗布の場合に
余分な結合剤成分の磁性層へのマイグレートが少なくな
り磁性層の磁性粒子の充填度を向上させ、低ノイズ化を
促進できる。また、非磁性層の結合剤量を少なくするこ
とで、塗布層の空隙が多くなりカレンダーによる成形効
果が大きくなって、上記支持体の表面形状を磁性層表面
に反映させやすくなる。非磁性層の厚みは、例えば、0.
05〜2.0μm、好ましくは0.1〜1.5μmの範囲とすること
が適当である。非磁性層には、上記以外に、帯電防止用
カーボンブラック（粒径20mμ以下）や、研磨剤を添加
しても良い。また、公知の潤滑剤を添加できる。

【００２５】本発明の磁気記録媒体の磁性層及び非磁性
層には結合剤の一成分として以下にあげるポリイソシア
ネ−トを用いることにより、結合剤同士を架橋、硬化さ
せることが好ましい。トリレンジイソシアネ−ト、４−
４’−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチ
レンジイソシアネ−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、
ナフチレン−１，５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジ
ンジイソシアネ−ト、イソホロンジイソシアネ−ト、ト
リフェニルメタントリイソシアネ−ト等のイソシアネ−
ト類、また、これらのイソシアネ−ト類とポリアルコー
ルとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって
生成したポリイソシアネ−ト等を使用することができ
る。これらのイソシアネート類の市販されている商品名
としては、日本ポリウレタン社製コロネートＬ、コロネ
−トＨＬ，コロネ−ト２０３０、コロネ−ト２０３１、
ミリオネ−トＭＲ、ミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品社製
タケネ−トＤ−１０２，タケネ−トＤ−１１０Ｎ、タケ
ネ−トＤ−２００、タケネ−トＤ−２０２、住友バイエ
ル社製デスモジュ−ルＬ、デスモジュ−ルＩＬ、デスモ
ジュ−ルＮ、デスモジュ−ルＨＬ等がありこれらを単独
または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上
の組合せで非磁性層、磁性層とも用いることができる。

【００２６】本発明の磁気記録媒体の磁性層及び非磁性
層にはカ−ボンブラックを使用することもできる。カ−
ボンブラックとしては、例えば、ゴム用ファ−ネス、ゴ
ム用サ−マル、カラ−用ブラック、アセチレンブラック
等を用いることができる。カーボンブラックの比表面積
は５〜500m²/g、ＤＢＰ吸油量は10〜400ml/100g、粒子
径は５mμ〜300mμ、ｐＨは２〜10、含水率は0.1〜10重
量％、タップ密度は0.1〜１g/mlであることが好まし
い。本発明に用いられるカ−ボンブラックの具体的な例
としてはキャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０
００，１３００，１０００，９００，８００，７００，
ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２，旭カ−ボン社製＃８０，＃
６０，＃５５，＃５０，＃３５，三菱化成工業社製＃２
４００Ｂ，＃２３００，＃９００，＃１０００，＃３
０，＃４０，＃１０Ｂ，コンロンビアカ−ボン社製ＣＯ
ＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ，ＲＡＶＥＮ １５０，５０，４
０，１５などがあげられる。カ−ボンブラックを分散剤
などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用して
も、表面の一部をグラファイト化したものを使用しても
かまわない。また、カ−ボンブラックを磁性塗料に添加
する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。こ
れらのカ−ボンブラックは単独、または組合せで使用す
ることができる。カ−ボンブラックを使用する場合は強
磁性粉末に対する量の0.1〜30重量％で用いることが好
ましい。カ−ボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係
数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、こ
れらは用いるカ−ボンブラックにより異なる。従って本
発明に使用されるこれらのカ−ボンブラックは磁性層、
非磁性層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、
吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに
目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。本
発明の磁性層で使用できるカ−ボンブラックは例えば
「カ−ボンブラック便覧」カ−ボンブラック協会編を参
考にすることができる。

【００２７】本発明の磁気記録媒体の磁性層には研磨剤
を添加することができる。研磨剤としては、例えば、α
化率90％以上のα-アルミナ、β-アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α-酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカ
−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など
主としてモ−ス硬度６以上の公知の材料が単独または組
合せで使用される。また、これらの研磨剤同士の複合体
（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用して
もよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または
元素が含まれる場合もあるが、主成分が90重量％以上で
あることが適当である。タップ密度は0.3〜２g/ml、含
水率は0.1〜５重量％、ｐＨは２〜11、比表面積は１〜3
0m²/gが好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状
は、針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形
状の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。本
発明に用いられる研磨剤の具体的な例としては、住友化
学社製、ＡＫＰ-２０，ＡＫＰ-３０，ＡＫＰ-５０，Ｈ
ＩＴ-５０，ＨＩＴ-５，ＨＩＴ-６０Ａ，ＨＩＴ-７０，
ＨＩＴ-１００，日本化学工業社製Ｇ５，Ｇ７，Ｓ−
１，戸田工業社製ＴＦ−１００，ＴＦ−１４０などがあ
げられる。本発明に用いられる研磨剤は磁性層（上非磁
性層）、非磁性層で種類、量および組合せを変え、目的
に応じて使い分けることはもちろん可能である。これら
の研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗
料中に添加してもかまわない。

【００２８】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果等を持つもの
が使用される。そのような添加剤として、例えば、二硫
化モリブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化
ホウ素、フッ化黒鉛、シリコ−ンオイル、極性基をもつ
シリコ−ン、脂肪酸変性シリコ−ン、フッ素含有シリコ
−ン、フッ素含有アルコ−ル、フッ素含有エステル、ポ
リオレフィン、ポリグリコ−ル、アルキル燐酸エステル
およびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよ
びそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエ−テル、フッ素
含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、
炭素数10〜24の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んで
も、また分岐していてもかまわない）、および、これら
の金属塩（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃｕなど）または、炭素数
12〜22の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコ−
ル（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわ
ない）、炭素数12〜22のアルコキシアルコ−ル、炭素数
10〜24の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また
分岐していてもかまわない）と炭素数２〜12の一価、二
価、三価、四価、五価、六価アルコ−ルのいずれか一つ
（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわな
い）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エス
テルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重
合物のモノアルキルエ−テルの脂肪酸エステル、炭素数
８〜22の脂肪酸アミド、炭素数８〜22の脂肪族アミン、
などが使用できる。

【００２９】これらの具体例としてはラウリン酸、ミリ
スチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ス
テアリン酸ブチル、オレイン酸、リノ−ル酸、リノレン
酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン
酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オ
クチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソル
ビタンモノステアレ−ト、アンヒドロソルビタンジステ
アレ−ト 、アンヒドロソルビタントリステアレ−ト、
オレイルアルコ−ル、ラウリルアルコ−ル、があげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイド
付加体等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステル
アミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類等の
カチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐
酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基を含む
アニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸エステル類、ア
ルキルベダイン型等の両性界面活性剤等も使用できる。

【００３０】これらの界面活性剤については、「界面活
性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載され
ている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも100
％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反
応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は30％以下が好ましく、さらに好ま
しくは10％以下である。

【００３１】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は、非磁性層、磁性層でその種類、量を必要に応
じ使い分けることができる。例えば、非磁性層、磁性層
で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御
する、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのに
じみ出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗
布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を非磁性層で
多くして潤滑効果を向上させるなど考えられ、無論ここ
に示した例のみに限られるものではない。また本発明で
用いられる添加剤のすべてまたはその一部は、磁性塗料
製造のどの工程で添加してもかまわない。例えば、混練
工程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合
剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添
加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加す
る場合などがある。また、目的に応じて磁性層を塗布し
た後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部
を塗布することにより目的が達成される場合がある。ま
た、目的によってはカレンダーした後、またはスリット
終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。

【００３２】本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例
としては、日本油脂社製ＮＡＡ-１０２，ＮＡＡ-４１
５，ＮＡＡ-３１２，ＮＡＡ-１６０，ＮＡＡ-１８０，
ＮＡＡ-１７４，ＮＡＡ-１７５，ＮＡＡ-２２２，ＮＡ
Ａ-３４，ＮＡＡ-３５，ＮＡＡ-１７１，ＮＡＡ-１２
２，ＮＡＡ-１４２，ＮＡＡ-１６０，ＮＡＡ-１７３
Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸，ＮＡＡ-４２，ＮＡＡ-４４，カ
チオンＳＡ，カチオンＭＡ，カチオンＡＢ，カチオンＢ
Ｂ，ナイミーンＬ-２０１，ナイミーンＬ-２０２，ナイ
ミーンＳ-２０２，ノニオンＥ-２０８，ノニオンＰ-２
０８，ノニオンＳ-２０７，ノニオンＫ-２０４，ノニオ
ンＮＳ-２０２，ノニオンＮＳ-２１０，ノニオンＨＳ-
２０６，ノニオンＬ-２，ノニオンＳ-２，ノニオンＳ-
４，ノニオンＯ-２，ノニオンＬＰ-２０Ｒ，ノニオンＰ
Ｐ-４０Ｒ，ノニオンＳＰ-６０Ｒ，ノニオンＯＰ-８０
Ｒ，ノニオンＯＰ-８５Ｒ，ノニオンＬＴ-２２１，ノニ
オンＳＴ−２２１，ノニオンＯＴ−２２１，モノグリＭ
Ｂ，ノニオンＤＳ-６０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブ
チルステアレート，ブチルラウレート，エルカ酸，関東
化学社製オレイン酸，竹本油脂社製ＦＡＬ-２０５，Ｆ
ＡＬ-１２３，新日本理化社製エヌジェルブＬＯ，エヌ
ジェルブＩＰＭ，サンソサイザ-Ｅ４０３０，信越化学
社製ＴＡ-３，ＫＦ-９６，ＫＦ-９６Ｌ，ＫＦ９６Ｈ，
ＫＦ４１０，ＫＦ４２０，ＫＦ９６５，ＫＦ５４，ＫＦ
５０，ＫＦ５６，ＫＦ９０７，ＫＦ８５１，Ｘ-２２-８
１９，Ｘ-２２-８２２，ＫＦ９０５，ＫＦ７００，ＫＦ
３９３，ＫＦ-８５７，ＫＦ-８６０，ＫＦ-８６５，Ｘ-
２２-９８０，ＫＦ-１０１，ＫＦ-１０２，ＫＦ-１０
３，Ｘ-２２-３７１０，Ｘ-２２-３７１５，ＫＦ-９１
０，ＫＦ-３９３５，ライオンアーマー社製アーマイド
Ｐ，アーマイドＣ，アーモスリップＣＰ，ライオン油脂
社製デュオミンＴＤＯ，日清製油社製ＢＡ-４１Ｇ，三
洋化成社製プロファン２０１２Ｅ，ニュ−ポ−ルＰＥ６
１，イオネットＭＳ-４００，イオネットＭＯ-２００イ
オネットＤＬ-２００，イオネットＤＳ-３００，イオネ
ットＤＳ-１０００イオネットＤＯ-２００などがあげら
れる。

【００３３】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノ−
ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチ
ルアルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコ−ル類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用で
きる。これら有機溶媒は必ずしも100％純粋ではなく、
主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸
化物、水分等の不純分が含まれてもかまわない。これら
の不純分は30％以下が好ましく、さらに好ましくは10％
以下である。本発明で用いる有機溶媒は磁性層と非磁性
層でその種類は同じであることが好ましい。その添加量
は変えてもかまわない。非磁性層に表面張力の高い溶媒
（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安
定性を上げることができる。具体的には、磁性層溶剤組
成の算術平均値が非磁性層溶剤組成の算術平均値を下回
らないことが適当である。分散性を向上させるためには
ある程度、極性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘
電率が15以上の溶剤が50％以上含まれることが好まし
い。また、溶解パラメ−タは８〜11であることが好まし
い。

【００３４】〔非磁性可撓性支持体〕本発明に用いられ
る非磁性可撓性支持体としては、例えば、ポリエチレン
テレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレート等のポリエ
ステル類、ポリオレフィン類、セルロ−ストリアセテ−
ト、ポリカ−ボネ−ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリ
アミドイミド、ポリスルフォン、アラミド、芳香族ポリ
アミドなどの公知のフィルムが使用できる。これらの支
持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易
接着処理、熱処理、除塵処理等を行ってもよい。本発明
の目的を達成するには、非磁性可撓性支持体として、Ａ
ＦＭで測定した表面粗さスペクトルにおいて波長１〜５
μmの粗さ強度が0.5nm²以下、好ましくは0.3nm²以下、
さらに好ましくは0.15nm²以下であり、波長0.5μm〜１
μmの粗さ強度が0.02〜0.5nm²、好ましくは0.05〜0.3 n
m²であるものを使用することが好ましい。表面の粗さ形
状は、支持体に添加されるフィラ−の大きさと量により
自由にコントロ−ルできる。これらのフィラ−としては
一例としてはＣａ，Ｓｉ，Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の
他、アクリル系などの有機微粉末があげられる。

【００３５】本発明に用いられる非磁性支持体は、テー
プの場合、走行方向のＦ−５値が好ましくは５〜50kg/m
m²、幅方向のＦ−５値は好ましくは３〜30kg/mm²であ
り、テ−プ長手方向のＦ−５値がテ−プ幅方向のＦ−５
値より高いのが一般的であるが、特に幅方向の強度を高
くする必要があるときはその限りでない。また、支持体
のテ−プ走行方向および幅方向の100℃、30分での熱収
縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは1.5％以
下、80℃、30分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さ
らに好ましくは0.5％以下である。破断強度は両方向と
も５〜100kg/mm²、弾性率は100〜2000kg/mm²が好まし
い。

【００３６】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は、非磁
性可撓性支持体が、例えば、１〜100μm、好ましくは４
〜80μmであることが適当である。磁性層と非磁性層を
合わせた厚みは非磁性可撓性支持体の厚みの1/100〜２
倍の範囲とすることか適当である。また、非磁性可撓性
支持体と非磁性層の間に密着性向上のための下塗り層を
設けてもかまわない。この下塗層厚みは、例えば、0.01
〜２μm、好ましくは0.02〜1.5μmであることが適当で
ある。また、非磁性支持体の磁性層側と反対側にバック
コ−ト層を設けてもかまわない。バックコ−ト層の厚み
は、例えば、0.1〜２μm、好ましくは0.3〜1.0μmであ
ることが適当である。これらの下塗層、バックコ−ト層
は公知のものを使用することができる。

【００３７】本発明の磁気記録媒体は、非磁性層用塗料
及び磁性層用塗料を塗布することにより製造することが
できる。非磁性層用塗料及び磁性層用塗料を製造する工
程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの
工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個
々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわ
ない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カ−ボン
ブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべ
ての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかま
わない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して
添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工
程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分
割して投入してもよい。

【００３８】本発明の目的を達成するためには、従来の
公知の製造技術をその一部工程として用いることができ
るのはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加
圧ニーダなど強い混練力を持つものを使用することもで
きる。これらを使用すると高い残留磁束密度（Ｂｒ）を
有する磁気記録媒体の得ることができる。連続ニ−ダま
たは加圧ニ−ダを用いる場合、強磁性粉末と結合剤のす
べてまたはその一部（ただし全結合剤の30％以上が好ま
しい）は、強磁性粉末100重量部に対し15〜500重量部の
範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細につい
ては特開平1-106338号公報、特開昭64-79274号公報に記
載されている。また、非磁性層液を調製する場合には高
比重の分散メディアを用いることが望ましく、ジルコニ
アビーズが好適である。

【００３９】本発明のような重層構成の磁気記録媒体を
塗布する装置、方法の例として以下のような構成を挙げ
ることができる。 １．磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず非磁性層を塗布し、非磁性層がウ
ェット状態のうちに特公平1-46186号公報や特開昭60-23
8179号公報、特開平2-265672号公報に開示されている支
持体加圧型エクストルージョン塗布装置により磁性層を
塗布する。 ２．特開昭63-88080号公報、特開平2-17971号公報、特
開平2-265672号公報に開示されているような塗布液通液
スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより上非磁
性層をほぼ同時に塗布する。 ３．特開平2-174965号公報に開示されているバックアッ
プロール付きエクストルージョン塗布装置により上非磁
性層をほぼ同時に塗布する。

【００４０】なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体
の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭62-951
74号公報や特開平1-236968号公報に開示されているよう
な方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断を付与す
ることが望ましい。さらに、塗布液の粘度については、
特開平3-8471号公報に開示されている数値範囲を満足す
る必要がある。本発明の磁気記録媒体を得るためには強
力な配向を行う必要がある。100mT（1000Ｇ）以上のソ
レノイドと200mT（2000Ｇ）以上のコバルト磁石を同極
対向で併用することが好ましく、さらには乾燥後の配向
性が最も高くなるように配向前に予め適度の乾燥工程を
設けることが好ましい。また、ディスク媒体として本発
明を適用する場合はむしろ配向をランダマイズするよう
な配向法が必要である。また、磁性層と非磁性層の配向
方向を変更するために配向する方向は、必ずしも長手方
向で面内方向である必要はなく、垂直方向、幅方向にも
配向できる。

【００４１】さらに、カレンダー処理ロ−ルとしてエポ
キシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の
耐熱性のあるプラスチックロ−ルを使用する。また、金
属ロ−ル同士で処理することもできる。処理温度は、好
ましくは70℃以上、さらに好ましくは80℃以上である。
線圧力は好ましくは200kg/cm、さらに好ましくは300kg/
cm以上である。本発明の磁気記録媒体の磁性層面および
その反対面のSUS420Ｊに対する摩擦係数は好ましくは0.
5以下、さらに0.3以下、表面固有抵抗は好ましくは10⁴
〜10¹²オ−ム/sq、磁性層の0.5％伸びでの弾性率は走行
方向、幅方向とも好ましくは100〜2000kg/mm²、破断強
度は好ましくは１〜30kg/cm²、磁気記録媒体の弾性率は
走行方向、長手方向とも好ましくは100〜1500kg/mm²、
残留伸びは好ましくは0.5％以下、100℃以下のあらゆる
温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好まし
くは0.5％以下、もっとも好ましくは0.1％以下である。
磁性層のガラス転移温度(110Hzで測定した動的粘弾性測
定の損失弾性率の極大点)は50℃以上120℃以下が好まし
く、非磁性層のそれは０℃〜100℃が好ましい。損失弾
性率は１×10³〜８×10⁴ Ｎ/cm²（１×10⁸〜８×10⁹dyn
e/cm²）の範囲にあることが好ましく、損失正接は0.2以
下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着
故障が出やすくなる傾向がある。

【００４２】磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは
100mg/m²以下、さらに好ましくは10mg/m²以下である。
磁性層が有する空隙率は非磁性層、磁性層とも好ましく
は30容量％以下、さらに好ましくは20容量％以下であ
る。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好まし
いが、目的によってはある値を確保した方がよい場合が
ある。例えば、繰り返し用途が重視されるデータ記録用
磁気記録媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は好ま
しいことが多い。本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁
場398K A/m（５K Oe）で測定した場合、テ−プ走行方向
の角形比は0.70以上であり、好ましくは0.80以上さらに
好ましくは0.90以上である。テ−プ走行方向に直角な二
つの方向の角型比は走行方向の角型比の80％以下となる
ことが好ましい。磁性層のＳＦＤ（Switching Field
Distribution）は0.6以下であることが好ましい。

【００４３】本発明の磁気記録媒体は非磁性層と磁性層
を有するが、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの物
理特性を変えることができるのは容易に推定されること
である。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を
向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低く
して磁気記録媒体のヘッドへの当りをよくするなどであ
る。

【００４４】

【実施例】次に本発明の詳細な内容を実施例によって具
体的に説明する。実施例中「部」との表示は「重量部」
を意味する。 非磁性層 非磁性粉体 α−Ｆｅ₂Ｏ₃ 80部 平均長軸長 0.1μm BET法による比表面積 48m²/g ｐＨ８、Ｆｅ₂Ｏ₃含有量 90%以上 DBP吸油量 27〜38ml/100g 表面被覆化合物:Ａｌ₂Ｏ₃ カーボンブラック 20部 平均一次粒子径 16mμ ＤＢＰ吸油量 80ml/100g ｐＨ 8.0 ＢＥＴ法による比表面積 250m²/g 揮発分 1.5％ 塩化ビニル共重合体 ７部 日本セ゛オン社製ＭＲ-110 ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオヘ゜ンチルク゛リコール/カフ゜ロラクトンホ゜リオール/MDI=0.9/2.6/１ -SO₃Na基 １×10^-4 eq/g含有 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン 100部 シクロヘキサノン 50部 トルエン 50部 磁性層 強磁性鉄合金粉末 組成 Ｆｅ/Ｃｏ=80/20 100部 Ｈｃ 183080 A/m（2300 Oe）、BET法による比表面積 54m²/g 結晶子サイズ 165A、表面被覆化合物 : Ａｌ₂Ｏ₃, 粒子サイズ（長軸径） 0.1μｍ、 針状比 ８ σs : 150 Am²/kg（150 emu/g） 塩化ビニル系共重合体 ３部 日本セ゛オン社製ＭＲ-110 ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオヘ゜ンチルク゛リコール/カフ゜ロラクトンホ゜リオール/MDI=0.9/2.6/１ -SO₃Na基 １×10^-4eq/g含有 α−アルミナ（粒子サイズ0.1μｍ） ５部 カ−ボンブラック（粒子サイズ0.10μｍ） 0.5部 ブチルステアレート 1.5部 ステアリン酸 0.5部 メチルエチルケトン 90部 シクロヘキサノン 30部 トルエン 60部

【００4５】上記２つの塗料のそれぞれについて、各成
分を連続ニ−ダで混練したのち、サンドミルを用いて分
散させた。得られた分散液にポリイソシアネ−トを非磁
性中間層の塗布液には３部、磁性層塗布液には１部を加
え、さらにそれぞれにメチルエチルケトン、シクロヘキ
サノン混合溶媒40部を加え，１μmの平均孔径を有する
フィルターを用いて濾過し、非磁性層、磁性層形成用お
よび非磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調整した。得ら
れた非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さが1.0μmになるよ
うにさらにその直後にその上に磁性層の厚さが0.05μm
になるように、厚さ5.2μmでＡＭＦの粗さスペクトルで
波長0.5、１、５μmの粗さ成分強度がそれぞれ0.05、0.
06、0.09nm²のポリエチレンナフタレ−ト支持体上に同
時重層塗布を行い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに30
0mT（3000Ｇ）の磁力をもつ２極（同極）対向Ｃｏ−Ｓ
ｍ磁石と150mT（1500Ｇ）の磁力をもつソレノイドによ
り配向させ乾燥した後、金属ロ−ルのみから構成される
７段のカレンダーで温度90℃にて処理を行い、８mmの幅
にスリットし、８mmビデオテ−プを製造した。尚、非磁
性層の厚みは、0.3〜2.0μmであることが適当であり、
好ましくは0.5〜1.5μmの範囲である。

【００４６】（４）Ｈｃ，残留磁化 振動試料型磁束計（東英工業製）を用い、Ｈm 796K A/m
（10K Oe）で測定した。 （２）Ｃ／Ｎはドラムテスターを用いて測定した。使用
したヘッドは記録・再生用にＢs 1.2Ｔ、ギャップ長が0.
22μmのＭＩＧヘッドである。また再生用ＭＲヘッド#は
ＭＲ素子の厚み0.25μmのものを用いた。記録再生時の
ヘッド／媒体相対速度は10.5m/secで21ＭＨzの単一周波
信号を記録して、再生スペクトルをシバソク製スペクト
ルアナライザーで観測した。Ｃ／Ｎは21ＭＨzのキャリ
ア出力と19ＭＨzのノイズの比とした。 （３）厚み測定 サンプルテープを長手方向に約0.1μmの厚みにダイヤモ
ンドカッターで切り出し、透過型電子顕微鏡の倍率1000
00倍で観測・撮影して磁性層表面、磁性層／非磁性層界
面に線を引きZeiss社製画像処理装置ＩＢＡＳ２で測定
した。測定長が21cmの場合85〜300回計測し平均値ｄと
標準偏差σを算出した。 （４）摩擦係数 粗さ0.2Ｓで２mmφのSUS303の棒にテープを90度ラップ
させ、10gの荷重・速度18mm/secストローク10mmで100パ
ス摺動させ、最も大きな摩擦係数を計測した。測定環境
は21℃50％である。

【００４７】

【表１】

【００４８】実施例および比較例の説明 電磁変換特性は比較例１を基準（０dB）とした。これは
特許2566096号の実施例１-１に相当する。 実施例１；前記処方で作成した標準的なサンプルで、比
較例１より出力、Ｃ／Ｎが高い。 実施例２；ベースの粗さ強度が上限付近で、かつ磁性層
厚みが上限付近の例である。実施例１よりはＣ／Ｎが低
めになる。 実施例３；ベースの粗さ強度が下限付近で、かつ磁性層
厚みが下限に近いもの例である。実施例１よりは摩擦係
数が高い。 実施例４；実施例１において磁性体のσsを110 Am²/kg
（110emu/g）にした例である。実施例１と比べてインダ
クティブヘッドではＣ／Ｎが低くなるが、ＭＲヘッドで
は高くなった。 実施例５；実施例１において磁性体をＨｃ206960 A/m
（2600 Oe）、板径 0.06μm、厚み 0.01μmでσs 70
Am²/kg（70emu/g）のＢaフェライトを使った例である。
インダクティブヘッド、ＭＲヘッド両方で高Ｃ／Ｎを示
している。 実施例６；実施例１に対して非磁性層結合剤量が多い例
である。磁性層の充填度が低下し実施例１よりは出力、
Ｃ／Ｎは低めになる。 実施例７；実施例１において磁性体Ｈｃを139300 A/m
（1750 Oe）、σsを130 Am²/kg（130emu/g）にした例で
ある。実施例１に比べてインダクティブヘッドではＣ／
Ｎが低下したが、ＭＲヘッドでは同等のＣ／Ｎであっ
た。 比較例２；ベースが平滑過ぎる場合で、Ｃ／Ｎが優れる
が、摩擦係数の測定ができなかった。 比較例３； 実施例１において、支持体表面粗さのみを
比較例1と同様にした例である。 尚、図１に、実施例１及び２と比較例１の磁気テープの
磁性層表面の粗さ強度と波長との関係を示す。

【図面の簡単な説明】

【図１】 実施例１及び２と比較例１の磁気テープの磁
性層表面の粗さ強度と波長との関係。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 昌敏 神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富 士写真フイルム株式会社小田原工場内 Ｆターム(参考） 5D006 BA19 CB01 CB07 FA05 FA09

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性可撓性支持体上に、非磁性粉末と
   結合剤とを含む非磁性層及び強磁性粉末と結合剤とを含
   む磁性層をこの順に設けた磁気記録媒体において、前記
   磁性層の平均厚みｄが0.01〜0.3μmであり、該磁性層の
   厚みの標準偏差σと平均厚みｄの比がσ/d≦0.5であ
   り、かつ原子間力顕微鏡で測定した磁性層表面の粗さス
   ペクトルにおいて、波長1〜5μmの粗さ成分の強度が、
   0.5nm²以下であり、かつ波長0.5μm以上、1μm未満の粗
   さ成分強度が0.02〜0.5nm²であることを特徴とする磁気
   記録媒体。
2. 【請求項２】 磁性層の面内方向の保持力Ｈｃが119400
   A/m以上318400 A/m以下（1500 Oe以上4000 Oe以下）で
   あり、かつ面内方向に於ける磁性層１cm²当たりの残留
   磁化が５×10^-7〜５×10^-6 Am²（0.0005〜0.005emu）で
   あることを特徴とする請求項１の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 前記非磁性可撓性支持体の磁性層側の原
   子間力顕微鏡で測定した表面粗さスペクトルが、波長１
   〜５μmの粗さ成分強度が0.5nm²以下であり、かつ波長
   0.5以上、１μm未満の粗さ成分強度が0.02〜0.5nm²であ
   ることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録
   媒体。
4. 【請求項４】 非磁性層の結合剤重量Ｂ(L)が非磁性粉末
   100重量部に対して25部以下であり、かつＢ(L)と磁性層
   の結合剤重量Ｂ(U)との比が0.1≦Ｂ(U)/Ｂ(L)≦1.0であ
   ることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載
   の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）を用い
   て再生が行われる磁気記録媒体として使用されることを
   特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気記
   録媒体。