JP2634792B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JP2634792B2 JP2634792B2 JP8138720A JP13872096A JP2634792B2 JP 2634792 B2 JP2634792 B2 JP 2634792B2 JP 8138720 A JP8138720 A JP 8138720A JP 13872096 A JP13872096 A JP 13872096A JP 2634792 B2 JP2634792 B2 JP 2634792B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- magnetic recording
- magnetic
- layer
- magnetic layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体、特に
１．０μｍ以下の非常に薄い磁性層を有する磁気記録媒
体に関するものである。更に、詳しくは高密度記録用の
塗布型磁気記録媒体に関するものである。
１．０μｍ以下の非常に薄い磁性層を有する磁気記録媒
体に関するものである。更に、詳しくは高密度記録用の
塗布型磁気記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録媒体は、録音用テープ、ビデオ
テープ、コンピューターテープ、ディスクなどとして広
く用いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され記
録波長が短くなっており、記録方式もアナログ方式か
ら、ディジタル方式まで検討されている。この高密度化
の要求に対して、磁性層に金属薄膜を用いた磁気記録媒
体が提案されているが、生産性、腐食等の実用信頼性の
点で強磁性粉末を結合剤中に分散して、支持体上に塗布
したいわゆる塗布型の磁気記録媒体が優れる。しかしな
がら、金属薄膜に対して塗布型媒体は磁性物の充填度が
低いために、電磁変換特性が劣る。塗布型磁気記録媒体
としては、強磁性酸化鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、Ｃｒ
Ｏ2 、強磁性合金粉末等を結合剤中に分散した磁性層を
非磁性支持体に塗設したものが広く用いられる。
テープ、コンピューターテープ、ディスクなどとして広
く用いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され記
録波長が短くなっており、記録方式もアナログ方式か
ら、ディジタル方式まで検討されている。この高密度化
の要求に対して、磁性層に金属薄膜を用いた磁気記録媒
体が提案されているが、生産性、腐食等の実用信頼性の
点で強磁性粉末を結合剤中に分散して、支持体上に塗布
したいわゆる塗布型の磁気記録媒体が優れる。しかしな
がら、金属薄膜に対して塗布型媒体は磁性物の充填度が
低いために、電磁変換特性が劣る。塗布型磁気記録媒体
としては、強磁性酸化鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、Ｃｒ
Ｏ2 、強磁性合金粉末等を結合剤中に分散した磁性層を
非磁性支持体に塗設したものが広く用いられる。
【０００３】塗布型磁気記録媒体の電磁変換特性の向上
には、強磁性粉末の磁気特性の改良、表面の平滑化など
があり、種々の方法が提案されているが、高密度化に対
しては充分なものではない。また、近年、高密度化と共
に記録波長が短くなる傾向にあり、磁性層の厚さが厚い
と出力が低下する記録時の自己減磁損失、再生時の厚味
損失の問題が大きくなっている。
には、強磁性粉末の磁気特性の改良、表面の平滑化など
があり、種々の方法が提案されているが、高密度化に対
しては充分なものではない。また、近年、高密度化と共
に記録波長が短くなる傾向にあり、磁性層の厚さが厚い
と出力が低下する記録時の自己減磁損失、再生時の厚味
損失の問題が大きくなっている。
【０００４】このため、磁性層を薄くすることが行われ
ているが、磁性層を約２μｍ以下に薄くすると磁性層の
表面に非磁性支持体の影響が現れやすくなり、電磁変換
特性やドロップアウトの悪化傾向が見られる。このた
め、特開昭５７−１９８５３６号公報の如く、支持体表
面の非磁性の厚い下塗層を設けてから磁性層を上層とし
て設けるようにすれば前記の支持体の表面粗さの影響は
解消することができるが、ヘッド磨耗や耐久性が改善さ
れないという問題があった。これは、従来、非磁性下層
として熱硬化系樹脂を結合剤として用いているので、下
層が硬化し、磁性層とヘッドとの摩擦や他の部材との接
触が無緩衝状態で行われることや、このような下層を有
する磁気記録媒体がやや可撓性に乏しい等のことに起因
していると考えられる。これを解消するために、下層に
非硬化系樹脂を結合剤として用いることが考えられる
が、従来の方法では、下層を塗布乾燥後磁性層を上層と
して塗布する場合、下層が上層の塗布液の有機溶剤によ
り膨潤し、上層の塗布液に乱流を起こさせる等の影響を
与え磁性層の表面性を悪くし、電磁変換特性を低下させ
る等の問題を生じる。また、磁性層を薄層化するために
は、塗布量を減らすこととか、もしくは磁性塗布液に溶
剤を多量に加えて濃度を薄くすることが考えられる。前
者を取る場合、塗布量を減らすと塗布後に十分なレベリ
ングの時間がなく、乾燥が始まるために、塗布欠陥、例
えば、スジや刻印のパターンが残るといった問題が発生
し、歩留りが非常に悪くなる。後者の方法を取った場
合、磁性塗布液の濃度が希薄であると、できあがった塗
膜に空隙が多く、十分な磁性体の充填性が得られないこ
と、また、空隙が多いために塗膜の強度が不十分である
ことなど、種々の弊害をもたらす。特開昭６２−１５４
２２５号公報の発明ではこのように歩留りが悪いことが
大きな問題であった。
ているが、磁性層を約２μｍ以下に薄くすると磁性層の
表面に非磁性支持体の影響が現れやすくなり、電磁変換
特性やドロップアウトの悪化傾向が見られる。このた
め、特開昭５７−１９８５３６号公報の如く、支持体表
面の非磁性の厚い下塗層を設けてから磁性層を上層とし
て設けるようにすれば前記の支持体の表面粗さの影響は
解消することができるが、ヘッド磨耗や耐久性が改善さ
れないという問題があった。これは、従来、非磁性下層
として熱硬化系樹脂を結合剤として用いているので、下
層が硬化し、磁性層とヘッドとの摩擦や他の部材との接
触が無緩衝状態で行われることや、このような下層を有
する磁気記録媒体がやや可撓性に乏しい等のことに起因
していると考えられる。これを解消するために、下層に
非硬化系樹脂を結合剤として用いることが考えられる
が、従来の方法では、下層を塗布乾燥後磁性層を上層と
して塗布する場合、下層が上層の塗布液の有機溶剤によ
り膨潤し、上層の塗布液に乱流を起こさせる等の影響を
与え磁性層の表面性を悪くし、電磁変換特性を低下させ
る等の問題を生じる。また、磁性層を薄層化するために
は、塗布量を減らすこととか、もしくは磁性塗布液に溶
剤を多量に加えて濃度を薄くすることが考えられる。前
者を取る場合、塗布量を減らすと塗布後に十分なレベリ
ングの時間がなく、乾燥が始まるために、塗布欠陥、例
えば、スジや刻印のパターンが残るといった問題が発生
し、歩留りが非常に悪くなる。後者の方法を取った場
合、磁性塗布液の濃度が希薄であると、できあがった塗
膜に空隙が多く、十分な磁性体の充填性が得られないこ
と、また、空隙が多いために塗膜の強度が不十分である
ことなど、種々の弊害をもたらす。特開昭６２−１５４
２２５号公報の発明ではこのように歩留りが悪いことが
大きな問題であった。
【０００５】本出願人は、これらの問題を解決する一つ
の手段として、特開昭６３−１９１３１５号、同６３−
１８７４１８号の各公報に記載されているような同時重
層塗布方式を用いて下層に非磁性の層を設け、この下層
が湿潤状態の間に強磁性粉末を含有する上層磁性層を設
ける方法を採用することにより、塗布欠陥のない、生産
性に優れ、しかも再生出力、Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性、
走行耐久性を改善できる磁気記録媒体を提案した。
の手段として、特開昭６３−１９１３１５号、同６３−
１８７４１８号の各公報に記載されているような同時重
層塗布方式を用いて下層に非磁性の層を設け、この下層
が湿潤状態の間に強磁性粉末を含有する上層磁性層を設
ける方法を採用することにより、塗布欠陥のない、生産
性に優れ、しかも再生出力、Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性、
走行耐久性を改善できる磁気記録媒体を提案した。
【０００６】しかしながら、このような方法を適用して
もなお、下記の問題点を解決することはできなかった。
上述のような同時重層塗布技術においては、磁性面を平
滑にするために下層に用いる粉体を微粒子化して下層の
表面性を確保して磁性層の表面性を改善できるのではな
いかと考えられる。しかしながら、このような微粒子を
使用した場合、この微粒子は凝集しやすく、かえって下
層の表面性を悪化させひいては磁性層の表面性を不良に
するという問題がある。この問題は、磁性層を更に薄層
化させて電磁変換特性を改善しようとしても下層の粉体
の分散性が悪いために磁性層と下層との界面の制御が困
難になり、その界面が乱れ、均一一様な磁性層が得られ
ないという問題もある。また、微粒子の表面積が大きく
なるので磁性層もしくは非磁性層に含まれる潤滑剤を吸
着もしくは吸収し、磁性層表面における潤滑剤の量を著
しく低減させる。従って、磁気記録媒体の摩擦係数の上
昇にともなうジッター、スチルライフの低下が顕在化す
るという問題がある。
もなお、下記の問題点を解決することはできなかった。
上述のような同時重層塗布技術においては、磁性面を平
滑にするために下層に用いる粉体を微粒子化して下層の
表面性を確保して磁性層の表面性を改善できるのではな
いかと考えられる。しかしながら、このような微粒子を
使用した場合、この微粒子は凝集しやすく、かえって下
層の表面性を悪化させひいては磁性層の表面性を不良に
するという問題がある。この問題は、磁性層を更に薄層
化させて電磁変換特性を改善しようとしても下層の粉体
の分散性が悪いために磁性層と下層との界面の制御が困
難になり、その界面が乱れ、均一一様な磁性層が得られ
ないという問題もある。また、微粒子の表面積が大きく
なるので磁性層もしくは非磁性層に含まれる潤滑剤を吸
着もしくは吸収し、磁性層表面における潤滑剤の量を著
しく低減させる。従って、磁気記録媒体の摩擦係数の上
昇にともなうジッター、スチルライフの低下が顕在化す
るという問題がある。
【０００７】非磁性粉末の分散性を改善するために、非
磁性粉末の表面を従来公知の処理剤、例えば、ＴｉＯ
2 、シリカ等の非磁性粉末に対し、ペンタエリトリト、
トリメチロールプロパンなどのポリオール、脂肪酸など
の有機酸、トリエタノールアミン、トリメチロールアミ
ンと言ったアルカノールアミン、シリコン樹脂、アルキ
ルクロロシランなどのシリコン系で処理する方法が知ら
れているが、これらの表面処理剤は、分散性は向上する
が、走行性の改善はみられないという問題がある。ま
た、走行性を改善するために潤滑剤を多量に使用すると
塗膜強度が低減するという問題がある。
磁性粉末の表面を従来公知の処理剤、例えば、ＴｉＯ
2 、シリカ等の非磁性粉末に対し、ペンタエリトリト、
トリメチロールプロパンなどのポリオール、脂肪酸など
の有機酸、トリエタノールアミン、トリメチロールアミ
ンと言ったアルカノールアミン、シリコン樹脂、アルキ
ルクロロシランなどのシリコン系で処理する方法が知ら
れているが、これらの表面処理剤は、分散性は向上する
が、走行性の改善はみられないという問題がある。ま
た、走行性を改善するために潤滑剤を多量に使用すると
塗膜強度が低減するという問題がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、電磁変換特
性が良好な磁気記録媒体を提供すること、及び走行性が
良好でかつ保存安定性が良好な磁気記録媒体を提供する
ことを課題とする。
性が良好な磁気記録媒体を提供すること、及び走行性が
良好でかつ保存安定性が良好な磁気記録媒体を提供する
ことを課題とする。
【０００９】本発明の上記目的は、（１）支持体上に無
機質粉末を結合剤に分散した下層を設け、その上に強磁
性粉末を結合剤に分散した上層磁性層を設けた磁気記録
媒体において、前記上層磁性層の乾燥厚みが１．０μｍ
以下であり、前記下層の前記無機質粉末がモ−ス硬度３
以上であり、かつ前記下層に燐（Ｐ）含有の有機化合物
を含むことを特徴とする磁気記録媒体によって達成でき
る。本発明の好ましい態様は次の通りである。 （２）前記上層磁性層のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係
数が０．５以下であることを特徴とする前記（１）記載
の磁気記録媒体。 （３）前記強磁性粉末がＣｏを含む強磁性粉末であるこ
とを特徴とする前記（１）記載の磁気記録媒体。 （４）前記上層磁性層はカーボンブラックを含むことを
特徴とする前記（１）記載の磁気記録媒体。 （５） 前記燐（Ｐ）含有の有機化合物がα−ナフチルリ
ン酸、フェニルリン酸、ジフェニルリン酸、ｐ−エチル
ベンゼンホスホン酸、フェニルホスホン酸、フェニルホ
スフィン酸から選ばれた少なくとも１種であることを特
徴とする前記（１）記載の磁気記録媒体。（６） 前記上層磁性層および／または下層の結合剤とし
てＳ含有極性基を有する結合剤を少なくとも１種含むこ
とを特徴とする前記（１）記載の磁気記録媒体。（７） 前記Ｓ含有極性基を有する結合剤は−ＯＳＯ3 Ｍ
または−ＳＯ3 Ｍ（以上につきＭは水素原子、またはア
ルカリ金属）であることを特徴とする前記（６）記載の
磁気記録媒体。（８） 前記無機質粉末がＴｉＯ2 （ルチル、アナター
ゼ）、ＴｉＯX （１≦ｘ＜２）、酸化セリウム、酸化ス
ズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ2 、ＳｉＯ2 、
Ｃｒ2 Ｏ3 、α化率９０％以上のαアルミナ、βアルミ
ナ、γアルミナ、α酸化鉄、ゲータイト、コランダム、
窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マグネシウム、窒化
硼素、２硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ3 、ＣａＣ
Ｏ3 、ＢａＣＯ3 、ＳｒＣＯ3 、ＢａＳＯ4 、炭化珪
素、炭化チタンから選ばれる少なくとも１種であること
を特徴とする前記（１）記載の磁気記録媒体。（９） 前記磁性層に使用する前記強磁性粉末は、Ｆｅま
たはＮｉまたはＣｏを主成分とする強磁性合金粉末、バ
リウムフエライト、ストロンチウムフエライトから選ば
れた少なくとも１種であることを特徴とする前記（１）
記載の磁気記録媒体。（１０） 前記磁性層に使用する前記強磁性粉末は所定の
原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃ
ｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、
Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌ
ａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、
Ｓｒ、Ｂから選ばれた少なくとも１種の原子を含むこと
を特徴とする前記（９）記載の磁気記録媒体。（１１） 前記磁気記録媒体は０．５％伸び弾性率が４０
０〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2 であることを特徴とする前記
（１）記載の磁気記録媒体。（１２） 前記支持体は走行方向、幅方向ともに弾性率
が１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2 であることを特徴とす
る前記（１）記載の磁気記録媒体。
機質粉末を結合剤に分散した下層を設け、その上に強磁
性粉末を結合剤に分散した上層磁性層を設けた磁気記録
媒体において、前記上層磁性層の乾燥厚みが１．０μｍ
以下であり、前記下層の前記無機質粉末がモ−ス硬度３
以上であり、かつ前記下層に燐（Ｐ）含有の有機化合物
を含むことを特徴とする磁気記録媒体によって達成でき
る。本発明の好ましい態様は次の通りである。 （２）前記上層磁性層のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係
数が０．５以下であることを特徴とする前記（１）記載
の磁気記録媒体。 （３）前記強磁性粉末がＣｏを含む強磁性粉末であるこ
とを特徴とする前記（１）記載の磁気記録媒体。 （４）前記上層磁性層はカーボンブラックを含むことを
特徴とする前記（１）記載の磁気記録媒体。 （５） 前記燐（Ｐ）含有の有機化合物がα−ナフチルリ
ン酸、フェニルリン酸、ジフェニルリン酸、ｐ−エチル
ベンゼンホスホン酸、フェニルホスホン酸、フェニルホ
スフィン酸から選ばれた少なくとも１種であることを特
徴とする前記（１）記載の磁気記録媒体。（６） 前記上層磁性層および／または下層の結合剤とし
てＳ含有極性基を有する結合剤を少なくとも１種含むこ
とを特徴とする前記（１）記載の磁気記録媒体。（７） 前記Ｓ含有極性基を有する結合剤は−ＯＳＯ3 Ｍ
または−ＳＯ3 Ｍ（以上につきＭは水素原子、またはア
ルカリ金属）であることを特徴とする前記（６）記載の
磁気記録媒体。（８） 前記無機質粉末がＴｉＯ2 （ルチル、アナター
ゼ）、ＴｉＯX （１≦ｘ＜２）、酸化セリウム、酸化ス
ズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ2 、ＳｉＯ2 、
Ｃｒ2 Ｏ3 、α化率９０％以上のαアルミナ、βアルミ
ナ、γアルミナ、α酸化鉄、ゲータイト、コランダム、
窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マグネシウム、窒化
硼素、２硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ3 、ＣａＣ
Ｏ3 、ＢａＣＯ3 、ＳｒＣＯ3 、ＢａＳＯ4 、炭化珪
素、炭化チタンから選ばれる少なくとも１種であること
を特徴とする前記（１）記載の磁気記録媒体。（９） 前記磁性層に使用する前記強磁性粉末は、Ｆｅま
たはＮｉまたはＣｏを主成分とする強磁性合金粉末、バ
リウムフエライト、ストロンチウムフエライトから選ば
れた少なくとも１種であることを特徴とする前記（１）
記載の磁気記録媒体。（１０） 前記磁性層に使用する前記強磁性粉末は所定の
原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃ
ｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、
Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌ
ａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、
Ｓｒ、Ｂから選ばれた少なくとも１種の原子を含むこと
を特徴とする前記（９）記載の磁気記録媒体。（１１） 前記磁気記録媒体は０．５％伸び弾性率が４０
０〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2 であることを特徴とする前記
（１）記載の磁気記録媒体。（１２） 前記支持体は走行方向、幅方向ともに弾性率
が１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2 であることを特徴とす
る前記（１）記載の磁気記録媒体。
【００１０】本発明は、下層に燐（Ｐ）含有の有機化合
物（以下、「Ｐ含有有機化合物」ともいう）を含有せし
めることにより、下層の無機質粉末の分散性を改善して
下層と上層磁性層との界面の制御を容易にして上層磁性
層の表面性を確保すると共に下層に含まれる無機質粉末
と脂肪酸との相互作用を制御することにより、下層及び
上層磁性層中の遊離の脂肪酸量を制御して、上層磁性層
の走行耐久性を改善すると共に特に短波長記録における
電磁変換特性を改善したものである。そして、本発明
は、乾燥膜厚が１μｍ以下の上層磁性層（以下、単に磁
性層または上層とも言う。）を下層に塗布欠陥がなく設
けるために下層塗布液に無機質粉末を含ませたものを使
用し、支持体上にまず該下層が湿潤状態の内に該上層を
塗設することができる。即ち、本発明は、ピンホール、
すじなどの塗布欠陥を抑えた大量生産性に優れた磁性層
の極めて薄い、強磁性金属薄膜に匹敵する性能をも有す
る走行耐久性に優れた磁気記録媒体を提供するものであ
る。
物（以下、「Ｐ含有有機化合物」ともいう）を含有せし
めることにより、下層の無機質粉末の分散性を改善して
下層と上層磁性層との界面の制御を容易にして上層磁性
層の表面性を確保すると共に下層に含まれる無機質粉末
と脂肪酸との相互作用を制御することにより、下層及び
上層磁性層中の遊離の脂肪酸量を制御して、上層磁性層
の走行耐久性を改善すると共に特に短波長記録における
電磁変換特性を改善したものである。そして、本発明
は、乾燥膜厚が１μｍ以下の上層磁性層（以下、単に磁
性層または上層とも言う。）を下層に塗布欠陥がなく設
けるために下層塗布液に無機質粉末を含ませたものを使
用し、支持体上にまず該下層が湿潤状態の内に該上層を
塗設することができる。即ち、本発明は、ピンホール、
すじなどの塗布欠陥を抑えた大量生産性に優れた磁性層
の極めて薄い、強磁性金属薄膜に匹敵する性能をも有す
る走行耐久性に優れた磁気記録媒体を提供するものであ
る。
【００１１】本発明に使用されるＰ含有有機化合物は、
無機質粉末に吸着または反応しうるものが好ましい。即
ち、本発明は、下層にＰ含有有機化合物を含有させるこ
とにより、無機質粉末と脂肪酸との吸着状態の割合ある
いは確率を相対的に低減せしめようとするものである。
言い換えれば、その結果、下層に含まれる脂肪酸は、無
機質粉末と吸着していない遊離状態のものの割合が多く
なり、該脂肪酸は上層磁性層表面へ徐々に滲み出て、走
行性を改善する機能を果たすものである。また、該遊離
状態の脂肪酸量が従来より大きくなったので磁気記録媒
体中に含有される脂肪酸の絶対量を従来より低減でき、
その結果磁気記録媒体の可塑化による弊害を防止する効
果も有する。更に、Ｐ含有有機化合物を担持した無機質
粉末は、下層の分散性を改善すると言う効果を有する。
無機質粉末に吸着または反応しうるものが好ましい。即
ち、本発明は、下層にＰ含有有機化合物を含有させるこ
とにより、無機質粉末と脂肪酸との吸着状態の割合ある
いは確率を相対的に低減せしめようとするものである。
言い換えれば、その結果、下層に含まれる脂肪酸は、無
機質粉末と吸着していない遊離状態のものの割合が多く
なり、該脂肪酸は上層磁性層表面へ徐々に滲み出て、走
行性を改善する機能を果たすものである。また、該遊離
状態の脂肪酸量が従来より大きくなったので磁気記録媒
体中に含有される脂肪酸の絶対量を従来より低減でき、
その結果磁気記録媒体の可塑化による弊害を防止する効
果も有する。更に、Ｐ含有有機化合物を担持した無機質
粉末は、下層の分散性を改善すると言う効果を有する。
【００１２】該無機質粉末としては、特に金属酸化物が
好ましく、特にＴｉＯ2 （ルチル）、α−Ｆｅ2 Ｏ3 、
ＺｎＯ、ＣｅＯ2 等が好ましい。該脂肪酸としては、従
来潤滑剤として使用されている脂肪酸が使用され、例え
ばラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリ
ン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン
酸、エライジン酸等が挙げられる。該Ｐ含有有機化合物
としては、上記機能を満足すれば、特に制限はないが、
好ましくは、無機質粉末の官能基、例えば、ＯＨ基等と
反応して化学結合を形成して無機質粉末に強固に担持さ
れ得る官能基を有する有機化合物が好ましく、具体的に
は、ｐＫａが３以下の有機酸、分子量３０００以下のエ
ポキシ基含有化合物、シランカップリング剤、チタネー
ト系カップリング剤等の表面処理剤が挙げられ、これら
は、単独もしくは組み合わせて使用できる。
好ましく、特にＴｉＯ2 （ルチル）、α−Ｆｅ2 Ｏ3 、
ＺｎＯ、ＣｅＯ2 等が好ましい。該脂肪酸としては、従
来潤滑剤として使用されている脂肪酸が使用され、例え
ばラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリ
ン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン
酸、エライジン酸等が挙げられる。該Ｐ含有有機化合物
としては、上記機能を満足すれば、特に制限はないが、
好ましくは、無機質粉末の官能基、例えば、ＯＨ基等と
反応して化学結合を形成して無機質粉末に強固に担持さ
れ得る官能基を有する有機化合物が好ましく、具体的に
は、ｐＫａが３以下の有機酸、分子量３０００以下のエ
ポキシ基含有化合物、シランカップリング剤、チタネー
ト系カップリング剤等の表面処理剤が挙げられ、これら
は、単独もしくは組み合わせて使用できる。
【００１３】これらＰ含有有機化合物を下層の無機質粉
末に吸着あるいは反応させる方法は特に制限なく、任意
の手段を採用できる。例えば、塗布液を調製する前に事
前に有機化合物と無機質粉末とを混合して無機質粉末表
面に有機化合物を吸着または反応させること、該塗布液
を調製する時、無機質粉末と結合剤を混練分散するに際
し、適当な時期に有機化合物を添加し、無機質粉末に吸
着、反応させる方法等が挙げられる。
末に吸着あるいは反応させる方法は特に制限なく、任意
の手段を採用できる。例えば、塗布液を調製する前に事
前に有機化合物と無機質粉末とを混合して無機質粉末表
面に有機化合物を吸着または反応させること、該塗布液
を調製する時、無機質粉末と結合剤を混練分散するに際
し、適当な時期に有機化合物を添加し、無機質粉末に吸
着、反応させる方法等が挙げられる。
【００１４】Ｐ含有有機化合物は、結合剤と無機質粉末
が混合分散される以前あるいは同時に添加されるのが好
ましく、脂肪酸を該無機質粉末、Ｐ含有有機化合物、結
合剤が混合分散された後に添加することが好ましい。即
ち、下層用塗布液を調製する際、該Ｐ含有有機化合物、
無機質粉末および結合剤が分散された後に脂肪酸を添加
すると、無機質粉末は該Ｐ含有有機化合物と吸着してお
り、かつ樹脂中に分散されているために脂肪酸と無機質
粉末との吸着が阻害される。その結果、無機質粉末と吸
着もしくは反応していない遊離の脂肪酸量（以下、遊離
の脂肪酸を遊離脂肪酸と言う）が増加する。本発明にお
いては、その効果は特に、Ｐ含有有機化合物としてその
構造が脂肪酸に比べ特に立体的に複雑である構造を有し
ている化合物を選択した場合に顕著である。
が混合分散される以前あるいは同時に添加されるのが好
ましく、脂肪酸を該無機質粉末、Ｐ含有有機化合物、結
合剤が混合分散された後に添加することが好ましい。即
ち、下層用塗布液を調製する際、該Ｐ含有有機化合物、
無機質粉末および結合剤が分散された後に脂肪酸を添加
すると、無機質粉末は該Ｐ含有有機化合物と吸着してお
り、かつ樹脂中に分散されているために脂肪酸と無機質
粉末との吸着が阻害される。その結果、無機質粉末と吸
着もしくは反応していない遊離の脂肪酸量（以下、遊離
の脂肪酸を遊離脂肪酸と言う）が増加する。本発明にお
いては、その効果は特に、Ｐ含有有機化合物としてその
構造が脂肪酸に比べ特に立体的に複雑である構造を有し
ている化合物を選択した場合に顕著である。
【００１５】該遊離脂肪酸の量は、１００×（上層及び
下層中の遊離脂肪酸量／上層及び下層中の脂肪酸全量）
で表すことができ、以下のような定量法により測定され
た値より算出したものが挙げられる（後述の実施例で使
用）。 （１）上層及び下層中の脂肪酸全量の測定法（仕込み量
測定） 磁気記録媒体の上層及び下層からなる塗膜をカッターの
刃等でけずり取り、その塗膜重量を測定し、強磁性粉
末、無機質粉末等の粉体を１２Ｎ塩酸で処理する。次い
で、ｎ−ヘキサンを塗膜重量１ｇ当たり２００ｃｃ使用
し、分液ロートにて油層を分離し、油層中の脂肪酸をガ
スクロマトグラフィーにて定量する。 （２）上層及び下層中の遊離脂肪酸量の測定法 磁気記録媒体の上層及び下層をカッターの刃等でけずり
取り、その塗膜重量を測定し、塗膜重量１ｇ当たり２０
０ｃｃのｎ−ヘキサンで抽出した後、脂肪酸をガスクロ
マトグラフィーにて定量する。
下層中の遊離脂肪酸量／上層及び下層中の脂肪酸全量）
で表すことができ、以下のような定量法により測定され
た値より算出したものが挙げられる（後述の実施例で使
用）。 （１）上層及び下層中の脂肪酸全量の測定法（仕込み量
測定） 磁気記録媒体の上層及び下層からなる塗膜をカッターの
刃等でけずり取り、その塗膜重量を測定し、強磁性粉
末、無機質粉末等の粉体を１２Ｎ塩酸で処理する。次い
で、ｎ−ヘキサンを塗膜重量１ｇ当たり２００ｃｃ使用
し、分液ロートにて油層を分離し、油層中の脂肪酸をガ
スクロマトグラフィーにて定量する。 （２）上層及び下層中の遊離脂肪酸量の測定法 磁気記録媒体の上層及び下層をカッターの刃等でけずり
取り、その塗膜重量を測定し、塗膜重量１ｇ当たり２０
０ｃｃのｎ−ヘキサンで抽出した後、脂肪酸をガスクロ
マトグラフィーにて定量する。
【００１６】ガスクロマトグラフィー条件：ソルベント
カット使用、カラム温度 １５０〜２８０℃、昇温速度
８℃／分 上記定義は、遊離脂肪酸は、ｎ−ヘキサンで容易に抽出
され得るが、遊離脂肪酸でない無機質粉末に吸着した脂
肪酸はほとんど抽出されないという性質に基づいたもの
である。本発明においては、脂肪酸は下層及び上層の総
重量に対し通常、２．０重量％以下、好ましくは１．５
重量％以下になるよう含有させた磁気記録媒体が好まし
く、そして該遊離脂肪酸量を５０重量％以上、好ましく
は６０重量％以上に制御したものがよい。該遊離脂肪酸
量が、５０重量％未満あるいは絶対量が２．０重量％よ
り大きいと上層及び下層からなる塗膜の可塑化が促進さ
れたり、分散性が悪化したりして、表面性、塗膜強度が
低下し、かつ上層表面への脂肪酸の供給が減少して走行
性が悪化するので好ましくない。
カット使用、カラム温度 １５０〜２８０℃、昇温速度
８℃／分 上記定義は、遊離脂肪酸は、ｎ−ヘキサンで容易に抽出
され得るが、遊離脂肪酸でない無機質粉末に吸着した脂
肪酸はほとんど抽出されないという性質に基づいたもの
である。本発明においては、脂肪酸は下層及び上層の総
重量に対し通常、２．０重量％以下、好ましくは１．５
重量％以下になるよう含有させた磁気記録媒体が好まし
く、そして該遊離脂肪酸量を５０重量％以上、好ましく
は６０重量％以上に制御したものがよい。該遊離脂肪酸
量が、５０重量％未満あるいは絶対量が２．０重量％よ
り大きいと上層及び下層からなる塗膜の可塑化が促進さ
れたり、分散性が悪化したりして、表面性、塗膜強度が
低下し、かつ上層表面への脂肪酸の供給が減少して走行
性が悪化するので好ましくない。
【００１７】本発明において使用されるＰ含有有機化合
物について更に詳述する。ｐＫａが３以下の有機酸とし
ては、α−ナフチルリン酸、フェニルリン酸、ジフェニ
ルリン酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホ
スホン酸、フェニルホスフィン酸などがある。
物について更に詳述する。ｐＫａが３以下の有機酸とし
ては、α−ナフチルリン酸、フェニルリン酸、ジフェニ
ルリン酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホ
スホン酸、フェニルホスフィン酸などがある。
【００１８】エポキシ基含有化合物としては、以下に挙
げる化１〜化８の一般構造のものが挙げられる。但し、
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 は脂肪族及び芳香族の基、Ｘは、化１
〜７では、−ＯＰＯ（ＯＭ）2 または−ＰＯ（ＯＭ）
2 、化８では、−ＳＯ3 Ｍ、−ＯＳＯ3 Ｍ、−ＯＰＯ
（ＯＭ）2 、−ＰＯ（ＯＭ）2 、−ＣＯＯＭ（ここで、
Ｍは、水素原子、またはアルカリ金属）から選択され、
２個のＸに内少なくとも一方は、−ＯＰＯ（ＯＭ）2 ま
たは−ＰＯ（ＯＭ）2 を表す。
げる化１〜化８の一般構造のものが挙げられる。但し、
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 は脂肪族及び芳香族の基、Ｘは、化１
〜７では、−ＯＰＯ（ＯＭ）2 または−ＰＯ（ＯＭ）
2 、化８では、−ＳＯ3 Ｍ、−ＯＳＯ3 Ｍ、−ＯＰＯ
（ＯＭ）2 、−ＰＯ（ＯＭ）2 、−ＣＯＯＭ（ここで、
Ｍは、水素原子、またはアルカリ金属）から選択され、
２個のＸに内少なくとも一方は、−ＯＰＯ（ＯＭ）2 ま
たは−ＰＯ（ＯＭ）2 を表す。
【００１９】
【化１】
【００２０】
【化２】
【００２１】
【化３】
【００２２】
【化４】
【００２３】
【化５】
【００２４】
【化６】
【００２５】
【化７】
【００２６】
【化８】
【００２７】チタネート系カップリング剤の具体例とし
て、以下のものが挙げられる。テトラオクチルビス（ジ
トリデシルホスファイト）チタネート、テトラ（２，２
−ジアリルオキシメチルトリブチル）ビス（トリデシ
ル）ホスファイトチタネート、ビス（ジオクチルバイロ
ホスフェート）オキシアネートチタネート、ビス（ジオ
クチルバイロホスフェート）エチレンチタネート、イソ
プロピルトリ（ジオクチルホスフェート）チタネート、
テトライソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チ
タネートなどがある。
て、以下のものが挙げられる。テトラオクチルビス（ジ
トリデシルホスファイト）チタネート、テトラ（２，２
−ジアリルオキシメチルトリブチル）ビス（トリデシ
ル）ホスファイトチタネート、ビス（ジオクチルバイロ
ホスフェート）オキシアネートチタネート、ビス（ジオ
クチルバイロホスフェート）エチレンチタネート、イソ
プロピルトリ（ジオクチルホスフェート）チタネート、
テトライソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チ
タネートなどがある。
【００２８】これらＰ含有有機化合物の添加量として
は、無機質粉末のＢＥＴ法による比表面積に対して０．
３〜３０μｍｏｌ／ｍ2 が望まれ、更に好ましくは、１
〜１０μｍｏｌ／ｍ2 である。本発明は上層と下層の界
面が平坦で上層磁性層厚味ができるだけ一様であること
が望ましく、そのための手段として本発明は寄与し得る
因子を含むものであるが、更にこれを満足するためには
他の制御因子を選択することが好ましい。
は、無機質粉末のＢＥＴ法による比表面積に対して０．
３〜３０μｍｏｌ／ｍ2 が望まれ、更に好ましくは、１
〜１０μｍｏｌ／ｍ2 である。本発明は上層と下層の界
面が平坦で上層磁性層厚味ができるだけ一様であること
が望ましく、そのための手段として本発明は寄与し得る
因子を含むものであるが、更にこれを満足するためには
他の制御因子を選択することが好ましい。
【００２９】この界面の変動あるいは乱れを制御するた
めの具体的手段としては、以下の２つが例示される。第
１の手段は、磁性層の磁性塗料と下層の各分散液のチキ
ソトロピー性を互いに近似するように制御することであ
り、第２の手段は、下層と磁性層に含まれる粉体のサイ
ズ、形状を規定して力学的に上層および下層に混合領域
が生じないように制御することである。
めの具体的手段としては、以下の２つが例示される。第
１の手段は、磁性層の磁性塗料と下層の各分散液のチキ
ソトロピー性を互いに近似するように制御することであ
り、第２の手段は、下層と磁性層に含まれる粉体のサイ
ズ、形状を規定して力学的に上層および下層に混合領域
が生じないように制御することである。
【００３０】第１の手段の具体的方法としては、各塗布
液が、剪断速度１０4 ｓｅｃ- 1 での剪断応力Ａ１０4
と剪断速度１０ｓｅｃ- 1 での剪断応力 Ａ１０との比
Ａ１０4 ／Ａ１０を１００≧Ａ１０4 ／Ａ１０≧３に調
整することが挙げられる。第２の手段としては、下層と
上層磁性層との界面において混合領域が生じないように
するため、下層に針状非磁性粉末あるいは鱗片状非磁性
粉末を用いることが挙げられる。従来の粒状の非磁性粉
末に比べ、針状の非磁性粉末が整列して存在すると未乾
燥状態でも強固な塗膜を形成し、上層磁性層の強磁性粉
末が回転しても、その界面で混合を生じないように制御
できる。又、混合領域が生じないようにするためのもう
１つの手段は下層に鱗片状の非磁性粉末を用いて、いわ
ばタイル状に敷きつめることであり、上記と同様、上層
磁性層の強磁性粉末が回転してもその界面で混合が生じ
ないようにできる。
液が、剪断速度１０4 ｓｅｃ- 1 での剪断応力Ａ１０4
と剪断速度１０ｓｅｃ- 1 での剪断応力 Ａ１０との比
Ａ１０4 ／Ａ１０を１００≧Ａ１０4 ／Ａ１０≧３に調
整することが挙げられる。第２の手段としては、下層と
上層磁性層との界面において混合領域が生じないように
するため、下層に針状非磁性粉末あるいは鱗片状非磁性
粉末を用いることが挙げられる。従来の粒状の非磁性粉
末に比べ、針状の非磁性粉末が整列して存在すると未乾
燥状態でも強固な塗膜を形成し、上層磁性層の強磁性粉
末が回転しても、その界面で混合を生じないように制御
できる。又、混合領域が生じないようにするためのもう
１つの手段は下層に鱗片状の非磁性粉末を用いて、いわ
ばタイル状に敷きつめることであり、上記と同様、上層
磁性層の強磁性粉末が回転してもその界面で混合が生じ
ないようにできる。
【００３１】そしてこれらの調整に係わる因子には、例
えば、分散される無機質粉末あるいは磁性粉末に関して
は、（１）粒子サイズ（比表面積、平均一次粒子径
等）、（２）構造（吸油量、粒子形態等）、（３）粉体
表面の性質（ｐＨ、加熱減量等）、（４）粒子の吸引力
（σS 等) 等、結合剤に関しては、（１）分子量、
（２）官能基の種類等、溶剤に関しては（１）種類（極
性等）、（２）結合剤溶解性、（３）溶剤処方量等、含
水率等が挙げられる。
えば、分散される無機質粉末あるいは磁性粉末に関して
は、（１）粒子サイズ（比表面積、平均一次粒子径
等）、（２）構造（吸油量、粒子形態等）、（３）粉体
表面の性質（ｐＨ、加熱減量等）、（４）粒子の吸引力
（σS 等) 等、結合剤に関しては、（１）分子量、
（２）官能基の種類等、溶剤に関しては（１）種類（極
性等）、（２）結合剤溶解性、（３）溶剤処方量等、含
水率等が挙げられる。
【００３２】また、本発明の磁気記録媒体は、界面にお
ける厚味変動（即ち、該界面の厚み方向における変動
幅）の平均値Δｄが磁性層の乾燥厚味平均値ｄの１／２
以下であることが好ましく、また、磁性層厚味の標準偏
差３σは、０．６μｍ、好ましくはσが０．２μｍ以下
である。すなわち３σが０．６μｍ以下は各セグメント
の９７％のものが０．６μｍ以下に入っていればよいこ
とを意味する。又、３σ≦６ｄ／１０であることが好ま
しい。
ける厚味変動（即ち、該界面の厚み方向における変動
幅）の平均値Δｄが磁性層の乾燥厚味平均値ｄの１／２
以下であることが好ましく、また、磁性層厚味の標準偏
差３σは、０．６μｍ、好ましくはσが０．２μｍ以下
である。すなわち３σが０．６μｍ以下は各セグメント
の９７％のものが０．６μｍ以下に入っていればよいこ
とを意味する。又、３σ≦６ｄ／１０であることが好ま
しい。
【００３３】これらｄ、Δｄ、σは以下のように求めら
れる（図１参照）。磁気記録媒体を長手方向にわたって
ダイヤモンドカッターで約０．１μｍの厚味に切り出
し、透過型電子顕微鏡で倍率１００００〜１０００００
倍、好ましくは２００００〜５００００倍で観察し、そ
の写真撮影を行う（写真のプリントサイズはＡ４〜Ａ５
である）。その後、上層磁性層、下層の強磁性粉末や無
機質粉末の形状差に注目して界面を目視判断して、黒く
縁取り、かつ磁性層表面も同様に黒く縁取りする。ま
ず、Δｄの求め方について述べる。前述の縁取りをした
上層磁性層と下層の界面の山又は谷との距離をΔｄとす
る。又、標準偏差σの求め方は、前述の如く縁取りし、
その後Ｚｅｉｓｓ社製画像処理装置ＩＢＡＳ２にて縁取
りした線の間隔の長さを測定する。磁性層厚の測定は長
さ２１ｃｍの間隔を１００〜３００のセグメント化して
その数だけ行い、ｄを求めた。
れる（図１参照）。磁気記録媒体を長手方向にわたって
ダイヤモンドカッターで約０．１μｍの厚味に切り出
し、透過型電子顕微鏡で倍率１００００〜１０００００
倍、好ましくは２００００〜５００００倍で観察し、そ
の写真撮影を行う（写真のプリントサイズはＡ４〜Ａ５
である）。その後、上層磁性層、下層の強磁性粉末や無
機質粉末の形状差に注目して界面を目視判断して、黒く
縁取り、かつ磁性層表面も同様に黒く縁取りする。ま
ず、Δｄの求め方について述べる。前述の縁取りをした
上層磁性層と下層の界面の山又は谷との距離をΔｄとす
る。又、標準偏差σの求め方は、前述の如く縁取りし、
その後Ｚｅｉｓｓ社製画像処理装置ＩＢＡＳ２にて縁取
りした線の間隔の長さを測定する。磁性層厚の測定は長
さ２１ｃｍの間隔を１００〜３００のセグメント化して
その数だけ行い、ｄを求めた。
【００３４】標準偏差σは、各セグメントでの厚味をｘ
i とすると下記数１で表される。
i とすると下記数１で表される。
【００３５】
【数１】
【００３６】Δｄは、Δｄ＝（Δｄ1 ＋Δｄ2 ＋……＋
Δｄm ）／ｍ （ｍ＝１０〜２０） で求められる。Δｄは界面での変動にのみ着目したもの
であるが、平均厚味ｄの標準偏差σは上層磁性層の表面
粗さの要素と界面での変動の両者を含んだ上層磁性層の
厚味の変動を意味する。この界面の変動は３σが０．６
μｍ以下であることが好ましい。これにより、磁性層厚
みの一様性を確保すると共に表面粗さＲａをＲａ≦λ／
５０、即ちλ／Ｒａを５０以上、好ましくは７５以上、
更に好ましくは１００以上に規制することができる。こ
こで、Ｒａは、光干渉粗さ計を用いて測定した中心線平
均粗さを測定した値をさす。
Δｄm ）／ｍ （ｍ＝１０〜２０） で求められる。Δｄは界面での変動にのみ着目したもの
であるが、平均厚味ｄの標準偏差σは上層磁性層の表面
粗さの要素と界面での変動の両者を含んだ上層磁性層の
厚味の変動を意味する。この界面の変動は３σが０．６
μｍ以下であることが好ましい。これにより、磁性層厚
みの一様性を確保すると共に表面粗さＲａをＲａ≦λ／
５０、即ちλ／Ｒａを５０以上、好ましくは７５以上、
更に好ましくは１００以上に規制することができる。こ
こで、Ｒａは、光干渉粗さ計を用いて測定した中心線平
均粗さを測定した値をさす。
【００３７】更に、最短記録波長λに対してλ／４≦ｄ
≦３λ、好ましくは、λ／４≦ｄ≦２λ（即ち、０．２
５≦ｄ／λ≦２）かつ磁性層の表面粗さＲａがＲａ≦λ
／５０の関係にあることが好ましい。これにより再生出
力変動、振幅変調ノイズを防止し、高再生出力、高Ｃ／
Ｎを実現することができる。
≦３λ、好ましくは、λ／４≦ｄ≦２λ（即ち、０．２
５≦ｄ／λ≦２）かつ磁性層の表面粗さＲａがＲａ≦λ
／５０の関係にあることが好ましい。これにより再生出
力変動、振幅変調ノイズを防止し、高再生出力、高Ｃ／
Ｎを実現することができる。
【００３８】本発明において、最短記録波長λは、磁気
記録媒体の種類により種々異なるが、例えば、８ｍｍメ
タルビデオでは０．７μｍ、デジタルビデオでは、Ｏ．
５μｍ、デジタルオーディオでは０．６７μｍが挙げら
れる。該磁性層厚みは、前記の通り実測して求められる
が、蛍光Ｘ線で磁性層中に特有に含まれる元素につい
て、既知厚みの磁性層サンプルを測定し、検量線を作成
し、次いで、未知資料のサンプルの厚みを蛍光Ｘ線の強
度から求めることもできる。
記録媒体の種類により種々異なるが、例えば、８ｍｍメ
タルビデオでは０．７μｍ、デジタルビデオでは、Ｏ．
５μｍ、デジタルオーディオでは０．６７μｍが挙げら
れる。該磁性層厚みは、前記の通り実測して求められる
が、蛍光Ｘ線で磁性層中に特有に含まれる元素につい
て、既知厚みの磁性層サンプルを測定し、検量線を作成
し、次いで、未知資料のサンプルの厚みを蛍光Ｘ線の強
度から求めることもできる。
【００３９】又、本発明は、磁性層表面の走査型トンネ
ル顕微鏡（ＳＴＭ）法による２乗平均粗さＲrms が前記
磁性層の乾燥厚味平均値ｄとの間に３０≦ｄ／Ｒrms の
関係があることが好ましい。磁性層厚味が薄くなると、
自己減磁損失が低減して出力向上が図れるはずである
が、磁性層厚味低減により押されしろが少なくなるため
にカレンダー成形性が悪くなり、表面粗さが大きくな
る。自己減磁損失低減による出力向上を図るためには上
式の関係を満たすＳＴＭによる表面粗さが好ましい。
ル顕微鏡（ＳＴＭ）法による２乗平均粗さＲrms が前記
磁性層の乾燥厚味平均値ｄとの間に３０≦ｄ／Ｒrms の
関係があることが好ましい。磁性層厚味が薄くなると、
自己減磁損失が低減して出力向上が図れるはずである
が、磁性層厚味低減により押されしろが少なくなるため
にカレンダー成形性が悪くなり、表面粗さが大きくな
る。自己減磁損失低減による出力向上を図るためには上
式の関係を満たすＳＴＭによる表面粗さが好ましい。
【００４０】ＡＦＭによるＲrms は、１０ｎｍ以下が好
ましい。３ｄ−ＭＩＲＡＵで測定した光干渉表面粗さＲ
ａは１〜４ｎｍ、Ｒrms は１．３〜６ｎｍ、Ｐ−Ｖ値
（Ｐｅａｋ−Ｖａｌｌｅｙ）値は、８０ｎｍ以下である
ことが好ましい。磁性層表面の光沢度は、カレンダー処
理後で２５０〜４００％が好ましい。このような表面性
を達成するには、例えば、本発明の条件内で更に以下の
４つの条件の少なくとも１つをも満足することによって
達成できる。 （１）下層に含まれる非磁性粉末がモース硬度３以上の
無機質粉末を含み、上層磁性層に含まれる強磁性粉末が
針状の強磁性粉末であり、前記無機質粉末の平均粒径が
針状の強磁性粉末の結晶子サイズの１／２〜４倍である
こと。 （２）下層に含まれる非磁性粉末がモース硬度３以上の
無機質粉末を含み、上層磁性層に含まれる強磁性粉末が
針状の強磁性粉末であり、前記無機質粉末の平均粒径が
針状の強磁性粉末の長軸長の１／３以下であること。 （３）上層磁性層に含まれる強磁性粉末が、磁化容易軸
が平板の垂直方向にある六角板状の強磁性粉末であり、
且つ下層に含まれる非磁性粉末が無機質粉末を含み、そ
の平均粒径が前記上層磁性層に含まれる強磁性粉末の板
径以下であること。 （４）下層に含まれる無機質粉末が無機質酸化物で被覆
された表面層を有する無機質非磁性粉末を含むこと。
ましい。３ｄ−ＭＩＲＡＵで測定した光干渉表面粗さＲ
ａは１〜４ｎｍ、Ｒrms は１．３〜６ｎｍ、Ｐ−Ｖ値
（Ｐｅａｋ−Ｖａｌｌｅｙ）値は、８０ｎｍ以下である
ことが好ましい。磁性層表面の光沢度は、カレンダー処
理後で２５０〜４００％が好ましい。このような表面性
を達成するには、例えば、本発明の条件内で更に以下の
４つの条件の少なくとも１つをも満足することによって
達成できる。 （１）下層に含まれる非磁性粉末がモース硬度３以上の
無機質粉末を含み、上層磁性層に含まれる強磁性粉末が
針状の強磁性粉末であり、前記無機質粉末の平均粒径が
針状の強磁性粉末の結晶子サイズの１／２〜４倍である
こと。 （２）下層に含まれる非磁性粉末がモース硬度３以上の
無機質粉末を含み、上層磁性層に含まれる強磁性粉末が
針状の強磁性粉末であり、前記無機質粉末の平均粒径が
針状の強磁性粉末の長軸長の１／３以下であること。 （３）上層磁性層に含まれる強磁性粉末が、磁化容易軸
が平板の垂直方向にある六角板状の強磁性粉末であり、
且つ下層に含まれる非磁性粉末が無機質粉末を含み、そ
の平均粒径が前記上層磁性層に含まれる強磁性粉末の板
径以下であること。 （４）下層に含まれる無機質粉末が無機質酸化物で被覆
された表面層を有する無機質非磁性粉末を含むこと。
【００４１】（１）〜（３）は、上層磁性層の強磁性粉
末と下層の無機質粉末のサイズ及び形状を限定して下層
の表面性を確保すると共に無機質粉末は強磁性粉末を力
学的に安定して整列させるサイズとしたものである。ま
た、又、無機質粉末の下層における体積充填率は好まし
くは２０〜６０％、更に好ましくは２５〜５５％の範囲
であることが望ましい。
末と下層の無機質粉末のサイズ及び形状を限定して下層
の表面性を確保すると共に無機質粉末は強磁性粉末を力
学的に安定して整列させるサイズとしたものである。ま
た、又、無機質粉末の下層における体積充填率は好まし
くは２０〜６０％、更に好ましくは２５〜５５％の範囲
であることが望ましい。
【００４２】また、無機質粉末は、非磁性粉末のうち重
量比率で６０％以上含むことが好ましく、無機質粉末と
しては、金属酸化物、アルカリ土類金属塩等であること
が好ましい。また、カーボンブラックを添加することに
より公知の効果（例えば、表面電気抵抗を低減する）を
期待できるので、上記無機質粉末と組み合わせて使用す
ることが好ましいが、カーボンは分散性が非常に悪いの
で、カーボン単独では十分な電磁変換特性を確保するこ
とができない。良好な分散性を得るためには重量比率で
６０％以上を金属酸化物、金属、アルカリ土類金属塩か
ら選択する必要がある。無機質粉末が非磁性粉末の重量
比率で６０％未満、カーボンブラックが非磁性粉末の４
０％以上であると分散性が不十分となり所望の電磁変換
特性を得ることができなくなる。本発明において、無機
質粉末はカーボンブラックを包含しないものとする。
量比率で６０％以上含むことが好ましく、無機質粉末と
しては、金属酸化物、アルカリ土類金属塩等であること
が好ましい。また、カーボンブラックを添加することに
より公知の効果（例えば、表面電気抵抗を低減する）を
期待できるので、上記無機質粉末と組み合わせて使用す
ることが好ましいが、カーボンは分散性が非常に悪いの
で、カーボン単独では十分な電磁変換特性を確保するこ
とができない。良好な分散性を得るためには重量比率で
６０％以上を金属酸化物、金属、アルカリ土類金属塩か
ら選択する必要がある。無機質粉末が非磁性粉末の重量
比率で６０％未満、カーボンブラックが非磁性粉末の４
０％以上であると分散性が不十分となり所望の電磁変換
特性を得ることができなくなる。本発明において、無機
質粉末はカーボンブラックを包含しないものとする。
【００４３】また、磁性層の厚味が長軸長の５倍以下で
あるとカレンダーによる充填度向上がめざましく、より
電磁変換特性の優れた磁気記録媒体が得られる。次に
（４）について説明する。下層に含まれる無機質粉末の
表面に被覆される無機質酸化物としては、好ましくはＡ
ｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＳｎＯ2 、
Ｓｂ2 Ｏ3 、ＺｎＯ等が好ましく、更に好ましいのはＡ
ｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＺｒＯ2 である。これらは、組み
合わせて使用してもよいし、単独で用いることもでき
る。又、目的に応じて共沈させた表面処理槽を用いても
良いし、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカ
で処理する構造、その逆の構造を取ることもできる。ま
た、表面処理層は、目的に応じて多孔質層にしても構わ
ないが、均質で密である方が一般には好ましい。
あるとカレンダーによる充填度向上がめざましく、より
電磁変換特性の優れた磁気記録媒体が得られる。次に
（４）について説明する。下層に含まれる無機質粉末の
表面に被覆される無機質酸化物としては、好ましくはＡ
ｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＳｎＯ2 、
Ｓｂ2 Ｏ3 、ＺｎＯ等が好ましく、更に好ましいのはＡ
ｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＺｒＯ2 である。これらは、組み
合わせて使用してもよいし、単独で用いることもでき
る。又、目的に応じて共沈させた表面処理槽を用いても
良いし、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカ
で処理する構造、その逆の構造を取ることもできる。ま
た、表面処理層は、目的に応じて多孔質層にしても構わ
ないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【００４４】以下、本発明が選択可能な一般的事項につ
いて述べる。本発明に使用できる無機質粉末は、例え
ば、金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属
窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の非磁性無機質粉末
が挙げられる。具体的にはＴｉＯ2 （ルチル、アナター
ゼ）、ＴｉＯX （１≦ｘ＜２）、酸化セリウム、酸化ス
ズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ2 、ＳｉＯ2 、
Ｃｒ2 Ｏ3 、α化率９０％以上のるαアルミナ、βアル
ミナ、γアルミナ、α酸化鉄、ゲータイト、コランダ
ム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マグネシウム、
窒化硼素、２硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ3 、Ｃ
ａＣＯ3 、ＢａＣＯ 3 、ＳｒＣＯ3 、ＢａＳＯ4 、炭化
珪素、炭化チタンなどが単独または組み合わせて使用さ
れる。これら無機質粉末の形状、サイズ等は任意であ
り、これらは必要に応じて異なる無機質粉末を組み合わ
せたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布等を選択するこ
ともできる。
いて述べる。本発明に使用できる無機質粉末は、例え
ば、金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属
窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の非磁性無機質粉末
が挙げられる。具体的にはＴｉＯ2 （ルチル、アナター
ゼ）、ＴｉＯX （１≦ｘ＜２）、酸化セリウム、酸化ス
ズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ2 、ＳｉＯ2 、
Ｃｒ2 Ｏ3 、α化率９０％以上のるαアルミナ、βアル
ミナ、γアルミナ、α酸化鉄、ゲータイト、コランダ
ム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マグネシウム、
窒化硼素、２硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ3 、Ｃ
ａＣＯ3 、ＢａＣＯ 3 、ＳｒＣＯ3 、ＢａＳＯ4 、炭化
珪素、炭化チタンなどが単独または組み合わせて使用さ
れる。これら無機質粉末の形状、サイズ等は任意であ
り、これらは必要に応じて異なる無機質粉末を組み合わ
せたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布等を選択するこ
ともできる。
【００４５】無機質粉末としては、次のものが好まし
い。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｃｃ、好ましくは
０．２〜１．５ｇ／ｃｃである。含水率は０．１〜５
％、好ましくは０．２〜３％。ｐＨは２〜１１、特に４
〜１０が好ましい。比表面積は、１〜１００ｍ2 ／ｇ、
好ましくは５〜７０ｍ2 ／ｇ、更に好ましくは７〜５０
ｍ2／ｇである。結晶子サイズは０．０１μｍ〜２μｍ
が好ましい。粒子サイズとしては、粒状にあっては、平
均粒径０．１μｍ以下、好ましくは０．０８μｍ以下で
あり、針状にあっては長軸長０．０５〜１．０μｍ、好
ましくは０．０５〜０．５μｍ、針状比５〜２０、好ま
しくは５〜１５の範囲から選択される。ＤＢＰを用いた
吸油量は５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜
８０ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ／
１００ｇである。ＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２
０μｍｏｌ／ｍ2 、更に好ましくは２〜１５μｍｏｌ／
ｍ2 である。粉体表面のラフネスファクターは０．８〜
１．５が好ましく、更に好ましくは２〜１５μｍｏｌ／
ｍ2 である。２５℃での水への湿潤熱は２００ｅｒｇ／
ｃｍ2 〜６００ｅｒｇ／ｃｍ2 が好ましい。また、この
湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができる。１０
０〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０個／１０
０Åが適当である。水中での等電点のｐＨは３〜９の間
にあることが好ましい。比重は１〜１２、好ましくは３
〜６である。
い。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｃｃ、好ましくは
０．２〜１．５ｇ／ｃｃである。含水率は０．１〜５
％、好ましくは０．２〜３％。ｐＨは２〜１１、特に４
〜１０が好ましい。比表面積は、１〜１００ｍ2 ／ｇ、
好ましくは５〜７０ｍ2 ／ｇ、更に好ましくは７〜５０
ｍ2／ｇである。結晶子サイズは０．０１μｍ〜２μｍ
が好ましい。粒子サイズとしては、粒状にあっては、平
均粒径０．１μｍ以下、好ましくは０．０８μｍ以下で
あり、針状にあっては長軸長０．０５〜１．０μｍ、好
ましくは０．０５〜０．５μｍ、針状比５〜２０、好ま
しくは５〜１５の範囲から選択される。ＤＢＰを用いた
吸油量は５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜
８０ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ／
１００ｇである。ＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２
０μｍｏｌ／ｍ2 、更に好ましくは２〜１５μｍｏｌ／
ｍ2 である。粉体表面のラフネスファクターは０．８〜
１．５が好ましく、更に好ましくは２〜１５μｍｏｌ／
ｍ2 である。２５℃での水への湿潤熱は２００ｅｒｇ／
ｃｍ2 〜６００ｅｒｇ／ｃｍ2 が好ましい。また、この
湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができる。１０
０〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０個／１０
０Åが適当である。水中での等電点のｐＨは３〜９の間
にあることが好ましい。比重は１〜１２、好ましくは３
〜６である。
【００４６】上記の無機質粉末は必ずしも１００％純粋
である必要はなく、目的に応じて表面を他の化合物、例
えば、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ等の
各化合物で処理し、それらの酸化物を表面に形成しても
よい。その際、純度は７０％以上であれば効果を減ずる
ことにはならない。強熱減量は２０％以下であることが
好ましい。
である必要はなく、目的に応じて表面を他の化合物、例
えば、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ等の
各化合物で処理し、それらの酸化物を表面に形成しても
よい。その際、純度は７０％以上であれば効果を減ずる
ことにはならない。強熱減量は２０％以下であることが
好ましい。
【００４７】本発明に用いられる無機質粉末の具体的な
例としては、昭和電工社製ＵＡ５６００、ＵＡ５６０
５、住友化学社製ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ
−５０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、
日本化学工業社製Ｇ５、Ｇ７、Ｓ−１、戸田工業社製Ｔ
Ｆ−１００、ＴＦ−１２０、ＴＦ−１４０、Ｒ５１６、
石原産業社製ＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ
−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−
５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＦＴ−１０００、ＦＴ−２０
００、ＦＴＬ−１００、ＦＴＬ−２００、Ｍ−１、Ｓ−
１、ＳＮ−１００、Ｒ−８２０、Ｒ−８３０、Ｒ−９３
０、Ｒ−５５０、ＣＲ−５０、ＣＲ−８０、Ｒ−６８
０、ＴＹ−５０、チタン工業社製ＥＣＴ−５２、ＳＴＴ
−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５
Ｃ、三菱マテリアル社製Ｔ−１、日本触媒社製ＮＳ−
Ｏ、ＮＳ−３Ｙ、ＮＳ−８Ｙ、テイカ社製ＭＴ−１００
Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００
Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｅ、堺化学社製ＦＩ
ＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、Ｂ
Ｆ−１Ｌ、ＢＦ−１０Ｐ、同和工業社製ＤＥＦＩＣ−
Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、チタン工業社製Ｙ−ＬＯＰ及びそ
れを焼成した物である。
例としては、昭和電工社製ＵＡ５６００、ＵＡ５６０
５、住友化学社製ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ
−５０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、
日本化学工業社製Ｇ５、Ｇ７、Ｓ−１、戸田工業社製Ｔ
Ｆ−１００、ＴＦ−１２０、ＴＦ−１４０、Ｒ５１６、
石原産業社製ＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ
−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−
５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＦＴ−１０００、ＦＴ−２０
００、ＦＴＬ−１００、ＦＴＬ−２００、Ｍ−１、Ｓ−
１、ＳＮ−１００、Ｒ−８２０、Ｒ−８３０、Ｒ−９３
０、Ｒ−５５０、ＣＲ−５０、ＣＲ−８０、Ｒ−６８
０、ＴＹ−５０、チタン工業社製ＥＣＴ−５２、ＳＴＴ
−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５
Ｃ、三菱マテリアル社製Ｔ−１、日本触媒社製ＮＳ−
Ｏ、ＮＳ−３Ｙ、ＮＳ−８Ｙ、テイカ社製ＭＴ−１００
Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００
Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｅ、堺化学社製ＦＩ
ＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、Ｂ
Ｆ−１Ｌ、ＢＦ−１０Ｐ、同和工業社製ＤＥＦＩＣ−
Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、チタン工業社製Ｙ−ＬＯＰ及びそ
れを焼成した物である。
【００４８】本発明に使用される非磁性無機質粉末とし
ては、特に酸化チタン（特に二酸化チタン）が好まし
い。以下、この酸化チタンの製法を詳しく記す。酸化チ
タンの製法は主に硫酸法と塩素法がある。硫酸法は、イ
ルミナイトの原鉱石を硫酸で蒸留し、Ｔｉ、Ｆｅなどを
硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析分離して除き、残
りの硫酸チタニル溶液を濾過精製後、熱加水分解を行っ
て、含水酸化チタンを沈殿させる。これを濾過洗浄後、
夾雑物質を洗浄除去し、粒径調節剤などを添加した後、
８００〜１０００℃で焼成すれば粗酸化チタンとなる。
ルチル型とアナターゼ型は加水分解の時に添加される核
材の種類によりわけられる。この粗酸化チタンを粉砕、
整粒、表面処理などを施して作成する。塩素法は原鉱石
天然ルチルや合成ルチルが用いられる。鉱石は高温還元
状態で塩素化され、ＴｉはＴｉＣｌ 4 にＦｅはＦｅＣｌ
2 となり、冷却により固体となった酸化鉄は液体のＴｉ
Ｃｌ 4 と分離される。得られた粗ＴｉＣｌ4 は精留によ
り精製した後、核生成剤を添加し、１０００℃以上の温
度で酸素と瞬間的に反応させ、粗酸化チタンを得る。こ
の酸化分解工程で生成した粗酸化チタンに顔料的性質を
与えるための仕上げ方法は硫酸法と同じである。
ては、特に酸化チタン（特に二酸化チタン）が好まし
い。以下、この酸化チタンの製法を詳しく記す。酸化チ
タンの製法は主に硫酸法と塩素法がある。硫酸法は、イ
ルミナイトの原鉱石を硫酸で蒸留し、Ｔｉ、Ｆｅなどを
硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析分離して除き、残
りの硫酸チタニル溶液を濾過精製後、熱加水分解を行っ
て、含水酸化チタンを沈殿させる。これを濾過洗浄後、
夾雑物質を洗浄除去し、粒径調節剤などを添加した後、
８００〜１０００℃で焼成すれば粗酸化チタンとなる。
ルチル型とアナターゼ型は加水分解の時に添加される核
材の種類によりわけられる。この粗酸化チタンを粉砕、
整粒、表面処理などを施して作成する。塩素法は原鉱石
天然ルチルや合成ルチルが用いられる。鉱石は高温還元
状態で塩素化され、ＴｉはＴｉＣｌ 4 にＦｅはＦｅＣｌ
2 となり、冷却により固体となった酸化鉄は液体のＴｉ
Ｃｌ 4 と分離される。得られた粗ＴｉＣｌ4 は精留によ
り精製した後、核生成剤を添加し、１０００℃以上の温
度で酸素と瞬間的に反応させ、粗酸化チタンを得る。こ
の酸化分解工程で生成した粗酸化チタンに顔料的性質を
与えるための仕上げ方法は硫酸法と同じである。
【００４９】また、本発明は下層にカーボンブラックを
使用することができ、公知の効果であるＲS （表面電気
抵抗）等を下げることもできる。このカーボンブラック
としてはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用
ブラック、アセチレンブラック、等を用いることができ
る。比表面積は１００〜５００ｍ2 ／ｇ、好ましくは１
５０〜４００、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１０
０ｇ、好ましくは３０〜２００ｍｌ／１００ｇである。
平均粒径は５ｍμ〜８０ｍμ、好ましくは１０〜５０ｍ
μ、更に好ましくは１０〜４０ｍμである。ｐＨは２〜
１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜
１ｇ／ｃｃが好ましい。
使用することができ、公知の効果であるＲS （表面電気
抵抗）等を下げることもできる。このカーボンブラック
としてはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用
ブラック、アセチレンブラック、等を用いることができ
る。比表面積は１００〜５００ｍ2 ／ｇ、好ましくは１
５０〜４００、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１０
０ｇ、好ましくは３０〜２００ｍｌ／１００ｇである。
平均粒径は５ｍμ〜８０ｍμ、好ましくは１０〜５０ｍ
μ、更に好ましくは１０〜４０ｍμである。ｐＨは２〜
１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜
１ｇ／ｃｃが好ましい。
【００５０】本発明に用いられるカーボンブラックの具
体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲ
ＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、８０
０、、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三
菱化成工業社製＃３０５０、＃３１５０、＃３２５０、
＃３７５０、＃３９５０、＃２４００Ｂ、＃２３００、
＃１０００、、＃９７０、＃９５０、、＃９００、＃８
５０、＃６５０、＃４０、ＭＡ４０、ＭＡ−６００、コ
ロンビアンカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸＳＣ、Ｒ
ＡＶＥＮ社製８８００、８０００、７０００、５７５
０、５２５０、３５００、２１００、２０００、１８０
０、１５００、１２５５、１２５０、アクゾー社製ケッ
チェンブラックＥＣなどが挙げられる。カーボンブラッ
クを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化し
て使用しても表面の一部をグラファイト化したものを使
用しても構わない。また、カーボンブラックを非磁性塗
料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわ
ない。これらのカーボンブラックは単独、または組み合
わせて該無機質粉末に対し０．１〜３０％の範囲で使用
することができる。
体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲ
ＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、８０
０、、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三
菱化成工業社製＃３０５０、＃３１５０、＃３２５０、
＃３７５０、＃３９５０、＃２４００Ｂ、＃２３００、
＃１０００、、＃９７０、＃９５０、、＃９００、＃８
５０、＃６５０、＃４０、ＭＡ４０、ＭＡ−６００、コ
ロンビアンカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸＳＣ、Ｒ
ＡＶＥＮ社製８８００、８０００、７０００、５７５
０、５２５０、３５００、２１００、２０００、１８０
０、１５００、１２５５、１２５０、アクゾー社製ケッ
チェンブラックＥＣなどが挙げられる。カーボンブラッ
クを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化し
て使用しても表面の一部をグラファイト化したものを使
用しても構わない。また、カーボンブラックを非磁性塗
料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわ
ない。これらのカーボンブラックは単独、または組み合
わせて該無機質粉末に対し０．１〜３０％の範囲で使用
することができる。
【００５１】本発明で使用できるカーボンブラックは、
例えば（「カーボンブラック便覧」、カーボンブラック
協会編）を参考にすることができる。本発明に使用され
る非磁性有機質粉末は、アクリルスチレン系樹脂粉末、
ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタ
ロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹
脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉
末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂粉
末が使用される。その製法は、特開昭６２−１８５６４
号、同６０−２５５８２７号の各公報に記載されている
ようなものが使用できる。
例えば（「カーボンブラック便覧」、カーボンブラック
協会編）を参考にすることができる。本発明に使用され
る非磁性有機質粉末は、アクリルスチレン系樹脂粉末、
ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタ
ロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹
脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉
末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂粉
末が使用される。その製法は、特開昭６２−１８５６４
号、同６０−２５５８２７号の各公報に記載されている
ようなものが使用できる。
【００５２】これらの非磁性粉末は、通常、結合剤に対
して、重量比率で２０〜０．１、体積比率で１０〜０．
１の範囲で用いられる。なお、一般の磁気記録媒体にお
いては下塗層を設けることが行われているが、これは支
持体と磁性層等の接着力を向上させるために設けられる
ものであって、厚さも０．５μｍ以下で本発明の下層と
は異なるものである。本発明においても下層と支持体と
の接着性を向上させるために下塗層を設けることが好ま
しい。
して、重量比率で２０〜０．１、体積比率で１０〜０．
１の範囲で用いられる。なお、一般の磁気記録媒体にお
いては下塗層を設けることが行われているが、これは支
持体と磁性層等の接着力を向上させるために設けられる
ものであって、厚さも０．５μｍ以下で本発明の下層と
は異なるものである。本発明においても下層と支持体と
の接着性を向上させるために下塗層を設けることが好ま
しい。
【００５３】本発明の磁性層に使用する強磁性粉末とし
ては磁性酸化鉄ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、Ｃ
ｏ変性ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、Ｆｅまたは
ＮｉまたはＣｏを主成分（７５％以上）とする強磁性合
金粉末、バリウムフエライト、ストロンチウムフエライ
トなど公知の強磁性粉末が使用できるが、強磁性合金粉
末が更に好ましい。。これらの強磁性粉末には所定の原
子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃ
ｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、
Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌ
ａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、
Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。これらの強
磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性
剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行って
もかまわない。具体的には、特公昭４４−１４０９０
号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭４７−２２０６
２号、特公昭４７−２２５１３号、特公昭４６−２８４
６６号、特公昭４６−３８７５５号、特公昭４７−４２
８６号、特公昭４７−１２４２２号、特公昭４７−１７
２８４号、特公昭４７−１８５０９号、特公昭４７−１
８５７３号、特公昭３９−１０３０７号、特公昭４８−
３９６３９号、米国特許第３０２６２１５号、同３０３
１３４１号、同３１００１９４号、同３２４２００５
号、同３３８９０１４号などに記載されている。
ては磁性酸化鉄ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、Ｃ
ｏ変性ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、Ｆｅまたは
ＮｉまたはＣｏを主成分（７５％以上）とする強磁性合
金粉末、バリウムフエライト、ストロンチウムフエライ
トなど公知の強磁性粉末が使用できるが、強磁性合金粉
末が更に好ましい。。これらの強磁性粉末には所定の原
子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃ
ｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、
Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌ
ａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、
Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。これらの強
磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性
剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行って
もかまわない。具体的には、特公昭４４−１４０９０
号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭４７−２２０６
２号、特公昭４７−２２５１３号、特公昭４６−２８４
６６号、特公昭４６−３８７５５号、特公昭４７−４２
８６号、特公昭４７−１２４２２号、特公昭４７−１７
２８４号、特公昭４７−１８５０９号、特公昭４７−１
８５７３号、特公昭３９−１０３０７号、特公昭４８−
３９６３９号、米国特許第３０２６２１５号、同３０３
１３４１号、同３１００１９４号、同３２４２００５
号、同３３８９０１４号などに記載されている。
【００５４】上記強磁性粉末の中で強磁性合金粉末につ
いては少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよい。
強磁性合金粉末の公知の製造方法により得られたものを
用いることができ、下記の方法をあげることができる。
複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元
性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性気体
で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方
法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金
属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あ
るいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方
法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得
る方法などである。このようにして得られた強磁性合金
粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬した
のち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有
ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させ
る方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧
を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施
したものでも用いることができる。
いては少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよい。
強磁性合金粉末の公知の製造方法により得られたものを
用いることができ、下記の方法をあげることができる。
複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元
性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性気体
で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方
法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金
属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あ
るいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方
法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得
る方法などである。このようにして得られた強磁性合金
粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬した
のち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有
ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させ
る方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧
を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施
したものでも用いることができる。
【００５５】本発明の上層磁性層の強磁性粉末をＢＥＴ
法による比表面積で表せば２５〜８０ｍ2 ／ｇであり、
好ましくは４０〜７０ｍ2 ／ｇである。２５ｍ2 ／ｇ以
下ではノイズが高くなり、８０ｍ2 ／ｇ以上では表面性
が得にくく好ましくない。本発明の上層磁性層の強磁性
粉末の結晶子サイズは４５０〜１００Åであり、好まし
くは３５０〜１００Åである。酸化鉄磁性粉末のσS は
５０ｅｍｕ／ｇ以上、好ましくは７０ｅｍｕ／ｇ以上で
あり、強磁性金属粉末の場合は１００ｅｍｕ／ｇ以上が
好ましく、更に好ましくは１１０ｅｍｕ／ｇ〜１７０ｅ
ｍｕ／ｇである。抗磁力は１１００Ｏｅ以上、２５００
Ｏｅ以下が好ましく、更に好ましくは１４００Ｏｅ以上
２０００Ｏｅ以下である。強磁性粉末の針状比は１８以
下が好ましく、更に好ましくは１２以下である。
法による比表面積で表せば２５〜８０ｍ2 ／ｇであり、
好ましくは４０〜７０ｍ2 ／ｇである。２５ｍ2 ／ｇ以
下ではノイズが高くなり、８０ｍ2 ／ｇ以上では表面性
が得にくく好ましくない。本発明の上層磁性層の強磁性
粉末の結晶子サイズは４５０〜１００Åであり、好まし
くは３５０〜１００Åである。酸化鉄磁性粉末のσS は
５０ｅｍｕ／ｇ以上、好ましくは７０ｅｍｕ／ｇ以上で
あり、強磁性金属粉末の場合は１００ｅｍｕ／ｇ以上が
好ましく、更に好ましくは１１０ｅｍｕ／ｇ〜１７０ｅ
ｍｕ／ｇである。抗磁力は１１００Ｏｅ以上、２５００
Ｏｅ以下が好ましく、更に好ましくは１４００Ｏｅ以上
２０００Ｏｅ以下である。強磁性粉末の針状比は１８以
下が好ましく、更に好ましくは１２以下である。
【００５６】強磁性粉末のｒ１５００は１．５以下であ
ることが好ましい。さらに好ましくはｒ１５００は１．
０以下である。ｒ１５００とは磁気記録媒体を飽和磁化
したのち反対の向きに１５００Oeの磁場をかけたとき反
転せずに残っている磁化量の％を示すものである。強磁
性粉末の含水率は０．０１〜２％とするのが好ましい。
結合剤の種類によって強磁性粉末の含水率は最適化する
のが好ましい。γ酸化鉄のタップ密度は０．５ｇ／ｃｃ
以上が好ましく、０．８ｇ／ｃｃ以上がさらに好まし
い。合金粉末の場合は、０．２〜０．８ｇ／ｃｃが好ま
しく、０．８ｇ／ｃｃ以上に使用すると強磁性粉末の圧
密過程で酸化が進みやすく、充分な飽和磁化( σS ) を
得ることが困難になる。０．２ｃｃ／ｇ以下では分散が
不十分になりやすい。
ることが好ましい。さらに好ましくはｒ１５００は１．
０以下である。ｒ１５００とは磁気記録媒体を飽和磁化
したのち反対の向きに１５００Oeの磁場をかけたとき反
転せずに残っている磁化量の％を示すものである。強磁
性粉末の含水率は０．０１〜２％とするのが好ましい。
結合剤の種類によって強磁性粉末の含水率は最適化する
のが好ましい。γ酸化鉄のタップ密度は０．５ｇ／ｃｃ
以上が好ましく、０．８ｇ／ｃｃ以上がさらに好まし
い。合金粉末の場合は、０．２〜０．８ｇ／ｃｃが好ま
しく、０．８ｇ／ｃｃ以上に使用すると強磁性粉末の圧
密過程で酸化が進みやすく、充分な飽和磁化( σS ) を
得ることが困難になる。０．２ｃｃ／ｇ以下では分散が
不十分になりやすい。
【００５７】γ酸化鉄を用いる場合、２価の鉄の３価の
鉄に対する比は好ましくは０〜２０％であり、さらに好
ましくは５〜１０％である。また鉄原子に対するコバル
ト原子の量は０〜１５％、好ましくは２〜８％である。
強磁性粉末のｐＨは用いる結合剤との組合せにより最適
化することが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、
好ましくは６〜１０である。強磁性粉末は必要に応じ、
Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を
施してもかまわない。その量は強磁性粉末に対し０．１
〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の
吸着が１００ｍｇ／ｍ2 以下になり好ましい。強磁性粉
末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無
機イオンを含む場合があるが、５００ｐｐｍ以下であれ
ば特に特性に影響を与えない。
鉄に対する比は好ましくは０〜２０％であり、さらに好
ましくは５〜１０％である。また鉄原子に対するコバル
ト原子の量は０〜１５％、好ましくは２〜８％である。
強磁性粉末のｐＨは用いる結合剤との組合せにより最適
化することが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、
好ましくは６〜１０である。強磁性粉末は必要に応じ、
Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を
施してもかまわない。その量は強磁性粉末に対し０．１
〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の
吸着が１００ｍｇ／ｍ2 以下になり好ましい。強磁性粉
末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無
機イオンを含む場合があるが、５００ｐｐｍ以下であれ
ば特に特性に影響を与えない。
【００５８】また、本発明に用いられる強磁性粉末は空
孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さ
らに好ましくは５容量％以下である。また形状について
は先に示した条件を満足するように針状、粒状、米粒
状、板状等から選択される。強磁性粉末のＳＦＤ０．６
以下を達成するためには、強磁性粉末のＨｃの分布を小
さくする必要がある。そのためには、ゲータイトの粒度
分布をよくする、γ−ヘマタイトの焼結を防止する、コ
バルト変性の酸化鉄についてはコバルトの被着速度を従
来より遅くするなどの方法がある。
孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さ
らに好ましくは５容量％以下である。また形状について
は先に示した条件を満足するように針状、粒状、米粒
状、板状等から選択される。強磁性粉末のＳＦＤ０．６
以下を達成するためには、強磁性粉末のＨｃの分布を小
さくする必要がある。そのためには、ゲータイトの粒度
分布をよくする、γ−ヘマタイトの焼結を防止する、コ
バルト変性の酸化鉄についてはコバルトの被着速度を従
来より遅くするなどの方法がある。
【００５９】本発明にはまた、磁化容易軸が平板の垂直
方向にある六角板状の強磁性粉末として、板状六方晶フ
エライト等が例示され、バリウムフエライト、ストロン
チウムフエライト、鉛フェライト、カルシウムフェライ
トの各置換体、Ｃｏ置換体等、六方晶Ｃｏ粉末が使用で
きる。具体的にはマグネトブランバイト型のバリウムフ
ェライト及びストロンチウムフェライト、更に一部スピ
ネル相を含有したマグネトブランバイト型のバリウムフ
ェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられ、
特に好ましいものとしてはバリウムフェライト、ストロ
ンチウムフェライトの各置換体である。また、抗磁力を
制御するために上記六方晶フェライトにＣｏ−Ｔｉ、Ｃ
ｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚ
ｎ、Ｉｒ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することが
できる。
方向にある六角板状の強磁性粉末として、板状六方晶フ
エライト等が例示され、バリウムフエライト、ストロン
チウムフエライト、鉛フェライト、カルシウムフェライ
トの各置換体、Ｃｏ置換体等、六方晶Ｃｏ粉末が使用で
きる。具体的にはマグネトブランバイト型のバリウムフ
ェライト及びストロンチウムフェライト、更に一部スピ
ネル相を含有したマグネトブランバイト型のバリウムフ
ェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられ、
特に好ましいものとしてはバリウムフェライト、ストロ
ンチウムフェライトの各置換体である。また、抗磁力を
制御するために上記六方晶フェライトにＣｏ−Ｔｉ、Ｃ
ｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚ
ｎ、Ｉｒ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することが
できる。
【００６０】バリウムフェライトを用いる場合、板径は
六角板状の粒子の板の幅を意味し、電子顕微鏡を使用し
て測定する。本発明ではこのを板径を０．００１〜１μ
ｍで、板厚を直径の１／２〜１／２０とするとよい。比
表面積（ＳBET ）は、１〜６０ｍ2 ／ｇが好ましく、比
重は４〜６が好ましい。本発明の下層、上層磁性層に使
用される結合剤としては従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬
化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。
熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１
５０℃、数平均分子量が１０００〜２０００００、好ま
しくは１００００〜１０００００、重合度が約５０〜１
０００程度のものである。このような例としては、塩化
ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、
アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、ア
クリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステ
ル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラー
ル、ビニルアセタール、ビニルエーテル、等を構成単位
として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、
各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応
型樹脂としてはフエノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウ
レタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド
樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シ
リコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステ
ル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエ
ステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリ
ウレタンとポリイソシアネートの混合物等があげられ
る。
六角板状の粒子の板の幅を意味し、電子顕微鏡を使用し
て測定する。本発明ではこのを板径を０．００１〜１μ
ｍで、板厚を直径の１／２〜１／２０とするとよい。比
表面積（ＳBET ）は、１〜６０ｍ2 ／ｇが好ましく、比
重は４〜６が好ましい。本発明の下層、上層磁性層に使
用される結合剤としては従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬
化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。
熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１
５０℃、数平均分子量が１０００〜２０００００、好ま
しくは１００００〜１０００００、重合度が約５０〜１
０００程度のものである。このような例としては、塩化
ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、
アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、ア
クリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステ
ル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラー
ル、ビニルアセタール、ビニルエーテル、等を構成単位
として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、
各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応
型樹脂としてはフエノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウ
レタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド
樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シ
リコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステ
ル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエ
ステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリ
ウレタンとポリイソシアネートの混合物等があげられ
る。
【００６１】これらの樹脂については朝倉書店発行の
「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されてい
る。また、公知の電子線硬化型樹脂を下層、または上層
に使用することも可能である。これらの例とその製造方
法については特開昭６２−２５６２１９号に詳細に記載
されている。
「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されてい
る。また、公知の電子線硬化型樹脂を下層、または上層
に使用することも可能である。これらの例とその製造方
法については特開昭６２−２５６２１９号に詳細に記載
されている。
【００６２】以上の樹脂は単独または組合せて使用でき
るが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル
酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコー
ル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体
の群から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の
組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組合せた
ものがあげられる。
るが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル
酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコー
ル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体
の群から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の
組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組合せた
ものがあげられる。
【００６３】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ、−ＳＯ3 Ｍ、−ＯＳＯ3 Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ1 ）
（ＯＭ2 ）、−ＯＰ＝Ｏ（ＯＭ1 ）（ＯＭ2 ）、−ＮＲ
4 Ｘ（ここで、Ｍ、Ｍ1 、Ｍ2 は、Ｈ、Ｌｉ、Ｎａ、
Ｋ、−ＮＲ4 、−ＮＨＲ3 を示し、Ｒはアルキル基もし
くはＨを示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）、ＯＨ、Ｎ
Ｒ2 、Ｎ+ Ｒ3 、（Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、Ｓ
Ｈ、ＣＮなどから選ばれる少なくとも一つ以上の極性基
を共重合または付加反応で導入したものを用いることが
好ましい。このような極性基の量は１０-1〜１０-8モル
／ｇであり、好ましくは１０-2〜１０-6モル／ｇであ
る。
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ、−ＳＯ3 Ｍ、−ＯＳＯ3 Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ1 ）
（ＯＭ2 ）、−ＯＰ＝Ｏ（ＯＭ1 ）（ＯＭ2 ）、−ＮＲ
4 Ｘ（ここで、Ｍ、Ｍ1 、Ｍ2 は、Ｈ、Ｌｉ、Ｎａ、
Ｋ、−ＮＲ4 、−ＮＨＲ3 を示し、Ｒはアルキル基もし
くはＨを示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）、ＯＨ、Ｎ
Ｒ2 、Ｎ+ Ｒ3 、（Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、Ｓ
Ｈ、ＣＮなどから選ばれる少なくとも一つ以上の極性基
を共重合または付加反応で導入したものを用いることが
好ましい。このような極性基の量は１０-1〜１０-8モル
／ｇであり、好ましくは１０-2〜１０-6モル／ｇであ
る。
【００６４】塩化ビニル系共重合体としては、好ましく
は、エポキシ基含有塩化ビニル系共重合体が挙げられ、
塩化ビニル繰返し単位と、エポキシ基を有する繰返し単
位と、所望により−ＳＯ3 Ｍ、−ＯＳＯ3 Ｍ、−ＣＯＯ
Ｍおよび−ＰＯ（ＯＭ）2 （以上につきＭは水素原子、
またはアルカリ金属）等の極性基を有する繰返し単位と
を含む塩化ビニル系共重合体が挙げられる。エポキシ基
を有する繰返し単位との併用では、−ＳＯ3 Ｎａを有す
る繰返し単位を含むエポキシ基含有塩化ビニル系共重合
体が好ましい。
は、エポキシ基含有塩化ビニル系共重合体が挙げられ、
塩化ビニル繰返し単位と、エポキシ基を有する繰返し単
位と、所望により−ＳＯ3 Ｍ、−ＯＳＯ3 Ｍ、−ＣＯＯ
Ｍおよび−ＰＯ（ＯＭ）2 （以上につきＭは水素原子、
またはアルカリ金属）等の極性基を有する繰返し単位と
を含む塩化ビニル系共重合体が挙げられる。エポキシ基
を有する繰返し単位との併用では、−ＳＯ3 Ｎａを有す
る繰返し単位を含むエポキシ基含有塩化ビニル系共重合
体が好ましい。
【００６５】極性基を有する繰返し単位の共重合体中に
おける含有率は、通常０．０１〜５．０モル％（好まし
くは、０．５〜３．０モル％）の範囲内にある。エポキ
シ基を有する繰返し単位の共重合体中における含有率
は、通常１．０〜３０モル％（好ましくは１〜２０モル
％）の範囲内にある。そして、塩化ビニル系重合体は、
塩化ビニル繰返し単位１モルに対して通常０．０１〜
０．５モル（好ましくは０．０１〜０．３モル）のエポ
キシ基を有する繰返し単位を含有するものである。
おける含有率は、通常０．０１〜５．０モル％（好まし
くは、０．５〜３．０モル％）の範囲内にある。エポキ
シ基を有する繰返し単位の共重合体中における含有率
は、通常１．０〜３０モル％（好ましくは１〜２０モル
％）の範囲内にある。そして、塩化ビニル系重合体は、
塩化ビニル繰返し単位１モルに対して通常０．０１〜
０．５モル（好ましくは０．０１〜０．３モル）のエポ
キシ基を有する繰返し単位を含有するものである。
【００６６】エポキシ基を有する繰返し単位の含有率が
１モル％より低いか、あるいは塩化ビニル繰返し単位１
モルに対するエポキシ基を有する繰返し単位の量が０．
０１モルより少ないと塩化ビニル系共重合体からの塩酸
ガスの放出を有効に防止することができないことがあ
り、一方、３０モル％より高いか、あるいは塩化ビニル
繰返し単位１モルに対するエポキシ基を有する繰返し単
位の量が０．５モルより多いと塩化ビニル系共重合体の
硬度が低くなることがあり、これを用いた場合には磁性
層の走行耐久性が低下することがある。
１モル％より低いか、あるいは塩化ビニル繰返し単位１
モルに対するエポキシ基を有する繰返し単位の量が０．
０１モルより少ないと塩化ビニル系共重合体からの塩酸
ガスの放出を有効に防止することができないことがあ
り、一方、３０モル％より高いか、あるいは塩化ビニル
繰返し単位１モルに対するエポキシ基を有する繰返し単
位の量が０．５モルより多いと塩化ビニル系共重合体の
硬度が低くなることがあり、これを用いた場合には磁性
層の走行耐久性が低下することがある。
【００６７】また、特定の極性基を有する繰返し単位の
含有率が０．０１モル％より少ないと強磁性粉末の分散
性が不充分となることがあり、５．０モル％より多いと
共重合体が吸湿性を有するようになり耐候性が低下する
ことがある。通常、このような塩化ビニル系共重合体の
数平均分子量は、１．５万〜６万の範囲内にある。
含有率が０．０１モル％より少ないと強磁性粉末の分散
性が不充分となることがあり、５．０モル％より多いと
共重合体が吸湿性を有するようになり耐候性が低下する
ことがある。通常、このような塩化ビニル系共重合体の
数平均分子量は、１．５万〜６万の範囲内にある。
【００６８】このようなエポキシ基と特定の極性基を有
する塩化ビニル系共重合体は、例えば、次のようにして
製造することができる。例えばエポキシ基と、極性基と
して−ＳＯ3 Ｎとが導入されている塩化ビニル系共重合
体を製造する場合には、反応性二重結合と、極性基とし
て−ＳＯ3 Ｎａとを有する２−（メタ）アクリルアミド
−２−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム（反応性二
重結合と極性基とを有する単量体）およびジグリシジル
アクリレートを低温で混合し、これと塩化ビニルとを加
圧下に、１００℃以下の温度で重合させることにより製
造することができる。
する塩化ビニル系共重合体は、例えば、次のようにして
製造することができる。例えばエポキシ基と、極性基と
して−ＳＯ3 Ｎとが導入されている塩化ビニル系共重合
体を製造する場合には、反応性二重結合と、極性基とし
て−ＳＯ3 Ｎａとを有する２−（メタ）アクリルアミド
−２−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム（反応性二
重結合と極性基とを有する単量体）およびジグリシジル
アクリレートを低温で混合し、これと塩化ビニルとを加
圧下に、１００℃以下の温度で重合させることにより製
造することができる。
【００６９】上記の方法による極性基の導入に使用され
る反応性二重結合と極性基とを有する単量体の例として
は、上記の２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプ
ロパンスルホン酸ナトリウムの外に２−（メタ）アクリ
ルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ビニルスル
ホン酸およびそのナトリウムあるいはカリウム塩、（メ
タ）アクリル酸−２−スルホン酸エチルおよびナトリウ
ムあるいはカリウム塩、（無水）マレイン酸および（メ
タ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸−２−リン酸エス
テルを挙げることができる。
る反応性二重結合と極性基とを有する単量体の例として
は、上記の２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプ
ロパンスルホン酸ナトリウムの外に２−（メタ）アクリ
ルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ビニルスル
ホン酸およびそのナトリウムあるいはカリウム塩、（メ
タ）アクリル酸−２−スルホン酸エチルおよびナトリウ
ムあるいはカリウム塩、（無水）マレイン酸および（メ
タ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸−２−リン酸エス
テルを挙げることができる。
【００７０】また、エポキシ基の導入には、反応性二重
結合とエポキシ基とを有する単量体として一般にグリシ
ジル（メタ）アクリレートを用いる。なお、上記の製造
法の外に、例えば、塩化ビニルとビニルアルコールなど
との重合反応により多官能−ＯＨを有する塩化ビニル系
共重合体を製造し、この共重合体と、以下に記載する極
性基および塩素原子を含有する化合物とを反応（脱塩酸
反応）させて共重合体に極性基を導入する方法を利用す
ることができる。
結合とエポキシ基とを有する単量体として一般にグリシ
ジル（メタ）アクリレートを用いる。なお、上記の製造
法の外に、例えば、塩化ビニルとビニルアルコールなど
との重合反応により多官能−ＯＨを有する塩化ビニル系
共重合体を製造し、この共重合体と、以下に記載する極
性基および塩素原子を含有する化合物とを反応（脱塩酸
反応）させて共重合体に極性基を導入する方法を利用す
ることができる。
【００７１】ＣｌＣＨ2 ＣＨ2 ＳＯ3 Ｍ、ＣｌＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 ＯＳＯ3 Ｍ、ＣｌＣＨ2 ＣＯＯＭ、ＣｌＣＨ2 ＰＯ
（ＯＭ）2 また、この脱塩酸反応を利用するエポキシ基の導入には
通常はエピクロルヒドリンを用いる。
Ｈ2 ＯＳＯ3 Ｍ、ＣｌＣＨ2 ＣＯＯＭ、ＣｌＣＨ2 ＰＯ
（ＯＭ）2 また、この脱塩酸反応を利用するエポキシ基の導入には
通常はエピクロルヒドリンを用いる。
【００７２】なお、該塩化ビニル系共重合体は、他の単
量体を含むものであってもよい。他の単量体の例として
は、ビニルエーテル（例、メチルビニルエーテル、イソ
ブチルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル）、α
−モノオレフィン（例、エチレン、プロピレン）、アク
リル酸エステル（例、（メタ）アクリル酸メチル、ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート等の官能基を含有す
る（メタ）アクリル酸エステル）、不飽和ニトリル
（例、（メタ）アクリロニトリル）、芳香族ビニル
（例、スチレン、α−メチルスチレン）、ビニルエステ
ル（例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等）が例示さ
れる。
量体を含むものであってもよい。他の単量体の例として
は、ビニルエーテル（例、メチルビニルエーテル、イソ
ブチルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル）、α
−モノオレフィン（例、エチレン、プロピレン）、アク
リル酸エステル（例、（メタ）アクリル酸メチル、ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート等の官能基を含有す
る（メタ）アクリル酸エステル）、不飽和ニトリル
（例、（メタ）アクリロニトリル）、芳香族ビニル
（例、スチレン、α−メチルスチレン）、ビニルエステ
ル（例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等）が例示さ
れる。
【００７３】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製：ＶＡＧＨ、Ｖ
ＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、Ｖ
ＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、Ｐ
ＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業
社製：ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、
ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製：１００
０Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１０
０ＦＤ、日本ゼオン社製：ＭＲ１０５、ＭＲ１１０、Ｍ
Ｒ１００、４００Ｘ１１０Ａ、日本ポリウレタン社製：
ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日
本インキ社製：パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０
８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１
０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社
製：バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ８６０
０、ＵＲ５５００、ＵＲ４３００、ＲＶ５３０、ＲＶ２
８０、大日精化社製：ダイフエラミン４０２０、５０２
０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２
０、三菱化成社製：ＭＸ５００４、三洋化成社製：サン
プレンＳＰ−１５０、旭化成社製：サランＦ３１０、Ｆ
２１０などがあげられる。
的な例としてはユニオンカーバイト社製：ＶＡＧＨ、Ｖ
ＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、Ｖ
ＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、Ｐ
ＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業
社製：ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、
ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製：１００
０Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１０
０ＦＤ、日本ゼオン社製：ＭＲ１０５、ＭＲ１１０、Ｍ
Ｒ１００、４００Ｘ１１０Ａ、日本ポリウレタン社製：
ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日
本インキ社製：パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０
８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１
０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社
製：バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ８６０
０、ＵＲ５５００、ＵＲ４３００、ＲＶ５３０、ＲＶ２
８０、大日精化社製：ダイフエラミン４０２０、５０２
０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２
０、三菱化成社製：ＭＸ５００４、三洋化成社製：サン
プレンＳＰ−１５０、旭化成社製：サランＦ３１０、Ｆ
２１０などがあげられる。
【００７４】本発明の上層磁性層に用いられる結合剤は
強磁性粉末に対し、５〜５０重量％の範囲、好ましくは
１０〜３５重量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹
脂を用いる場合は、５〜３０重量％、ポリウレタン樹脂
を用いる場合は２〜２０重量％、ポリイソシアネートは
２〜２０重量％の範囲でこれらを組合せて用いるのが好
ましい。
強磁性粉末に対し、５〜５０重量％の範囲、好ましくは
１０〜３５重量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹
脂を用いる場合は、５〜３０重量％、ポリウレタン樹脂
を用いる場合は２〜２０重量％、ポリイソシアネートは
２〜２０重量％の範囲でこれらを組合せて用いるのが好
ましい。
【００７５】本発明の下層に用いられる結合剤は、非磁
性粉末に対し、合計で５〜５０重量％の範囲、好ましく
は１０〜３５重量％の範囲で用いられる。また、塩化ビ
ニル系樹脂を用いる場合は、３〜３０重量％、ポリウレ
タン樹脂を用いる場合は３〜３０重量％、ポリイソシア
ネートは０〜２０重量％の範囲でこれらを組合せて用い
るのが好ましい。
性粉末に対し、合計で５〜５０重量％の範囲、好ましく
は１０〜３５重量％の範囲で用いられる。また、塩化ビ
ニル系樹脂を用いる場合は、３〜３０重量％、ポリウレ
タン樹脂を用いる場合は３〜３０重量％、ポリイソシア
ネートは０〜２０重量％の範囲でこれらを組合せて用い
るのが好ましい。
【００７６】また、本発明において分子量３万以上のエ
ポキシ基含有樹脂を非磁性粉末に対し３〜３０重量％使
用する場合は、エポキシ基含有樹脂以外の樹脂を非磁性
粉末に対し３〜３０重量％使用でき、ポリウレタン樹脂
を用いる場合は、３〜３０重量％、ポリイソシアネート
は０〜２０重量％使用できるが、エポキシ基は結合剤
（硬化剤を含む）全重量に対し、４×１０-5〜１６×１
０-4ｅｑ／ｇの範囲で含まれることが好ましい。
ポキシ基含有樹脂を非磁性粉末に対し３〜３０重量％使
用する場合は、エポキシ基含有樹脂以外の樹脂を非磁性
粉末に対し３〜３０重量％使用でき、ポリウレタン樹脂
を用いる場合は、３〜３０重量％、ポリイソシアネート
は０〜２０重量％使用できるが、エポキシ基は結合剤
（硬化剤を含む）全重量に対し、４×１０-5〜１６×１
０-4ｅｑ／ｇの範囲で含まれることが好ましい。
【００７７】本発明において、ポリウレタン樹脂を用い
る場合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸び
が１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ
／ｃｍ2 、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ2 が好ま
しい。本発明の磁気記録媒体は基本的には二層からなる
が、三層以上であってもよい。三層以上の構成として
は、上層磁性層を２層以上の複数の磁性層することであ
る。この場合、最上層の磁性層と下層磁性層との関係は
通常の複数の磁性層の考え方が適用できる。例えば、最
上層の磁性層の方が下層磁性層よりも、抗磁力が高く、
平均長軸長や結晶子サイズの小さい強磁性粉末を用いる
などの考え方が適用できる。又、下層を複数の非磁性層
で形成してもかまわない。しかし、大きく分類すれば、
上層磁性層、下層という構成である。
る場合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸び
が１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ
／ｃｍ2 、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ2 が好ま
しい。本発明の磁気記録媒体は基本的には二層からなる
が、三層以上であってもよい。三層以上の構成として
は、上層磁性層を２層以上の複数の磁性層することであ
る。この場合、最上層の磁性層と下層磁性層との関係は
通常の複数の磁性層の考え方が適用できる。例えば、最
上層の磁性層の方が下層磁性層よりも、抗磁力が高く、
平均長軸長や結晶子サイズの小さい強磁性粉末を用いる
などの考え方が適用できる。又、下層を複数の非磁性層
で形成してもかまわない。しかし、大きく分類すれば、
上層磁性層、下層という構成である。
【００７８】従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化
ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネー
ト、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各
樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物
理特性などを必要に応じ下層と上層磁性層とで変えるこ
とはもちろん可能である。本発明に用いるポリイソシア
ネートとしては、トリレンジイソシアネート、４，４′
−ジフエニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフ
チレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンイ
ソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフエ
ニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、
また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの
生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成し
たポリイソシアネート等を使用することができる。これ
らのイソシアネート類の市販されている商品名として
は、日本ポリウレタン社製：コロネートＬ、コロネート
ＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリ
オネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製：タ
ケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネ
ートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル
社製：デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモ
ジュールＮ、デスモジュールＨＬ等があり、これらを単
独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以
上の組合せで下層、上層磁性層ともに用いることができ
る。
ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネー
ト、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各
樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物
理特性などを必要に応じ下層と上層磁性層とで変えるこ
とはもちろん可能である。本発明に用いるポリイソシア
ネートとしては、トリレンジイソシアネート、４，４′
−ジフエニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフ
チレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンイ
ソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフエ
ニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、
また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの
生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成し
たポリイソシアネート等を使用することができる。これ
らのイソシアネート類の市販されている商品名として
は、日本ポリウレタン社製：コロネートＬ、コロネート
ＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリ
オネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製：タ
ケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネ
ートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル
社製：デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモ
ジュールＮ、デスモジュールＨＬ等があり、これらを単
独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以
上の組合せで下層、上層磁性層ともに用いることができ
る。
【００７９】本発明の上層磁性層に使用されるカーボン
ブラックはゴム用フアーネス、ゴム用サーマル、カラー
用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることがで
きる。比表面積は５〜５００ｍ2 ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は
１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｍμ〜３００
ｍμ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タッ
プ密度は０．１〜１ｇ／ｃｃが好ましい。本発明に用い
られるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボッ
ト社製：ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３０
０、１０００、９００、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ
ＸＣ−７２、旭カーボン社製：♯８０、♯６０、♯５
５、♯５０、♯３５、三菱化成工業社製：♯２４００
Ｂ、♯２３００、♯９００、♯１０００、♯３０、♯４
０、♯１０Ｂ、コロンビアンカーボン社製：ＣＯＮＤＵ
ＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０，４０，１
５などがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで
表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表
面の一部をグラフアイト化したものを使用してもかまわ
ない。また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前
にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらの
カーボンブラックは単独、または組合せで使用すること
ができる。カーボンブラックを使用する場合は強磁性粉
末に対する量の０．１〜３０％で用いることが好まし
い。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低
減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これら
は用いるカーボンブラックにより異なる。従って本発明
に使用されるこれらのカーボンブラックは下層、上層で
その種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電
導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じ
て使い分けることはもちろん可能である。本発明の上層
で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラ
ック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にするこ
とができる。
ブラックはゴム用フアーネス、ゴム用サーマル、カラー
用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることがで
きる。比表面積は５〜５００ｍ2 ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は
１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｍμ〜３００
ｍμ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タッ
プ密度は０．１〜１ｇ／ｃｃが好ましい。本発明に用い
られるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボッ
ト社製：ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３０
０、１０００、９００、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ
ＸＣ−７２、旭カーボン社製：♯８０、♯６０、♯５
５、♯５０、♯３５、三菱化成工業社製：♯２４００
Ｂ、♯２３００、♯９００、♯１０００、♯３０、♯４
０、♯１０Ｂ、コロンビアンカーボン社製：ＣＯＮＤＵ
ＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０，４０，１
５などがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで
表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表
面の一部をグラフアイト化したものを使用してもかまわ
ない。また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前
にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらの
カーボンブラックは単独、または組合せで使用すること
ができる。カーボンブラックを使用する場合は強磁性粉
末に対する量の０．１〜３０％で用いることが好まし
い。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低
減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これら
は用いるカーボンブラックにより異なる。従って本発明
に使用されるこれらのカーボンブラックは下層、上層で
その種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電
導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じ
て使い分けることはもちろん可能である。本発明の上層
で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラ
ック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にするこ
とができる。
【００８０】本発明の上層磁性層に用いられる研磨剤と
してはα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミ
ナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化
鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪
素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化
ホウ素、など主としてモース硬度６以上の公知の材料が
単独または組合せで使用される。また、これらの研磨剤
どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したも
の）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外
の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９
０％以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の
粒子サイズは０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応
じて粒子サイズの異なる研磨剤を組合せたり、単独の研
磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせること
もできる。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は
０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ
2 ／ｇ、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状
は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状
の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。
してはα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミ
ナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化
鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪
素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化
ホウ素、など主としてモース硬度６以上の公知の材料が
単独または組合せで使用される。また、これらの研磨剤
どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したも
の）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外
の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９
０％以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の
粒子サイズは０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応
じて粒子サイズの異なる研磨剤を組合せたり、単独の研
磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせること
もできる。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は
０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ
2 ／ｇ、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状
は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状
の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。
【００８１】本発明に用いられる研磨剤の具体的な例と
しては、住友化学社製：ＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，
ＡＫＰ−５０，ＨＩＴ−５０、日本化学工業社製：Ｇ
５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製：ＴＦ−１００、ＴＦ
−１４０、１００ＥＤ、１４０ＥＤなどがあげられる。
本発明に用いられる研磨剤は下層、上層で種類、量およ
び組合せを変え、目的に応じて使い分けることはもちろ
ん可能である。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分
散処理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。
しては、住友化学社製：ＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，
ＡＫＰ−５０，ＨＩＴ−５０、日本化学工業社製：Ｇ
５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製：ＴＦ−１００、ＴＦ
−１４０、１００ＥＤ、１４０ＥＤなどがあげられる。
本発明に用いられる研磨剤は下層、上層で種類、量およ
び組合せを変え、目的に応じて使い分けることはもちろ
ん可能である。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分
散処理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。
【００８２】本発明の上層および／または下層に使用さ
れる、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分散効
果、可塑効果、などをもつものが使用される。二硫化モ
リブデン、二硫化タングステン、グラフアイト、窒化ホ
ウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシ
リコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコー
ン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリ
オレフイン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルお
よびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよび
そのアルカリ金属塩、ポリフエニルエーテル、フッ素含
有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭
素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んで
も、また分岐していてもかまわない）、および、これら
の金属塩（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃｕなど）または、炭素数
１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アル
コール（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもか
まわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコー
ル、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を
含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数２
〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコー
ルのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐し
ていてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルま
たはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アル
キレンオキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸
エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜
２２の脂肪族アミン、などが使用できる。これらの具体
例としてはラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、
ステアリン酸、ベヘン酸、ステアリン酸ブチル、オレイ
ン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、ステア
リン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イ
ソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸ブト
キシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、
アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソル
ビタントリステアレート、オレイルアルコール、ラウリ
ルアルコール、があげられる。
れる、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分散効
果、可塑効果、などをもつものが使用される。二硫化モ
リブデン、二硫化タングステン、グラフアイト、窒化ホ
ウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシ
リコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコー
ン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリ
オレフイン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルお
よびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよび
そのアルカリ金属塩、ポリフエニルエーテル、フッ素含
有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭
素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んで
も、また分岐していてもかまわない）、および、これら
の金属塩（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃｕなど）または、炭素数
１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アル
コール（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもか
まわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコー
ル、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を
含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数２
〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコー
ルのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐し
ていてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルま
たはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アル
キレンオキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸
エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜
２２の脂肪族アミン、などが使用できる。これらの具体
例としてはラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、
ステアリン酸、ベヘン酸、ステアリン酸ブチル、オレイ
ン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、ステア
リン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イ
ソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸ブト
キシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、
アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソル
ビタントリステアレート、オレイルアルコール、ラウリ
ルアルコール、があげられる。
【００８３】また、アルキレンオキサイド系、グリセリ
ン系、グリシドール系、アルキルフエノールエチレンオ
キサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミ
ン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダン
トイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニ
ウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スル
フォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、な
どの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、ア
ミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸
エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤
等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界
面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載
されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも
１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応
物、副反応物、分解物、酸化物、等の不純分が含まれて
もかまわない。これらの不純分は３０％以下が好まし
く、さらに好ましくは１０％以下である。
ン系、グリシドール系、アルキルフエノールエチレンオ
キサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミ
ン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダン
トイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニ
ウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スル
フォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、な
どの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、ア
ミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸
エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤
等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界
面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載
されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも
１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応
物、副反応物、分解物、酸化物、等の不純分が含まれて
もかまわない。これらの不純分は３０％以下が好まし
く、さらに好ましくは１０％以下である。
【００８４】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は下層、上層磁性層でその種類、量を必要に応じ
使い分けることができる。例えば、下層、上層磁性層で
融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御す
る、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじ
み出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布
の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を下層で多くし
て潤滑効果を向上させるなどが考えられ、無論ここに示
した例のみに限られるものではない。
活性剤は下層、上層磁性層でその種類、量を必要に応じ
使い分けることができる。例えば、下層、上層磁性層で
融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御す
る、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじ
み出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布
の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を下層で多くし
て潤滑効果を向上させるなどが考えられ、無論ここに示
した例のみに限られるものではない。
【００８５】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加しても
かまわない、例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合す
る場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添
加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加す
る場合、塗布直前に添加する場合などがある。本発明で
使用されるこれら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社
製：ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４１５，ＮＡＡ−３１
２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８０，ＮＡＡ−１７
４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２２，ＮＡＡ−３４，
ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，ＮＡＡ−１２２，ＮＡ
Ａ−１４２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１７３Ｋ，ヒマ
シ硬化脂肪酸，ＮＡＡ−４２，ＮＡＡ−４４，カチオン
ＳＡ，カチオンＭＡ，カチオンＡＢ，カチオンＢＢ，ナ
イミーンＬ−２０１，ナイミーンＬ−２０２，ナイミー
ンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０８，ノニオンＰ−２０
８，ノニオンＳ−２０７，ノニオンＫ−２０４，ノニオ
ンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−２１０，ノニオンＨＳ
−２０６，ノニオンＬ−２，ノニオンＳ−２，ノニオン
Ｓ−４，ノニオンＯ−２，ノニオンＬＰ−２０Ｒ，ノニ
オンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ−６０Ｒ，ノニオンＯ
Ｐ−８０Ｒ，ノニオンＯＰ−８５Ｒ，ノニオンＬＴ−２
２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノニオンＯＴ−２２１，
モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６０，アノンＢＦ，アノ
ンＬＧ，ブチルステアレート，ブチルラウレート，エル
カ酸、関東化学社製：オレイン酸、竹本油脂社製：ＦＡ
Ｌ−２０５，ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製：エヌジ
ェルブＬＯ，エヌジェルブＩＰＭ，サンソサイザーＥ４
０３０、信越化学社製：ＴＡ−３，ＫＦ−９６，ＫＦ−
９６Ｌ，ＫＦ−９６Ｈ，ＫＦ４１０，ＫＦ４２０，ＫＦ
９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，ＫＦ５６，ＫＦ−９０
７，ＫＦ−８５１，Ｘ−２２−８１９，Ｘ−２２−８２
２，ＫＦ−９０５，ＫＦ−７００，ＫＦ−３９３，ＫＦ
−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，Ｘ−２２−９
８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ−１０３，Ｘ
−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，ＫＦ−９１
０，ＫＦ−３９３５、ライオンアーマー社製：アーマイ
ドＰ，アーマイドＣ，アーモスリップＣＰ、ライオン油
脂社製：デュオミンＴＤＯ、日清製油社製：ＢＡ−４１
Ｇ、三洋化成社製：プロフアン２０１２Ｅ，ニューポー
ルＰＥ６１，イオネットＭＳ−４００，イオネットＭＯ
−２００，イオネットＤＬ−２００，イオネットＤＳ−
３００，イオネットＤＳ−１０００，イオネットＤＯ−
２００などがあげられる。
たはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加しても
かまわない、例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合す
る場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添
加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加す
る場合、塗布直前に添加する場合などがある。本発明で
使用されるこれら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社
製：ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４１５，ＮＡＡ−３１
２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８０，ＮＡＡ−１７
４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２２，ＮＡＡ−３４，
ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，ＮＡＡ−１２２，ＮＡ
Ａ−１４２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１７３Ｋ，ヒマ
シ硬化脂肪酸，ＮＡＡ−４２，ＮＡＡ−４４，カチオン
ＳＡ，カチオンＭＡ，カチオンＡＢ，カチオンＢＢ，ナ
イミーンＬ−２０１，ナイミーンＬ−２０２，ナイミー
ンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０８，ノニオンＰ−２０
８，ノニオンＳ−２０７，ノニオンＫ−２０４，ノニオ
ンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−２１０，ノニオンＨＳ
−２０６，ノニオンＬ−２，ノニオンＳ−２，ノニオン
Ｓ−４，ノニオンＯ−２，ノニオンＬＰ−２０Ｒ，ノニ
オンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ−６０Ｒ，ノニオンＯ
Ｐ−８０Ｒ，ノニオンＯＰ−８５Ｒ，ノニオンＬＴ−２
２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノニオンＯＴ−２２１，
モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６０，アノンＢＦ，アノ
ンＬＧ，ブチルステアレート，ブチルラウレート，エル
カ酸、関東化学社製：オレイン酸、竹本油脂社製：ＦＡ
Ｌ−２０５，ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製：エヌジ
ェルブＬＯ，エヌジェルブＩＰＭ，サンソサイザーＥ４
０３０、信越化学社製：ＴＡ−３，ＫＦ−９６，ＫＦ−
９６Ｌ，ＫＦ−９６Ｈ，ＫＦ４１０，ＫＦ４２０，ＫＦ
９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，ＫＦ５６，ＫＦ−９０
７，ＫＦ−８５１，Ｘ−２２−８１９，Ｘ−２２−８２
２，ＫＦ−９０５，ＫＦ−７００，ＫＦ−３９３，ＫＦ
−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，Ｘ−２２−９
８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ−１０３，Ｘ
−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，ＫＦ−９１
０，ＫＦ−３９３５、ライオンアーマー社製：アーマイ
ドＰ，アーマイドＣ，アーモスリップＣＰ、ライオン油
脂社製：デュオミンＴＤＯ、日清製油社製：ＢＡ−４１
Ｇ、三洋化成社製：プロフアン２０１２Ｅ，ニューポー
ルＰＥ６１，イオネットＭＳ−４００，イオネットＭＯ
−２００，イオネットＤＬ−２００，イオネットＤＳ−
３００，イオネットＤＳ−１０００，イオネットＤＯ−
２００などがあげられる。
【００８６】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチ
ルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用で
きる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではな
く、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわな
い。これらの不純分は３０重量％以下が好ましく、さら
に好ましくは１０重量％以下である。本発明で用いる有
機溶媒は必要ならば上層と下層でその種類は同じである
ことが好ましい。その添加量は変えてもかまわない。下
層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサ
ンなど）を用い塗布の安定性をあげる、具体的には上層
溶剤組成の算術平均値が下層溶剤組成の算術平均値を下
回らないことが肝要である。分散性を向上させるために
はある程度極性が強い方が好ましく、下層非磁性層と上
層磁性層の塗布液に用いた溶剤がいずれも溶解パラメー
ターが８〜１１であり、２０℃での誘電率が１５以上の
溶剤が１５％以上含まれることが好ましい。
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチ
ルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用で
きる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではな
く、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわな
い。これらの不純分は３０重量％以下が好ましく、さら
に好ましくは１０重量％以下である。本発明で用いる有
機溶媒は必要ならば上層と下層でその種類は同じである
ことが好ましい。その添加量は変えてもかまわない。下
層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサ
ンなど）を用い塗布の安定性をあげる、具体的には上層
溶剤組成の算術平均値が下層溶剤組成の算術平均値を下
回らないことが肝要である。分散性を向上させるために
はある程度極性が強い方が好ましく、下層非磁性層と上
層磁性層の塗布液に用いた溶剤がいずれも溶解パラメー
ターが８〜１１であり、２０℃での誘電率が１５以上の
溶剤が１５％以上含まれることが好ましい。
【００８７】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は支持体
が１〜１００μｍ、好ましくは４〜８０μｍ、下層が
０．５〜１０μｍ、好ましくは１〜５μｍ、上層は０．
０５μｍ以上１．０μｍ以下、好ましくは０．０５μｍ
以上０．６μｍ以下、さらに好ましくは０．０５μｍ以
上、０．３μｍ以下である。上層と下層を合わせた厚み
は支持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で用いられ
る。また、支持体と下層の間に密着性向上のための下塗
り層を設けてもかまわない。これらの厚みは０．０１〜
２μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μｍである。ま
た、支持体の磁性層側と反対側にバックコート層を設け
てもかまわない。この厚みは０．１〜２μｍ、好ましく
は０．３〜１．０μｍである。これらの下塗り層、バッ
クコート層は公知のものが使用できる。
が１〜１００μｍ、好ましくは４〜８０μｍ、下層が
０．５〜１０μｍ、好ましくは１〜５μｍ、上層は０．
０５μｍ以上１．０μｍ以下、好ましくは０．０５μｍ
以上０．６μｍ以下、さらに好ましくは０．０５μｍ以
上、０．３μｍ以下である。上層と下層を合わせた厚み
は支持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で用いられ
る。また、支持体と下層の間に密着性向上のための下塗
り層を設けてもかまわない。これらの厚みは０．０１〜
２μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μｍである。ま
た、支持体の磁性層側と反対側にバックコート層を設け
てもかまわない。この厚みは０．１〜２μｍ、好ましく
は０．３〜１．０μｍである。これらの下塗り層、バッ
クコート層は公知のものが使用できる。
【００８８】本発明に用いられる支持体は非磁性である
ことが好ましく、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート、等のポリエステル類、ポリオレフ
イン類、セルローストリアセテート、ポリカーボネー
ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリ
スルフオン、アラミド、芳香族ポリアミドなどの公知の
フイルムが使用できる。これらの支持体にはあらかじめ
コロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、
除塵処理、などをおこなっても良い。本発明の目的を達
成するには、支持体として中心線平均表面粗さが０．０
３μｍ以下、好ましくは０．０２μｍ以下、さらに好ま
しくは０．０１μｍ以下のものを使用する必要がある。
また、これらの支持体は単に中心線平均表面粗さが小さ
いだけではなく、１μ以上の粗大突起がないことが好ま
しい。また、表面の粗さ形状は、必要に応じて支持体に
添加されるフィラーの大きさと量により自由にコントロ
ールされるものである。これらのフィラーとしては一例
としてはＣａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、
アクリル系などの有機微粉末が挙げられる。
ことが好ましく、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート、等のポリエステル類、ポリオレフ
イン類、セルローストリアセテート、ポリカーボネー
ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリ
スルフオン、アラミド、芳香族ポリアミドなどの公知の
フイルムが使用できる。これらの支持体にはあらかじめ
コロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、
除塵処理、などをおこなっても良い。本発明の目的を達
成するには、支持体として中心線平均表面粗さが０．０
３μｍ以下、好ましくは０．０２μｍ以下、さらに好ま
しくは０．０１μｍ以下のものを使用する必要がある。
また、これらの支持体は単に中心線平均表面粗さが小さ
いだけではなく、１μ以上の粗大突起がないことが好ま
しい。また、表面の粗さ形状は、必要に応じて支持体に
添加されるフィラーの大きさと量により自由にコントロ
ールされるものである。これらのフィラーとしては一例
としてはＣａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、
アクリル系などの有機微粉末が挙げられる。
【００８９】また、支持体のテープ走行方向のＦ−５値
は、好ましくは５〜５０Ｋｇ／ｍｍ 2 、テープ幅方向の
Ｆ−５値は、好ましくは３〜３０Ｋｇ／ｍｍ2 であり、
テープ長手方向のＦ−５値がテープ幅方向のＦ−５値よ
り高いのが一般的であるが、特に幅方向の強度を高くす
る必要があるときはその限りではない。また、支持体の
テープ走行方向および幅方向の１００℃３０分での熱収
縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％
以下、８０℃３０分での熱収縮率は好ましくは１％以
下、さらに好ましくは０．５％以下である。破断強度は
両方向とも５〜１００Ｋｇ／ｍｍ2 、弾性率は走行方
向、幅方向ともに１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2 が好ま
しい。
は、好ましくは５〜５０Ｋｇ／ｍｍ 2 、テープ幅方向の
Ｆ−５値は、好ましくは３〜３０Ｋｇ／ｍｍ2 であり、
テープ長手方向のＦ−５値がテープ幅方向のＦ−５値よ
り高いのが一般的であるが、特に幅方向の強度を高くす
る必要があるときはその限りではない。また、支持体の
テープ走行方向および幅方向の１００℃３０分での熱収
縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％
以下、８０℃３０分での熱収縮率は好ましくは１％以
下、さらに好ましくは０．５％以下である。破断強度は
両方向とも５〜１００Ｋｇ／ｍｍ2 、弾性率は走行方
向、幅方向ともに１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2 が好ま
しい。
【００９０】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造す
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からな
る。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていても
かまわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カ
ーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤な
どすべての原料はどの工程の最初または途中で添加して
もかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分
割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを
混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工
程で分割して投入してもよい。
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からな
る。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていても
かまわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カ
ーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤な
どすべての原料はどの工程の最初または途中で添加して
もかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分
割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを
混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工
程で分割して投入してもよい。
【００９１】本発明の目的を達成するためには、従来の
公知の製造技術を一部の工程として用いることができる
ことはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加
圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用することによ
り本発明の磁気記録媒体の高いＢｒを得ることができ
る。連続ニーダまたは加圧ニーダを用いる場合は強磁性
粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤
の３０重量％以上が好ましい）および強磁性粉末１００
部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理される。これ
らの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８
号、特開昭６４−７９２７４号に記載されている。ま
た、下層非磁性層液を調製する場合には高比重の分散メ
ディアを用いることが望ましく、ジルコニアビーズ、金
属ビーズが好適である。
公知の製造技術を一部の工程として用いることができる
ことはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加
圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用することによ
り本発明の磁気記録媒体の高いＢｒを得ることができ
る。連続ニーダまたは加圧ニーダを用いる場合は強磁性
粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤
の３０重量％以上が好ましい）および強磁性粉末１００
部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理される。これ
らの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８
号、特開昭６４−７９２７４号に記載されている。ま
た、下層非磁性層液を調製する場合には高比重の分散メ
ディアを用いることが望ましく、ジルコニアビーズ、金
属ビーズが好適である。
【００９２】本発明では、特開昭６２−２１２９３３号
に示されるような同時重層塗布方式を用いることによ
り、より効率的に生産することができる。本発明のよう
な重層構成の磁気記録媒体を塗布する装置、方法の例と
して以下のような構成を提案できる。 １．磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウエット状
態のうちに特公平１−４６１８６号や特開昭６０−２３
８１７９号、特開平２−２６５６７２号に開示されてい
る支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層
を塗布する。 ２．特開昭６３−８８０８０号、特開平２−１７９２１
号、特開平２−２６５６７２号に開示されているような
塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドに
より上層及び下層をほぼ同時に塗布する。 ３．特開平２−１７４９６５号に開示されているバック
アップロール付きエキストルージョン塗布装置により上
層及び下層をほぼ同時に塗布する。なお、強磁性粉末の
凝集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止
するため、特開昭６２−９５１７４号や特開平１−２３
６９６８号に開示されているような方法により塗布ヘッ
ド内部の塗布液に剪断を付与することが望ましい。さら
に、塗布液の粘度については、特願平１−３１２６５９
号に開示されている数値範囲を満足することが好まし
い。
に示されるような同時重層塗布方式を用いることによ
り、より効率的に生産することができる。本発明のよう
な重層構成の磁気記録媒体を塗布する装置、方法の例と
して以下のような構成を提案できる。 １．磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウエット状
態のうちに特公平１−４６１８６号や特開昭６０−２３
８１７９号、特開平２−２６５６７２号に開示されてい
る支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層
を塗布する。 ２．特開昭６３−８８０８０号、特開平２−１７９２１
号、特開平２−２６５６７２号に開示されているような
塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドに
より上層及び下層をほぼ同時に塗布する。 ３．特開平２−１７４９６５号に開示されているバック
アップロール付きエキストルージョン塗布装置により上
層及び下層をほぼ同時に塗布する。なお、強磁性粉末の
凝集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止
するため、特開昭６２−９５１７４号や特開平１−２３
６９６８号に開示されているような方法により塗布ヘッ
ド内部の塗布液に剪断を付与することが望ましい。さら
に、塗布液の粘度については、特願平１−３１２６５９
号に開示されている数値範囲を満足することが好まし
い。
【００９３】本発明では、上記の下層用塗布液を湿潤状
態で重畳して塗布する、所謂ウェット・オン・ウェット
塗布方式によって、支持体上に設けることが好ましい。
本発明で下層と上層を設けるに用いるウェット・オン・
ウェット塗布方式とは、初め一層を塗布した後に湿潤状
態で可及的速やかに次の層をその上に塗布する所謂逐次
塗布方法、及び多層同時にエクストルージョン塗布方式
で塗布する方法等をいう。
態で重畳して塗布する、所謂ウェット・オン・ウェット
塗布方式によって、支持体上に設けることが好ましい。
本発明で下層と上層を設けるに用いるウェット・オン・
ウェット塗布方式とは、初め一層を塗布した後に湿潤状
態で可及的速やかに次の層をその上に塗布する所謂逐次
塗布方法、及び多層同時にエクストルージョン塗布方式
で塗布する方法等をいう。
【００９４】ウェット・オン・ウェット塗布方式として
は、特開昭６１−１３９９２９号公報に示した磁気記録
媒体塗布方法が使用できる。本発明の媒体を得るために
は強力な配向を行う必要がある。１０００Ｇ（ガウス）
以上のソレノイドと２０００Ｇ以上のコバルト磁石を併
用することが好ましく、さらには乾燥後の配向性が最も
高くなるように配向前に予め適度の乾燥工程を設けるこ
とが好ましい。また、ディスク媒体として、本発明を適
用する場合はむしろ配向をランダマイズするような配向
法が必要である。
は、特開昭６１−１３９９２９号公報に示した磁気記録
媒体塗布方法が使用できる。本発明の媒体を得るために
は強力な配向を行う必要がある。１０００Ｇ（ガウス）
以上のソレノイドと２０００Ｇ以上のコバルト磁石を併
用することが好ましく、さらには乾燥後の配向性が最も
高くなるように配向前に予め適度の乾燥工程を設けるこ
とが好ましい。また、ディスク媒体として、本発明を適
用する場合はむしろ配向をランダマイズするような配向
法が必要である。
【００９５】さらに、カレンダ処理ロールとしてエポキ
シ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐
熱性のあるプラスチックロールを使用する。また、金属
ロール同志で処理することもできる。処理温度は、好ま
しくは７０℃以上、さらに好ましくは８０℃以上であ
る。線圧力は好ましくは２００Ｋｇ／ｃｍ、さらに好ま
しくは３００Ｋｇ／ｃｍ以上、その速度は２０ｍ／分〜
７００ｍ／分の範囲である。本発明の効果は８０℃以上
の温度で３００Ｋｇ／ｃｍ以上の線圧でより一層効果を
上げることができる。本発明の磁気記録媒体の上層およ
びその反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は好ま
しくは０．５以下、さらに０．３以下、磁性層表面固有
抵抗は１０4〜１０11オーム／ｓｑ、下層を単独で塗布
した場合の表面固有抵抗は１０4 〜１０8 オーム／ｓ
ｑ、バック層の表面電気抵抗は１０3 〜１０9 オームが
好ましい。
シ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐
熱性のあるプラスチックロールを使用する。また、金属
ロール同志で処理することもできる。処理温度は、好ま
しくは７０℃以上、さらに好ましくは８０℃以上であ
る。線圧力は好ましくは２００Ｋｇ／ｃｍ、さらに好ま
しくは３００Ｋｇ／ｃｍ以上、その速度は２０ｍ／分〜
７００ｍ／分の範囲である。本発明の効果は８０℃以上
の温度で３００Ｋｇ／ｃｍ以上の線圧でより一層効果を
上げることができる。本発明の磁気記録媒体の上層およ
びその反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は好ま
しくは０．５以下、さらに０．３以下、磁性層表面固有
抵抗は１０4〜１０11オーム／ｓｑ、下層を単独で塗布
した場合の表面固有抵抗は１０4 〜１０8 オーム／ｓ
ｑ、バック層の表面電気抵抗は１０3 〜１０9 オームが
好ましい。
【００９６】上層の０．５％伸びでの弾性率は走行方
向、幅方向とも好ましくは３００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ
2 、破断強度は好ましくは２〜３０Ｋｇ／ｃｍ2 、磁気
記録媒体の弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは１
００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ2 、残留のびは好ましくは
０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮
率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以
下、もっとも好ましくは０．１％以下である。
向、幅方向とも好ましくは３００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ
2 、破断強度は好ましくは２〜３０Ｋｇ／ｃｍ2 、磁気
記録媒体の弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは１
００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ2 、残留のびは好ましくは
０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮
率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以
下、もっとも好ましくは０．１％以下である。
【００９７】上層、下層が有する空隙率は、ともに好ま
しくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以
下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が
好ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い
場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるデータ
記録用磁気記録媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性
は好ましいことが多い。これらの値を目的に応じた適当
な範囲に設定することは容易に実施できることである。
しくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以
下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が
好ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い
場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるデータ
記録用磁気記録媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性
は好ましいことが多い。これらの値を目的に応じた適当
な範囲に設定することは容易に実施できることである。
【００９８】本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場５
ＫＯｅで測定した場合、テープ走行方向の角形比は０．
７０以上であり、好ましくは０．８０以上さらに好まし
くは０．９０以上である。テープ走行方向に直角な二つ
の方向の角形比は走行方向の角形比の８０％以下となる
ことが好ましい。磁性層のＳＦＤは０．６以下であるこ
とが好ましい。
ＫＯｅで測定した場合、テープ走行方向の角形比は０．
７０以上であり、好ましくは０．８０以上さらに好まし
くは０．９０以上である。テープ走行方向に直角な二つ
の方向の角形比は走行方向の角形比の８０％以下となる
ことが好ましい。磁性層のＳＦＤは０．６以下であるこ
とが好ましい。
【００９９】本発明の磁気記録媒体は、下層と上層を有
するが、目的に応じ下層と上層でこれらの物理特性を変
えることができるのは容易に推定されることである。例
えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させる
と同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くして磁気記
録媒体のヘッドへの当たりを良くするなどである。本発
明の磁気記録媒体は、以下の物性値の範囲が好ましい。
するが、目的に応じ下層と上層でこれらの物理特性を変
えることができるのは容易に推定されることである。例
えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させる
と同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くして磁気記
録媒体のヘッドへの当たりを良くするなどである。本発
明の磁気記録媒体は、以下の物性値の範囲が好ましい。
【０１００】本発明の磁気記録媒体を引張り試験試験機
で測定したヤング率が４００〜５０００Ｋｇ／ｍｍ2 、
好ましくは、７００〜４０００Ｋｇ／ｍｍ2 であり、前
記磁性層のヤング率が４００〜５０００Ｋｇ／ｍｍ2 、
好ましくは７００〜４０００Ｋｇ／ｍｍ2 、降伏応力は
３〜２０Ｋｇ／ｍｍ2 、好ましくは３〜１５Ｋｇ／ｍｍ
2 、降伏伸びが０．２〜８％、０．４〜５％であること
が望ましい。
で測定したヤング率が４００〜５０００Ｋｇ／ｍｍ2 、
好ましくは、７００〜４０００Ｋｇ／ｍｍ2 であり、前
記磁性層のヤング率が４００〜５０００Ｋｇ／ｍｍ2 、
好ましくは７００〜４０００Ｋｇ／ｍｍ2 、降伏応力は
３〜２０Ｋｇ／ｍｍ2 、好ましくは３〜１５Ｋｇ／ｍｍ
2 、降伏伸びが０．２〜８％、０．４〜５％であること
が望ましい。
【０１０１】これは、強磁性粉末、結合剤、カーボンブ
ラック、無機質粉末、支持体が係わってくるので、耐久
性に影響する。又、本発明の磁気記録媒体の曲げ剛性
（円環式スティフネス）は全厚が１１．５μｍより厚い
場合は好ましくは４０〜３００ｍｇ全厚が１０．５±１
μｍでは好ましくは２０〜９０ｍｇ又全厚が９．５μｍ
より薄い場合は好ましくは１０〜７０ｍｇである。
ラック、無機質粉末、支持体が係わってくるので、耐久
性に影響する。又、本発明の磁気記録媒体の曲げ剛性
（円環式スティフネス）は全厚が１１．５μｍより厚い
場合は好ましくは４０〜３００ｍｇ全厚が１０．５±１
μｍでは好ましくは２０〜９０ｍｇ又全厚が９．５μｍ
より薄い場合は好ましくは１０〜７０ｍｇである。
【０１０２】これは、主として支持体に関連するもので
耐久性を確保する上で重要である。また、本発明磁気記
録媒体の２３℃、７０％ＲＨで測定したクラック発生伸
度が好ましくは２０％以下が望ましい。また、本発明磁
気記録媒体をＸ線光電子分光装置を用いて測定した前記
磁性層表面のＣｌ／Ｆｅスペクトルαが好ましくは０．
３〜０．６、Ｎ／Ｆｅスペクトルβが好ましくは０．０
３〜０．１２である。
耐久性を確保する上で重要である。また、本発明磁気記
録媒体の２３℃、７０％ＲＨで測定したクラック発生伸
度が好ましくは２０％以下が望ましい。また、本発明磁
気記録媒体をＸ線光電子分光装置を用いて測定した前記
磁性層表面のＣｌ／Ｆｅスペクトルαが好ましくは０．
３〜０．６、Ｎ／Ｆｅスペクトルβが好ましくは０．０
３〜０．１２である。
【０１０３】これは、強磁性粉末、無機質粉末及び結合
剤と関連し、耐久性を得る上で重要である。また、本発
明磁気記録媒体を動的粘弾性測定装置を用いて測定した
前記磁性層のガラス転移温度Ｔｇ（１１０Ｈｚで測定し
た動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）が好ましくは
４０〜１２０℃であり、弾性率Ｅ′（５０℃）が好まし
くは０．８×１０11〜１１×１０11ｄｙｎｅ／ｃｍ2 で
あり、損失弾性率Ｅ′′（５０℃）が好ましくは０．５
×１０11〜８×１０11ｄｙｎｅ／ｃｍ2 であることが望
ましい。また損失正接は、０．２以下であることが好ま
しい。損失正接が大きすぎると粘着故障が出やすい。こ
れらは、バインダー、カーボンブラック、や溶剤と関連
し、耐久性に関連する重要な特性である。
剤と関連し、耐久性を得る上で重要である。また、本発
明磁気記録媒体を動的粘弾性測定装置を用いて測定した
前記磁性層のガラス転移温度Ｔｇ（１１０Ｈｚで測定し
た動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）が好ましくは
４０〜１２０℃であり、弾性率Ｅ′（５０℃）が好まし
くは０．８×１０11〜１１×１０11ｄｙｎｅ／ｃｍ2 で
あり、損失弾性率Ｅ′′（５０℃）が好ましくは０．５
×１０11〜８×１０11ｄｙｎｅ／ｃｍ2 であることが望
ましい。また損失正接は、０．２以下であることが好ま
しい。損失正接が大きすぎると粘着故障が出やすい。こ
れらは、バインダー、カーボンブラック、や溶剤と関連
し、耐久性に関連する重要な特性である。
【０１０４】また、前記支持体と前記磁性層との２３
℃、７０％ＲＨでの８ｍｍ幅テープの１８０°密着強度
が好ましくは１０ｇ以上であることが望ましい。また、
上層磁性層表面の２３℃、７０％ＲＨの鋼球磨耗が好ま
しくは０．１×１０-5〜５×１０-5ｍｍ3 であることが
望ましい。これは、直接に磁性層表面の磨耗を見るもの
で主に強磁性粉末に関連する耐久性の尺度である。
℃、７０％ＲＨでの８ｍｍ幅テープの１８０°密着強度
が好ましくは１０ｇ以上であることが望ましい。また、
上層磁性層表面の２３℃、７０％ＲＨの鋼球磨耗が好ま
しくは０．１×１０-5〜５×１０-5ｍｍ3 であることが
望ましい。これは、直接に磁性層表面の磨耗を見るもの
で主に強磁性粉末に関連する耐久性の尺度である。
【０１０５】又、本発明磁気記録媒体をＳＥＭ（電子顕
微鏡）で倍率５００００倍で５枚撮影した前記磁性層表
面の研磨剤の目視での数が好ましくは０．１個／μｍ2
以上であることが望ましい。又、本発明の磁気記録媒体
の上層磁性層端面に存在する研磨剤は５個／１００μｍ
2 以上が好ましい。これらは、磁性層の研磨剤と結合剤
により影響を受け、耐久性に効果を発揮する尺度であ
る。
微鏡）で倍率５００００倍で５枚撮影した前記磁性層表
面の研磨剤の目視での数が好ましくは０．１個／μｍ2
以上であることが望ましい。又、本発明の磁気記録媒体
の上層磁性層端面に存在する研磨剤は５個／１００μｍ
2 以上が好ましい。これらは、磁性層の研磨剤と結合剤
により影響を受け、耐久性に効果を発揮する尺度であ
る。
【０１０６】また、本発明磁気記録媒体をガスクロマト
グラフィーを用いて測定した前記磁気記録媒体の残留溶
剤が好ましくは５０ｍｇ／ｍ2 以下であることが望まし
い。又、上層中に含まれる残留溶媒は好ましくは５０ｍ
ｇ／ｍ2 以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ2 以下で
あり、上層に含まれる残留溶媒が下層に含まれる残留溶
媒より少ないほうが好ましい。
グラフィーを用いて測定した前記磁気記録媒体の残留溶
剤が好ましくは５０ｍｇ／ｍ2 以下であることが望まし
い。又、上層中に含まれる残留溶媒は好ましくは５０ｍ
ｇ／ｍ2 以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ2 以下で
あり、上層に含まれる残留溶媒が下層に含まれる残留溶
媒より少ないほうが好ましい。
【０１０７】また、本発明磁気記録媒体よりＴＨＦを用
いて抽出された可溶性固形分の磁性層重量に対する比率
であるゾル分率が１５％以下であることが望ましい。こ
れは、強磁性粉末と結合剤により影響を受けるもので、
耐久性の尺度となる。
いて抽出された可溶性固形分の磁性層重量に対する比率
であるゾル分率が１５％以下であることが望ましい。こ
れは、強磁性粉末と結合剤により影響を受けるもので、
耐久性の尺度となる。
【０１０８】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明は、これに限定されるものではない。尚、「部」
は重量部を意味する。 基本処方 下層非磁性層 無機質粉末 ＴｉＯ2 ８０部 平均粒径 ０．０３５μｍ 結晶系 ルチル ＴｉＯ2 含有量 ９０％以上 ＢＥＴ法による比表面積 ４０ｍ2 ／ｇ ＤＢＰ吸油量 ２７〜３８ｍｌ／１００ｇ ｐＨ ７ カーボンブラック ２０部 平均粒径 １６ｍμ ＤＢＰ吸油量 ８０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ ８．０ ＢＥＴ法による比表面積 ２５０ｍ2 ／ｇ 揮発分 １．５％ 塩化ビニル共重合体（ＭＲ−１１０） １２部 −ＳＯ3 Ｎａ基 ５×１０-6ｅｑ／ｇ含む エポキシ基（モノマー単位で３．５重量％） 重合度 ３５０ ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ3 Ｎａ基 １×１０-4ｅｑ／ｇ含有 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン ２００部 上層磁性層：下記各実施例に共通 強磁性合金粉末 組成（％）Ｆｅ：Ｎｉ：Ｃｏ＝９３：３：３ １００部 Ｈｃ １６００Ｏｅ 比表面積 ５８ｍ2 ／ｇ 結晶子サイズ １７０Å 粒子サイズ（長軸長） ０．１８μｍ、針状比 ８ 飽和磁化( σS ) ：１２５ｅｍｕ／ｇ 塩化ビニル系共重合体（ＭＲ−１１０） １２部 −ＳＯ3 Ｎａ基 ５×１０-6ｅｑ／ｇ含有 エポキシ基（モノマー単位で３．５重量％） 重合度 ３５０ ポリエステルポリウレタン樹脂 ３部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ3 Ｎａ基 １×１０-4ｅｑ／ｇ含有 α−アルミナ（平均粒径 ０．３μｍ） ５部 カーボンブラック（平均粒径 ０．１０μｍ） ０．５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン ２００部 上記２つの塗料のそれぞれについて、各成分を連続ニー
ダーで混練した後、サンドミルを用いて分散させた。得
られた分散液にポリイソシアネートを下層非磁性層の塗
布液には１部、上層磁性層の塗布液には３部を加え、さ
らにそれぞれに酢酸ブチル４０部を加え、１μｍの平均
孔径を有するフィルターを用いて濾過し、下層非磁性層
用及び上層磁性層用の塗布液をそれぞれ調製した。
本発明は、これに限定されるものではない。尚、「部」
は重量部を意味する。 基本処方 下層非磁性層 無機質粉末 ＴｉＯ2 ８０部 平均粒径 ０．０３５μｍ 結晶系 ルチル ＴｉＯ2 含有量 ９０％以上 ＢＥＴ法による比表面積 ４０ｍ2 ／ｇ ＤＢＰ吸油量 ２７〜３８ｍｌ／１００ｇ ｐＨ ７ カーボンブラック ２０部 平均粒径 １６ｍμ ＤＢＰ吸油量 ８０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ ８．０ ＢＥＴ法による比表面積 ２５０ｍ2 ／ｇ 揮発分 １．５％ 塩化ビニル共重合体（ＭＲ−１１０） １２部 −ＳＯ3 Ｎａ基 ５×１０-6ｅｑ／ｇ含む エポキシ基（モノマー単位で３．５重量％） 重合度 ３５０ ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ3 Ｎａ基 １×１０-4ｅｑ／ｇ含有 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン ２００部 上層磁性層：下記各実施例に共通 強磁性合金粉末 組成（％）Ｆｅ：Ｎｉ：Ｃｏ＝９３：３：３ １００部 Ｈｃ １６００Ｏｅ 比表面積 ５８ｍ2 ／ｇ 結晶子サイズ １７０Å 粒子サイズ（長軸長） ０．１８μｍ、針状比 ８ 飽和磁化( σS ) ：１２５ｅｍｕ／ｇ 塩化ビニル系共重合体（ＭＲ−１１０） １２部 −ＳＯ3 Ｎａ基 ５×１０-6ｅｑ／ｇ含有 エポキシ基（モノマー単位で３．５重量％） 重合度 ３５０ ポリエステルポリウレタン樹脂 ３部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ3 Ｎａ基 １×１０-4ｅｑ／ｇ含有 α−アルミナ（平均粒径 ０．３μｍ） ５部 カーボンブラック（平均粒径 ０．１０μｍ） ０．５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン ２００部 上記２つの塗料のそれぞれについて、各成分を連続ニー
ダーで混練した後、サンドミルを用いて分散させた。得
られた分散液にポリイソシアネートを下層非磁性層の塗
布液には１部、上層磁性層の塗布液には３部を加え、さ
らにそれぞれに酢酸ブチル４０部を加え、１μｍの平均
孔径を有するフィルターを用いて濾過し、下層非磁性層
用及び上層磁性層用の塗布液をそれぞれ調製した。
【０１０９】得られた下層非磁性層塗布液を乾燥後の厚
さが２μｍになるように更にその直後にその上に上層磁
性層の厚さが０．２μｍになるように、厚さ７μｍで中
心平均表面粗さが０．０１μｍのポリエチレンテレフタ
レート支持体上に同時重層塗布を行い、両層がまだ湿潤
状態にあるうちに３０００ガウスの磁力をもつコバルト
磁石と１５００ガウスの磁力をもつソレノイドにより配
向させ、乾燥後、金属ロールのみから構成される７段の
カレンダーで温度９０℃にて処理を行い、８ｍｍの幅に
スリットし、ビデオテープを製造した。
さが２μｍになるように更にその直後にその上に上層磁
性層の厚さが０．２μｍになるように、厚さ７μｍで中
心平均表面粗さが０．０１μｍのポリエチレンテレフタ
レート支持体上に同時重層塗布を行い、両層がまだ湿潤
状態にあるうちに３０００ガウスの磁力をもつコバルト
磁石と１５００ガウスの磁力をもつソレノイドにより配
向させ、乾燥後、金属ロールのみから構成される７段の
カレンダーで温度９０℃にて処理を行い、８ｍｍの幅に
スリットし、ビデオテープを製造した。
【０１１０】実施例１ 基本処方に対して無機質粉末の表面処理剤としてフェニ
ルホスホン酸を２．４部、無機質粉末、結合剤と同時に
添加した。これは、使用粉末の比表面積に対して３μｍ
ｏｌ／ｍ2 に当たる量である。 実施例２ 基本処方の下層の無機質粉末を以下のαＦｅ2 Ｏ3 に変
更 αＦｅ2 Ｏ3 ８０部 平均粒径 ０．０３μｍ ＢＥＴ法による比表面積 ３５ｍ2 ／ｇ また、フェニルホスホン酸を２．１部添加した。これは
使用粉末の比表面積に対して３μｍｏｌ／ｍ2 に当たる
量である。
ルホスホン酸を２．４部、無機質粉末、結合剤と同時に
添加した。これは、使用粉末の比表面積に対して３μｍ
ｏｌ／ｍ2 に当たる量である。 実施例２ 基本処方の下層の無機質粉末を以下のαＦｅ2 Ｏ3 に変
更 αＦｅ2 Ｏ3 ８０部 平均粒径 ０．０３μｍ ＢＥＴ法による比表面積 ３５ｍ2 ／ｇ また、フェニルホスホン酸を２．１部添加した。これは
使用粉末の比表面積に対して３μｍｏｌ／ｍ2 に当たる
量である。
【０１１１】実施例３ 基本処方の下層の無機質粉末を以下のＢａＳＯ4 に変更 ＢａＳＯ4 ８０部 平均粒径 ０．０４μｍ ＢＥＴ法による比表面積 ５０ｍ2 ／ｇ また、フェニルホスホン酸を３．０部添加した。これは
使用粉末の比表面積に対して３μｍｏｌ／ｍ2 に当たる
量である。
使用粉末の比表面積に対して３μｍｏｌ／ｍ2 に当たる
量である。
【０１１２】実施例４ 基本処方の下層の無機質粉末を以下のＴｉＯ2 に変更 ＴｉＯ2 ８０部 平均粒径 ０．０８μｍ ＢＥＴ法による比表面積 １６ｍ2 ／ｇ また、フェニルホスホン酸を５．５部添加した。これは
使用粉末の比表面積に対して３μｍｏｌ／ｍ2 に当たる
量である。
使用粉末の比表面積に対して３μｍｏｌ／ｍ2 に当たる
量である。
【０１１３】実施例５ 基本処方に対して無機質粉末の表面処理剤としてフェニ
ルホスホン酸を２．４部、本発明に従い添加した。これ
は、使用粉末の比表面積に対して３μｍｏｌ／ｍ2 に当
たる量である。また、上層磁性層の厚味を０．８μｍに
した。 実施例６ 基本処方に対して無機質粉末の表面処理剤としてフェニ
ルホスホン酸を０．４部添加した。これは、使用粉末の
比表面積に対して３μｍｏｌ／ｍ2 に当たる量である。
ルホスホン酸を２．４部、本発明に従い添加した。これ
は、使用粉末の比表面積に対して３μｍｏｌ／ｍ2 に当
たる量である。また、上層磁性層の厚味を０．８μｍに
した。 実施例６ 基本処方に対して無機質粉末の表面処理剤としてフェニ
ルホスホン酸を０．４部添加した。これは、使用粉末の
比表面積に対して３μｍｏｌ／ｍ2 に当たる量である。
【０１１４】実施例７ 基本処方に対して無機質粉末の表面処理剤としてフェニ
ルホスホン酸を２０部添加した。これは使用粉末の比表
面積に対して２５μｍｏｌ／ｍ2 に当たる量である。 比較例１ 下層のＴｉＯ2 を使用せず、下記の処方を使用した。
ルホスホン酸を２０部添加した。これは使用粉末の比表
面積に対して２５μｍｏｌ／ｍ2 に当たる量である。 比較例１ 下層のＴｉＯ2 を使用せず、下記の処方を使用した。
【０１１５】 カーボンブラック ５０部 平均一次粒子径 １６ｍμ ＤＢＰ吸油量 ８０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ ８．０ ＢＥＴ法による比表面積 ２５０ｍ2 ／ｇ 揮発分 １．５％ 塩化ビニル共重合体（ＭＲ−１１０） １８部 −ＳＯ3 Ｎａ基 ５×１０-6ｅｑ／ｇ含む エポキシ基（モノマー単位で６．５重量％） 重合度 ３５０ ポリエステルポリウレタン樹脂 ７部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ3 Ｎａ基 １×１０-4ｅｑ／ｇ含有 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン ２００部 比較例２ 基本処方どうりである。
【０１１６】比較例３ 基本処方中のＴｉＯ2 を前もってポリオールのトリメチ
ロールプロパンで表面処理を行ったものを使用した。処
方自体は変更はない。 比較例４ 基本処方に対して下層無機質粉末分散剤としてラウリン
酸を２．４部添加した。これは使用粉末の比表面積に対
して３μｍｏｌ／ｍ2 に当たる量である。
ロールプロパンで表面処理を行ったものを使用した。処
方自体は変更はない。 比較例４ 基本処方に対して下層無機質粉末分散剤としてラウリン
酸を２．４部添加した。これは使用粉末の比表面積に対
して３μｍｏｌ／ｍ2 に当たる量である。
【０１１７】比較例５ 基本処方に対して下層無機質粉末分散剤としてフェニル
ホスホン酸を２．４部添加した。これは使用粉末の比表
面積に対して３μｍｏｌ／ｍ2 に当たる量である。ま
た、磁性層の厚味を１．５μｍにした。
ホスホン酸を２．４部添加した。これは使用粉末の比表
面積に対して３μｍｏｌ／ｍ2 に当たる量である。ま
た、磁性層の厚味を１．５μｍにした。
【０１１８】得られた試料を下記により評価し、その結
果を表１、２に示す。 評価方法 脂肪酸量（仕込み量、遊離脂肪酸量）：前記方法によっ
た。尚、仕込み量については、無機質粉末１００重量部
に対する重量部で示した。ただし、比較例１について
は、カーボンブラック１００重量部に対する重量部で示
した。 中心平均表面粗さ：三次元表面粗さ計（小坂研究所製）
を用い、カットオフ０．２５ｍｍで測定した。 Ｃ／Ｎ：富士写真フィルム社製ＦＵＪＩＸ８ ８ｍｍビ
デオテープを用いて７ＭＨｚの信号を記録し、この信号
を再生したときの６ＭＨｚで発生するノイズをスペクト
ロアナライザー（ＨＰ製）で測定し、このノイズに対す
る再生信号の比を測定した。
果を表１、２に示す。 評価方法 脂肪酸量（仕込み量、遊離脂肪酸量）：前記方法によっ
た。尚、仕込み量については、無機質粉末１００重量部
に対する重量部で示した。ただし、比較例１について
は、カーボンブラック１００重量部に対する重量部で示
した。 中心平均表面粗さ：三次元表面粗さ計（小坂研究所製）
を用い、カットオフ０．２５ｍｍで測定した。 Ｃ／Ｎ：富士写真フィルム社製ＦＵＪＩＸ８ ８ｍｍビ
デオテープを用いて７ＭＨｚの信号を記録し、この信号
を再生したときの６ＭＨｚで発生するノイズをスペクト
ロアナライザー（ＨＰ製）で測定し、このノイズに対す
る再生信号の比を測定した。
【０１１９】ジッター：各試料のジッターの値をジッタ
ーメーターにより測定した。 μ値：２３℃、ＲＨ７０％において、試料とステンレス
ポール（ＳＵＳ４２０Ｊ：ポール表面粗さＲａ ０．０
６〜０．０８μｍ；接触式粗さ計、カットオフ０．２５
μで測定）とを２０ｇの張力（Ｔ1 ）で接触（巻きつけ
角 １８０°）させて案内部材を介して試料を水平とし
てロードセルに保持し、この条件下で、試料を１４ｍｍ
／秒の速度で水平方向に走行させるのに必要な張力（Ｔ
2 ）を測定した。この測定値をもとに下記の計算式によ
り摩擦係数μ値を求めた。
ーメーターにより測定した。 μ値：２３℃、ＲＨ７０％において、試料とステンレス
ポール（ＳＵＳ４２０Ｊ：ポール表面粗さＲａ ０．０
６〜０．０８μｍ；接触式粗さ計、カットオフ０．２５
μで測定）とを２０ｇの張力（Ｔ1 ）で接触（巻きつけ
角 １８０°）させて案内部材を介して試料を水平とし
てロードセルに保持し、この条件下で、試料を１４ｍｍ
／秒の速度で水平方向に走行させるのに必要な張力（Ｔ
2 ）を測定した。この測定値をもとに下記の計算式によ
り摩擦係数μ値を求めた。
【０１２０】μ＝（１／π）・ｌｎ（Ｔ2 ／Ｔ1 ）
【０１２１】
【表１】
【０１２２】
【表２】
【０１２３】上表より上記実施例を総括すれば下記の通
りである。 実施例１〜３：下層無機質粉末の表面処理剤による分散
性の向上により表面平滑性が向上し、Ｃ／Ｎ等の電磁変
換特性も向上した。また下層無機質粉末に強く表面処理
剤である有機化合物が吸着するため、潤滑剤である脂肪
酸、即ちステアリン酸の無機質粉末への吸着を防ぎ脂肪
酸を有効に活用しておりジッター、走行性が向上した。
りである。 実施例１〜３：下層無機質粉末の表面処理剤による分散
性の向上により表面平滑性が向上し、Ｃ／Ｎ等の電磁変
換特性も向上した。また下層無機質粉末に強く表面処理
剤である有機化合物が吸着するため、潤滑剤である脂肪
酸、即ちステアリン酸の無機質粉末への吸着を防ぎ脂肪
酸を有効に活用しておりジッター、走行性が向上した。
【０１２４】実施例４：実施例１より無機質粉末の平均
粒径が大きいが０．０８程度では表面粗さ、電磁変換特
性に対して大きな低下はない。 実施例５：実施例１より磁性層が厚いが０．８程度では
電磁変換特性の低下はあまりない。
粒径が大きいが０．０８程度では表面粗さ、電磁変換特
性に対して大きな低下はない。 実施例５：実施例１より磁性層が厚いが０．８程度では
電磁変換特性の低下はあまりない。
【０１２５】実施例６：実施例１より表面処理剤の量が
少ないので分散性の低下により表面粗さなどが低下した
が効果は充分である。 実施例７：実施例１より表面処理剤の量が多いが多少充
填度の関係で電磁変換特性が低下したが、効果は充分で
ある。 比較例１：下層が無機質粉末を含まないので可撓性にお
とりヘッド当たりなどの低下及び塗布時の下層の表面性
の低下による磁性層の表面性劣化により、電磁変換特性
の低下をまねいた。
少ないので分散性の低下により表面粗さなどが低下した
が効果は充分である。 実施例７：実施例１より表面処理剤の量が多いが多少充
填度の関係で電磁変換特性が低下したが、効果は充分で
ある。 比較例１：下層が無機質粉末を含まないので可撓性にお
とりヘッド当たりなどの低下及び塗布時の下層の表面性
の低下による磁性層の表面性劣化により、電磁変換特性
の低下をまねいた。
【０１２６】比較例２：下層無機質粉末がＰ含有有機化
合物により処理されていないことにより凝集しやすくな
り、その結果、表面性が低下して電磁変換特性の低下が
見られ、潤滑剤が無機質粉末に吸着することにより潤滑
効果が充分でなく、ジッターなども低下した。
合物により処理されていないことにより凝集しやすくな
り、その結果、表面性が低下して電磁変換特性の低下が
見られ、潤滑剤が無機質粉末に吸着することにより潤滑
効果が充分でなく、ジッターなども低下した。
【０１２７】比較例３〜４：表面処理剤のポリオールや
ラウリン酸は潤滑剤としていれたステアリン酸により交
換吸着され、分散性及び走行性も低下した。
ラウリン酸は潤滑剤としていれたステアリン酸により交
換吸着され、分散性及び走行性も低下した。
【０１２８】比較例５：磁性層が厚かったために厚味損
失により電磁変換特性が低下した。 実施例８ 支持体としてポリエチレンテレフタレート（厚味１０μ
ｍ、Ｆ５値：ＭＤ方向２０Ｋｇ／ｍｍ2 、ＴＤ方向 １
４Ｋｇ／ｍｍ2 、ヤング率：ＭＤ方向 ７５０Ｋｇ／ｍ
ｍ2 、ＴＤ方向 ４７０Ｋｇ／ｍｍ2 ）又はポリエチレ
ンテレナフタレート（厚味 ７μｍ、Ｆ５値：ＭＤ方向
２２Ｋｇ／ｍｍ2 、ＴＤ方向 １８Ｋｇ／ｍｍ2 、ヤ
ング率：ＭＤ方向 ７５０Ｋｇ／ｍｍ2 、ＴＤ方向 ７
５０Ｋｇ／ｍｍ2 ）を用い、その上に以下の処方でディ
スパ攪拌機で１２時間攪拌して下塗液を調製した。
失により電磁変換特性が低下した。 実施例８ 支持体としてポリエチレンテレフタレート（厚味１０μ
ｍ、Ｆ５値：ＭＤ方向２０Ｋｇ／ｍｍ2 、ＴＤ方向 １
４Ｋｇ／ｍｍ2 、ヤング率：ＭＤ方向 ７５０Ｋｇ／ｍ
ｍ2 、ＴＤ方向 ４７０Ｋｇ／ｍｍ2 ）又はポリエチレ
ンテレナフタレート（厚味 ７μｍ、Ｆ５値：ＭＤ方向
２２Ｋｇ／ｍｍ2 、ＴＤ方向 １８Ｋｇ／ｍｍ2 、ヤ
ング率：ＭＤ方向 ７５０Ｋｇ／ｍｍ2 、ＴＤ方向 ７
５０Ｋｇ／ｍｍ2 ）を用い、その上に以下の処方でディ
スパ攪拌機で１２時間攪拌して下塗液を調製した。
【０１２９】 ポリエステル樹脂（−ＳＯ3 Ｎａ基含有） １００部 Ｔｇ ６５℃ Ｎａ含量 ４６００ｐｐｍ シクロヘキサノン ９９００部 得られた下塗液を用いてバーコートにより前記支持体上
に乾燥厚味 ０．１μｍで塗布した。
に乾燥厚味 ０．１μｍで塗布した。
【０１３０】一方、以下の処方で上層磁性層用塗布液及
び下層非磁性層用塗布液を調製した。 上層磁性層用塗布液処方 強磁性粉末：Ｆｅ合金粉末（Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ） １００部 組成；Ｆｅ：Ｃｏ：Ｎｉ＝９２：６：２ 焼結防止剤としてＡｌ2 Ｏ3 を使用 Ｈｃ １６００Oe、σS １１９ｅｍｕ／ｇ 長軸長 ０．１３μｍ，針状比 ７ 結晶子サイズ １７２Å、含水率 ０．６重量％ 塩化ビニル共重合体 １３部 −ＳＯ3 Ｎａ ８×１０-5ｅｑ／ｇ、−ＯＨ、エポキシ基含有 Ｔｇ ７１℃、重合度 ３００、数平均分子量（Ｍｎ）１２０００ 重量平均分子量（Ｍｗ）３８０００ ポリウレタン樹脂 ５部 −ＳＯ3 Ｎａ ８×１０-5ｅｑ／ｇ含有 −ＯＨ ８×１０-5ｅｑ／ｇ含有 Ｔｇ ３８℃、Ｍｗ ５００００ αアルミナ（平均粒径０．１５μｍ） １２部 ＳBET ８．７ｍ2 ／ｇ、ｐＨ ８．２、含水率 ０．０６重量％ シクロヘキサノン １５０部 メチルエチルケトン １５０部 上記組成物をサンドミル中で６時間混合分散したのち、
ポリイソシアネート（コロネートＬ）及びオレイン酸
１部、ステアリン酸１部、ステアリン酸ブチル１部を加
えて上層磁性層用塗布液を得た。
び下層非磁性層用塗布液を調製した。 上層磁性層用塗布液処方 強磁性粉末：Ｆｅ合金粉末（Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ） １００部 組成；Ｆｅ：Ｃｏ：Ｎｉ＝９２：６：２ 焼結防止剤としてＡｌ2 Ｏ3 を使用 Ｈｃ １６００Oe、σS １１９ｅｍｕ／ｇ 長軸長 ０．１３μｍ，針状比 ７ 結晶子サイズ １７２Å、含水率 ０．６重量％ 塩化ビニル共重合体 １３部 −ＳＯ3 Ｎａ ８×１０-5ｅｑ／ｇ、−ＯＨ、エポキシ基含有 Ｔｇ ７１℃、重合度 ３００、数平均分子量（Ｍｎ）１２０００ 重量平均分子量（Ｍｗ）３８０００ ポリウレタン樹脂 ５部 −ＳＯ3 Ｎａ ８×１０-5ｅｑ／ｇ含有 −ＯＨ ８×１０-5ｅｑ／ｇ含有 Ｔｇ ３８℃、Ｍｗ ５００００ αアルミナ（平均粒径０．１５μｍ） １２部 ＳBET ８．７ｍ2 ／ｇ、ｐＨ ８．２、含水率 ０．０６重量％ シクロヘキサノン １５０部 メチルエチルケトン １５０部 上記組成物をサンドミル中で６時間混合分散したのち、
ポリイソシアネート（コロネートＬ）及びオレイン酸
１部、ステアリン酸１部、ステアリン酸ブチル１部を加
えて上層磁性層用塗布液を得た。
【０１３１】 下層非磁性層用塗布液処方 ＴｉＯ2 ８５部 平均粒径 ０．０３５μｍ 結晶系 ルチル ＴｉＯ2 含有量 ９０％以上 表面処理剤 Ａｌ2 Ｏ3 ＳBET ３５〜４５ｍ2 ／ｇ 真比重 ４．１ ｐＨ ６．５〜８．０ カーボンブラック ５部 平均粒径 １６ｍμ ＤＢＰ吸油量 ８０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ ８．０ ＳBET ２５０ｍ2 ／ｇ 着色力 １４３％ 塩化ビニル共重合体 １３部 −ＳＯ3 Ｎａ ８×１０-5ｅｑ／ｇ、−ＯＨ、エポキシ基含有 Ｔｇ ７１℃、重合度 ３００、数平均分子量（Ｍｎ）１２０００ 重量平均分子量（Ｍｗ）３８０００ ポリウレタン樹脂 ５部 −ＳＯ3 Ｎａ ８×１０-5ｅｑ／ｇ含有 −ＯＨ ８×１０-5ｅｑ／ｇ含有 Ｔｇ ３８℃、Ｍｗ ５００００ Ｐ含有有機化合物（フェニルホスホン酸） ２．４部 シクロヘキサン １００部 メチルエチルケトン １００部 上記組成物をサンドミル中で４時間混合分散したのち、
ポリイソシアネート（コロネートＬ）５部、オレイン酸
１部、ステアリン酸１部、ステアリン酸ブチル１部を加
えて下層非磁性層用塗布液を得た。
ポリイソシアネート（コロネートＬ）５部、オレイン酸
１部、ステアリン酸１部、ステアリン酸ブチル１部を加
えて下層非磁性層用塗布液を得た。
【０１３２】上記の塗布液をギャップの異なる２つのド
クターを用いて、湿潤状態で塗布したのち、永久磁石３
５００ガウス、次いでソレノイド １６００ガウスにて
配向処理後、乾燥した。その後、金属ロールと金属ロー
ルによるスーパーカレンダー処理を温度８０℃で行っ
た。塗布厚みは磁性層０．３μｍ、非磁性層３．０μｍ
であった。
クターを用いて、湿潤状態で塗布したのち、永久磁石３
５００ガウス、次いでソレノイド １６００ガウスにて
配向処理後、乾燥した。その後、金属ロールと金属ロー
ルによるスーパーカレンダー処理を温度８０℃で行っ
た。塗布厚みは磁性層０．３μｍ、非磁性層３．０μｍ
であった。
【０１３３】次いで以下の処方により塗布液を調製し
た。 ＢＣ層処方 カーボンブラック １００部 ＳBET ２２０ｍ2 ／ｇ 平均粒径 １７ｍμ ＤＢＰ吸油量 ７５ｍｌ／１００ｇ 揮発分 １．５％ ｐＨ ８．０ 嵩密度 １５ ｌｂｓ／ｆｔ3 ニトロセルロース ＲＳ１／２ １００部 ポリエステルポリウレタン ３０部 ニッポラン（日本ポリウレタン社製） 分散剤 オレイン酸銅 １０部 銅フタロシアニン １０部 硫酸バリウム（沈降性） ５部 メチルエチルケトン ５００部 トルエン ５００部 上記組成を予備混練し、ロールミルで混練した。次に上
記分散物１００重量部に対して、 カーボンブラック １００部 ＳBET ２００ｍ2 ／ｇ 平均粒径 ２００ｍμ ＤＢＰ吸油量 ３６ｍｌ／１００ｇ ｐＨ ８．５ α−Ａｌ2 Ｏ3 （平均粒径 ０．２μｍ） ０．１部 を添加した組成にてサンドグラインダーで分散を行い、
濾過後、上記分散物１００重量部に対して以下の組成を
添加し、塗布液を調製した。
た。 ＢＣ層処方 カーボンブラック １００部 ＳBET ２２０ｍ2 ／ｇ 平均粒径 １７ｍμ ＤＢＰ吸油量 ７５ｍｌ／１００ｇ 揮発分 １．５％ ｐＨ ８．０ 嵩密度 １５ ｌｂｓ／ｆｔ3 ニトロセルロース ＲＳ１／２ １００部 ポリエステルポリウレタン ３０部 ニッポラン（日本ポリウレタン社製） 分散剤 オレイン酸銅 １０部 銅フタロシアニン １０部 硫酸バリウム（沈降性） ５部 メチルエチルケトン ５００部 トルエン ５００部 上記組成を予備混練し、ロールミルで混練した。次に上
記分散物１００重量部に対して、 カーボンブラック １００部 ＳBET ２００ｍ2 ／ｇ 平均粒径 ２００ｍμ ＤＢＰ吸油量 ３６ｍｌ／１００ｇ ｐＨ ８．５ α−Ａｌ2 Ｏ3 （平均粒径 ０．２μｍ） ０．１部 を添加した組成にてサンドグラインダーで分散を行い、
濾過後、上記分散物１００重量部に対して以下の組成を
添加し、塗布液を調製した。
【０１３４】 メチルエチルケトン １２０部 ポリイソシアネート ５部 得られた塗布液をバーコーターにより、前記磁性層を設
けた支持体の反対側に乾燥厚味０．５μｍになるよう塗
布した。このようにして得られた原反を８ｍｍ幅に裁断
し試料１（ＰＥＴ支持体）及び試料２（ＰＥＮ支持体）
の８ｍｍビデオテープを作成した。
けた支持体の反対側に乾燥厚味０．５μｍになるよう塗
布した。このようにして得られた原反を８ｍｍ幅に裁断
し試料１（ＰＥＴ支持体）及び試料２（ＰＥＮ支持体）
の８ｍｍビデオテープを作成した。
【０１３５】得られた８ｍｍビデオテープについて以下
の測定を行い、その測定結果を得た。 （１）ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡） 磁性層の超薄切片を観察した。ダイヤモンドカッターで
媒体を約０．１μｍ厚味に切り出し、これを透過型電子
顕微鏡で観察し、写真撮影した。撮影した写真の上下層
の界面と磁性層表面を隈取りし、ＩＢＡＳII画像処理装
置で磁性層厚味を測定し、その平均値ｄと標準偏差σと
を求めた。
の測定を行い、その測定結果を得た。 （１）ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡） 磁性層の超薄切片を観察した。ダイヤモンドカッターで
媒体を約０．１μｍ厚味に切り出し、これを透過型電子
顕微鏡で観察し、写真撮影した。撮影した写真の上下層
の界面と磁性層表面を隈取りし、ＩＢＡＳII画像処理装
置で磁性層厚味を測定し、その平均値ｄと標準偏差σと
を求めた。
【０１３６】磁性層厚味の平均値ｄは０．４５μｍであ
った。実用上は１μｍ以下、特に好ましくは０．６μｍ
以下であることがわかった。磁性層厚味変動の標準偏差
σは、０．００８μｍ以下であった。実用上はσは０．
０２μｍ以下、特に好ましくは０．０１μｍ以下である
ことがわかった。前記磁気テープを延伸して磁性層を支
持体から浮いた状態にし、カッター刃でしごいて磁性層
を剥離した。この剥離した磁性層５００ｍｇを１Ｎ−Ｎ
ａＯＨ／メタノール溶液１００ｍｌ中で２時間環流し、
結合剤を加水分解した。強磁性粉末は比重が大きいため
に底に沈むので上澄み液を除去した。
った。実用上は１μｍ以下、特に好ましくは０．６μｍ
以下であることがわかった。磁性層厚味変動の標準偏差
σは、０．００８μｍ以下であった。実用上はσは０．
０２μｍ以下、特に好ましくは０．０１μｍ以下である
ことがわかった。前記磁気テープを延伸して磁性層を支
持体から浮いた状態にし、カッター刃でしごいて磁性層
を剥離した。この剥離した磁性層５００ｍｇを１Ｎ−Ｎ
ａＯＨ／メタノール溶液１００ｍｌ中で２時間環流し、
結合剤を加水分解した。強磁性粉末は比重が大きいため
に底に沈むので上澄み液を除去した。
【０１３７】次いでデカンテーションにより３回水洗、
その後ＴＨＦで３回洗浄した。得られた強磁性粉末は５
０℃の真空乾燥機で乾燥した。次に得られた強磁性粉末
をコロジオン中に分散し、ＴＥＭを用いて６万倍で観察
した。その結果、強磁性粉末の粒子長軸長０．１３μｍ
であり、針状比は１０であった。実用上は粒子長軸長は
０．４μｍ以下が必要であり、好ましくは０．３μｍ以
下であることがわかった。又実用上、針状比は２〜２０
が必要であり、好ましくは２〜１５であることがわかっ
た。 （２）ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏ
Ｓｃｏｐｅ） 表面粗さＲrms を測定した。磁性層表面をＤｉｇｉｔａ
ｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ社のＮａｎｏｓｃｏｐｅＩＩ
を用い、トンネル電流１０ｎＡ、バイアス電圧４００ｍ
Ｖで６μｍ×６μｍの範囲を走査した。表面粗さはこの
範囲のＲrms を求めた。
その後ＴＨＦで３回洗浄した。得られた強磁性粉末は５
０℃の真空乾燥機で乾燥した。次に得られた強磁性粉末
をコロジオン中に分散し、ＴＥＭを用いて６万倍で観察
した。その結果、強磁性粉末の粒子長軸長０．１３μｍ
であり、針状比は１０であった。実用上は粒子長軸長は
０．４μｍ以下が必要であり、好ましくは０．３μｍ以
下であることがわかった。又実用上、針状比は２〜２０
が必要であり、好ましくは２〜１５であることがわかっ
た。 （２）ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏ
Ｓｃｏｐｅ） 表面粗さＲrms を測定した。磁性層表面をＤｉｇｉｔａ
ｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ社のＮａｎｏｓｃｏｐｅＩＩ
を用い、トンネル電流１０ｎＡ、バイアス電圧４００ｍ
Ｖで６μｍ×６μｍの範囲を走査した。表面粗さはこの
範囲のＲrms を求めた。
【０１３８】その結果、Ｒrms は６ｎｍであった。実用
上は１０ｎｍ以下が必要であり、好ましくは８ｎｍ以下
であることがわかった。 （３）表面粗さ計 ３ｄ−ＭＩＲＡＵを用いた表面粗さを測定した。ＷＹＫ
Ｏ社製ＴＯＰＯ３Ｄを用いてＭＩＲＡＵ法で約２５０×
２５０ｍｍの面積のＲａ、Ｒrms 、Ｐｅａｋ−Ｖａｌｌ
ｅｙ値を測定した。測定波長約６５０ｎｍにて球面補
正、円筒補正を加えている。この方式は光干渉にて測定
する非接触表面粗さ計である。Ｒａは、２．７ｎｍであ
った。実用上、Ｒａは１〜４ｎｍが好ましく、更に好ま
しくは２〜３．５ｎｍであることがわかった。Ｒrms は
３．５ｎｍであった。実用上は１．３〜６ｎｍが好まし
く、更に好ましくは１．５〜５ｎｍであることがわかっ
た。Ｐ−Ｖ値は２０〜３０ｎｍであった。実用上は８０
ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは１０〜６０ｎｍで
あることがわかった。 （４）ＶＳＭ（振動試料型磁束計） ＶＳＭを用いて得られた磁気テープの磁性層の磁気特性
を測定した。東英工業社製の振動試料型磁束計を用いて
Ｈｍ ５ｋＯｅで測定した。
上は１０ｎｍ以下が必要であり、好ましくは８ｎｍ以下
であることがわかった。 （３）表面粗さ計 ３ｄ−ＭＩＲＡＵを用いた表面粗さを測定した。ＷＹＫ
Ｏ社製ＴＯＰＯ３Ｄを用いてＭＩＲＡＵ法で約２５０×
２５０ｍｍの面積のＲａ、Ｒrms 、Ｐｅａｋ−Ｖａｌｌ
ｅｙ値を測定した。測定波長約６５０ｎｍにて球面補
正、円筒補正を加えている。この方式は光干渉にて測定
する非接触表面粗さ計である。Ｒａは、２．７ｎｍであ
った。実用上、Ｒａは１〜４ｎｍが好ましく、更に好ま
しくは２〜３．５ｎｍであることがわかった。Ｒrms は
３．５ｎｍであった。実用上は１．３〜６ｎｍが好まし
く、更に好ましくは１．５〜５ｎｍであることがわかっ
た。Ｐ−Ｖ値は２０〜３０ｎｍであった。実用上は８０
ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは１０〜６０ｎｍで
あることがわかった。 （４）ＶＳＭ（振動試料型磁束計） ＶＳＭを用いて得られた磁気テープの磁性層の磁気特性
を測定した。東英工業社製の振動試料型磁束計を用いて
Ｈｍ ５ｋＯｅで測定した。
【０１３９】その結果、Ｈｃは１６２０Ｏｅ、Ｈｒ（９
０°）は１８００Ｏｅ、Ｂｒ／Ｂｍは０．８２、ＳＦＤ
は、０．５８３であった。実用上Ｈｃは１５００〜２５
００Ｏｅが必要で、好ましくは１６００〜２０００Ｏｅ
であることがわった。Ｈｒ（９０°）は実用上、１００
０〜２８００Ｏｅが必要で、好ましくは１２００〜２５
００Ｏｅであることがわかった。Ｂｒ／Ｂｍは、実用上
０．７５以上が必要で、好ましくは０．８以上であるこ
とがわかった。ＳＦＤは実用上０．７以下が必要で、好
ましくは０．６以下であることがわかった。 （５）Ｘ線回折 前述の（１）で磁性層より取り出した強磁性粉末を用い
て、Ｘ線回折をした。
０°）は１８００Ｏｅ、Ｂｒ／Ｂｍは０．８２、ＳＦＤ
は、０．５８３であった。実用上Ｈｃは１５００〜２５
００Ｏｅが必要で、好ましくは１６００〜２０００Ｏｅ
であることがわった。Ｈｒ（９０°）は実用上、１００
０〜２８００Ｏｅが必要で、好ましくは１２００〜２５
００Ｏｅであることがわかった。Ｂｒ／Ｂｍは、実用上
０．７５以上が必要で、好ましくは０．８以上であるこ
とがわかった。ＳＦＤは実用上０．７以下が必要で、好
ましくは０．６以下であることがわかった。 （５）Ｘ線回折 前述の（１）で磁性層より取り出した強磁性粉末を用い
て、Ｘ線回折をした。
【０１４０】磁気テープを直接にＸ線回折装置にかけ、
（４，４，０）面と（２，２，０）面との回折線の半値
幅の広がりから求めた。その結果、結晶子サイズは１８
０Åであることがわかった。実用上好ましくは４００Å
以下であり、特に好ましくは１００〜３００Åであるこ
とがわかった。 （６）引っ張り試験 引っ張り試験機で得られた磁気テープのヤング率、降伏
応力、降伏伸びを測定した。引っ張り試験機（東洋ボー
ルドウィン社製万能引っ張り試験機ＳＴＭ−Ｔ−５０Ｂ
Ｐ）を用いて雰囲気２３℃、７０％ＲＨで引っ張り速度
１０％／分で測定した。
（４，４，０）面と（２，２，０）面との回折線の半値
幅の広がりから求めた。その結果、結晶子サイズは１８
０Åであることがわかった。実用上好ましくは４００Å
以下であり、特に好ましくは１００〜３００Åであるこ
とがわかった。 （６）引っ張り試験 引っ張り試験機で得られた磁気テープのヤング率、降伏
応力、降伏伸びを測定した。引っ張り試験機（東洋ボー
ルドウィン社製万能引っ張り試験機ＳＴＭ−Ｔ−５０Ｂ
Ｐ）を用いて雰囲気２３℃、７０％ＲＨで引っ張り速度
１０％／分で測定した。
【０１４１】その結果、磁気テープのヤング率はテープ
０．５％伸び弾性率で１２００Ｋｇ／ｍｍ2 、降伏応力
６〜７Ｋｇ／ｍｍ2 、降伏伸びが０．８％であった。
実用上好ましくはヤング率はテープ０．５％伸び弾性率
で４００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2 、特に好ましくはテー
プ０．５％伸び弾性率で５００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ 2
であることがわかった。降伏応力は、実用上好ましくは
３〜２０Ｋｇ／ｍｍ2、特に好ましくは４〜１５である
ことがわかった。降伏伸びは実用上好ましくは０．２〜
８％であり、特に好ましくは０．４〜５％であることが
わかった。 （７）曲げ剛性、円環式スティフネス ループスティフネステスタを用いて、幅８ｍｍ、長さ５
０ｍｍの試料を円環とし、変位速度約３．５ｍｍ／秒で
変位５ｍｍを与えるのに要する力をｍｇで表す。
０．５％伸び弾性率で１２００Ｋｇ／ｍｍ2 、降伏応力
６〜７Ｋｇ／ｍｍ2 、降伏伸びが０．８％であった。
実用上好ましくはヤング率はテープ０．５％伸び弾性率
で４００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2 、特に好ましくはテー
プ０．５％伸び弾性率で５００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ 2
であることがわかった。降伏応力は、実用上好ましくは
３〜２０Ｋｇ／ｍｍ2、特に好ましくは４〜１５である
ことがわかった。降伏伸びは実用上好ましくは０．２〜
８％であり、特に好ましくは０．４〜５％であることが
わかった。 （７）曲げ剛性、円環式スティフネス ループスティフネステスタを用いて、幅８ｍｍ、長さ５
０ｍｍの試料を円環とし、変位速度約３．５ｍｍ／秒で
変位５ｍｍを与えるのに要する力をｍｇで表す。
【０１４２】その結果、８ｍｍのｐ６−１２０のテープ
では厚さが１０．５μｍであり、スティフネスは４０〜
６０ｍｍであった。実用上厚さが１０．５±１μｍでは
好ましくは、スティフネスは２０〜９０ｍｇであり、特
に好ましくは３０〜７０ｍｇであることがわかった。厚
さが１１．５μｍ以上の場合は実用上好ましくは４０〜
２００ｍｇであることがわかった。厚さが９．５μｍ以
下の場合は、実用上好ましくは１０〜７０ｍｇであるこ
とがわかった。 （８）延伸破壊 クラック発生伸度を２３℃、７０％ＲＨで測定した。
では厚さが１０．５μｍであり、スティフネスは４０〜
６０ｍｍであった。実用上厚さが１０．５±１μｍでは
好ましくは、スティフネスは２０〜９０ｍｇであり、特
に好ましくは３０〜７０ｍｇであることがわかった。厚
さが１１．５μｍ以上の場合は実用上好ましくは４０〜
２００ｍｇであることがわかった。厚さが９．５μｍ以
下の場合は、実用上好ましくは１０〜７０ｍｇであるこ
とがわかった。 （８）延伸破壊 クラック発生伸度を２３℃、７０％ＲＨで測定した。
【０１４３】テープ長さ１０ｃｍの試験片の両端を０．
１ｍｍ／秒の引っ張り速度で引っ張り、４００倍で磁性
層表面を顕微鏡観察して、磁性層表面に５個以上の明ら
かな亀裂が発生した伸度を測定する。その結果、発生伸
度は４％であった。実用上好ましくは２０％以下、特に
好ましくは１０％以下であることがわかった。 （９）熱収縮率 ７０℃４８時間保存後の磁気テープの熱収縮率を測定し
た。
１ｍｍ／秒の引っ張り速度で引っ張り、４００倍で磁性
層表面を顕微鏡観察して、磁性層表面に５個以上の明ら
かな亀裂が発生した伸度を測定する。その結果、発生伸
度は４％であった。実用上好ましくは２０％以下、特に
好ましくは１０％以下であることがわかった。 （９）熱収縮率 ７０℃４８時間保存後の磁気テープの熱収縮率を測定し
た。
【０１４４】７０℃の恒温槽に４８時間保存し、その前
後の長さの変化を保存前の長さで除して熱収縮率とし
た。その結果、熱収縮率は０．２％であった。実用上好
ましくは０．４％以下であり、特に好ましくは０．１〜
０．３％であることがわかった。 （１０）ＥＳＣＡ Ｃｌ／ＦｅスペクトルαとＮ／Ｆｅスペクトルβを測定
した。
後の長さの変化を保存前の長さで除して熱収縮率とし
た。その結果、熱収縮率は０．２％であった。実用上好
ましくは０．４％以下であり、特に好ましくは０．１〜
０．３％であることがわかった。 （１０）ＥＳＣＡ Ｃｌ／ＦｅスペクトルαとＮ／Ｆｅスペクトルβを測定
した。
【０１４５】α及びβの測定には、Ｘ線光電子分光装置
（ＰＥＲＫＩＮ−ＦＬＭＥＲ社製）を用いた。Ｘ線源は
Ｍｇアノードを用い、３００Ｗで測定した。まず、ビデ
オテープの潤滑剤をｎ−ヘキサンを用いて洗い流した
後、Ｘ線光電子分光装置にセットした。Ｘ線源と試料と
も距離は１ｃｍとした。試料を真空に排気して５分後か
らＣｌ−２Ｐスペクトル、Ｎ−１ＳスペクトルとＦｅ−
２Ｐ（３／２）スペクトルを１０分間積算し測定した。
なお、バスエネルギーは１００ｅＶで一定とした。測定
したＣｌ−２ＰスペクトルとＦｅ−２Ｐ（３／２）スぺ
クトルとの積分強度比を計算で求め、αとした。
（ＰＥＲＫＩＮ−ＦＬＭＥＲ社製）を用いた。Ｘ線源は
Ｍｇアノードを用い、３００Ｗで測定した。まず、ビデ
オテープの潤滑剤をｎ−ヘキサンを用いて洗い流した
後、Ｘ線光電子分光装置にセットした。Ｘ線源と試料と
も距離は１ｃｍとした。試料を真空に排気して５分後か
らＣｌ−２Ｐスペクトル、Ｎ−１ＳスペクトルとＦｅ−
２Ｐ（３／２）スペクトルを１０分間積算し測定した。
なお、バスエネルギーは１００ｅＶで一定とした。測定
したＣｌ−２ＰスペクトルとＦｅ−２Ｐ（３／２）スぺ
クトルとの積分強度比を計算で求め、αとした。
【０１４６】又、Ｎ−１ＳスペクトルとＦｅ−２Ｐ（３
／２）スぺクトルとの積分強度比を計算で求めβとし
た。その結果αは、０．４５であり、βは０．０７であ
った。実用上αは好ましくは０．３〜０．６であり、特
に好ましくは０．４〜０．５であることがわかった。実
用上βは好ましくは０．０３〜０．１２であり、特に好
ましくは０．０４〜０．１であることがわかった。 （１１）レオバイブロン １１０Ｈｚの動的粘弾性を測定した。
／２）スぺクトルとの積分強度比を計算で求めβとし
た。その結果αは、０．４５であり、βは０．０７であ
った。実用上αは好ましくは０．３〜０．６であり、特
に好ましくは０．４〜０．５であることがわかった。実
用上βは好ましくは０．０３〜０．１２であり、特に好
ましくは０．０４〜０．１であることがわかった。 （１１）レオバイブロン １１０Ｈｚの動的粘弾性を測定した。
【０１４７】動的粘弾性測定装置（東洋ボールドウィン
社製レオバイブロン）を用い、周波数１１０Ｈｚでテー
プの粘弾性を測定した。ＴｇはＥ′′のピーク温度とし
た。この方法はテープの一端から振動を加え他端に伝播
する振動を測定する。その結果、Ｔｇは７３℃、Ｅ′
（５０℃）は４×１０10ｄｙｎｅ／ｃｍ2 、Ｅ′′（５
０℃）は１×１０11であった。実用上Ｔｇは好ましくは
４０〜１２０℃、特に好ましくは５０〜１１０℃である
ことがわかった。実用上Ｅ′（５０℃）は０．８×１０
11〜１１×１０11ｄｙｎｅ／ｃｍ2 であり、特に好まし
くは、１×１０11〜９×１０11ｄｙｎｅ／ｃｍ2 である
ことがわかった。実用上Ｅ′′（５０℃）は好ましくは
０．５×１０11〜８×１０11ｄｙｎｅ／ｃｍ2 であり、
特に好ましくは０．７×１０11〜５×１０11ｄｙｎｅ／
ｃｍ2 であることがわかった。 （１２）密着強度 １８０°剥離法により支持体と磁性層との密着強度を測
定した。
社製レオバイブロン）を用い、周波数１１０Ｈｚでテー
プの粘弾性を測定した。ＴｇはＥ′′のピーク温度とし
た。この方法はテープの一端から振動を加え他端に伝播
する振動を測定する。その結果、Ｔｇは７３℃、Ｅ′
（５０℃）は４×１０10ｄｙｎｅ／ｃｍ2 、Ｅ′′（５
０℃）は１×１０11であった。実用上Ｔｇは好ましくは
４０〜１２０℃、特に好ましくは５０〜１１０℃である
ことがわかった。実用上Ｅ′（５０℃）は０．８×１０
11〜１１×１０11ｄｙｎｅ／ｃｍ2 であり、特に好まし
くは、１×１０11〜９×１０11ｄｙｎｅ／ｃｍ2 である
ことがわかった。実用上Ｅ′′（５０℃）は好ましくは
０．５×１０11〜８×１０11ｄｙｎｅ／ｃｍ2 であり、
特に好ましくは０．７×１０11〜５×１０11ｄｙｎｅ／
ｃｍ2 であることがわかった。 （１２）密着強度 １８０°剥離法により支持体と磁性層との密着強度を測
定した。
【０１４８】８ｍｍ幅にスリットしたテープを３Ｍ製粘
着テープにはりつけ、２３℃、７０％ＲＨで１８０剥離
強度を測定した。得られた結果は５０ｇであった。実用
上好ましくは密着強度は１０ｇ以上であり、特に好まし
くは２０ｇ以上であることがわかった。 （１３）磨耗 磁性層表面の２３℃、７０％ＲＨの鋼球磨耗を測定し
た。
着テープにはりつけ、２３℃、７０％ＲＨで１８０剥離
強度を測定した。得られた結果は５０ｇであった。実用
上好ましくは密着強度は１０ｇ以上であり、特に好まし
くは２０ｇ以上であることがわかった。 （１３）磨耗 磁性層表面の２３℃、７０％ＲＨの鋼球磨耗を測定し
た。
【０１４９】プレパラートガラス上に試料をその両端を
接着テープで張り付けて固定し、６．２５ｍｍφの鋼球
に荷重５０ｇを加えて摺動させた。その際、２０ｍｍの
距離を速度２０ｍｍ／ｓｅｃで１回走行させた後、新し
い磁性面に鋼球を移動させて同じ操作を２０回繰り返し
た。その後、鋼球の摺動面を４０倍の顕微鏡で観察し、
その面が円であると仮定して直径を求め、その直径から
磨耗量を計算した。
接着テープで張り付けて固定し、６．２５ｍｍφの鋼球
に荷重５０ｇを加えて摺動させた。その際、２０ｍｍの
距離を速度２０ｍｍ／ｓｅｃで１回走行させた後、新し
い磁性面に鋼球を移動させて同じ操作を２０回繰り返し
た。その後、鋼球の摺動面を４０倍の顕微鏡で観察し、
その面が円であると仮定して直径を求め、その直径から
磨耗量を計算した。
【０１５０】得られた結果は、０．７×１０-5〜１．１
×１０-5ｍｍ3 であった。実用上好ましくは０．１×１
０-5〜５×１０-5ｍｍ3 であり、特に好ましくは０．４
×１０-5〜２×１０-5ｍｍ3 であった。 （１４）ＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ
ｉｃ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ） ＳＥＭで磁性層表面状況を観察した。
×１０-5ｍｍ3 であった。実用上好ましくは０．１×１
０-5〜５×１０-5ｍｍ3 であり、特に好ましくは０．４
×１０-5〜２×１０-5ｍｍ3 であった。 （１４）ＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ
ｉｃ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ） ＳＥＭで磁性層表面状況を観察した。
【０１５１】日立製電子顕微鏡Ｓ−９００にて倍率５０
００倍で５枚撮影して表面の研磨剤を測定した。その結
果、研磨剤個数は０．２個／μｍ2 であった。実用上、
研磨剤個数は０．１個／μｍ2 以上であり、特に好まし
くは０．１２個／μｍ2 〜０．５個／μｍ2 であること
がわかった。 （１５）ＧＣ（ガスクロマトグラフィー） ＧＣで磁気テープの残留溶剤を測定した。
００倍で５枚撮影して表面の研磨剤を測定した。その結
果、研磨剤個数は０．２個／μｍ2 であった。実用上、
研磨剤個数は０．１個／μｍ2 以上であり、特に好まし
くは０．１２個／μｍ2 〜０．５個／μｍ2 であること
がわかった。 （１５）ＧＣ（ガスクロマトグラフィー） ＧＣで磁気テープの残留溶剤を測定した。
【０１５２】島津製作所製ガスクロマトグラフィーＧＣ
−１４Ａを用いて、２０ｃｍ2 の試料を１２０℃まで加
熱して、媒体中の残留溶剤を測定した。その結果、残留
溶剤は８ｍｇ／ｍ2 であった。実用上、好ましくは５０
ｍｇ／ｍ2 以下であり、特に好ましくは２０ｍｇ／ｍ2
以下であることがわかった。 （１６）ゾル分率 磁気テープの磁性層よりＴＨＦにて抽出された可溶固形
分の磁性層重量に対する比率を求めた。その結果ゾル分
率は７％であった。実用上、ゾル分率は好ましくは１５
％以下であり、特に好ましくは１０％以下であることが
わかった。
−１４Ａを用いて、２０ｃｍ2 の試料を１２０℃まで加
熱して、媒体中の残留溶剤を測定した。その結果、残留
溶剤は８ｍｇ／ｍ2 であった。実用上、好ましくは５０
ｍｇ／ｍ2 以下であり、特に好ましくは２０ｍｇ／ｍ2
以下であることがわかった。 （１６）ゾル分率 磁気テープの磁性層よりＴＨＦにて抽出された可溶固形
分の磁性層重量に対する比率を求めた。その結果ゾル分
率は７％であった。実用上、ゾル分率は好ましくは１５
％以下であり、特に好ましくは１０％以下であることが
わかった。
【０１５３】上述の特性を有する８ｍｍビデオテープを
現在市販されているテープと比較し、その結果を表３に
示した。
現在市販されているテープと比較し、その結果を表３に
示した。
【０１５４】
【表３】
【０１５５】尚、評価方法は前記方法もしくは一般的方
法によった。また、判定基準は以下の通りである。 ジッター：○ ０．２μｓｅｃ未満 × ０．２μｓｅｃ以上 保存安定性：○ ６０℃、９０％に２週間保存して表面
に錆がでていないこと。
法によった。また、判定基準は以下の通りである。 ジッター：○ ０．２μｓｅｃ未満 × ０．２μｓｅｃ以上 保存安定性：○ ６０℃、９０％に２週間保存して表面
に錆がでていないこと。
【０１５６】× ６０℃、９０％に２週間保存して表面
に錆がでていること。 走行耐久性：８ｍｍカセットに組み込んで１２０分の再
生を１００回繰り返した。 ○ ５分以上続く目詰まりが１回も発生しない。 × 繰り返し１００ｐａｓｓで目詰まりが発生する。 スリキズ：スチルモードで１０分間走行させた。
に錆がでていること。 走行耐久性：８ｍｍカセットに組み込んで１２０分の再
生を１００回繰り返した。 ○ ５分以上続く目詰まりが１回も発生しない。 × 繰り返し１００ｐａｓｓで目詰まりが発生する。 スリキズ：スチルモードで１０分間走行させた。
【０１５７】 ○ 目視で傷が認められない。 × 目視で傷が認められる。 ＢＥＲ測定法（Ｂｉｔ ｅｒｒｏｒ ｒａｔｅ）：コン
ピューターにてランダム信号を２４−２５変換した。ス
クランブルドインターリーブＮＲＺ−Ｉ信号とし、本テ
スト信号を記録／再生したデータをＰＲ４復調して得た
データを、テスト信号と比較して、エラーを検出して、
そのエラーの比率をＢＥＲとする。
ピューターにてランダム信号を２４−２５変換した。ス
クランブルドインターリーブＮＲＺ−Ｉ信号とし、本テ
スト信号を記録／再生したデータをＰＲ４復調して得た
データを、テスト信号と比較して、エラーを検出して、
そのエラーの比率をＢＥＲとする。
【０１５８】
【発明の効果】本発明は、磁性層厚味が１．０μｍ以下
と極めて薄い塗布型磁気記録媒体の潤滑剤量を好適に制
御でき、しかも下層非磁性層の無機質粉末の分散性が向
上するので磁性層の表面性が改善できると共に下層及び
上層の界面の乱れを抑制して磁性層を均一に確保し、更
に、潤滑剤である脂肪酸量を必要最低限の使用で最大の
効果を奏するように設計したため、ジッターを抑制した
走行性を確保できると共に塗布膜の耐久性、保存性を改
善し、しかも金属薄膜型磁気記録媒体に匹敵する電磁変
換特性を発揮できる磁気記録媒体を提供する。
と極めて薄い塗布型磁気記録媒体の潤滑剤量を好適に制
御でき、しかも下層非磁性層の無機質粉末の分散性が向
上するので磁性層の表面性が改善できると共に下層及び
上層の界面の乱れを抑制して磁性層を均一に確保し、更
に、潤滑剤である脂肪酸量を必要最低限の使用で最大の
効果を奏するように設計したため、ジッターを抑制した
走行性を確保できると共に塗布膜の耐久性、保存性を改
善し、しかも金属薄膜型磁気記録媒体に匹敵する電磁変
換特性を発揮できる磁気記録媒体を提供する。
【図１】上層磁性層のσ、Δｄの測定法を説明するため
の図である。
の図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−182178（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−238111（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−283416（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−321924（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−325915（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−325917（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−12650（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−197946（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−182173（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−182177（ＪＰ，Ａ)
Claims (12)
- 【請求項１】 支持体上に無機質粉末を結合剤に分散し
た下層を設け、その上に強磁性粉末を結合剤に分散した
上層磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記上層磁
性層の乾燥厚みが１．０μｍ以下であり、前記下層の前
記無機質粉末がモ−ス硬度３以上であり、かつ前記下層
に燐（Ｐ）含有の有機化合物を含むことを特徴とする磁
気記録媒体。 - 【請求項２】 前記上層磁性層のＳＵＳ４２０Ｊに対す
る摩擦係数が０．５以下であることを特徴とする請求項
１記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】 前記強磁性粉末がＣｏを含む強磁性粉末
であることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。 - 【請求項４】 前記上層磁性層はカーボンブラックを含
むことを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。 - 【請求項５】 前記燐（Ｐ）含有の有機化合物がα−ナ
フチルリン酸、フェニルリン酸、ジフェニルリン酸、ｐ
−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホスホン酸、フ
ェニルホスフィン酸から選ばれた少なくとも１種である
ことを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。 - 【請求項６】 前記上層磁性層および／または下層の結
合剤としてＳ含有極性基を有する結合剤を少なくとも１
種含むことを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。 - 【請求項７】 前記Ｓ含有極性基を有する結合剤は−Ｏ
ＳＯ3 Ｍまたは−ＳＯ3 Ｍ（以上につきＭは水素原子、
またはアルカリ金属）であることを特徴とする請求項６
記載の磁気記録媒体。 - 【請求項８】 前記無機質粉末がＴｉＯ2 （ルチル、ア
ナターゼ）、ＴｉＯX （１≦ｘ＜２）、酸化セリウム、
酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ2 、Ｓｉ
Ｏ2 、Ｃｒ2 Ｏ3 、α化率９０％以上のαアルミナ、β
アルミナ、γアルミナ、α酸化鉄、ゲータイト、コラン
ダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マグネシウ
ム、窒化硼素、２硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣ
Ｏ3 、ＣａＣＯ3 、ＢａＣＯ3 、ＳｒＣＯ3 、ＢａＳＯ
4 、炭化珪素、炭化チタンから選ばれる少なくとも１種
であることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。 - 【請求項９】 前記磁性層に使用する前記強磁性粉末
は、ＦｅまたはＮｉまたはＣｏを主成分とする強磁性合
金粉末、バリウムフエライト、ストロンチウムフエライ
トから選ばれた少なくとも１種であることを特徴とする
請求項１記載の磁気記録媒体。 - 【請求項１０】 前記磁性層に使用する前記強磁性粉末
は所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、
Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓ
ｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、
Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚ
ｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂから選ばれた少なくとも１種の原子
を含むことを特徴とする請求項９記載の磁気記録媒体。 - 【請求項１１】 前記磁気記録媒体は０．５％伸び弾性
率が４００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2 であることを特徴と
する請求項１記載の磁気記録媒体。 - 【請求項１２】 前記支持体は走行方向、幅方向ともに
弾性率が１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2 であることを特
徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8138720A JP2634792B2 (ja) | 1996-05-31 | 1996-05-31 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8138720A JP2634792B2 (ja) | 1996-05-31 | 1996-05-31 | 磁気記録媒体 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4018420A Division JP2566089B2 (ja) | 1992-01-08 | 1992-01-08 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08306032A JPH08306032A (ja) | 1996-11-22 |
| JP2634792B2 true JP2634792B2 (ja) | 1997-07-30 |
Family
ID=15228574
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8138720A Expired - Lifetime JP2634792B2 (ja) | 1996-05-31 | 1996-05-31 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2634792B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6548160B2 (en) | 1999-12-01 | 2003-04-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording media |
| WO2007114395A1 (ja) | 2006-03-31 | 2007-10-11 | Fujifilm Corporation | 磁気記録媒体、磁気信号再生システムおよび磁気信号再生方法 |
| JP5622543B2 (ja) * | 2010-12-03 | 2014-11-12 | Ｄｏｗａテクノロジー株式会社 | 無機粉体に含有される高級脂肪酸の定量分析方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2566089B2 (ja) * | 1992-01-08 | 1996-12-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
-
1996
- 1996-05-31 JP JP8138720A patent/JP2634792B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08306032A (ja) | 1996-11-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5489466A (en) | Magnetic recording medium comprising a lower nonmagnetic layer containing a surface coated inorganic powder and an upper magetic layer | |
| JP3181042B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2849514B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2666810B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2566089B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JP2566088B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2634792B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2666820B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2623185B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2666818B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JP2582051B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2666816B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JP3181038B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JP2666819B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2666817B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2666822B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2642920B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JP2714370B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2571350B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2634792C (ja) | ||
| JP2566089C (ja) | ||
| JPH11250447A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2666810C (ja) | ||
| JP2571350C (ja) | ||
| JPH1069634A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080425 Year of fee payment: 11 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090425 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090425 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100425 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110425 Year of fee payment: 14 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120425 Year of fee payment: 15 |