JP2582051B2

JP2582051B2 - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JP2582051B2
Application number: JP7210173A
Authority: JP
Inventors: 博男稲波; 清美江尻; 幸一正木
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1995-07-27
Filing date: 1995-07-27
Publication date: 1997-02-19
Anticipated expiration: 2012-02-19
Also published as: JPH0850718A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体、特
に１．０μｍ以下の非常に薄い磁性層を有する磁気記録
媒体に関するものである。更に、詳しくは高密度の塗布
型磁気記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体は、録音用テープ、ビデオ
テープ、コンピューターテープ、ディスクなどとして広
く用いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され記
録波長が短くなっており、記録方式もアナログ方式か
ら、ディジタル方式まで検討されている。この高密度化
の要求に対して、磁性層に金属薄膜を用いた磁気記録媒
体が提案されているが、生産性、腐食等の実用信頼性の
点で強磁性粉末を結合剤中に分散して、支持体上に塗布
したいわゆる塗布型の磁気記録媒体が優れる。しかしな
がら、金属薄膜に対して塗布型媒体は磁性物の充填度が
低いために、電磁変換特性が劣る。塗布型磁気記録媒体
としては、強磁性酸化鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、Ｃｒ
Ｏ₂、強磁性合金粉末等を結合剤中に分散した磁性層を
非磁性支持体に塗設したものが広く用いられる。

【０００３】塗布型磁気記録媒体の電磁変換特性の向上
には、強磁性粉末の磁気特性の改良、表面の平滑化など
があり、種々の方法が提案されているが、高密度化に対
しては充分なものではない。また、近年、高密度化と共
に記録波長が短くなる傾向にあり、磁性層の厚さが厚い
と出力が低下する記録時の自己減磁損失、再生時の厚味
損失の問題が大きくなっている。

【０００４】このため、磁性層を薄くすることが行われ
ているが、磁性層を約２μｍ以下に薄くすると磁性層の
表面に非磁性支持体の影響が現れやすくなり、電磁変換
特性やＤＯの悪化傾向が見られる。このため、特開昭５
７−１９８５３６号公報の如く、支持体表面の非磁性の
厚い下塗層を設けてから磁性層を上層として設けるよう
にすれば前記の支持体の表面粗さの影響は解消すること
ができるが、ヘッド磨耗や耐久性が改善されないという
問題があった。これは、従来、非磁性下層として熱硬化
系樹脂を結合剤として用いているので、下層が硬化し、
磁性層とヘッドとの摩擦や他の部材との接触が無緩衝状
態で行われることや、このような下層を有する磁気記録
媒体がやや可撓性に乏しい等のことに起因していると考
えられる。これを解消するために、下層に非硬化系樹脂
を結合剤として用いることが考えられるが、従来の方法
では、下層を塗布乾燥後磁性層を上層として塗布する場
合、下層が上層の塗布液の有機溶剤により膨潤し、上層
の塗布液に乱流を起こさせる等の影響を与え磁性層の表
面性を悪くし、電磁変換特性を低下させる等の問題を生
じる。また、磁性層を薄層化するためには、塗布量を減
らすこととか、もしくは磁性塗布液に溶剤を多量に加え
て濃度を薄くすることが考えられる。前者を取る場合、
塗布量を減らすと塗布後に十分なレベリングの時間がな
く、乾燥が始まるために、塗布欠陥、例えば、スジや刻
印のパターンが残るといった問題が発生し、歩留りが非
常に悪くなる。後者の方法を取った場合、磁性塗布液の
濃度が希薄であると、できあがった塗膜に空隙が多く、
十分な磁性体充填性が得られないこと、また、空隙が多
いために塗膜の強度が不十分であることなど、種々の弊
害をもたらす。特開昭６２−１５４２２５号公報の発明
ではこのように歩留りが悪いことが大きな問題であっ
た。

【０００５】本出願人は、これらの問題を解決する一つ
の手段として、特開昭６３−１９１３１５号、同６３−
１８７４１８号の各公報に記載されているような同時重
層塗布方式を用いて下層に非磁性の層を設け、この下層
が湿潤状態の間に強磁性粉末を含有する上層磁性層を設
ける方法を採用することにより、塗布欠陥のない、生産
性に優れ、しかも再生出力、Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性、
走行耐久性を改善できる磁気記録媒体を提案した。

【０００６】しかしながら、このような方法を適用して
もなお、下記の問題点を解決することはできなかった。
近年、磁気記録媒体は高密度化、高出力化のためにヘッ
ドとのスペーシングロスを低減するために非常に平滑な
表面性が望まれている。このため、直接表面に出ていな
い下層非磁性層も極力分散性が良く、同時重層塗布した
場合の表面性が平滑である必要性が増している。上述の
ような同時重層塗布技術においては、磁性面を平滑にす
るために下層に用いる粉体を微粒子化して下層非磁性層
の表面性を確保して磁性層の表面性を改善できるのでは
ないかと考えられる。しかしながら、このような微粒子
を使用した場合、この微粒子は凝集しやすく、かえって
下層の表面性を悪化させひいては磁性層の表面性を不良
にするという問題がある。この問題は、磁性層を更に薄
層化させて電磁変換特性を改善しようとしても下層の粉
体の分散性が悪いために磁性層と下層との界面の制御が
困難になり、その界面が乱れ、均一一様な磁性層が得ら
れないという問題もある。即ち、磁性層を薄層化すると
更に下層非磁性層の分散性が同時重層した場合の表面性
に寄与する割合が増してきているが、従来の技術ではこ
れらの適切な解決手段が見出せないという問題がある。

【０００７】本発明者らは非磁性支持体、下層非磁性
層、上層磁性層について鋭意検討の結果、適度の粗さ、
厚さと幅方向のヤング率を持った非磁性支持体を用い、
その上に下層非磁性層を設け、該下層非磁性層に含まれ
る非磁性粉末に工夫を加えることにより、一層の分散性
の向上が図れ、上層磁性層の乾燥厚みを０．０５〜１．
０μｍと薄層にしても、上層磁性層表面の中心線平均粗
さ（Ｒａ）が１〜５．３ｎｍという平滑な表面が得ら
れ、その結果７ＭＨｚの出力、Ｃ／Ｎ比などの電磁変換
特性に優れ、かつ耐久性に優れた磁気記録媒体が得られ
ることを見いだし、本発明に到ったものである。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、電磁変換特
性が良好な磁気記録媒体を提供すること、詳しくは７Ｍ
Ｈz の出力、Ｃ／Ｎなどの電磁変換特性と耐久性に優
れ、かつ表面の平滑さに優れる磁気記録媒体を提供する
ことを課題とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、非磁性支持体
上に無機質粉末を結合剤に分散した下層非磁性層を設
け、その上に強磁性粉末を結合剤に分散した上層磁性層
を設けた磁気記録媒体において、前記上層磁性層の乾燥
厚みが０．０５〜１．０μｍであり、前記下層非磁性層
の乾燥厚みが０．５〜１０μｍであり、前記非磁性支持
体の厚みが４〜８０μｍであり、前記非磁性支持体の幅
方向のヤング率が４７０〜２０００ｋｇ／ｍｍ²であ
り、上層磁性層表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が１〜
５．３ｎｍでああり、上記強磁性粉末は強磁性合金粉末
又は板状六方晶フェライトであって、その粒子長軸長が
０．３μｍ以下であり、且つ前記下層非磁性層の無機質
粉末がモース硬度３以上の非磁性無機粉末を含む磁気記
録媒体である。

【００１０】本発明は、下層非磁性層の無機質粉末の分
散性を改善して下層非磁性層と上層磁性層との界面の制
御を容易にして上層磁性層が中心線平均粗さ（Ｒａ）で
１〜５．３ｎｍという平滑な表面性を確保すると共に電
磁変換特性を改善したものである。そして、本発明は、
乾燥膜厚が０．０５〜１．０μｍという薄膜の上層磁性
層（以下、単に磁性層または上層とも言う。）を下層非
磁性層（以下、単に非磁性層あるいは下層とも言う。）
に塗布欠陥がなく設けるために下層塗布液に無機酸化物
で被覆された表面層を有する非磁性無機質粉末を使用
し、幅方向のヤング率が４７０〜２０００kg/mm ²非磁
性支持体上にまず該下層を設け、その上に該上層を塗設
したものである。即ち、本発明は、７ＭＨｚの出力、Ｃ
／Ｎなどの電磁変換特性を耐久性に優れ、かつ表面の平
滑さに優れた磁気記録媒体で磁性層の極めて薄い、強磁
性金属薄膜に匹敵する性能を有する磁気記録媒体を提供
するものである。

【００１１】本発明において、無機質粉末の表面を無機
酸化物で被覆すると粉体の分散性が改善できた作用の詳
細は不明であるが、この無機質粉末表面に存在する水分
（水酸基）が溶媒と相互作用を生じ、粉体の分散性に影
響を与えているものと考えられる。本発明者は、この水
分量を制御することにより粉体の分散性が改善され、本
発明の磁気記録媒体が得られることを見いだしたもので
ある。

【００１２】本発明に使用される非磁性無機質粉末の水
分量は、塗布液調製時において、水分量は、好ましくは
０．０５〜１０重量％、特に好ましくは０．１〜８重量
％に制御することが好ましい。本発明において、無機酸
化物あるいはその層の構造は、単独種でも２種以上の元
素から構成されたものでも酸化物であれば任意であり、
通常、Ｈ₂Ｏを介して重合した構造をとる。但し、それ
ぞれの存在状態は製法により異なる。例えば、Ａｌ₂Ｏ
₃は、比較的均一にＴｉＯ₂表面上に存在するが、Ｓｉ
Ｏ₂は、粒子状に固まって存在している。

【００１３】また、目的に応じて共沈させた表面処理層
を用いても良いし、先ずアルミナで処理した後にその表
層をシリカで処理する構造、その逆の構造を取ることも
できる。また、表面処理層は、目的に応じて多孔質層に
しても構わないが、均質で密である方が一般には好まし
い。その他、無機酸化物としては、ＺｒＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ
₃、ＺｎＯ等が挙げられる。

【００１４】本発明においては、前記非磁性無機質粉末
は、その全重量に対して無機酸化物、例えば、Ａｌ₂Ｏ
₃を１〜２１重量％、好ましくは２〜１８重量％、Ｓｉ
Ｏ₂を０．０４〜２０重量％、好ましくは０．１〜１８
重量％、ＺｒＯ₂を０．０５〜１５重量％、好ましくは
０．５〜１０重量％被覆することが好ましい。また、上
記無機酸化物の内Ａｌ₂Ｏ₃の比率は、５０重量％以上
が好ましい。

【００１５】表面処理される無機質粉末としては、金属
酸化物が好ましく、二酸化チタン、硫酸バリウム、酸化
亜鉛、α酸化鉄、ゲータイトが好ましい。又、非磁性無
機質粉末としては、特にルチル型二酸化チタンを主体と
するものであって該無機酸化物を好ましくは５〜３０重
量％、特に好ましくは７〜２０重量％含むものが望まし
い。

【００１６】例えば、非磁性無機質粉末の表面処理層形
成は、非磁性無機質粉末素材を乾式粉砕後、水と分散剤
を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒分級が行われ
る。その後、微粒スラリーは表面処理槽に移され、ここ
で金属水酸化物の表面被覆が行われる。まず、所定量の
Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎなどの塩類
水溶液を加え、これを中和する酸、またはアルカリを加
えて、生成する含水酸化物で無機質粉末粒子表面を被覆
する。副生する水溶性塩類はデカンテーション、濾過、
洗浄により除去し、最終的にスラリーｐＨを調節して濾
過し、純水により洗浄する。洗浄済みケーキはスプレー
ドライヤーまたはバンドドライヤーで乾燥される。最後
にこの乾燥物はジェットミルで粉砕され、製品になる。
また、水系ばかりでなくＡｌＣｌ₃、ＳｉＣｌ₄の蒸気
を非磁性無機質粉末に通じ、その後水蒸気を流入してＡ
ｌ、Ｓｉ表面処理を施すことも可能である。

【００１７】その他の表面処理法については、「Charac
terization of Powder Surfaces 」, Academic Pressを
参考にすることができる。本発明においては、下層非磁
性層は、上記非磁性無機質粉末でない、未処理の無機質
粉末を含むことができるが、非磁性無機質粉末を無機質
粉末の５１〜９９．８重量％、好ましくは６０〜９５重
量％の範囲とすることが望ましい。

【００１８】本発明においては、下層非磁性層及び上層
磁性層の塗布液に用いる溶剤はいずれも溶解パラメータ
ーが８〜１１であり、２０℃での誘電率が１５以上であ
る化合物を１５重量％以上含むことが好ましい。即ち、
本発明における重層塗布では、上層磁性層と下層非磁性
層との親和性が重要である。通常、磁性層には比較的極
性の強いシクロヘキサノンやメチルエチルケトンのよう
な溶剤が主成分として使用されている。重層塗布した
後、乾燥するまでに上下層間で溶剤はそれぞれが浸透し
てゆく。この結果、上下層の溶剤組成が極端に異なって
いると激しい面荒れが発生するためである。

【００１９】本発明において、溶剤とは、単独種の化合
物または複数種の化合物の混合物を包含し、塗布液組成
における有機溶媒化合物の総体を意味する。従って、本
発明においては、該溶剤の溶解パラメーターを８〜１１
とするために複数種の化合物を用いた場合、上層と下層
でその化合物の種類が異なっていてもかまわないが、該
溶解パラメーター８〜１１とするために現実的には同種
の化合物組成を使用することが極めて好ましい。

【００２０】また、該化合物を選択する場合、２０℃で
の誘電率が１５以上であるものを１５重量％以上とする
ことが好ましい。例えば、この値を示す化合物として
は、メチルエチルケトンなどが挙げられる。本発明にお
ける、溶剤組成の例を重量比で挙げると、上層でメチル
エチルケトン：シクロヘキサノン：トルエン：酢酸ブチ
ル＝１０：５：５：４（溶解パラメーター；９．２）、
下層でメチルエチルケトン：シクロヘキサノン：トルエ
ン：酢酸ブチル＝９：５：６：４（溶解パラメーター；
９．２）等が例示される。又、本発明においては、上層
及び下層の溶剤を同種に規定することが好ましいため、
必然的にその分散質である結合剤も上層及び下層でその
化合物種を同じものに規定することが好ましい。

【００２１】結合剤組成としては、公知の結合剤から構
成することができ、好ましくは、塩化ビニル系樹脂、ウ
レタン樹脂、及びポリイソシアネートからなる混合系等
が例示されるが詳細は後述する。該結合剤は、−ＣＯＯ
Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ₁）（Ｏ
Ｍ₂）、−ＯＰＯ（ＯＭ₁）（ＯＭ₂）、−ＮＲ₄Ｘ
（ここでＭ、Ｍ₁、Ｍ₂は、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｈ、−Ｎ
Ｒ₄又はＮＨＲ₃を示し、Ｒはアルキル基もしくはＨを
示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）より選ばれた少なく
とも１種の極性基を含むことが無機質粉末の分散性を向
上させる上で好ましい。

【００２２】又、下層の結合剤の体積比は、無機質粉末
の体積の２．０〜０．３倍の範囲にあり、上層の結合剤
の体積比は、１．８〜０．５倍であることが無機質粉
末、及び強磁性粉末の分散性を確保すると共に各層の表
面性を確保する上で望ましい。本発明は上層と下層の界
面が平坦で上層磁性層厚味ができるだけ一様であること
が望ましく、そのための手段として本発明は寄与し得る
因子を含むものであるが、更にこれを満足するためには
他の制御因子を選択することが好ましい。

【００２３】この界面の変動あるいは乱れを制御するた
めの具体的手段としては、以下の２つが例示される。第
１の手段は、磁性層の磁性塗料と下層非磁性層の各分散
液のチキソトロピー性を互いに近似するように制御する
ことであり、第２の手段は、下層非磁性層と磁性層に含
まれる粉体のサイズ、形状を規定して力学的に上層およ
び下層に混合領域が生じないように制御することであ
る。

【００２４】第１の手段の具体的方法としては、各塗布
液が、剪断速度１０⁴ｓｅｃ^{- 1}での剪断応力Ａ１０⁴
と剪断速度１０ｓｅｃ^{- 1}での剪断応力Ａ１０との比
Ａ１０⁴／Ａ１０を１００≧Ａ１０⁴／Ａ１０≧３に調
整することが挙げられる。第２の手段としては、下層非
磁性層と上層磁性層との界面において混合領域が生じな
いようにするため、下層非磁性層に針状非磁性粉末ある
いは鱗片状非磁性粉末を用いることが挙げられる。従来
の粒状の非磁性粉末に比べ、針状の非磁性粉末が整列し
て存在すると未乾燥状態でも強固な塗膜を形成し、上層
磁性層の強磁性粉末が回転しても、その界面で混合を生
じないように制御できる。又、混合領域が生じないよう
にするためのもう１つの手段は下層非磁性層に鱗片状の
非磁性粉末を用いて、いわばタイル状に敷きつめること
であり、上記と同様、上層磁性層の強磁性粉末が回転し
てもその界面で混合が生じないようにできる。

【００２５】そしてこれらの調整に係わる因子には、本
発明における因子も含め、例えば、分散される無機質粉
末あるいは磁性粉末に関しては、（１）粒子サイズ（比
表面積、平均粒径等）、（２）構造（吸油量、粒子形態
等）、（３）粉体表面の性質（ｐＨ、加熱減量等）、
（４）粒子の吸引力（σ_S等) 等、結合剤に関しては、
（１）分子量、（２）官能基の種類等、溶剤に関しては
（１）種類（極性等）、（２）結合剤溶解性、（３）溶
剤処方量等、含水率等が挙げられる。

【００２６】また、本発明の磁気記録媒体は、界面にお
ける厚味変動（即ち、該界面の厚み方向における変動
幅）の平均値Δｄが磁性層の乾燥厚味平均値ｄの１／２
以下であることが好ましく、また、磁性層厚味の標準偏
差３σは、０．６μｍ、好ましくはσが０．２μｍ以下
である。すなわち３σが０．６μｍ以下は各セグメント
の９７％のものが０．６μｍ以下に入っていればよいこ
とを意味する。又、３σ≦６ｄ／１０であることが好ま
しい。

【００２７】これらｄ、Δｄ、σは以下のように求めら
れる。磁気記録媒体を長手方向にわたってダイヤモンド
カッターで約０．１μｍの厚味に切り出し、透過型電子
顕微鏡で倍率１００００〜１０００００倍、好ましくは
２００００〜５００００倍で観察し、その写真撮影を行
う（写真のプリントサイズはＡ４〜Ａ５である）。その
後、上層磁性層、下層非磁性層の強磁性粉末や無機質粉
末の形状差に注目して界面を目視判断して、黒く縁取
り、かつ磁性層表面も同様に黒く縁取りする。まず、Δ
ｄの求め方について述べる。前述の縁取りをした上層磁
性層と下層非磁性層の界面の山又は谷との距離をΔｄと
する。又、標準偏差σの求め方は、前述の如く縁取り
し、その後Ｚｅｉｓｓ社製画像処理装置ＩＢＡＳ２にて
縁取りした線の間隔の長さを測定する。磁性層厚の測定
は長さ２１ｃｍの間隔を１００〜３００のセグメント化
してその数だけ行い、ｄを求めた。

【００２８】標準偏差σは、各セグメントでの厚味をｘ
_iとすると下記数１で表される。

【００２９】

【数１】

【００３０】前述のΔｄは界面での変動にのみ着目した
ものであるが、平均厚味ｄの標準偏差σは上層磁性層の
表面粗さの要素と界面での変動の両者を含んだ上層磁性
層の厚味の変動を意味する。この界面の変動は３σが
０．６μｍ以下であることが好ましい。これにより、磁
性層厚みの一様性を確保すると共に表面粗さＲａをＲａ
≦λ／５０、即ちλ／Ｒａを５０以上、好ましくは７５
以上、更に好ましくは１００以上に規制することができ
る。ここで、Ｒａは、光干渉粗さ計を用いて測定した中
心線平均粗さを測定した値をさす。

【００３１】更に、最短記録波長λに対してλ／４≦ｄ
≦３λ、好ましくは、λ／４≦ｄ≦２λ（即ち、０．２
５≦ｄ／λ≦２）かつ磁性層の表面粗さＲａがＲａ≦λ
／５０の関係にあることが好ましい。これにより再生出
力変動、振幅変調ノイズを防止し、高再生出力、高Ｃ／
Ｎを実現することができる。

【００３２】本発明において、最短記録波長λは、磁気
記録媒体の種類により種々異なるが、例えば、８ｍｍメ
タルビデオでは０．７μｍ、デジタルビデオでは、Ｏ．
５μｍ、デジタルオーディオでは０．６７μｍが挙げら
れる。該磁性層厚みは、前記の通り実測して求められる
が、蛍光Ｘ線で磁性層中に特有に含まれる元素につい
て、既知厚みの磁性層サンプルを測定し、検量線を作成
し、次いで、未知資料のサンプルの厚みを蛍光Ｘ線の強
度から求めることもできる。

【００３３】又、本発明は、磁性層表面の走査型トンネ
ル顕微鏡（ＳＴＭ）法による２乗平均粗さＲ_rmsが前
記磁性層の乾燥厚味平均値ｄとの間に３０≦ｄ／Ｒ_rms
の関係があることが好ましい。磁性層厚味が薄くなる
と、自己減磁損失が低減して出力向上が図れるはずであ
るが、磁性層厚味低減により押されしろが少なくなるた
めにカレンダー成形性が悪くなり、表面粗さが大きくな
る。自己減磁損失低減による出力向上を図るためには上
式の関係を満たすＳＴＭによる表面粗さが好ましい。

【００３４】ＡＦＭによるＲ_rmsは、１０ｎｍ以下が好
ましい。３ｄ−ＭＩＲＡＵで測定した光干渉表面粗さＲ
ａは１〜４ｎｍ、Ｒ_rmsは１．３〜６ｎｍ、Ｐ−Ｖ値
（Ｐｅａｋ−Ｖａｌｌｅｙ）値は、８０ｎｍ以下である
ことが好ましい。磁性層表面の光沢度は、カレンダー処
理後で２５０〜４００％が好ましい。このような表面性
を達成するには、例えば、本発明の条件内で更に以下の
３つの条件の少なくとも１つをも満足することによって
達成できる。（１）下層非磁性層に含まれる非磁性粉末がモース硬度
３以上の無機質粉末を含み、上層磁性層に含まれる強磁
性粉末が針状の強磁性粉末であり、前記無機質粉末の平
均粒径が針状の強磁性粉末の結晶子サイズの１／２〜４
倍であること。（２）下層非磁性層に含まれる非磁性粉末がモース硬度
３以上の無機質粉末を含み、上層磁性層に含まれる強磁
性粉末が針状の強磁性粉末であり、前記無機質粉末の平
均粒径が針状の強磁性粉末の長軸長の１／３以下である
こと。（３）上層磁性層に含まれる強磁性粉末が、磁化容易軸
が平板の垂直方向にある六角板状の強磁性粉末であり、
且つ下層非磁性層に含まれる非磁性粉末が無機質粉末を
含み、その平均粒径が前記上層磁性層に含まれる強磁性
粉末の板径以下であること。

【００３５】（１）〜（３）は、上層磁性層の強磁性粉
末と下層非磁性層の無機質粉末のサイズ及び形状を限定
して下層非磁性層の表面性を確保すると共に無機質粉末
は強磁性粉末を力学的に安定して整列させるサイズとし
たものである。また、又、無機質粉末の下層における体
積充填率は好ましくは２０〜６０％、更に好ましくは２
５〜５５％の範囲であることが望ましい。

【００３６】また、無機質粉末は、非磁性粉末のうち重
量比率で６０％以上含むことが好ましく、無機質粉末と
しては、金属酸化物、アルカリ土類金属塩等であること
が好ましい。また、カーボンブラックを添加することに
より公知の効果（例えば、表面電気抵抗を低減する）を
期待できるので、上記無機質粉末と組み合わせて使用す
ることが好ましいが、カーボンブラックは分散性が非常
に悪いので、カーボンブラックでは十分な電磁変換特性
を確保することができない。良好な分散性を得るために
は重量比率で６０％以上を金属酸化物、金属、アルカリ
土類金属塩から選択する必要がある。無機質粉末が非磁
性粉末の重量比率で６０％未満、カーボンブラックが非
磁性粉末の４０％以上であると分散性が不十分となり所
望の電磁変換特性を得ることができなくなる。

【００３７】また、磁性層の厚味が長軸長の５倍以下で
あるとカレンダーによる充填度向上がめざましく、より
電磁変換特性の優れた磁気記録媒体が得られる。以下、
本発明が選択可能な一般的事項について述べる。本発明
に使用できる無機質粉末は、例えば、金属、金属酸化
物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化
物、金属硫化物等が挙げられる。具体的にはＴｉＯ
₂（ルチル、アナターゼ）、ＴｉＯ_X、酸化セリウム、
酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ₂、Ｓｉ
Ｏ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃、α−化率９０％以上のα−アルミ
ナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、α−酸化鉄、ゲータ
イト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化
マグネシウム、窒化硼素、２硫化モリブデン、酸化銅、
ＭｇＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＢａＣＯ₃、ＳｒＣＯ₃、Ｂ
ａＳＯ₄、炭化珪素、炭化チタンなどが単独または組み
合わせて使用される。これら無機質粉末の形状、サイズ
等は任意であり、これらは必要に応じて異なる無機質粉
末を組み合わせたり、単独の無機質粉末でも粒径分布等
を選択することもできる。

【００３８】無機質粉末としては、次のものが好まし
い。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｃｃ、好ましくは
０．２〜１．５ｇ／ｃｃ。含水率は０．１〜５％、好ま
しくは０．２〜３％。ｐＨは２〜１１、特に４〜１０が
好ましい。比表面積は、１〜１００ｍ²／ｇ、好ましく
は５〜７０ｍ²／ｇ、更に好ましくは７〜５０ｍ²／ｇ
である。結晶子サイズは０．０１μｍ〜２μｍが好まし
い。粒子サイズとしては、粒状にあっては、平均粒径
０．１μｍ以下、好ましくは０．０８μｍ以下であり、
針状にあっては長軸長０．０５〜１．０μｍ、好ましく
は０．０６〜０．５μｍ、針状比３〜３０、好ましくは
５〜１５の範囲から選択される。ＤＢＰを用いた吸油量
は５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜８０ｍ
ｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ／１００
ｇである。ＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μｍ
ｏｌ／ｍ²、更に好ましくは２〜１５μｍｏｌ／ｍ²で
ある。粉体表面のラフネスファクターは０．８〜１．５
が好ましく、更に好ましくは０．９〜１．４μｍｏｌ／
ｍ²である。２５℃での水への湿潤熱は２００ｅｒｇ／
ｃｍ²〜６００ｅｒｇ／ｃｍ²が好ましい。また、この
湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができる。１０
０〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０個／１０
０Åが適当である。水中での等電点のｐＨは３〜９の間
にあることが好ましい。比重は１〜１２、好ましくは３
〜６である。強熱減量は２０％以下であることが好まし
い。

【００３９】本発明に用いられる無機質粉末の具体的な
例としては、昭和電工社製ＵＡ５６００、ＵＡ５６０
５、住友化学社製ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ
−５０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、
日本化学工業社製Ｇ５、Ｇ７、Ｓ−１、戸田工業社製Ｔ
Ｆ−１００、ＴＦ−１２０、ＴＦ−１４０、Ｒ５１６、
石原産業社製ＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ
−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−
５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＦＴ−１０００、ＦＴ−２０
００、ＦＴＬ−１００、ＦＴＬ−２００、Ｍ−１、Ｓ−
１、ＳＮ−１００、Ｒ−８２０、Ｒ−８３０、Ｒ−９３
０、Ｒ−５５０、ＣＲ−５０、ＣＲ−８０、Ｒ−６８
０、ＴＹ−５０、チタン工業社製ＥＣＴ−５２、ＳＴＴ
−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５
Ｃ、三菱マテリアル社製Ｔ−１、日本触媒社製ＮＳ−
Ｏ、ＮＳ−３Ｙ、ＮＳ−８Ｙ、テイカ社製ＭＴ−１００
Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００
Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｅ、堺化学社製ＦＩ
ＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、Ｂ
Ｆ−１Ｌ、ＢＦ−１０Ｐ、同和工業社製ＤＥＦＩＣ−
Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、チタン工業社製Ｙ−ＬＯＰ及びそ
れを焼成した物である。

【００４０】本発明に使用される非磁性無機質粉末とし
ては、特に酸化チタン（特に二酸化チタン）が好まし
い。以下、この酸化チタンの製法を詳しく記す。酸化チ
タンの製法は主に硫酸法と塩素法がある。硫酸法は、イ
ルミナイトの原鉱石を硫酸で蒸留し、Ｔｉ、Ｆｅなどを
硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析分離して除き、残
りの硫酸チタニル溶液を濾過精製後、熱加水分解を行っ
て、含水酸化チタンを沈殿させる。これを濾過洗浄後、
夾雑物質を洗浄除去し、粒径調節剤などを添加した後、
８０〜１０００℃で焼成すれば粗酸化チタンとなる。ル
チル型とアナターゼ型は加水分解の時に添加される核材
の種類によりわけられる。この粗酸化チタンを粉砕、整
粒、表面処理などを施して作成する。塩素法は原鉱石天
然ルチルや合成ルチルが用いられる。鉱石は高温還元状
態で塩素化され、ＴｉはＴｉＣｌ₄にＦｅはＦｅＣｌ₂
となり、冷却により固体となった酸化鉄は液体のＴｉＣ
ｌ₄と分離される。得られた粗ＴｉＣｌ₄は精留により
精製した後、核生成剤を添加し、１０００℃以上の温度
で酸素と瞬間的に反応させ、粗酸化チタンを得る。この
酸化分解工程で生成した粗酸化チタンに顔料的性質を与
えるための仕上げ方法は硫酸法と同じである。

【００４１】また、本発明は下層にカーボンブラックを
使用することができ、公知の効果であるＲ_S（表面電気
抵抗）等を下げることもできる。このカーボンブラック
としてはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用
ブラック、アセチレンブラック、等を用いることができ
る。比表面積は１００〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは１
５０〜４００、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１０
０ｇ、好ましくは３０〜２００ｍｌ／１００ｇである。
平均粒径は５ｍμ〜８０ｍμ、好ましくは１０〜５０ｍ
μ、更に好ましくは１０〜４０ｍμである。ｐＨは２〜
１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜
１ｇ／ｃｃが好ましい。

【００４２】本発明に用いられるカーボンブラックの具
体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲ
ＬＳ２０００、１３００、１０００、９００、８０
０、、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮＸＣ−７２、三
菱化成工業社製＃３０５０、＃３１５０、＃３２５０、
＃３７５０、＃３９５０、＃２４００Ｂ、＃２３００、
＃１０００、、＃９７０、＃９５０、、＃９００、＃８
５０、＃６５０、＃４０、ＭＡ４０、ＭＡ−６００、コ
ロンビアカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸＳＣ、Ｒ
ＡＶＥＮ社製８８００、８０００、７０００、５７５
０、５２５０、３５００、２１００、２０００、１８０
０、１５００、１２５５、１２５０、アクゾー社製ケッ
チェンブラックＥＣなどが挙げられる。カーボンブラッ
クを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化し
て使用しても表面の一部をグラファイト化したものを使
用しても構わない。また、カーボンブラックを非磁性塗
料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわ
ない。これらのカーボンブラックは単独、または組み合
わせて使用することができる。

【００４３】本発明で使用できるカーボンブラックは、
例えば（「カーボンブラック便覧」、カーボンブラック
協会編）を参考にすることができる。本発明に使用され
る非磁性有機質粉末は、アクリルスチレン系樹脂粉末、
ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタ
ロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹
脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉
末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂粉
末が使用される。その製法は、特開昭６２−１８５６４
号、同６０−２５５８２７号の各公報に記載されている
ようなものが使用できる。

【００４４】これらの非磁性粉末は、通常、結合剤に対
して、重量比率で２０〜０．１、体積比率で１０〜０．
１の範囲で用いられる。なお、一般の磁気記録媒体にお
いては下塗層を設けることが行われているが、これは支
持体と磁性層等の接着力を向上させるために設けられる
ものであって、厚さも０．５μｍ以下で本発明の下層非
磁性層とは異なるものである。本発明においても下層と
支持体との接着性を向上させるために下塗層を設けるこ
とが好ましい。

【００４５】本発明の磁性層に使用する強磁性粉末とし
ては磁性酸化鉄ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、Ｃ
ｏ変性ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、Ｆｅまたは
ＮｉまたはＣｏを主成分（７５％以上）とする強磁性合
金粉末、バリウムフエライト、ストロンチウムフエライ
トなど公知の強磁性粉末が使用できるが、強磁性合金粉
末が更に好ましい。。これらの強磁性粉末には所定の原
子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃ
ｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、
Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌ
ａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、
Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。これらの強
磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性
剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行って
もかまわない。具体的には、特公昭４４−１４０９０
号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭４７−２２０６
２号、特公昭４７−２２５１３号、特公昭４６−２８４
６６号、特公昭４６−３８７５５号、特公昭４７−４２
８６号、特公昭４７−１２４２２号、特公昭４７−１７
２８４号、特公昭４７−１８５０９号、特公昭４７−１
８５７３号、特公昭３９−１０３０７号、特公昭４８−
３９６３９号、米国特許第３０２６２１５号、同３０３
１３４１号、同３１００１９４号、同３２４２００５
号、同３３８９０１４号などに記載されている。

【００４６】上記強磁性粉末の中で強磁性合金粉末につ
いては少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよい。
強磁性合金粉末の公知の製造方法により得られたものを
用いることができ、下記の方法をあげることができる。
複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元
性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性気体
で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方
法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金
属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あ
るいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方
法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得
る方法などである。このようにして得られた強磁性合金
粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬した
のち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有
ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させ
る方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧
を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施
したものでも用いることができる。

【００４７】本発明の上層磁性層の強磁性粉末をＢＥＴ
法による比表面積で表せば２５〜８０ｍ²／ｇであり、
好ましくは４０〜７０ｍ²／ｇである。２５ｍ²／ｇ以
下ではノイズが高くなり、８０ｍ²／ｇ以上では表面性
が得にくく好ましくない。本発明の上層磁性層の強磁性
粉末の結晶子サイズは４５０〜１００Åであり、好まし
くは３５０〜１００Åである。酸化鉄磁性粉末のσ_Sは
５０ｅｍｕ／ｇ以上、好ましくは７０ｅｍｕ／ｇ以上で
あり、強磁性金属粉末の場合は１００ｅｍｕ／ｇ以上が
好ましく、更に好ましくは１１０ｅｍｕ／ｇ〜１７０ｅ
ｍｕ／ｇである。抗磁力は１１００Ｏｅ以上、２５００
Ｏｅ以下が好ましく、更に好ましくは１４００Ｏｅ以上
２０００Ｏｅ以下である。強磁性粉末の針状比は１８以
下が好ましく、更に好ましくは１２以下である。

【００４８】強磁性粉末の含水率は０．０１〜２％とす
るのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉末の含
水率は最適化するのが好ましい。γ酸化鉄のタップ密度
は０．５ｇ／ｃｃ以上が好ましく、０．８ｇ／ｃｃ以上
がさらに好ましい。合金粉末の場合は、０．２〜０．８
ｇ／ｃｃが好ましく、０．８ｇ／ｃｃ以上に使用すると
強磁性粉末の圧密過程で酸化が進みやすく、充分な飽和
磁化( σ_S) を得ることが困難になる。０．２ｃｃ／ｇ
以下では分散が不十分になりやすい。

【００４９】ＦｅＯｘを用いる場合、２価の鉄の３価の
鉄に対する比は好ましくは０〜２０％であり、さらに好
ましくは５〜１０％である。また鉄原子に対するコバル
ト原子の量は０〜１５％、好ましくは２〜８％である。
強磁性粉末のｐＨは用いる結合剤との組合せにより最適
化することが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、
好ましくは６〜１０である。強磁性粉末は必要に応じ、
Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を
施してもかまわない。その量は強磁性粉末に対し０．１
〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の
吸着が１００ｍｇ／ｍ²以下になり好ましい。強磁性粉
末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無
機イオンを含む場合があるが、５００ｐｐｍ以下であれ
ば特に特性に影響を与えない。

【００５０】また、本発明に用いられる強磁性粉末は空
孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さ
らに好ましくは５容量％以下である。また形状について
は先に示した条件を満足するように針状、粒状、米粒
状、板状等から選択される。強磁性粉末のＳＦＤ０．６
以下を達成するためには、強磁性粉末のＨｃの分布を小
さくする必要がある。そのためには、ゲータイトの粒度
分布をよくする、γ−ヘマタイトの焼結を防止する、コ
バルト変性の酸化鉄についてはコバルトの被着速度を従
来より遅くするなどの方法がある。

【００５１】本発明にはまた、磁化容易軸が平板の垂直
方向にある六角板状の強磁性粉末として、板状六方晶フ
エライト等が例示され、バリウムフエライト、ストロン
チウムフエライト、鉛フェライト、カルシウムフェライ
トの各置換体、Ｃｏ置換体等が使用できる。具体的には
マグネトブランバイト型のバリウムフェライト及びスト
ロンチウムフェライト、更に一部スピネル相を含有した
マグネトブランバイト型のバリウムフェライト及びスト
ロンチウムフェライト等が挙げられ、特に好ましいもの
としてはバリウムフェライト、ストロンチウムフェライ
トの各置換体である。また、抗磁力を制御するために上
記六方晶フェライトにＣｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、
Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｉｒ−Ｚｎ等の
元素を添加した物を使用することができる。

【００５２】バリウムフェライトを用いる場合、板径は
六角板状の粒子の板の幅を意味し、電子顕微鏡を使用し
て測定する。本発明ではこのを板径を０．００１〜１μ
ｍで、板厚を直径の１／２〜１／２０とするとよい。比
表面積（Ｓ_BET）は、１〜６０ｍ²／ｇが好ましく、比
重は４〜６が好ましい。本発明の下層非磁性層及び上層
磁性層に使用される結合剤としては従来公知の熱可塑系
樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使
用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス転移温度が−
１００〜１５０℃、数平均分子量が１０００〜２０００
００、好ましくは１００００〜１０００００、重合度が
約５０〜１０００程度のものである。このような例とし
ては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マ
レイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニ
リデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル
酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニル
ブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル、等を
構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタ
ン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂ま
たは反応型樹脂としてはフエノール樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹
脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデ
ヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹
脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの
混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネート
の混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物
等があげられる。

【００５３】これらの樹脂については朝倉書店発行の
「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されてい
る。また、公知の電子線硬化型樹脂を下層、または上層
に使用することも可能である。これらの例とその製造方
法については特開昭６２−２５６２１９号に詳細に記載
されている。

【００５４】以上の樹脂は単独または組合せて使用でき
るが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル
酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコー
ル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体
の群から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の
組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組合せた
ものがあげられる。

【００５５】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ₁）
（ＯＭ₂）、−ＯＰ＝Ｏ（ＯＭ₁）（ＯＭ₂）、−ＮＲ
₄Ｘ（ここで、Ｍ、Ｍ₁、Ｍ₂は、Ｈ、Ｌｉ、Ｎａ、
Ｋ、−ＮＲ₄、−ＮＨＲ₃を示し、Ｒはアルキル基もし
くはＨを示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）、ＯＨ、Ｎ
Ｒ²、Ｎ⁺Ｒ³、（Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、Ｓ
Ｈ、ＣＮなどから選ばれる少なくとも一つ以上の極性基
を共重合または付加反応で導入したものを用いることが
好ましい。このような極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル
／ｇであり、好ましくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇであ
る。

【００５６】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製：ＶＡＧＨ、Ｖ
ＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、Ｖ
ＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、Ｐ
ＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業
社製：ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、
ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製：１００
０Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１０
０ＦＤ、日本ゼオン社製：ＭＲ１０５、ＭＲ１１０、Ｍ
Ｒ１００、４００Ｘ１１０Ａ、日本ポリウレタン社製：
ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日
本インキ社製：パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０
８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１
０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社
製：バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ８６０
０、ＵＲ５５００、ＵＲ４３００、ＲＶ５３０、ＲＶ２
８０、大日精化社製：ダイフエラミン４０２０、５０２
０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２
０、三菱化成社製：ＭＸ５００４、三洋化成社製：サン
プレンＳＰ−１５０、旭化成社製：サランＦ３１０、Ｆ
２１０などがあげられる。

【００５７】本発明の上層磁性層に用いられる結合剤は
強磁性粉末に対し、５〜５０重量％の範囲、好ましくは
１０〜３５重量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹
脂を用いる場合は、５〜３０重量％、ポリウレタン樹脂
を用いる場合は２〜２０重量％、ポリイソシアネートは
２〜２０重量％の範囲でこれらを組合せて用いるのが好
ましい。

【００５８】本発明の下層非磁性層に用いられる結合剤
は、非磁性粉末に対し、合計で５〜５０重量％の範囲、
好ましくは１０〜３５重量％の範囲で用いられる。ま
た、塩化ビニル系樹脂を用いる場合は、３〜３０重量
％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は３〜３０重量％、
ポリイソシアネートは０〜２０重量％の範囲でこれらを
組合せて用いるのが好ましい。

【００５９】本発明において、ポリウレタン樹脂を用い
る場合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸び
が１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ
／ｃｍ²、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ²が好ま
しい。本発明の磁気記録媒体は基本的には二層からなる
が、三層以上であってもよい。三層以上の構成として
は、上層磁性層を２層以上の複数の磁性層することであ
る。この場合、最上層の磁性層と下層磁性層との関係は
通常の複数の磁性層の考え方が適用できる。例えば、最
上層の磁性層の方が下層磁性層よりも、抗磁力が高く、
平均長軸長や結晶子サイズの小さい強磁性粉末を用いる
などの考え方が適用できる。又、下層非磁性層を複数の
非磁性層で形成してもかまわない。しかし、大きく分類
すれば、上層磁性層、下層非磁性層という構成である。

【００６０】従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化
ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネー
ト、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各
樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物
理特性などを必要に応じ下層と上層磁性層とで変えるこ
とはもちろん可能である。本発明に用いるポリイソシア
ネートとしては、トリレンジイソシアネート、４−４′
−ジフエニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフ
チレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンイ
ソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフエ
ニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、
また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの
生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成し
たポリイソシアネート等を使用することができる。これ
らのイソシアネート類の市販されている商品名として
は、日本ポリウレタン社製：コロネートＬ、コロネート
ＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリ
オネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製：タ
ケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネ
ートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル
社製：デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモ
ジュールＮ、デスモジュールＨＬ等があり、これらを単
独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以
上の組合せで下層非磁性層、上層磁性層ともに用いるこ
とができる。

【００６１】本発明の上層磁性層に使用されるカーボン
ブラックはゴム用フアーネス、ゴム用サーマル、カラー
用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることがで
きる。比表面積は５〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は
１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｍμ〜３００
ｍμ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タッ
プ密度は０．１〜１ｇ／ｃｃが好ましい。本発明に用い
られるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボッ
ト社製：ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ２０００、１３０
０、１０００、９００、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ
ＸＣ−７２、旭カーボン社製：♯８０、♯６０、♯５
５、♯５０、♯３５、三菱化成工業社製：♯２４００
Ｂ、♯２３００、♯９００、♯１０００、♯３０、♯４
０、♯１０Ｂ、コンロンビアカーボン社製：ＣＯＮＤＵ
ＣＴＥＸＳＣ、ＲＡＶＥＮ１５０、５０，４０，１
５などがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで
表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表
面の一部をグラフアイト化したものを使用してもかまわ
ない。また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前
にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらの
カーボンブラックは単独、または組合せで使用すること
ができる。カーボンブラックを使用する場合は強磁性粉
末に対する量の０．１〜３０％で用いることが好まし
い。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低
減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これら
は用いるカーボンブラックにより異なる。従って本発明
に使用されるこれらのカーボンブラックは下層、上層で
その種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電
導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じ
て使い分けることはもちろん可能である。本発明の上層
で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラ
ック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にするこ
とができる。

【００６２】本発明の上層磁性層に用いられる研磨剤と
してはα−化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミ
ナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化
鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪
素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化
ホウ素、など主としてモース硬度６以上の公知の材料が
単独または組合せで使用される。また、これらの研磨剤
どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したも
の）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外
の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９
０％以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の
粒子サイズは０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応
じて粒子サイズの異なる研磨剤を組合せたり、単独の研
磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせること
もできる。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は
０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ
²／ｇ、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状
は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状
の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。

【００６３】本発明に用いられる研磨剤の具体的な例と
しては、住友化学社製：ＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，
ＡＫＰ−５０，ＨＩＴ−５０、日本化学工業社製：Ｇ
５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製：ＴＦ−１００、ＴＦ
−１４０、１００ＥＤ、１４０ＥＤなどがあげられる。
本発明に用いられる研磨剤は下層、上層で種類、量およ
び組合せを変え、目的に応じて使い分けることはもちろ
ん可能である。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分
散処理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。

【００６４】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ
ものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングス
テン、グラフアイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコ
ーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリ
コーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコー
ル、フッ素含有エステル、ポリオレフイン、ポリグリコ
ール、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、
ポリフエニルエーテル、フッ素含有アルキル硫酸エステ
ルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩
基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していて
もかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ，Ｎ
ａ，Ｋ，Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数
１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４
の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐し
ていてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、
三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不
飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）
とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステル
またはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物
のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜
２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、
などが使用できる。これらの具体例としてはラウリン
酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘ
ン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、
リノレン酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ス
テアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリス
チン酸オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒ
ドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタ
ンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレ
ート、オレイルアルコール、ラウリルアルコール、があ
げられる。

【００６５】また、アルキレンオキサイド系、グリセリ
ン系、グリシドール系、アルキルフエノールエチレンオ
キサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミ
ン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダン
トイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニ
ウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スル
フォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、な
どの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、ア
ミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸
エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤
等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界
面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載
されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも
１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応
物、副反応物、分解物、酸化物、等の不純分が含まれて
もかまわない。これらの不純分は３０％以下が好まし
く、さらに好ましくは１０％以下である。

【００６６】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は下層非磁性層、上層磁性層でその種類、量を必
要に応じ使い分けることができる。例えば、下層非磁性
層、上層磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのに
じみ出しを制御する、沸点や極性の異なるエステル類を
用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を調
節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加
量を下層非磁性層で多くして潤滑効果を向上させるなど
が考えられ、無論ここに示した例のみに限られるもので
はない。

【００６７】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加しても
かまわない、例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合す
る場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添
加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加す
る場合、塗布直前に添加する場合などがある。本発明で
使用されるこれら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社
製：ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４１５，ＮＡＡ−３１
２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８０，ＮＡＡ−１７
４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２２，ＮＡＡ−３４，
ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，ＮＡＡ−１２２，ＮＡ
Ａ−１４２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１７３Ｋ，ヒマ
シ硬化脂肪酸，ＮＡＡ−４２，ＮＡＡ−４４，カチオン
ＳＡ，カチオンＭＡ，カチオンＡＢ，カチオンＢＢ，ナ
イミーンＬ−２０１，ナイミーンＬ−２０２，ナイミー
ンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０８，ノニオンＰ−２０
８，ノニオンＳ−２０７，ノニオンＫ−２０４，ノニオ
ンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−２１０，ノニオンＨＳ
−２０６，ノニオンＬ−２，ノニオンＳ−２，ノニオン
Ｓ−４，ノニオンＯ−２，ノニオンＬＰ−２０Ｒ，ノニ
オンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ−６０Ｒ，ノニオンＯ
Ｐ−８０Ｒ，ノニオンＯＰ−８５Ｒ，ノニオンＬＴ−２
２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノニオンＯＴ−２２１，
モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６０，アノンＢＦ，アノ
ンＬＧ，ブチルステアレート，ブチルラウレート，エル
カ酸、関東化学社製：オレイン酸、竹本油脂社製：ＦＡ
Ｌ−２０５，ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製：エヌジ
エルブＬＯ，エヌジョルブＩＰＭ，サンソサイザーＥ４
０３０、信越化学社製：ＴＡ−３，ＫＦ−９６，ＫＦ−
９６Ｌ，ＫＦ−９６Ｈ，ＫＦ４１０，ＫＦ４２０，ＫＦ
９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，ＫＦ５６，ＫＦ−９０
７，ＫＦ−８５１，Ｘ−２２−８１９，Ｘ−２２−８２
２，ＫＦ−９０５，ＫＦ−７００，ＫＦ−３９３，ＫＦ
−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，Ｘ−２２−９
８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ−１０３，Ｘ
−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，ＫＦ−９１
０，ＫＦ−３９３５、ライオンアーマー社製：アーマイ
ドＰ，アーマイドＣ，アーモスリップＣＰ、ライオン油
脂社製：デュオミンＴＤＯ、日清製油社製：ＢＡ−４１
Ｇ、三洋化成社製：プロフアン２０１２Ｅ，ニューポー
ルＰＥ６１，イオネットＭＳ−４００，イオネットＭＯ
−２００，イオネットＤＬ−２００，イオネットＤＳ−
３００，イオネットＤＳ−１０００，イオネットＤＯ−
２００などがあげられる。

【００６８】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチ
ルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用で
きる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではな
く、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわな
い。これらの不純分は３０重量％以下が好ましく、さら
に好ましくは１０重量％以下である。下層に表面張力の
高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い
塗布の安定性をあげる、具体的には上層溶剤組成の算術
平均値が下層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが
肝要である。

【００６９】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性
支持体の厚みは４〜８０μｍ、下層非磁性層厚みが０．
５〜１０μｍ、好ましくは１〜５μｍ、上層磁性層の厚
みは０．０５μｍ以上１．０μｍ以下、好ましくは０．
０５μｍ以上０．６μｍ以下、さらに好ましくは０．０
５μｍ以上、０．３μｍ以下である。上層と下層を合わ
せた厚みは非磁性支持体の厚みの１／１００〜２倍の範
囲で用いられる。また、非磁性支持体と下層の間に密着
性向上のための下塗り層を設けてもかまわない。これら
の厚みは０．０１〜２μｍ、好ましくは０．０５〜０．
５μｍである。また、非磁性支持体の磁性層側と反対側
にバックコート層を設けてもかまわない。この厚みは
０．１〜２μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍであ
る。これらの下塗り層、バックコート層は公知のものが
使用できる。

【００７０】本発明に用いられる非磁性支持体はポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、等
のポリエステル類、ポリオレフイン類、セルローストリ
アセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリアミドイミド、ポリスルフオン、アラミド、芳
香族ポリアミドなどの公知のフイルムが使用できる。こ
れらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ
処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをおこなっ
ても良い。本発明の目的を達成するには、非磁性支持体
として中心線平均表面粗さが０．０３μｍ以下、好まし
くは０．０２μｍ以下、さらに好ましくは０．０１μｍ
以下のものを使用する必要がある。また、これらの非磁
性支持体は単に中心線平均表面粗さが小さいだけではな
く、１μ以上の粗大突起がないことが好ましい。また、
表面の粗さ形状は、必要に応じて支持体に添加されるフ
ィラーの大きさと量により自由にコントロールされるも
のである。これらのフィラーとしては一例としてはＣ
ａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系
などの有機微粉末が挙げられる。

【００７１】また、非磁性支持体のテープ走行方向のＦ
−５値は、好ましくは５〜５０Ｋｇ／ｍｍ²、テープ幅
方向のＦ−５値は、好ましくは３〜３０Ｋｇ／ｍｍ²で
あり、テープ長手方向のＦ−５値がテープ幅方向のＦ−
５値より高いのが一般的であるが、特に幅方向の強度を
高くする必要があるときはその限りではない。本発明の
非磁性支持体の両方向、特に幅方向のヤング率（弾性
率）は１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²である。また、テ
ープ走行方向および幅方向の１００℃３０分での熱収縮
率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以
下、８０℃３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、
さらに好ましくは０．５％以下である。破断強度は両方
向とも５〜１００Ｋｇ／ｍｍ²が好ましい。

【００７２】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造す
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からな
る。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていても
かまわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カ
ーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤な
どすべての原料はどの工程の最初または途中で添加して
もかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分
割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを
混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工
程で分割して投入してもよい。

【００７３】本発明の目的を達成するためには、従来の
公知の製造技術を一部の工程として用いることができる
ことはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加
圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用することによ
り本発明の磁気記録媒体の高いＢｒを得ることができ
る。連続ニーダまたは加圧ニーダを用いる場合は強磁性
粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤
の３０重量％以上が好ましい）および強磁性粉末１００
部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理される。これ
らの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８
号、特開昭６４−７９２７４号に記載されている。ま
た、下層非磁性層液を調製する場合には高比重の分散メ
ディアを用いることが望ましく、ジルコニアビーズ、金
属ビーズが好適である。

【００７４】本発明では、特開昭６２−２１２９３３号
に示されるような同時重層塗布方式を用いることによ
り、より効率的に生産することができる。本発明のよう
な重層構成の磁気記録媒体を塗布する装置、方法の例と
して以下のような構成を提案できる。１．磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウエット状
態のうちに特公平１−４６１８６号や特開昭６０−２３
８１７９号、特開平２−２６５６７２号に開示されてい
る支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層
を塗布する。２．特開昭６３−８８０８０号、特開平２−１７９２１
号、特開平２−２６５６７２号に開示されているような
塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドに
より上層及び下層をほぼ同時に塗布する。３．特開平２−１７４９６５号に開示されているバック
アップロール付きエキストルージョン塗布装置により上
層及び下層をほぼ同時に塗布する。なお、強磁性粉末の
凝集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止
するため、特開昭６２−９５１７４号や特開平１−２３
６９６８号に開示されているような方法により塗布ヘッ
ド内部の塗布液に剪断を付与することが望ましい。さら
に、塗布液の粘度については、特願平１−３１２６５９
号に開示されている数値範囲を満足することが好まし
い。

【００７５】本発明では、上記の下層用塗布液を湿潤状
態で重畳して塗布する、所謂ウェット・オン・ウェット
塗布方式によって、非磁性支持体上に設けることが好ま
しい。本発明で下層と上層を設けるに用いるウェット・
オン・ウェット塗布方式とは、初め一層を塗布した後に
湿潤状態で可及的速やかに次の層をその上に塗布する所
謂逐次塗布方法、及び多層同時にエクストルージョン塗
布方式で塗布する方法等をいう。

【００７６】ウェット・オン・ウェット塗布方式として
は、特開昭６１−１３９９２９号公報に示した磁気記録
媒体塗布方法が使用できる。本発明の媒体を得るために
は強力な配向を行う必要がある。１０００Ｇ（ガウス）
以上のソレノイドと２０００Ｇ以上のコバルト磁石を併
用することが好ましく、さらには乾燥後の配向性が最も
高くなるように配向前に予め適度の乾燥工程を設けるこ
とが好ましい。また、ディスク媒体として、本発明を適
用する場合はむしろ配向をランダマイズするような配向
法が必要である。

【００７７】さらに、カレンダ処理ロールとしてエポキ
シ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐
熱性のあるプラスチックロールを使用する。また、金属
ロール同志で処理することもできる。処理温度は、好ま
しくは７０℃以上、さらに好ましくは８０℃以上であ
る。線圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ、さらに好ま
しくは３００ｋｇ／ｃｍ以上、その速度は２０ｍ／分〜
７００ｍ／分の範囲である。本発明の効果は８０℃以上
の温度で３００ｋｇ／ｃｍ以上の線圧でより一層効果を
上げることができる。

【００７８】本発明の磁気記録媒体の上層磁性層の中心
線平均粗さ（Ｒａ）は１〜４ｎｍ、好ましくは２〜３．
５ｎｍである。また、磁気記録媒体の反対面のＳＵＳ４
２０Ｊに対する摩擦係数は好ましくは０．５以下、さら
に０．３以下、磁性層表面固有抵抗は１０⁴〜１０¹¹オ
ーム／ｓｑ、下層を単独で塗布した場合の表面固有抵抗
は１０⁴〜１０⁸オーム／ｓｑ、バック層の表面電気抵
抗は１０³〜１０⁹オームが好ましい。

【００７９】上層の０．５％伸びでの弾性率は走行方
向、幅方向とも好ましくは３００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ
²、破断強度は好ましくは２〜３０Ｋｇ／ｃｍ²、磁気
記録媒体の弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは１
００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ²、残留のびは好ましくは
０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮
率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以
下、もっとも好ましくは０．１％以下である。

【００８０】上層、下層が有する空隙率は、ともに好ま
しくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以
下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が
好ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い
場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるデータ
記録用磁気記録媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性
は好ましいことが多い。これらの値を目的に応じた適当
な範囲に設定することは容易に実施できることである。

【００８１】本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場５
ＫＯｅで測定した場合、テープ走行方向の角形比は０．
７０以上であり、好ましくは０．８０以上さらに好まし
くは０．９０以上である。テープ走行方向に直角な二つ
の方向の角型比は走行方向の角型比の８０％以下となる
ことが好ましい。磁性層のＳＦＤは０．６以下であるこ
とが好ましい。

【００８２】本発明の磁気記録媒体は、下層と上層を有
するが、目的に応じ下層と上層でこれらの物理特性を変
えることができるのは容易に推定されることである。例
えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させる
と同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くして磁気記
録媒体のヘッドへの当たりを良くするなどである。本発
明の磁気記録媒体は、以下の物性値の範囲が好ましい。

【００８３】本発明の磁気記録媒体を引張り試験試験機
で測定したヤング率が４００〜５０００Ｋｇ／ｍｍ²、
好ましくは、７００〜４０００Ｋｇ／ｍｍ²であり、前
記磁性層のヤング率が４００〜５０００Ｋｇ／ｍｍ²、
好ましくは７００〜４０００Ｋｇ／ｍｍ²、降伏応力は
３〜２０Ｋｇ／ｍｍ²、好ましくは３〜１５Ｋｇ／ｍｍ
²、降伏伸びが０．２〜８％、好ましくは０．４〜５％
であることが望ましい。

【００８４】これは、強磁性粉末、結合剤、カーボンブ
ラック、無機質粉末、支持体が係わってくるので、耐久
性に影響する。又、本発明の磁気記録媒体の曲げ剛性
（円環式スティフネス）は全厚が１１．５μｍより厚い
場合は好ましくは４０〜３００ｍｇ全厚が１０．５±１
μｍでは好ましくは２０〜９０ｍｇ又全厚が９．５μｍ
より薄い場合は好ましくは１０〜７０ｍｇである。

【００８５】これは、主として支持体に関連するもので
耐久性を確保する上で重要である。また、本発明磁気記
録媒体の２３℃、７０％ＲＨで測定したクラック発生伸
度が好ましくは２０％以下が望ましい。また、本発明磁
気記録媒体をＸ線光電子分光装置を用いて測定した前記
磁性層表面のＣｌ／Ｆｅスペクトルαが好ましくは０．
３〜０．６、Ｎ／Ｆｅスペクトルβが好ましくは０．０
３〜０．１２である。

【００８６】これは、強磁性粉末、無機質粉末及び結合
剤と関連し、耐久性を得る上で重要である。また、本発
明磁気記録媒体を動的粘弾性測定装置を用いて測定した
前記磁性層のガラス転移温度Ｔｇ（１１０Ｈｚで測定し
た動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）が好ましくは
４０〜１２０℃であり、貯蔵弾性率Ｅ′（５０℃）が好
ましくは０．８×１０¹¹〜１１×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ
²であり、損失弾性率Ｅ′′（５０℃）が好ましくは
０．５×１０¹¹〜８×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ²であるこ
とが望ましい。また損失正接は、０．２以下であること
が好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が出やす
い。これらは、バインダー、カーボンブラック、や溶剤
と関連し、耐久性に関連する重要な特性である。

【００８７】また、前記非磁性支持体と前記磁性層との
２３℃、７０％ＲＨでの８ｍｍ幅テープの１８０°密着
強度が好ましくは１０ｇ以上であることが望ましい。ま
た、上層磁性層表面の２３℃、７０％ＲＨの鋼球磨耗が
好ましくは０．７×１０^-7〜５×１０^-7ｍ³であること
が望ましい。これは、直接に磁性層表面の磨耗を見るも
ので主に強磁性粉末に関連する耐久性の尺度である。

【００８８】又、本発明磁気記録媒体をＳＥＭ（電子顕
微鏡）で倍率５００００倍で５枚撮影した前記磁性層表
面の研磨剤の目視での数が好ましくは０．１個／μｍ²
以上であることが望ましい。又、本発明の磁気記録媒体
の上層磁性層端面に存在する研磨剤は５個／１００μｍ
²以上が好ましい。これらは、磁性層の研磨剤と結合剤
により影響を受け、耐久性に効果を発揮する尺度であ
る。

【００８９】また、本発明磁気記録媒体をガスクロマト
グラフィーを用いて測定した前記磁気記録媒体の残留溶
剤が好ましくは５０ｍｇ／ｍ²以下であることが望まし
い。又、上層中に含まれる残留溶媒は好ましくは５０ｍ
ｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ²以下で
あり、上層に含まれる残留溶媒が下層に含まれる残留溶
媒より少ないほうが好ましい。

【００９０】また、本発明磁気記録媒体よりＴＨＦを用
いて抽出された可溶性固形分の磁性層重量に対する比率
であるゾル分率が１５％以下であることが望ましい。こ
れは、強磁性粉末と結合剤により影響を受けるもので、
耐久性の尺度となる。

【００９１】

【発明の実施の形態】及び

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明はこれに限定されるものではない。実施例１以下の処方で上層磁性層用塗布液及び下層非磁性層用塗
布液を調製した。

【００９２】実施例１−１下層非磁性層用塗布液無機質粉末ＴｉＯ₂ ８０部平均粒径０．０３５μｍ結晶系ルチルＴｉＯ₂含有量９０重量％無機質粉末表面処理層Ａｌ₂Ｏ₃（１０重量％）ＢＥＴ法による比表面積４０ｍ²／ｇＤＢＰ吸油量２７〜３８ｇ／１００ｇｐＨ７カーボンブラック２０部平均粒径１６ｍμ ＤＢＰ吸油量８０ｍｌ／１００ｇｐＨ８．０ＢＥＴ法による比表面積２５０ｍ²／ｇ揮発分１．５％塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体１２部 −Ｎ（ＣＨ₃）₃ ⁺Ｃｌ^-の極性基を５×１０^-6ｅｑ／ｇ含む組成比８６：１３：１重合度４００ポリエステルポリウレタン樹脂５部ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基１×１０^-4ｅｑ／ｇ含有ブチルステアレート１部ステアリン酸１部メチルエチルケトン１００部シクロヘキサノン５０部トルエン５０部上層磁性層用塗布液強磁性金属微粉末組成Ｆｅ／Ｚｎ／Ｎｉ＝９２／４／４１００部Ｈｃ１６００ＯｅＢＥＴ法による比表面積６０ｍ²／ｇ結晶子サイズ１９５Å 平均長軸長０．２０μｍ、針状比１０飽和磁化( σ_S) ：１３０ｅｍｕ／ｇ表面処理剤：Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂ 塩化ビニル系共重合体１２部 −ＳＯ₃Ｎａ基１×１０^-4ｅｑ／ｇ含有、重合度３００ポリエステルポリウレタン樹脂３部ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基１×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 α−アルミナ（平均粒径０．３μｍ）２部カーボンブラック（平均粒径０．１０μｍ）０．５部ブチルステアレート１部ステアリン酸２部メチルエチルケトン９０部シクロヘキサノン５０部トルエン６０部上記２つの塗料のそれぞれについて、各成分を連続ニー
ダーで混練した後、サンドミルを用いて分散させた。得
られた分散液にポリイソシアネートを下層非磁性層の塗
布液には１部、上層磁性層の塗布液には３部を加え、さ
らにそれぞれに酢酸ブチル４０部を加え、１μｍの平均
孔径を有するフィルターを用いて濾過し、下層非磁性層
用及び上層磁性層用の塗布液をそれぞれ調製した。

【００９３】得られた下層非磁性層塗布液を乾燥後の厚
さが２μｍになるように更にその直後にその上に上層磁
性層の厚さが０．５μｍになるように、厚さ７μｍで中
心平均表面粗さが０．０１μｍ、ＭＤ方向のヤング率７
５０Ｋｇ／ｍｍ²、ＴＤ方向のヤング率７５０Ｋｇ／ｍ
ｍ²のポリエチレンテレフタレート支持体上に同時重層
塗布を行い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに３０００
ガウスの磁力をもつコバルト磁石と１５００ガウスの磁
力をもつソレノイドにより配向させ、乾燥後、金属ロー
ルのみから構成される７段のカレンダーで温度９０℃に
て処理を行い、８ｍｍの幅にスリットし、実施例１−１
の８ｍｍビデオテープを製造した。

【００９４】また、同様に表１〜２に記載の因子を変更
して試料、実施例１−２〜１−１２、比較例１−１〜１
−３を作成し、性能を前述と同様に評価し、その結果を
表１〜２に示した。中心線平均表面粗さ（Ｒａ）：三次
元表面粗さ計（小坂研究所製）を用い、カットオフ０．
２５ｍｍで測定した。

【００９５】電磁変換特性１．７ＭＨｚ出力：富士写真フィルム社製ＦＵＪＩＸ８
８ｍｍビデオデッキを用いて７ＭＨｚの信号を記録
し、この信号を再生したときの７ＭＨｚ信号再生出力を
オシロスコープで測定した。対照は、富士写真フィルム
社製８ミリテープＳＡＧＰ６−１２０である。２．Ｃ／Ｎ：富士写真フィルム社製ＦＵＪＩＸ８８ｍ
ｍビデオデッキを用いて７ＭＨｚの信号を記録し、この
信号を再生したときの６ＭＨｚで発生するノイズをスペ
クトラムアナライザーで測定し、このノイズに対する再
生信号の比を測定した。

【００９６】

【表１】

【００９７】

【表２】

【００９８】上表より明らかなとおり、実施例試料は、
無機質粉末表面にＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂等の
表面処理層を上表に示す通り含むために分散性が改善さ
れ、Ｒａが低く、電磁変換特性が良好である。比較例１
−１は、無機質粉末に表面処理層が含まれないので、分
散性が悪く、Ｒａおよびσが高くなり、電磁変換特性が
劣る。比較例１−２は、磁性層が厚いために電磁変換特
性が悪い。

【００９９】実施例２以下の処方で上層磁性層用塗布液及び下層非磁性層用塗
布液を調製した。実施例２−１下層非磁性層用塗布液；実施例２−１と同じ上層磁性層用塗布液Ｃｏ置換バリウムフェライト１００部ＢＥＴ法による比表面積３５ｍ²／ｇ平均粒径０．０６、板状比５塩化ビニル系共重合体９部 −ＳＯ₃Ｎａ基１×１０^-5ｅｑ／ｇ含有、重合度３００微粒子研磨剤（Ｃｒ₂Ｏ、平均粒径０．３μｍ）７部トルエン３０部メチルエチルケトン３０部上記の組成物をニーダーで約１時間混練した後に更に下
記組成物を加えニーダーで約２時間分散を行った。

【０１００】ポリエステルポリウレタン樹脂５部ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基１×１０^-4ｅｑ／ｇ含有平均分子量３５０００メチルエチルケトン２００部シクロヘキサノン１００部トルエン１００部次いで下記カーボンブラック、粗粒子研磨剤を添加、サ
ンドグラインダーにて２０００回転、約２時間分散処理
を行った。

【０１０１】カーボンブラック（平均粒径２０〜３０ｍμ）５部ライオンアクゾ社製ケッチェンブラックＥＣ粗粒子研磨剤２部 α−アルミナ（住友化学社製ＡＫＰ−１２、平均粒径０．５μｍ）さらに下記組成物を加え、再度サンドグラインダー分散
し、上層磁性層用塗布液を得た。

【０１０２】ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネートＬ）６部トリデシルステアレート６部以上のようにして得られた上層磁性層用塗布液と下層非
磁性層用塗布液を厚さ７５μｍ、ＭＤ７５０Ｋｇ／ｍｍ
²、ＴＤ方向４７６Ｋｇ／ｍｍ²のヤング率のポリエチ
レンテレフタレート上にまず、下層非磁性層用塗布液
を、次に湿潤状態にある内に上記上層磁性層用塗布液を
塗布し、裏面にも同様に処理した。乾燥膜厚で下層非磁
性層の厚味が２μｍ、磁性層の厚味が０．５μｍとなる
ようにした。その後、カレンダー処理を施して磁気記録
媒体を得た。しかるのちに、この磁気記録媒体を３．５
吋に打ち抜き、ライナーが内側に設置済みの３．５吋カ
ートリッジに入れ、所定の機構部品を付加し、実施例２
−１の３．５吋フロッピーディスクを得た。また、同様
に表３に記載の因子を変更して試料、実施例２−２〜２
−７、比較例２−１を作成し、性能を評価し、その結果
を表３に示した。

【０１０３】初期２Ｆ出力：実施例２−１のサンプルを
１００として相対値として算出した。使用ドライブはＰ
Ｄ２１１（東芝社製）である。

【０１０４】

【表３】

【０１０５】上表から、実施例１と同様に実施例試料フ
ロッピーディスクは、無機質粉末表面にＡｌ₂Ｏ₃、Ｓ
ｉＯ₂、ＺｒＯ₂等の処理層を上表に示す通り含むため
に分散性が改善され、Ｒａが低く、電磁変換特性が良好
である。比較例２−１は、無機質粉末に処理層が含まれ
ないので、分散性が悪く、Ｒａおよびσが高くなり、電
磁変換特性が劣る。

【０１０６】実施例３非磁性支持体としてポリエチレンテレフタレート（厚味
１０μｍ、Ｆ５値：ＭＤ方向２０Ｋｇ／ｍｍ²、ＴＤ方
向１４Ｋｇ／ｍｍ²、ヤング率：ＭＤ方向７５０Ｋｇ／
ｍｍ²、ＴＤ方向４７０Ｋｇ／ｍｍ²）又はポリエチレ
ンテレナフタレート（厚味７μｍ、Ｆ５値：ＭＤ方向２
２Ｋｇ／ｍｍ²、ＴＤ方向１８Ｋｇ／ｍｍ²、ヤング
率：ＭＤ方向７５０Ｋｇ／ｍｍ²、ＴＤ方向７５０Ｋｇ
／ｍｍ²）を用いた。また、以下の処方でディスパ攪拌
機で１２時間攪拌して下塗液を調製した。

【０１０７】ポリエステル樹脂（−ＳＯ₃Ｎａ基含有）１００部Ｔｇ６５℃ Ｎａ含量４６００ｐｐｍシクロヘキサノン９９００部得られた下塗液を用いてバーコートにより前記非磁性支
持体上に乾燥厚味０．１μｍで塗布した。

【０１０８】一方、以下の処方で上層磁性層用塗布液及
び下層非磁性層用塗布液を調製した。上層磁性層用塗布液処方強磁性粉末：Ｆｅ合金粉末（Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ）１００部組成；Ｆｅ：Ｃｏ：Ｎｉ＝９２：６：２焼結防止剤としてＡｌ₂Ｏ₃を使用Ｈｃ１６００Oe、σ_S １１９ｅｍｕ／ｇ長軸長０．１３μｍ，針状比７結晶子サイズ１７２Å、含水率０．６重量％塩化ビニル共重合体１３部 −ＳＯ₃Ｎａ８×１０^-5ｅｑ／ｇ、−ＯＨ、エポキシ基含有Ｔｇ７１℃、重合度３００、数平均分子量（Ｍｎ）１２０００重量平均分子量（Ｍｗ）３８０００ポリウレタン樹脂５部 −ＳＯ₃Ｎａ８×１０^-5ｅｑ／ｇ含有 −ＯＨ８×１０^-5ｅｑ／ｇ含有Ｔｇ３８℃、Ｍｗ５００００ αアルミナ（平均粒径０．１５μｍ）１２部Ｓ_BET８．７ｍ²／ｇ、ｐＨ８．２、含水率０．０６重量％シクロヘキサノン１５０部メチルエチルケトン１５０部上記組成物をサンドミル中で６時間混合分散したのち、
ポリイソシアネート（コロネートＬ）及びオレイン酸
５部、ステアリン酸７部、ステアリン酸ブチル１５部を
加えて上層磁性層用塗布液を得た。

【０１０９】下層非磁性層用塗布液処方ＴｉＯ₂ ８５部平均粒径０．０３５μｍ結晶系ルチルＴｉＯ₂含有量９０％以上表面処理層Ａｌ₂Ｏ₃ Ｓ_BET ３５〜４５ｍ²／ｇ真比重４．１ｐＨ６．５〜８．０カーボンブラック５部平均粒径１６ｍμ ＤＢＰ吸油量８０ｍｌ／１００ｇｐＨ８．０Ｓ_BET ２５０ｍ²／ｇ着色力１４３％塩化ビニル共重合体１３部 −ＳＯ₃Ｎａ８×１０^-5ｅｑ／ｇ、−ＯＨ、エポキシ基含有Ｔｇ７１℃、重合度３００、数平均分子量（Ｍｎ）１２０００重量平均分子量（Ｍｗ）３８０００ポリウレタン樹脂５部 −ＳＯ₃Ｎａ８×１０^-5ｅｑ／ｇ含有 −ＯＨ８×１０^-5ｅｑ／ｇ含有Ｔｇ３８℃、Ｍｗ５００００シクロヘキサン１００部メチルエチルケトン１００部上記組成物をサンドミル中で４時間混合分散したのち、
ポリイソシアネート（コロネートＬ）５部、オレイン酸
５部、ステアリン酸５部、ステアリン酸ブチル１５部を
加えて下層非磁性層用塗布液を得た。

【０１１０】上記の塗布液をギャップの異なる２つのド
クターを用いて、湿潤状態で塗布したのち、永久磁石３
５００ガウス、次いでソレノイド１６００ガウスにて
配向処理後、乾燥した。その後、金属ロールと金属ロー
ルによるスーパーカレンダー処理を温度８０℃で行っ
た。塗布厚みは磁性層０．３μｍ、非磁性層３．０μｍ
であった。

【０１１１】次いで以下の処方により塗布液を調製し
た。ＢＣ層処方カーボンブラック１００部Ｓ_BET ２２０ｍ²／ｇ平均粒径１７ｍμ ＤＢＰ吸油量７５ｍｌ／１００ｇ揮発分１．５％ｐＨ８．０嵩密度１５ｌｂｓ／ｆｔ³ ニトロセルロースＲＳ１／２１００部ポリエステルポリウレタン３０部ニッポラン（日本ポリウレタン社製）分散剤オレイン酸銅１０部銅フタロシアニン１０部硫酸バリウム（沈降性）５部メチルエチルケトン５００部トルエン５００部上記組成を予備混練し、ロールミルで混練した。次に上
記分散物１００重量部に対して、カーボンブラック１００部Ｓ_BET ２００ｍ²／ｇ平均粒径２００ｍμ ＤＢＰ吸油量３６ｍｌ／１００ｇｐＨ８．５ α−Ａｌ₂Ｏ₃（平均粒径０．２μｍ）０．１部を添加した組成にてサンドグラインダーで分散を行い、
濾過後、上記分散物１００重量部に対して以下の組成を
添加し、塗布液を調製した。

【０１１２】メチルエチルケトン１２０部ポリイソシアネート５部得られた塗布液をバーコーターにより、前記磁性層を設
けた非磁性支持体の反対側に乾燥厚味０．５μｍになる
よう塗布した。このようにして得られた原反を８ｍｍ幅
に裁断し試料１（ＰＥＴ支持体）及び試料２（ＰＥＮ支
持体）の８ｍｍビデオテープを作成した。

【０１１３】得られた８ｍｍビデオテープについて以下
の測定を行い、その測定結果を得た。（１）ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）磁性層の超薄切片を観察した。ダイヤモンドカッターで
媒体を約０．１μｍ厚味に切り出し、これを透過型電子
顕微鏡で観察し、写真撮影した。撮影した写真の上下層
の界面と磁性層表面を隈取りし、ＩＢＡＳII画像処理装
置で磁性層厚味を測定し、その平均値ｄと標準偏差σと
を求めた。

【０１１４】磁性層厚味の平均値ｄは０．４５μｍであ
った。実用上は１μｍ以下、特に好ましくは０．６μｍ
以下であることがわかった。磁性層厚味変動の標準偏差
σは、０．００８μｍ以下であった。実用上はσは０．
０２μｍ以下、特に好ましくは０．０１μｍ以下である
ことがわかった。前記磁気テープを延伸して磁性層を支
持体から浮いた状態にし、カッター刃でしごいて磁性層
を剥離した。この剥離した磁性層５００ｍｇを１Ｎ−Ｎ
ａＯＨ／メタノール溶液１００ｍｌ中で２時間環流し、
結合剤を加水分解した。強磁性粉末は比重が大きいため
に底に沈むので上澄み液を除去した。

【０１１５】次いでデカンテーションにより３回水洗、
その後ＴＨＦで３回洗浄した。得られた強磁性粉末は５
０℃の真空乾燥機で乾燥した。次に得られた強磁性粉末
をコロジオン中に分散し、ＴＥＭを用いて６万倍で観察
した。その結果、強磁性粉末の粒子長軸長０．１３μｍ
であり、針状比は１０であった。実用上は粒子長軸長は
０．３μｍ以下であることがわかった。又実用上、針状
比は２〜２０が必要であり、好ましくは２〜１５である
ことがわかった。（２）ＡＦＭ（ＡｔｏｍｉｃＦｏｒｃｅＭｉｃｒｏ
Ｓｃｏｐｅ）表面粗さＲ_rmsを測定した。磁性層表面をＤｉｇｉｔａ
ｌＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔ社のＮａｎｏｓｃｏｐｅＩＩ
を用い、トンネル電流１０ｎＡ、バイアス電圧４００ｍ
Ｖで６μｍ×６μｍの範囲を走査した。表面粗さはこの
範囲のＲ_rmsを求めた。

【０１１６】その結果、Ｒ_rmsは６ｎｍであった。実用
上は１０ｎｍ以下が必要であり、好ましくは８ｎｍ以下
であることがわかった。（３）表面粗さ計３ｄ−ＭＩＲＡＵを用いた磁性層表面の表面粗さを測定
した。ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ３Ｄを用いてＭＩＲＡＵ法
で約２５０×２５０ｍｍの面積のＲａ、Ｒ_rms、Ｐｅａ
ｋ−Ｖａｌｌｅｙ値を測定した。測定波長約６５０ｎｍ
にて球面補正、円筒補正を加えている。この方式は光干
渉にて測定する非接触表面粗さ計である。Ｒａは、２．
７ｎｍであった。実用上、Ｒａは１〜４ｎｍであり、好
ましくは２〜３．５ｎｍであることがわかった。Ｒ_rms
は３．５ｎｍであった。実用上は１．３〜６ｎｍが好ま
しく、更に好ましくは１．５〜５ｎｍであることがわか
った。Ｐ−Ｖ値は２０〜３０ｎｍであった。実用上は８
０ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは１０〜６０ｎｍ
であることがわかった。（４）ＶＳＭ（振動試料型磁束計）ＶＳＭを用いて得られた磁気テープの磁性層の磁気特性
を測定した。東英工業社製の振動試料型磁束計を用いて
Ｈｍ５ｋＯｅで測定した。

【０１１７】その結果、Ｈｃは１６２０Ｏｅ、Ｈｒ（９
０°）は１８００Ｏｅ、Ｂｒ／Ｂｍは０．８２、ＳＦＤ
は、０．５８３であった。実用上Ｈｃは１５００〜２５
００Ｏｅが必要で、好ましくは１６００〜２０００Ｏｅ
であることがわった。Ｈｒ（９０°）は実用上、１００
０〜２８００Ｏｅが必要で、好ましくは１２００〜２５
００Ｏｅであることがわかった。Ｂｒ／Ｂｍは、実用上
０．７５以上が必要で、好ましくは０．８以上であるこ
とがわかった。ＳＦＤは実用上０．７以下が必要で、好
ましくは０．６以下であることがわかった。（５）Ｘ線回折前述の（１）で磁性層より取り出した強磁性粉末を用い
て、Ｘ線回折をした。

【０１１８】磁気テープを直接にＸ線回折装置にかけ、
（４，４，０）面と（２，２，０）面との回折線の半値
幅の広がりから求めた。その結果、結晶子サイズは１８
０Åであることがわかった。実用上好ましくは４００Å
以下であり、特に好ましくは１００〜３００Åであるこ
とがわかった。（６）引っ張り試験引っ張り試験機で得られた磁気テープのヤング率、降伏
応力、降伏伸びを測定した。引っ張り試験機（東洋ボー
ルドウィン社製万能引っ張り試験機ＳＴＭ−Ｔ−５０Ｂ
Ｐ）を用いて雰囲気２３℃、７０％ＲＨで引っ張り速度
１０％／分で測定した。

【０１１９】その結果、磁気テープのヤング率はテープ
０．５％伸び弾性率で１２００Ｋｇ／ｍｍ²、降伏応力
６〜７Ｋｇ／ｍｍ²、降伏伸びが０．８％であった。
実用上好ましくはヤング率はテープ０．５％伸び弾性率
で４００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²、特に好ましくはテー
プ０．５％伸び弾性率で５００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ²
であることがわかった。降伏応力は、実用上好ましくは
３〜２０Ｋｇ／ｍｍ²、特に好ましくは４〜１５である
ことがわかった。降伏伸びは実用上好ましくは０．２〜
８％であり、特に好ましくは０．４〜５％であることが
わかった。（７）曲げ剛性、円環式スティフネスループスティフネステスタを用いて、幅８ｍｍ、長さ５
０ｍｍの試料を円環とし、変位速度約３．５ｍｍ／秒で
変位５ｍｍを与えるのに要する力をｍｇで表す。

【０１２０】その結果、８ｍｍのｐ６−１２０のテープ
では厚さが１０．５μｍであり、スティフネスは４０〜
６０ｍｍであった。実用上厚さが１０．５±１μｍでは
好ましくは、スティフネスは２０〜９０ｍｇであり、特
に好ましくは３０〜７０ｍｇであることがわかった。厚
さが１１．５μｍ以上の場合は実用上好ましくは４０〜
２００ｍｇであることがわかった。厚さが９．５μｍ以
下の場合は、実用上好ましくは１０〜７０ｍｇであるこ
とがわかった。（８）延伸破壊クラック発生伸度を２３℃、７０％ＲＨで測定した。

【０１２１】テープ長さ１０ｃｍの試験片の両端を０．
１ｍｍ／秒の引っ張り速度で引っ張り、４００倍で磁性
層表面を顕微鏡観察して、磁性層表面に５個以上の明ら
かな亀裂が発生した伸度を測定する。その結果、発生伸
度は４％であった。実用上好ましくは２０％以下、特に
好ましくは１０％以下であることがわかった。（９）熱収縮率７０℃４８時間保存後の磁気テープの熱収縮率を測定し
た。

【０１２２】７０℃の恒温槽に４８時間保存し、その前
後の長さの変化を保存前の長さで除して熱収縮率とし
た。その結果、熱収縮率は０．２％であった。実用上好
ましくは０．４％以下であり、特に好ましくは０．１〜
０．３％であることがわかった。（１０）ＥＳＣＡＣｌ／ＦｅスペクトルαとＮ／Ｆｅスペクトルβを測定
した。

【０１２３】α及びβの測定には、Ｘ線光電子分光装置
（ＰＥＲＫＩＮ−ＦＬＭＥＲ社製）を用いた。Ｘ線源は
Ｍｇアノードを用い、３００Ｗで測定した。まず、ビデ
オテープの潤滑剤をｎ−ヘキサンを用いて洗い流した
後、Ｘ線光電子分光装置にセットした。Ｘ線源と試料と
も距離は１ｃｍとした。試料を真空に排気して５分後か
らＣｌ−２Ｐスペクトル、Ｎ−１ＳスペクトルとＦｅ−
２Ｐ（３／２）スペクトルを１０分間積算し測定した。
なお、バスエネルギーは１００ｅＶで一定とした。測定
したＣｌ−２ＰスペクトルとＦｅ−２Ｐ（３／２）スぺ
クトルとの積分強度比を計算で求め、αとした。

【０１２４】又、Ｎ−１ＳスペクトルとＦｅ−２Ｐ（３
／２）スぺクトルとの積分強度比を計算で求めβとし
た。その結果αは、０．４５であり、βは０．０７であ
った。実用上αは好ましくは０．３〜０．６であり、特
に好ましくは０．４〜０．５であることがわかった。実
用上βは好ましくは０．０３〜０．１２であり、特に好
ましくは０．０４〜０．１であることがわかった。（１１）レオバイブロン１１０Ｈｚの動的粘弾性を測定した。

【０１２５】動的粘弾性測定装置（東洋ボールドウィン
社製レオバイブロン）を用い、周波数１１０Ｈｚでテー
プの粘弾性を測定した。ＴｇはＥ′′のピーク温度とし
た。この方法はテープの一端から振動を加え他端に伝播
する振動を測定する。その結果、Ｔｇは７３℃、Ｅ′
（５０℃）は４×１０¹⁰ｄｙｎｅ／ｃｍ²、Ｅ′′（５
０℃）は１×１０¹¹であった。実用上Ｔｇは好ましくは
４０〜１２０℃、特に好ましくは５０〜１１０℃である
ことがわかった。実用上Ｅ′（５０℃）は０．８×１０
¹¹〜１１×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ²であり、特に好まし
くは、１×１０¹¹〜９×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ²である
ことがわかった。実用上Ｅ′′（５０℃）は好ましくは
０．５×１０¹¹〜８×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ²であり、
特に好ましくは０．７×１０¹¹〜５×１０¹¹ｄｙｎｅ／
ｃｍ²であることがわかった。（１２）密着強度１８０°剥離法により支持体と磁性層との密着強度を測
定した。

【０１２６】８ｍｍ幅にスリットしたテープを３Ｍ製粘
着テープにはりつけ、２３℃、７０％ＲＨで１８０剥離
強度を測定した。得られた結果は５０ｇであった。実用
上好ましくは密着強度は１０ｇ以上であり、特に好まし
くは２０ｇ以上であることがわかった。（１３）磨耗磁性層表面の２３℃、７０％ＲＨの鋼球磨耗を測定し
た。

【０１２７】プレパラートガラス上に試料をその両端を
接着テープで張り付けて固定し、６．２５ｍｍφの鋼球
に荷重５０ｇを加えて摺動させた。その際、２０ｍｍの
距離を速度２０ｍｍ／ｓｅｃで１回走行させた後、新し
い磁性面に鋼球を移動させて同じ操作を２０回繰り返し
た。その後、鋼球の摺動面を４０倍の顕微鏡で観察し、
その面が円であると仮定して直径を求め、その直径から
磨耗量を計算した。

【０１２８】得られた結果は、０．７×１０^-5〜１．１
×１０^-5ｍ³であった。実用上好ましくは０．１〜１０
^-5〜５×１０^-5ｍ³であり、特に好ましくは０．４×１
０^-5〜２×１０^-5ｍ³であった。（１４）ＳＥＭ（ＳｃａｎｎｉｎｇＥｌｅｃｔｒｏｎ
ｉｃＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）ＳＥＭで磁性層表面状況を観察した。

【０１２９】日立製電子顕微鏡Ｓ−９００にて倍率５０
００倍で５枚撮影して表面の研磨剤を測定した。その結
果、研磨剤個数は０．２個／μｍ²であった。実用上、
研磨剤個数は０．１個／μｍ²以上であり、特に好まし
くは０．１２個／μｍ²〜０．５個／μｍ²であること
がわかった。（１５）ＧＣ（ガスクロマトグラフィー）ＧＣで磁気テープの残留溶剤を測定した。

【０１３０】島津製作所製ガスクロマトグラフィーＧＣ
−１４Ａを用いて、２０ｃｍ²の試料を１２０℃まで加
熱して、媒体中の残留溶剤を測定した。その結果、残留
溶剤は８ｍｇ／ｍ²であった。実用上、好ましくは５０
ｍｇ／ｍ²以下であり、特に好ましくは２０ｍｇ／ｍ²
以下であることがわかった。（１６）ゾル分率磁気テープの磁性層よりＴＨＦにて抽出された可溶固形
分の磁性層重量に対する比率を求めた。その結果ゾル分
率は７％であった。実用上、ゾル分率は好ましくは１５
％以下であり、特に好ましくは１０％以下であることが
わかった。（１７）ＢＥＲ（ＢｉｔＥｒｒｏｒＲａｔｅ）コンピューターにてランダム信号を２４〜２５変換し
た。スクランブルドインターリードにてランダム信号と
し、本テスト信号を記録／再生したデータをＰＲ４復調
して得たデータを、テスト信号としてエラーを検出し
て、そのエラーの比率をＢＥＲとする。

【０１３１】上述の方法、特性を有する８ｍｍビデオテ
ープを現在市販されているテープと比較し、その結果を
表４に示した。

【０１３２】

【表４】

【０１３３】尚、評価方法は前記方法もしくは一般的方
法によった。また、判定基準は以下の通りである。ジッター：○ ０．２μｓｅｃ未満 × ０．２μｓｅｃ以上保存安定性：○ ６０℃、９０％に２週間保存して表面
に錆がでていないこと。

【０１３４】× ６０℃、９０％に２週間保存して表面
に錆がでていること。走行耐久性：８ｍｍカセットに組み込んで１２０分の再
生を１００回繰り返した。 ○ ５分以上続く目詰まりが１回も発生しない。 × 繰り返し１００ｐａｓｓで目詰まりが発生する。スリキズ：スチルモードで１０分間走行させた。

【０１３５】○ 目視で傷が認められない。 × 目視で傷が認められる。

【０１３６】

【発明の効果】本発明は、磁性層厚味が０．０５〜１μ
ｍと極めて薄い塗布型磁気記録媒体の下層非磁性層の厚
み、支持体の厚み及びヤング率、上層磁性層の中心線平
均粗さを特定することにより、磁性層の表面性が改善で
きると共に耐久性に優れ、しかも金属薄膜型磁気記録媒
体に匹敵する電磁変換特性を発揮できる磁気記録媒体を
提供することができる。

フロントページの続き (56)参考文献特開平５−12650（ＪＰ，Ａ) 特開平５−298653（ＪＰ，Ａ) 特開平５−182173（ＪＰ，Ａ) 特開平５−217149（ＪＰ，Ａ) 特開平４−325917（ＪＰ，Ａ) 特開平５−197946（ＪＰ，Ａ) 特開平７−311932（ＪＰ，Ａ) 特開平７−326037（ＪＰ，Ａ) 特開平７−326038（ＪＰ，Ａ) 特開平５−182177（ＪＰ，Ａ) 特開平４−325915（ＪＰ，Ａ) 特開平５−182178（ＪＰ，Ａ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性支持体上に無機質粉末を結合剤に
分散した下層非磁性層を設け、その上に強磁性粉末を結
合剤に分散した上層磁性層を設けた磁気記録媒体におい
て、前記上層磁性層の乾燥厚みが０．０５〜１．０μｍ
であり、前記下層の乾燥厚みが０．５〜１０μｍであ
り、前記非磁性支持体の厚みが４〜８０μｍであり、前
記非磁性支持体の幅方向のヤング率が４７０〜２０００
ｋｇ／ｍｍ²であり、上層磁性層表面の中心線平均粗さ
（Ｒａ）が１〜５．３ｎｍであり、上記強磁性粉末は強
磁性合金粉末又は板状六方晶フェライトであって、その
粒子長軸長が０．３μｍ以下であり、且つ前記下層非磁
性層の無機質粉末がモース硬度３以上の非磁性無機粉末
を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】前記非磁性支持体がポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレートおよびアラミドよ
り選ばれたものであることを特徴とする請求項１記載の
磁気記録媒体。
【請求項３】前記非磁性支持体の中心線平均粗さが
０．０３μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載
の磁気記録媒体。
【請求項４】前記非磁性支持体の走行方向のヤング率
が７５０〜２０００ｋｇ／ｍｍ²であることを特徴とす
る請求項１記載の磁気記録媒体。