JP2623185B2

JP2623185B2 - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JP2623185B2
Application number: JP1841692A
Authority: JP
Inventors: 清美江尻; 博男稲波
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1992-01-08
Filing date: 1992-01-08
Publication date: 1997-06-25
Anticipated expiration: 2012-06-25
Also published as: JPH05182173A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、高密度の塗布型磁気記
録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体は、録音用テープ、ビデオ
テープ、コンピューターテープ、ディスクなどとして広
く用いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され記
録波長が短くなっており、記録方式もアナログ方式か
ら、ディジタル方式まで検討されている。この高密度化
の要求に対して、磁性層に金属薄膜を用いた磁気記録媒
体が提案されているが、生産性、腐食等の実用信頼性の
点で強磁性粉末を結合剤中に分散して、支持体上に塗布
したいわゆる塗布型の磁気記録媒体が優れる。しかしな
がら、金属薄膜に対して塗布型媒体は磁性物の充填度が
低いために、電磁変換特性が劣る。塗布型磁気記録媒体
としては、強磁性酸化鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、Ｃｒ
Ｏ₂、強磁性合金粉末等を結合剤中に分散した磁性層を
非磁性支持体に塗設したものが広く用いられる。

【０００３】塗布型磁気記録媒体の電磁変換特性の向上
には、強磁性粉末の磁気特性の改良、表面の平滑化など
があり、種々の方法が提案されているが、高密度化に対
しては充分なものではない。また、近年、高密度化と共
に記録波長が短くなる傾向にあり、磁性層の厚さが厚い
と出力が低下する記録時の自己減磁損失、再生時の厚味
損失の問題が大きくなっている。

【０００４】このため、磁性層を薄くすることが行われ
ているが、磁性層を約２μｍ以下に薄くすると磁性層の
表面に非磁性支持体の影響が現れやすくなり、電磁変換
特性やＤＯの悪化傾向が見られる。このため、特開昭５
７−１９８５３６号公報の如く、支持体表面の非磁性の
厚い下塗層を設けてから磁性層を上層として設けるよう
にすれば前記の支持体の表面粗さの影響は解消すること
ができるが、ヘッド磨耗や耐久性が改善されないという
問題があった。これは、従来、非磁性下層として熱硬化
系樹脂を結合剤として用いているので、下層が硬化し、
磁性層とヘッドとの摩擦や他の部材との接触が無緩衝状
態で行われることや、このような下層を有する磁気記録
媒体がやや可撓性に乏しい等のことに起因していると考
えられる。これを解消するために、下層に非硬化系樹脂
を結合剤として用いることが考えられるが、従来の方法
では、下層を塗布乾燥後磁性層を上層として塗布する場
合、下層が上層の塗布液の有機溶剤により膨潤し、上層
の塗布液に乱流を起こさせる等の影響を与え磁性層の表
面性を悪くし、電磁変換特性を低下させる等の問題を生
じる。また、磁性層を薄層化するためには、塗布量を減
らすこととか、もしくは磁性塗布液に溶剤を多量に加え
て濃度を薄くすることが考えられる。前者を取る場合、
塗布量を減らすと塗布後に十分なレベリングの時間がな
く、乾燥が始まるために、塗布欠陥、例えば、スジや刻
印のパターンが残るといった問題が発生し、歩留りが非
常に悪くなる。後者の方法を取った場合、磁性塗布液の
濃度が希薄であると、できあがった塗膜に空隙が多く、
十分な磁性体充填性が得られないこと、また、空隙が多
いために塗膜の強度が不十分であることなど、種々の弊
害をもたらす。特開昭６２−１５４２２５号公報の発明
ではこのように歩留りが悪いことが大きな問題であっ
た。

【０００５】磁性層は、その保磁力が低いと自己減磁損
失が大きく、短波長記録には適さないので、相当のＨｃ
を有することが必要である。この様な目的に使用できる
手段として非磁性支持体と磁性層の間に０．５〜５．０
μｍの結合剤のみの下塗層を設け、磁性層のＨｃを１０
００Ｏｅにすることが提案されている（特開昭５７−１
９８５３６号公報）。

【０００６】また、さらに電磁変換特性を改良するため
には、高Ｈｃ化による自己減磁損失低減と同時に記録減
磁の低減も必要とされる。この目的を達成するには、上
記高Ｈｃ化と共に短波長記録時に受ける垂直磁化成分に
よる減磁損失を低減させる必要がある。このため、Ｈｃ
の高い強磁性粉末を面内方向に強力に配向させて磁性層
法線方向の残留保磁力を高くすればよいことがわかっ
た。

【０００７】しかしながら従来公知の技術では、この目
的を達成するには次にあげる問題がある。前述の特開昭
５７−１９８５３６号公報に開示されている技術では逐
次に上層及び下層を塗布する方式を開示するものである
が、上層及び下層の同時重層塗布を行うと該上層及び下
層の混合が起きて表面性が悪くなるばかりか配向が乱れ
る。また同時重層塗布において配向性を改善する技術と
しては特開平３−４９０３２号公報にカーボンブラック
を分散した層を下層に用い、多段配向をすることが開示
されているが、カーボンブラックのような真比重の小さ
なフィラーは、配向時の強磁性粉末の回転ブラウン運動
によって、同時重層塗布の時に上層と下層間の界面が乱
れ、面内方向に測定した角形比は高いものの磁性層法線
方向の残留保磁力の改善は不十分であるという問題があ
る。

【０００８】また、更に上述のような下層非磁性層及び
上層磁性層の構成の磁気記録媒体において電磁変換特性
を改良するためには、高Ｈｃ化による自己減磁損失低減
と同時に記録減磁の低減も必要とされる。この目的を達
成するには、上記高Ｈｃ化と共に短波長記録時に受ける
減磁損失を低減させる必要がある。この減磁損失は、上
層磁性層の長手方向の抗磁力及び幅方向の抗磁力が低い
と大きくなる。特に、幅方向の抗磁力が低いとクロスト
ーク（隣のトラックの磁界による減磁）が大きくなり、
ＲＦ出力が低下し、ＢＥＲ（ブロックエラーレート）が
上昇すると言う問題がある。

【０００９】このような重層塗布型磁気記録媒体に対す
る公知技術として上述した下層非磁性層として結合剤の
みあるいは結合剤とカーボンブラックを用い、上層磁性
層として短針状強磁性粉末を使用して逐次重層する例が
特開昭５７−１９８５３６号、同６２−１１１５号公報
に開示されている。しかしながら、これらは同時重層し
た場合には、塗布過程あるいは配向過程において該非磁
性下層と上層磁性層の混合、あるいは乱流による２層界
面の乱れを引き起こす。このような２層間の混合、乱れ
は磁性層中の強磁性粉末の配向性を極度に低下させる。

【００１０】さらに短針状強磁性粉末、即ち長軸長が短
く、かつ針状比の小さい強磁性粉末は流動配向しにくい
ので、強磁性粉末の配向性はさらに低下し、充分な電磁
変換特性が得られなくなるという問題が生じた。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、ＲＦ出力が
高く、ドロップアウト及びＢＥＲが低減された優れた電
磁変換特性を有し、しかも生産性の優れた磁気記録媒体
を提供することを目的とするものである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明の上記目的
は、非磁性支持体上に無機質粉末を結合剤に分散した下
層非磁性層を設け、その上に強磁性粉末を結合剤に分散
した上層磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記上
層磁性層の乾燥厚みが１．０μｍ以下であり、且つＶＳ
Ｍ（振動試料型磁束計）にて磁気記録媒体サンプルの上
層磁性層面内方向に１０ｋＯｅの磁界を印加した後、前
記上層磁性層の表面に対し法線方向に残留している磁界
を打ち消すに必要な前記上層磁性層の表面に対し法線方
向に印加される外部磁場（Ｈｒ）が１５００Ｏｅ以上で
あることを特徴とする磁気記録媒体、および非磁性支持
体上に無機質粉末と結合剤を含む下層非磁性層塗布液と
強磁性粉末と結合剤を含む上層磁性層用塗布液をそれぞ
れ調製し、非磁性支持体上に前記下層非磁性層塗布液と
上層磁性層用塗布液を塗布することによる磁気記録媒体
の製造方法において、前記強磁性粉末は長軸長が０．３
μｍ以下で、且つ抗磁力（Ｈｃ）が１５００Ｏｅ以上の
針状強磁性合金粉末あるいは板径０．３μｍ以下で、且
つ抗磁力（Ｈｃ）が１０００Ｏｅ以上の板状強磁性粉末
であり、かつ前記非磁性支持体上に前記下層非磁性層塗
布液の塗布と同時又は逐次に、上層磁性層用塗布液を塗
布することにより、前記上層磁性層の乾燥厚みが１．０
μｍ以下であり、且つＶＳＭ（振動試料型磁束計）にて
磁気記録媒体サンプルの上層磁性層面内方向に１０ｋＯ
ｅの磁界を印加した後、前記上層磁性層の表面に対し法
線方向に残留している磁界を打ち消すに必要な前記上層
磁性層の表面に対し法線方向に印加される外部磁場（Ｈ
ｒ）が１５００Ｏｅ以上である磁気記録媒体を製造する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法によって達成
できる。

【００１３】又、本発明の上記目的は、前記条件に加
え、前記上層磁性層に含まれる強磁性粉末が、長軸長が
０．３μｍ以下で、且つ抗磁力（Ｈｃ）が１５００Ｏｅ
以上の針状強磁性合金粉末、あるいは板径０．３μｍ以
下で、且つ抗磁力（Ｈｃ）が１０００Ｏｅ以上の板状強
磁性粉末であることを特徴とする磁気記録媒体によって
達成できる。なお、ここでいう「長軸長」は、技術的常
識上から平均長軸長をいうものである。

【００１４】本発明は、上層磁性層と下層非磁性層との
界面における変動あるいは乱れを抑制して強磁性粉末の
配向の乱れを防止することにより乾燥厚味が１μｍ以下
の薄層磁性層を有する磁気記録媒体の磁性層の該Ｈｒを
特定の値以上に設定したことにより、特に短波長記録に
おける電磁変換特性を改善したものである。そして、本
発明は、乾燥膜厚が１μｍ以下の上層磁性層（以下、単
に磁性層または上層とも言う。）を下層非磁性層（以
下、単に非磁性層あるいは下層とも言う。）に塗布欠陥
がなく設けるために下層塗布液に無機質粉末を含ませた
ものを使用する。塗布に際しては、非磁性支持体上にま
ず該下層が湿潤状態の内に該上層を塗設することが好ま
しい。即ち、本発明は、ピンホール、すじなどの塗布欠
陥を抑えた大量生産性に優れた磁性層の極めて薄い、強
磁性金属薄膜に匹敵する性能を有する磁気記録媒体を提
供するものである。

【００１５】本発明について以下説明する。本発明にお
いて、ＶＳＭ（振動試料型磁束計）にて磁気記録媒体サ
ンプルの上層磁性層面内方向に１０ｋＯｅの磁界を印加
した後、前記上層磁性層の表面に対し法線方向に残留し
ている磁界を打ち消すに必要な前記上層磁性層の表面に
対し法線方向に印加される外部磁場（Ｈｒ）を磁性層の
法線方向に対する残留保磁力またはレマネンス保磁力と
もいう。

【００１６】本発明は、Ｈｒを１５００Ｏｅ以上に規定
したことにより、記録時における減磁損失を効果的に抑
制することができ、高出力が確保できる。これは、Ｈｒ
が、強磁性粉末の垂直磁化成分に対応するためと考えら
れ、特に短波長記録においてはこの垂直磁化成分の保磁
力の寄与が増大するので、本発明ではこのＨｒを大きく
設定したことにより、記録減磁が抑制されるものと考え
られる。

【００１７】本発明において、Ｈｒを確保するために下
層に無機質粉末を選択使用して磁性層／非磁性層界面の
強磁性粉末配向の乱れを小さくすると共に強磁性粉末と
して磁化異方性の大きな（即ち、一方向のＨｃの高い）
強磁性粉末を用い、さらに好ましくは配向方法として多
段配向等を用いることで実現される。この発明によっ
て、真空中での処理が前提であり、腐食に弱い金属薄膜
型磁気記録媒体の生産性、信頼性の問題がなく、電磁変
換特性がその金属薄膜型磁気記録媒体に匹敵し、しかも
生産性に優れた高性能塗布型磁気記録媒体を得ることが
できる。

【００１８】Ｈｒを確保できる強磁性粉末の種類は、制
限されるものではないが、本発明においては、その形状
および種類を選定することにより大きな効果を奏すこと
ができる。該強磁性粉末としては、長軸長が０．３μｍ
以下、好ましくは０．２５μｍ以下で、且つＨｃ（抗磁
力）が１５００Ｏｅ以上、好ましくは１５５０Ｏｅ以上
の針状強磁性合金粉末あるいは板径０．３μｍ以下、好
ましくは０．２μｍ以下で且つＨｃが１０００Ｏｅ以
上、好ましくは１２００Ｏｅ以上の板状強磁性粉末が挙
げられる。

【００１９】該針状強磁性合金粉末は、金属単体粉末も
包含し、針状比（長軸長／短軸長）としては、２〜１
５、好ましくは、５〜１２の範囲が望ましい。この針状
強磁性合金粉末の具体例をしては、ＦｅまたはＮｉまた
はＣｏ等の金属単体またはそれらの合金を主成分（７５
％以上）とし、更に特性改善の目的で所定の原子以外に
Ａｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍ
ｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔ
ａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、
Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂな
どの原子を含むことができる。

【００２０】また、板状強磁性粉末の板状比（板径／厚
味）としては、２〜３０、好ましくは、５〜２０の範囲
が望ましい。この板状強磁性粉末の具体例としては、六
方晶フエライト系強磁性粉末、板状Ｃｏ合金粉末等が挙
げられる。六方晶フェライト系強磁性粉末としては、バ
リウムフエライト、ストロンチウムフエライト、鉛フェ
ライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体
等、六方晶Ｃｏ粉末が使用できる。具体的にはマグネト
ブランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウ
ムフェライト、更に一部スピネル相を含有したマグネト
ブランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウ
ムフェライト等が挙げられ、特に好ましいものとしては
バリウムフェライト、ストロンチウムフェライトの各置
換体である。また、抗磁力を制御するために上記六方晶
フェライトにＣｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔ
ｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｉｒ−Ｚｎ等の元素を添
加した物を使用することができる。尚、板径は、粒子の
板の幅を意味し、電子顕微鏡を使用して測定される。

【００２１】尚、本発明においては、所望により、上記
以外の強磁性粉末、例えば、磁性酸化鉄ＦｅＯｘ（ｘ＝
１．３３〜１．５）、Ｃｏ変性ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３
〜１．５）等を単独使用、もしくは上記強磁性粉末と併
用できる。また、下層に使用される無機質粉末として
は、例えば、金属（Ｃｕ、Ｃｒ、Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｗ
等）、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化
物、金属炭化物、金属硫化物等が挙げられる。具体的に
はＴｉＯ₂（ルチル、アナターゼ）、ＴｉＯ_X、酸化セ
リウム、酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ
₂、ＳｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃、α化率９０％以上のαアル
ミナ、βアルミナ、γアルミナ、α酸化鉄、ゲータイ
ト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マ
グネシウム、窒化硼素、２硫化モリブデン、酸化銅、Ｍ
ｇＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＢａＣＯ₃、ＳｒＣＯ₃、Ｂａ
ＳＯ₄、炭化珪素、炭化チタンなどが単独または組み合
わせて使用される。これら無機質粉末の形状、サイズ等
は任意であり、これらは必要に応じて異なる無機質粉末
を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布等を
選択することもできる。粒子サイズとしては、粒状にあ
っては、０．２μｍ以下、好ましくは０．００５〜０．
０８μｍの範囲が、針状にあっては長軸長０．０５〜
１．０μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μｍ、針状比
５〜２０、好ましくは５〜１５の範囲から選択される。
無機質粉末としては、次のものが好ましい。タップ密度
は０．０５〜２ｇ／ｃｃ、好ましくは０．２〜１．５ｇ
／ｃｃ。含水率は０．１〜５％、好ましくは０．２〜３
％。ｐＨは２〜１１。ＤＢＰを用いた吸油量は５〜１０
０ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００
ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。
上記の非磁性粉末は必ずしも１００％純粋である必要は
なく、目的に応じて表面を他の化合物、例えば、Ａｌ、
Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ等の各化合物で処
理し、それらの酸化物を表面に形成してもよい。その
際、純度は７０％以上であれば効果を減ずることにはな
らない。強熱減量は２０％以下であることが好ましい。

【００２２】本発明に用いられる無機質粉末の具体的な
例としては、昭和電工社製ＵＡ５６００、ＵＡ５６０
５、住友化学社製ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ
−５０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、
日本化学工業社製Ｇ５、Ｇ７、Ｓ−１、戸田工業社製Ｔ
Ｆ−１００、ＴＦ−１２０、ＴＦ−１４０、Ｒ５１６、
石原産業社製ＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ
−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−
５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＦＴ−１０００、ＦＴ−２０
００、ＦＴＬ−１００、ＦＴＬ−２００、Ｍ−１、Ｓ−
１、ＳＮ−１００、Ｒ−８２０、Ｒ−８３０、Ｒ−９３
０、Ｒ−５５０、ＣＲ−５０、ＣＲ−８０、Ｒ−６８
０、ＴＹ−５０、チタン工業社製ＥＣＴ−５２、ＳＴＴ
−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５
Ｃ、三菱マテリアル社製Ｔ−１、日本触媒社製ＮＳ−
Ｏ、ＮＳ−３Ｙ、ＮＳ−８Ｙ、テイカ社製ＭＴ−１００
Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００
Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｅ、堺化学社製ＦＩ
ＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、Ｂ
Ｆ−１Ｌ、ＢＦ−１０Ｐ、同和工業社製ＤＥＦＩＣ−
Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、チタン工業社製Ｙ−ＬＯＰ及びそ
れを焼成した物である。

【００２３】本発明に使用される非磁性無機質粉末とし
ては、特に酸化チタン（特に二酸化チタン）が好まし
い。以下、この酸化チタンの製法を詳しく記す。酸化チ
タンの製法は主に硫酸法と塩素法がある。硫酸法は、イ
ルミナイトの原鉱石を硫酸で蒸留し、Ｔｉ、Ｆｅなどを
硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析分離して除き、残
りの硫酸チタニル溶液を濾過精製後、熱加水分解を行っ
て、含水酸化チタンを沈殿させる。これを濾過洗浄後、
夾雑物質を洗浄除去し、粒径調節剤などを添加した後、
８０〜１０００℃で焼成すれば粗酸化チタンとなる。ル
チル型とアナターゼ型は加水分解の時に添加される核材
の種類によりわけられる。この粗酸化チタンを粉砕、整
粒、表面処理などを施して作成する。塩素法は原鉱石天
然ルチルや合成ルチルが用いられる。鉱石は高温還元状
態で塩素化され、ＴｉはＴｉＣｌ₄にＦｅはＦｅＣｌ₂
となり、冷却により固体となった酸化鉄は液体のＴｉＣ
ｌ₄と分離される。得られた粗ＴｉＣｌ₄は精留により
精製した後、核生成剤を添加し、１０００℃以上の温度
で酸素と瞬間的に反応させ、粗酸化チタンを得る。この
酸化分解工程で生成した粗酸化チタンに顔料的性質を与
えるための仕上げ方法は硫酸法と同じである。

【００２４】また、本発明は下層にカーボンブラックを
使用することができ、公知の効果であるＲ_S（表面電気
抵抗）等を下げることもできる。このカーボンブラック
としてはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用
ブラック、アセチレンブラック、等を用いることができ
る。比表面積は１００〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量
は２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｍμ〜３０
ｍμ、ｐＨは２〜１０含水率は０．１〜１０％、タップ
密度は０．１〜１ｇ／ｃｃが好ましい。

【００２５】本発明に用いられるカーボンブラックの具
体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲ
ＬＳ２０００、１３００、１０００、９００、８０
０、、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮＸＣ−７２、三
菱化成工業社製＃３０５０、＃３１５０、＃３２５０、
＃３７５０、＃３９５０、＃２４００Ｂ、＃２３００、
＃１０００、、＃９７０、＃９５０、、＃９００、＃８
５０、＃６５０、＃４０、ＭＡ４０、ＭＡ−６００、コ
ロンビアカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸＳＣ、Ｒ
ＡＶＥＮ社製８８００、８０００、７０００、５７５
０、５２５０、３５００、２１００、２０００、１８０
０、１５００、１２５５、１２５０、アクゾー社製ケッ
チェンブラックＥＣなどが挙げられる。カーボンブラッ
クを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化し
て使用しても表面の一部をグラファイト化したものを使
用しても構わない。また、カーボンブラックを塗料に添
加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。
これらのカーボンブラックは単独、または組み合わせて
使用することができる。

【００２６】本発明で使用できるカーボンブラックは例
えば（「カーボンブラック便覧」、カーボンブラック協
会編）を参考にすることができる。また、本発明は下層
に無機質粉末の他に所望により非磁性有機質粉末も使用
することができ、例示すれば、アクリルスチレン系樹脂
粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉
末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフ
ィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド
系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレ
ン樹脂粉末等が挙げられる。その製法は、特開昭６２−
１８５６４号、同６０−２５５８２７号の各公報に記載
されているようなものが使用できる。

【００２７】これらの無機質粉末等の非磁性粉末は、通
常、結合剤に対して、重量比率で２０〜０．１、体積比
率で１０〜０．１の範囲で用いられる。なお、一般の磁
気記録媒体においては下塗層を設けることが行われてい
るが、これは支持体と磁性層等の接着力を向上させるた
めに設けられるものであって、厚さも０．５μｍ以下で
本発明の下層非磁性層とは異なるものである。本発明に
おいても下層と支持体との接着性を向上させるために下
塗層を設けることが好ましい。

【００２８】本発明における上層磁性層の多段配向法と
しては、従来公知の方法が使用でき、具体的には、塗布
層（上下層）がまだ湿潤状態にある内に、３０００ガウ
スの磁力を持つコバルト磁石で配向した後、更に１５０
０ガウスの磁力を持つソレノイドにより配向する方法が
挙げられる。

【００２９】

【００３０】

【００３１】

【００３２】

【００３３】また、下層の乾燥厚みは、０．５μｍ以
上、好ましくは０．５〜５．０μｍが望ましい。０．５
μｍ未満であると、生産性が低下すると共にカレンダー
成形性が劣化し充分な電磁変換特性が得られなくなる。

【００３４】本発明は、上層磁性層と下層非磁性層との
界面の強磁性粉末の配向の乱れを抑制し、同時に該界面
自体の乱れあるいは上下変動を抑制する機能を有するも
のであるが、本発明においては、これら界面の制御に係
わる種々の因子を適当に選択することできる。こような
因子としては、磁性層の磁性塗料と下層非磁性層の各分
散液の粘度特性を調整すること、例えば、上層磁性層用
塗布液と下層非磁性層用塗布液のチキソトロピー性を互
いに近似するように制御することが挙げられる。

【００３５】具体的方法としては、各塗布液が、剪断速
度１０⁴ｓｅｃ^{- 1}での剪断応力Ａ１０⁴と剪断速度１
０ｓｅｃ^{- 1}での剪断応力Ａ１０との比Ａ１０⁴／Ａ
１０を１００≧Ａ１０⁴／Ａ１０≧３に調整することが
挙げられる。そしてこの調整に係わる因子には、例え
ば、分散される無機質粉末あるいは磁性粉末に関して
は、（１）粒子サイズ（比表面積、平均一次粒子径
等）、（２）構造（吸油量、粒子形態等）、（３）粉体
表面の性質（ｐＨ、加熱減量等）、（４）粒子の吸引力
（σ_S等) 等、結合剤に関しては、（１）分子量、
（２）官能基の種類等、溶剤に関しては（１）種類（極
性等）、（２）結合剤溶解性、（３）溶剤処方量等、含
水率等が挙げられる。

【００３６】また、本発明の磁気記録媒体は、界面にお
ける厚味変動（即ち、該界面の厚み方向における変動
幅）の平均値Δｄが磁性層の乾燥厚味平均値ｄの１／２
以下であることが好ましく、また、磁性層厚味の標準偏
差３σは、０．６μｍ、好ましくはσが０．２μｍ以下
である。すなわち３σが０．６μｍ以下は各セグメント
の９７％のものが０．６μｍ以下に入っていればよいこ
とを意味する。又、３σ≦６ｄ／１０であることが好ま
しい。

【００３７】これらｄ、Δｄ、σは以下のように求めら
れる。磁気記録媒体を長手方向にわたってダイヤモンド
カッターで約０．１μｍの厚味に切り出し、透過型電子
顕微鏡で倍率１００００〜１０００００倍、好ましくは
２００００〜５００００倍で観察し、その写真撮影を行
う（写真のプリントサイズはＡ４〜Ａ５である）。その
後、上層磁性層、下層非磁性層の強磁性粉末や無機質粉
末の形状差に注目して界面を目視判断して、黒く縁取
り、かつ磁性層表面も同様に黒く縁取りする。まず、Δ
ｄの求め方について述べる。前述の縁取りをした上層磁
性層と下層非磁性層の界面の山又は谷との距離をΔｄと
する。又、標準偏差σの求め方は、前述の如く縁取り
し、その後Ｚｅｉｓｓ社製画像処理装置ＩＢＡＳ２にて
縁取りした線の間隔の長さを測定する。磁性層厚の測定
は長さ２１ｃｍの間隔を１００〜３００のセグメント化
してその数だけ行い、ｄを求めた。

【００３８】標準偏差σは、各セグメントでの厚味をｘ
_iとすると下記数１で表される。

【００３９】

【数１】

【００４０】前述のΔｄは界面での変動にのみ着目した
ものであるが、平均厚味ｄの標準偏差σは上層磁性層の
表面粗さの要素と界面での変動の両者を含んだ上層磁性
層の厚味の変動を意味する。この界面の変動は３σが
０．６μｍ以下であることが好ましい。これにより、磁
性層厚みの一様性を確保すると共に表面粗さＲａをＲａ
≦λ／５０、即ちλ／Ｒａを５０以上、好ましくは７５
以上、更に好ましくは１００以上に規制することができ
る。ここで、Ｒａは、光干渉粗さ計を用いて測定した中
心線平均粗さを測定した値をさす。

【００４１】更に、最短記録波長λに対してλ／４≦ｄ
≦３λ、好ましくは、λ／４≦ｄ≦２λ（即ち、０．２
５≦ｄ／λ≦２）かつ磁性層の表面粗さＲａがＲａ≦λ
／５０の関係にあることが好ましい。これにより再生出
力変動、振幅変調ノイズを防止し、高再生出力、高Ｃ／
Ｎを実現することができる。

【００４２】本発明において、最短記録波長λは、磁気
記録媒体の種類により種々異なるが、例えば、８ｍｍメ
タルビデオでは０．７μｍ、デジタルビデオでは、０．
５μｍ、デジタルオーディオでは０．６７μｍが挙げら
れる。該磁性層厚みは、前記の通り実測して求められる
が、蛍光Ｘ線で磁性層中に特有に含まれる元素につい
て、既知厚みの磁性層サンプルを測定し、検量線を作成
し、次いで、未知資料のサンプルの厚みを蛍光Ｘ線の強
度から求めることもできる。

【００４３】又、本発明は、磁性層表面の走査型トンネ
ル顕微鏡（ＳＴＭ）法による２乗平均粗さＲ_rmsが前
記磁性層の乾燥厚味平均値ｄとの間に３０≦ｄ／Ｒ_rms
の関係があることが好ましい。磁性層厚味が薄くなる
と、自己減磁損失が低減して出力向上が図れるはずであ
るが、磁性層厚味低減により押されしろが少なくなるた
めにカレンダー成形性が悪くなり、表面粗さが大きくな
る。自己減磁損失低減による出力向上を図るためには上
式の関係を満たすＳＴＭによる表面粗さが好ましい。

【００４４】ＡＦＭによるＲ_rmsは、１０ｎｍ以下が好
ましい。３ｄ−ＭＩＲＡＵで測定した光干渉表面粗さＲ
ａは１〜４ｎｍ、Ｒ_rmsは１．３〜６ｎｍ、Ｐ−Ｖ値
（Ｐｅａｋ−Ｖａｌｌｅｙ）値は、８０ｎｍ以下である
ことが好ましい。磁性層表面の光沢度は、カレンダー処
理後で２５０〜４００％が好ましい。このような表面性
を達成するには、例えば、本発明の条件内で更に以下の
４つの条件をも満足することによって達成できる。（１）下層非磁性層に含まれる非磁性粉末がモース硬度
３以上の無機質粉末を含み、上層磁性層に含まれる強磁
性粉末が針状の強磁性粉末であり、前記無機質粉末の平
均粒径が針状の強磁性粉末の結晶子サイズの１／２〜４
倍であること。（２）下層非磁性層に含まれる非磁性粉末がモース硬度
３以上の無機質粉末を含み、上層磁性層に含まれる強磁
性粉末が針状の強磁性粉末であり、前記無機質粉末の平
均粒径が針状の強磁性粉末の長軸長の１／３以下である
こと。（３）上層磁性層に含まれる強磁性粉末が、磁化容易軸
が平板の垂直方向にある六角板状の強磁性粉末であり、
且つ下層非磁性層に含まれる非磁性粉末が無機質粉末を
含み、その平均粒径が前記上層磁性層に含まれる強磁性
粉末の板径以下であること。（４）下層非磁性層に含まれる無機質粉末が無機質酸化
物で被覆された表面層を有する無機質非磁性粉末を含む
こと。（１）〜（３）は、更に上層磁性層の強磁性粉末と下層
非磁性層の無機質粉末のサイズ及び形状を限定して下層
非磁性層の表面性を確保すると共に無機質粉末は強磁性
粉末を力学的に安定して整列させるサイズとしたもので
ある。

【００４５】また、又、無機質粉末の下層における体積
充填率は好ましくは２０〜６０％、更に好ましくは２５
〜５５％の範囲であることが望ましい。また、無機質粉
末は、非磁性粉末のうち重量比率で６０％以上含むこと
が好ましく、無機質粉末としては、金属酸化物、アルカ
リ土類金属塩等であることが好ましい。また、カーボン
ブラックを添加することにより公知の効果（例えば、表
面電気抵抗を低減する）を期待できるので、上記無機質
粉末と組み合わせて使用することが好ましいが、カーボ
ンブラックは分散性が非常に悪いので、カーボンブラッ
ク単独では十分な電磁変換特性を確保することができな
い。良好な分散性を得るためには重量比率で６０％以上
を金属酸化物、金属、アルカリ土類金属塩から選択する
必要がある。無機質粉末が非磁性粉末の重量比率で６０
％未満、カーボンブラックが非磁性粉末の４０％以上で
あると分散性が不十分となり所望の電磁変換特性を得る
ことができなくなる。

【００４６】また、磁性層の厚味が長軸長の５倍以下で
あるとカレンダーによる充填度向上がめざましく、より
電磁変換特性の優れた磁気記録媒体が得られる。次に
（４）について説明する。下層非磁性層に含まれる無機
質粉末の表面に被覆される無機質酸化物としては、好ま
しくはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ｓ
ｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＺｎＯ等が好ましく、更に好まし
いのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂である。これら
は、組み合わせて使用してもよいし、単独で用いること
もできる。又、目的に応じて共沈させた表面処理槽を用
いても良いし、先ずアルミナで処理した後にその表層を
シリカで処理する構造、その逆の構造を取ることもでき
る。また、表面処理層は、目的に応じて多孔質層にして
も構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。

【００４７】以下、本発明において選択可能な一般的事
項につき記載する。本発明の磁性層に使用する強磁性粉
末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電
防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわ
ない。具体的には、特公昭４４−１４０９０号、特公昭
４５−１８３７２号、特公昭４７−２２０６２号、特公
昭４７−２２５１３号、特公昭４６−２８４６６号、特
公昭４６−３８７５５号、特公昭４７−４２８６号、特
公昭４７−１２４２２号、特公昭４７−１７２８４号、
特公昭４７−１８５０９号、特公昭４７−１８５７３
号、特公昭３９−１０３０７号、特公昭４８−３９６３
９号、米国特許第３０２６２１５号、同３０３１３４１
号、同３１００１９４号、同３２４２００５号、同３３
８９０１４号などに記載されている。

【００４８】上記強磁性粉末の中で強磁性合金粉末につ
いては少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよい。
強磁性合金粉末の公知の製造方法により得られたものを
用いることができ、下記の方法をあげることができる。
複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元
性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性気体
で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方
法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金
属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あ
るいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方
法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得
る方法などである。このようにして得られた強磁性合金
粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬した
のち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有
ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させ
る方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧
を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施
したものでも用いることができる。

【００４９】本発明の上層磁性層の強磁性粉末をＢＥＴ
法による比表面積で表せば２５〜８０ｍ²／ｇであり、
好ましくは４０〜７０ｍ²／ｇである。２５ｍ²／ｇ以
下ではノイズが高くなり、８０ｍ²／ｇ以上では表面性
が得にくく好ましくない。強磁性粉末のｒ１５００は
１．５以下であることが好ましい。さらに好ましくはｒ
１５００は１．０以下である。ｒ１５００とは磁気記録
媒体を飽和磁化したのち反対の向きに１５００Ｏｅの磁
場をかけたとき反転せずに残っている磁化量の％を示す
ものである。

【００５０】強磁性粉末の含水率は０．０１〜２％とす
るのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉末の含
水率は最適化するのが好ましい。γ酸化鉄のタップ密度
は０．５ｇ／ｃｃ以上が好ましく、０．８ｇ／ｃｃ以上
がさらに好ましい。合金粉末の場合は、０．２〜０．８
ｇ／ｃｃが好ましく、０．８ｇ／ｃｃ以上に使用すると
強磁性粉末の圧密過程で酸化が進みやすく、充分な飽和
磁化( σ_S) を得ることが困難になる。０．２ｃｃ／ｇ
以下では分散が不十分になりやすい。

【００５１】γ酸化鉄を用いる場合、２価の鉄の３価の
鉄に対する比は好ましくは０〜２０％であり、さらに好
ましくは５〜１０％である。また鉄原子に対するコバル
ト原子の量は０〜１５％、好ましくは２〜８％である。
強磁性粉末のｐＨは用いる結合剤との組合せにより最適
化することが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、
好ましくは６〜１０である。強磁性粉末は必要に応じ、
Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を
施してもかまわない。その量は強磁性粉末に対し０．１
〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の
吸着が１００ｍｇ／ｍ²以下になり好ましい。強磁性粉
末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無
機イオンを含む場合があるが、５００ｐｐｍ以下であれ
ば特に特性に影響を与えない。

【００５２】また、本発明に用いられる強磁性粉末は空
孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さ
らに好ましくは５容量％以下である。本発明の下層非磁
性層、上層磁性層に使用される結合剤としては従来公知
の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれらの
混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス転
移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１０００
〜２０００００、好ましくは１００００〜１００００
０、重合度が約５０〜１０００程度のものである。この
ような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルア
ルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステ
ル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル
酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エ
チレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニル
エーテル、等を構成単位として含む重合体または共重合
体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、
熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフエノール樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹
脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹
脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ
−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネート
プレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリ
イソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシア
ネートの混合物等があげられる。

【００５３】これらの樹脂については朝倉書店発行の
「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されてい
る。また、公知の電子線硬化型樹脂を下層、または上層
に使用することも可能である。これらの例とその製造方
法については特開昭６２−２５６２１９号に詳細に記載
されている。

【００５４】以上の樹脂は単独または組合せて使用でき
るが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル
酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコー
ル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体
の群から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の
組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組合せた
ものがあげられる。

【００５５】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ₁）
（ＯＭ₂）、−ＯＰ＝Ｏ（ＯＭ₁）（ＯＭ₂）、−ＮＲ
₄Ｘ（ここで、Ｍ、Ｍ₁、Ｍ₂は、Ｈ、Ｌｉ、Ｎａ、
Ｋ、−ＮＲ₄、−ＮＨＲ₃を示し、Ｒはアルキル基もし
くはＨを示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）、ＯＨ、Ｎ
Ｒ²、Ｎ⁺Ｒ³、（Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、Ｓ
Ｈ、ＣＮなどから選ばれる少なくとも一つ以上の極性基
を共重合または付加反応で導入したものを用いることが
好ましい。このような極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル
／ｇであり、好ましくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇであ
る。

【００５６】塩化ビニル系共重合体としては、好ましく
は、エポキシ基含有塩化ビニル系共重合体が挙げられ、
塩化ビニル繰返し単位と、エポキシ基を有する繰返し単
位と、所望により−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＣＯＯ
Ｍおよび−ＰＯ（ＯＭ）₂（以上につきＭは水素原子、
またはアルカリ金属）等の極性基を有する繰返し単位と
を含む塩化ビニル系共重合体が挙げられる。エポキシ基
を有する繰返し単位との併用では、−ＳＯ₃Ｎａを有す
る繰返し単位を含むエポキシ基含有塩化ビニル系共重合
体が好ましい。

【００５７】極性基を有する繰返し単位の共重合体中に
おける含有率は、通常０．０１〜５．０モル％（好まし
くは、０．５〜３．０モル％）の範囲内にある。エポキ
シ基を有する繰返し単位の共重合体中における含有率
は、通常１．０〜３０モル％（好ましくは１〜２０モル
％）の範囲内にある。そして、塩化ビニル系重合体は、
塩化ビニル繰返し単位１モルに対して通常０．０１〜
０．５モル（好ましくは０．０１〜０．３モル）のエポ
キシ基を有する繰返し単位を含有するものである。

【００５８】エポキシ基を有する繰返し単位の含有率が
１モル％より低いか、あるいは塩化ビニル繰返し単位１
モルに対するエポキシ基を有する繰返し単位の量が０．
０１モルより少ないと塩化ビニル系共重合体からの塩酸
ガスの放出を有効に防止することができないことがあ
り、一方、３０モル％より高いか、あるいは塩化ビニル
繰返し単位１モルに対するエポキシ基を有する繰返し単
位の量が０．５モルより多いと塩化ビニル系共重合体の
硬度が低くなることがあり、これを用いた場合には磁性
層の走行耐久性が低下することがある。

【００５９】また、特定の極性基を有する繰返し単位の
含有率が０．０１モル％より少ないと強磁性粉末の分散
性が不充分となることがあり、５．０モル％より多いと
共重合体が吸湿性を有するようになり耐候性が低下する
ことがある。通常、このような塩化ビニル系共重合体の
数平均分子量は、１．５万〜６万の範囲内にある。

【００６０】このようなエポキシ基と特定の極性基を有
する塩化ビニル系共重合体は、例えば、次のようにして
製造することができる。例えばエポキシ基と、極性基と
して−ＳＯ₃Ｎａとが導入されている塩化ビニル系共重
合体を製造する場合には、反応性二重結合と、極性基と
して−ＳＯ₃Ｎａとを有する２−（メタ）アクリルアミ
ド−２−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム（反応性
二重結合と極性基とを有する単量体）およびジグリシジ
ルアクリレートを低温で混合し、これと塩化ビニルとを
加圧下に、１００℃以下の温度で重合させることにより
製造することができる。

【００６１】上記の方法による極性基の導入に使用され
る反応性二重結合と極性基とを有する単量体の例として
は、上記の２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプ
ロパンスルホン酸ナトリウムの外に２−（メタ）アクリ
ルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ビニルスル
ホン酸およびそのナトリウムあるいはカリウム塩、（メ
タ）アクリル酸−２−スルホン酸エチルおよびナトリウ
ムあるいはカリウム塩、（無水）マレイン酸および（メ
タ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸−２−リン酸エス
テルを挙げることができる。

【００６２】また、エポキシ基の導入には、反応性二重
結合とエポキシ基とを有する単量体として一般にグリシ
ジル（メタ）アクリレートを用いる。なお、上記の製造
法の外に、例えば、塩化ビニルとビニルアルコールなど
との重合反応により多官能−ＯＨを有する塩化ビニル系
共重合体を製造し、この共重合体と、以下に記載する極
性基および塩素原子を含有する化合物とを反応（脱塩酸
反応）させて共重合体に極性基を導入する方法を利用す
ることができる。

【００６３】ＣｌＣＨ₂ＣＨ₂ＳＯ₃Ｍ、ＣｌＣＨ₂ＣＨ₂ＯＳＯ₃Ｍ、ＣｌＣＨ₂ＣＯＯＭ、ＣｌＣＨ₂ＰＯ（ＯＭ）₂ また、この脱塩酸反応を利用するエポキシ基の導入には
通常はエピクロルヒドリンを用いる。

【００６４】なお、該塩化ビニル系共重合体は、他の単
量体を含むものであってもよい。他の単量体の例として
は、ビニルエーテル（例、メチルビニルエーテル、イソ
ブチルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル）、α
−モノオレフィン（例、エチレン、プロピレン）、アク
リル酸エステル（例、（メタ）アクリル酸メチル、ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート等の官能基を含有す
る（メタ）アクリル酸エステル）、不飽和ニトリル
（例、（メタ）アクリロニトリル）、芳香族ビニル
（例、スチレン、α−メチルスチレン）、ビニルエステ
ル（例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等）が例示さ
れる。

【００６５】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製：ＶＡＧＨ、Ｖ
ＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、Ｖ
ＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、Ｐ
ＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業
社製：ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、
ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製：１００
０Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１０
０ＦＤ、日本ゼオン社製：ＭＲ１０５、ＭＲ１１０、Ｍ
Ｒ１００、４００Ｘ１１０Ａ、日本ポリウレタン社製：
ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日
本インキ社製：パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０
８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１
０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社
製：バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ８６０
０、ＵＲ５５００、ＵＲ４３００、ＲＶ５３０、ＲＶ２
８０、大日精化社製：ダイフエラミン４０２０、５０２
０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２
０、三菱化成社製：ＭＸ５００４、三洋化成社製：サン
プレンＳＰ−１５０、旭化成社製：サランＦ３１０、Ｆ
２１０などがあげられる。

【００６６】本発明の上層磁性層に用いられる結合剤は
強磁性粉末に対し、５〜５０重量％の範囲、好ましくは
１０〜３５重量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹
脂を用いる場合は、５〜３０重量％、ポリウレタン樹脂
を用いる場合は２〜２０重量％、ポリイソシアネートは
２〜２０重量％の範囲でこれらを組合せて用いるのが好
ましい。

【００６７】本発明の下層非磁性層に用いられる結合剤
は、非磁性粉末に対し、合計で５〜５０重量％の範囲、
好ましくは１０〜３５重量％の範囲で用いられる。ま
た、塩化ビニル系樹脂を用いる場合は、３〜３０重量
％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は３〜３０重量％、
ポリイソシアネートは０〜２０重量％の範囲でこれらを
組合せて用いるのが好ましい。

【００６８】また、本発明において分子量３万以上のエ
ポキシ基含有樹脂を非磁性粉末に対し３〜３０重量％使
用する場合は、エポキシ基含有樹脂以外の樹脂を非磁性
粉末に対し３〜３０重量％使用でき、ポリウレタン樹脂
を用いる場合は、３〜３０重量％、ポリイソシアネート
は０〜２０重量％使用できるが、エポキシ基は結合剤
（硬化剤を含む）全重量に対し、４×１０^-5〜１６×１
０^-4ｅｑ／ｇの範囲で含まれることが好ましい。

【００６９】本発明において、ポリウレタン樹脂を用い
る場合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸び
が１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ
／ｃｍ²、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ²が好ま
しい。本発明の磁気記録媒体は基本的には二層からなる
が、三層以上であってもよい。三層以上の構成として
は、上層磁性層を２層以上の複数の磁性層することであ
る。この場合、最上層の磁性層と下層磁性層との関係は
通常の複数の磁性層の考え方が適用できる。例えば、最
上層の磁性層の方が下層磁性層よりも、抗磁力が高く、
平均長軸長や結晶子サイズの小さい強磁性粉末を用いる
などの考え方が適用できる。又、下層非磁性層を複数の
非磁性層で形成してもかまわない。しかし、大きく分類
すれば、上層磁性層、下層非磁性層という構成である。

【００７０】従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化
ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネー
ト、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各
樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物
理特性などを必要に応じ下層と上層磁性層とで変えるこ
とはもちろん可能である。本発明に用いるポリイソシア
ネートとしては、トリレンジイソシアネート、４−４′
−ジフエニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフ
チレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンイ
ソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフエ
ニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、
また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの
生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成し
たポリイソシアネート等を使用することができる。これ
らのイソシアネート類の市販されている商品名として
は、日本ポリウレタン社製：コロネートＬ、コロネート
ＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリ
オネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製：タ
ケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネ
ートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル
社製：デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモ
ジュールＮ、デスモジュールＨＬ等があり、これらを単
独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以
上の組合せで下層非磁性層、上層磁性層ともに用いるこ
とができる。

【００７１】本発明の上層磁性層に使用されるカーボン
ブラックはゴム用フアーネス、ゴム用サーマル、カラー
用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることがで
きる。比表面積は５〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は
１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｍμ〜３００
ｍμ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タッ
プ密度は０．１〜１ｇ／ｃｃが好ましい。本発明に用い
られるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボッ
ト社製：ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ２０００、１３０
０、１０００、９００、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ
ＸＣ−７２、旭カーボン社製：♯８０、♯６０、♯５
５、♯５０、♯３５、三菱化成工業社製：♯２４００
Ｂ、♯２３００、♯９００、♯１０００、♯３０、♯４
０、♯１０Ｂ、コンロンビアカーボン社製：ＣＯＮＤＵ
ＣＴＥＸＳＣ、ＲＡＶＥＮ１５０、５０，４０，１
５などがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで
表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表
面の一部をグラフアイト化したものを使用してもかまわ
ない。また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前
にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらの
カーボンブラックは単独、または組合せで使用すること
ができる。カーボンブラックを使用する場合は強磁性粉
末に対する量の０．１〜３０％で用いることが好まし
い。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低
減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これら
は用いるカーボンブラックにより異なる。従って本発明
に使用されるこれらのカーボンブラックは下層、上層で
その種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電
導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じ
て使い分けることはもちろん可能である。本発明の上層
で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラ
ック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にするこ
とができる。

【００７２】本発明の上層磁性層に用いられる研磨剤と
してはα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミ
ナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化
鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪
素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化
ホウ素、など主としてモース硬度６以上の公知の材料が
単独または組合せで使用される。また、これらの研磨剤
どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したも
の）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外
の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９
０％以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の
粒子サイズは０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応
じて粒子サイズの異なる研磨剤を組合せたり、単独の研
磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせること
もできる。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は
０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ
²／ｇ、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状
は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状
の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。

【００７３】本発明に用いられる研磨剤の具体的な例と
しては、住友化学社製：ＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，
ＡＫＰ−５０，ＨＩＴ−５０、日本化学工業社製：Ｇ
５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製：ＴＦ−１００、ＴＦ
−１４０、１００ＥＤ、１４０ＥＤなどがあげられる。
本発明に用いられる研磨剤は下層、上層で種類、量およ
び組合せを変え、目的に応じて使い分けることはもちろ
ん可能である。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分
散処理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。

【００７４】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ
ものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングス
テン、グラフアイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコ
ーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリ
コーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコー
ル、フッ素含有エステル、ポリオレフイン、ポリグリコ
ール、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、
ポリフエニルエーテル、フッ素含有アルキル硫酸エステ
ルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩
基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していて
もかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ，Ｎ
ａ，Ｋ，Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数
１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４
の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐し
ていてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、
三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不
飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）
とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステル
またはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物
のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜
２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、
などが使用できる。これらの具体例としてはラウリン
酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘ
ン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、
リノレン酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ス
テアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリス
チン酸オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒ
ドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタ
ンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレ
ート、オレイルアルコール、ラウリルアルコール、があ
げられる。

【００７５】また、アルキレンオキサイド系、グリセリ
ン系、グリシドール系、アルキルフエノールエチレンオ
キサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミ
ン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダン
トイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニ
ウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スル
フォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、な
どの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、ア
ミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸
エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤
等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界
面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載
されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも
１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応
物、副反応物、分解物、酸化物、等の不純分が含まれて
もかまわない。これらの不純分は３０％以下が好まし
く、さらに好ましくは１０％以下である。

【００７６】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は下層非磁性層、上層磁性層でその種類、量を必
要に応じ使い分けることができる。例えば、下層非磁性
層、上層磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのに
じみ出しを制御する、沸点や極性の異なるエステル類を
用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を調
節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加
量を下層非磁性層で多くして潤滑効果を向上させるなど
が考えられ、無論ここに示した例のみに限られるもので
はない。

【００７７】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加しても
かまわない、例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合す
る場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添
加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加す
る場合、塗布直前に添加する場合などがある。本発明で
使用されるこれら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社
製：ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４１５，ＮＡＡ−３１
２，ＮＡＡ−１８０，ＮＡＡ−１７４，ＮＡＡ−１７
５，ＮＡＡ−２２２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３５，Ｎ
ＡＡ−１７１，ＮＡＡ−１２２，ＮＡＡ−１４２，ＮＡ
Ａ−１６０，ＮＡＡ−１７３Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸，Ｎ
ＡＡ−４２，ＮＡＡ−４４，カチオンＳＡ，カチオンＭ
Ａ，カチオンＡＢ，カチオンＢＢ，ナイミーンＬ−２０
１，ナイミーンＬ−２０２，ナイミーンＳ−２０２，ノ
ニオンＥ−２０８，ノニオンＰ−２０８，ノニオンＳ−
２０７，ノニオンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−２０２，
ノニオンＮＳ−２１０，ノニオンＨＳ−２０６，ノニオ
ンＬ−２，ノニオンＳ−２，ノニオンＳ−４，ノニオン
Ｏ−２，ノニオンＬＰ−２０Ｒ，ノニオンＰＰ−４０
Ｒ，ノニオンＳＰ−６０Ｒ，ノニオンＯＰ−８０Ｒ，ノ
ニオンＯＰ−８５Ｒ，ノニオンＬＴ−２２１，ノニオン
ＳＴ−２２１，ノニオンＯＴ−２２１，モノグリＭＢ，
ノニオンＤＳ−６０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブチル
ステアレート，ブチルラウレート，エルカ酸、関東化学
社製：オレイン酸、竹本油脂社製：ＦＡＬ−２０５，Ｆ
ＡＬ−１２３、新日本理化社製：エヌジエルブＬＯ，エ
ヌジョルブＩＰＭ，サンソサイザーＥ４０３０、信越化
学社製：ＴＡ−３，ＫＦ−９６，ＫＦ−９６Ｌ，ＫＦ−
９６Ｈ，ＫＦ４１０，ＫＦ４２０，ＫＦ９６５，ＫＦ５
４，ＫＦ５０，ＫＦ５６，ＫＦ−９０７，ＫＦ−８５
１，Ｘ−２２−８１９，Ｘ−２２−８２２，ＫＦ−９０
５，ＫＦ−７００，ＫＦ−３９３，ＫＦ−８５７，ＫＦ
−８６０，ＫＦ−８６５，Ｘ−２２−９８０，ＫＦ−１
０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ−１０３，Ｘ−２２−３７１
０，Ｘ−２２−３７１５，ＫＦ−９１０，ＫＦ−３９３
５、ライオンアーマー社製：アーマイドＰ，アーマイド
Ｃ，アーモスリップＣＰ、ライオン油脂社製：デュオミ
ンＴＤＯ、日清製油社製：ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社
製：プロフアン２０１２Ｅ，ニューポールＰＥ６１，イ
オネットＭＳ−４００，イオネットＭＯ−２００，イオ
ネットＤＬ−２００，イオネットＤＳ−３００，イオネ
ットＤＳ−１０００，イオネットＤＯ−２００などがあ
げられる。

【００７８】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチ
ルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用で
きる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではな
く、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわな
い。これらの不純分は３０重量％以下が好ましく、さら
に好ましくは１０重量％以下である。本発明で用いる有
機溶媒は必要ならば上層と下層でその種類は同じである
ことが好ましい。その添加量は変えてもかまわない。下
層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサ
ンなど）を用い塗布の安定性をあげる、具体的には上層
溶剤組成の算術平均値が下層溶剤組成の算術平均値を下
回らないことが肝要である。分散性を向上させるために
はある程度極性が強い方が好ましく、下層非磁性層と上
層磁性層の塗布液に用いた溶剤がいずれも溶解パラメー
ターが８〜１１であり、２０℃での誘電率が１５以上の
溶剤が１５％以上含まれることが好ましい。

【００７９】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性
支持体が１〜１００μｍ、好ましくは４〜８０μｍ、下
層が０．５〜１０μｍ、好ましくは１〜５μｍ、上層は
０．０５μｍ以上１．０μｍ以下、好ましくは０．０５
μｍ以上０．６μｍ以下、さらに好ましくは０．０５μ
ｍ以上、０．３μｍ以下である。上層と下層を合わせた
厚みは非磁性支持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で
用いられる。また、非磁性支持体と下層の間に密着性向
上のための下塗り層を設けてもかまわない。これらの厚
みは０．０１〜２μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μ
ｍである。また、非磁性支持体の磁性層側と反対側にバ
ックコート層を設けてもかまわない。この厚みは０．１
〜２μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍである。これ
らの下塗り層、バックコート層は公知のものが使用でき
る。

【００８０】本発明に用いられる非磁性支持体はポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、等
のポリエステル類、ポリオレフイン類、セルローストリ
アセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリアミドイミド、ポリスルフオン、アラミド、芳
香族ポリアミドなどの公知のフイルムが使用できる。こ
れらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ
処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをおこなっ
ても良い。本発明の目的を達成するには、非磁性支持体
として中心線平均表面粗さが０．０３μｍ以下、好まし
くは０．０２μｍ以下、さらに好ましくは０．０１μｍ
以下のものを使用する必要がある。また、これらの非磁
性支持体は単に中心線平均表面粗さが小さいだけではな
く、１μ以上の粗大突起がないことが好ましい。また、
表面の粗さ形状は、必要に応じて支持体に添加されるフ
ィラーの大きさと量により自由にコントロールされるも
のである。これらのフィラーとしては一例としてはＣ
ａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系
などの有機微粉末が挙げられる。

【００８１】また、非磁性支持体のテープ走行方向のＦ
−５値は、好ましくは５〜５０Ｋｇ／ｍｍ²、テープ幅
方向のＦ−５値は、好ましくは３〜３０Ｋｇ／ｍｍ²で
あり、テープ長手方向のＦ−５値がテープ幅方向のＦ−
５値より高いのが一般的であるが、特に幅方向の強度を
高くする必要があるときはその限りではない。また、非
磁性支持体のテープ走行方向および幅方向の１００℃３
０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好まし
くは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好まし
くは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。
破断強度は両方向とも５〜１００Ｋｇ／ｍｍ²、弾性率
は１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²が好ましい。

【００８２】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造す
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からな
る。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていても
かまわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カ
ーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤な
どすべての原料はどの工程の最初または途中で添加して
もかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分
割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを
混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工
程で分割して投入してもよい。

【００８３】本発明の目的を達成するためには、従来の
公知の製造技術を一部の工程として用いることができる
ことはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加
圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用することによ
り本発明の磁気記録媒体の高いＢｒを得ることができ
る。連続ニーダまたは加圧ニーダを用いる場合は強磁性
粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤
の３０重量％以上が好ましい）および強磁性粉末１００
部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理される。これ
らの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８
号、特開昭６４−７９２７４号に記載されている。ま
た、下層非磁性層液を調製する場合には高比重の分散メ
ディアを用いることが望ましく、ジルコニアビーズ、金
属ビーズが好適である。

【００８４】本発明では、特開昭６２−２１２９３３号
に示されるような同時重層塗布方式を用いることによ
り、より効率的に生産することができる。本発明のよう
な重層構成の磁気記録媒体を塗布する装置、方法の例と
して以下のような構成を提案できる。１．磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウエット状
態のうちに特公平１−４６１８６号や特開昭６０−２３
８１７９号、特開平２−２６５６７２号に開示されてい
る支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層
を塗布する。２．特開昭６３−８８０８０号、特開平２−１７９２１
号、特開平２−２６５６７２号に開示されているような
塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドに
より上層及び下層をほぼ同時に塗布する。３．特開平２−１７４９６５号に開示されているバック
アップロール付きエキストルージョン塗布装置により上
層及び下層をほぼ同時に塗布する。なお、強磁性粉末の
凝集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止
するため、特開昭６２−９５１７４号や特開平１−２３
６９６８号に開示されているような方法により塗布ヘッ
ド内部の塗布液に剪断を付与することが望ましい。さら
に、塗布液の粘度については、特願平１−３１２６５９
号に開示されている数値範囲を満足することが好まし
い。

【００８５】本発明では、上記の下層用塗布液を湿潤状
態で重畳して塗布する、所謂ウェット・オン・ウェット
塗布方式によって、非磁性支持体上に設ける。本発明で
下層と上層を設けるに用いるウェット・オン・ウェット
塗布方式とは、初め一層を塗布した後に湿潤状態で可及
的速やかに次の層をその上に塗布する所謂逐次塗布方
法、及び多層同時にエクストルージョン塗布方式で塗布
する方法等をいう。

【００８６】ウェット・オン・ウェット塗布方式として
は、特開昭６１−１３９９２９号公報に示した磁気記録
媒体塗布方法が使用できる。本発明の媒体を得るために
は強力な配向を行う必要がある。１０００Ｇ（ガウス）
以上のソレノイドと２０００Ｇ以上のコバルト磁石を併
用することが好ましく、さらには乾燥後の配向性が最も
高くなるように配向前に予め適度の乾燥工程を設けるこ
とが好ましい。また、ディスク媒体として、本発明を適
用する場合はむしろ配向をランダマイズするような配向
法が必要である。

【００８７】さらに、カレンダ処理ロールとしてエポキ
シ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐
熱性のあるプラスチックロールを使用する。また、金属
ロール同志で処理することもできる。処理温度は、好ま
しくは７０℃以上、さらに好ましくは８０℃以上であ
る。線圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ、さらに好ま
しくは３００ｋｇ／ｃｍ以上、その速度は２０ｍ／分〜
７００ｍ／分の範囲である。本発明の効果は８０℃以上
の温度で３００ｋｇ／ｃｍ以上の線圧でより一層効果を
上げることができる。

【００８８】本発明の磁気記録媒体の上層およびその反
対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は好ましくは
０．５以下、さらに０．３以下、磁性層表面固有抵抗は
１０⁴〜１０¹¹オーム／ｓｑ、下層を単独で塗布した場
合の表面固有抵抗は１０⁴〜１０⁸オーム／ｓｑ、バッ
ク層層の表面電気抵抗は１０³〜１０⁹オーム／ｓｑが
好ましい。

【００８９】上層の０．５％伸びでの弾性率は走行方
向、幅方向とも好ましくは３００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ
²、破断強度は好ましくは２〜３０Ｋｇ／ｃｍ²、磁気
記録媒体の弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは１
００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ²、残留のびは好ましくは
０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮
率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以
下、もっとも好ましくは０．１％以下である。

【００９０】上層、下層が有する空隙率は、ともに好ま
しくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以
下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が
好ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い
場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるデータ
記録用磁気記録媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性
は好ましいことが多い。これらの値を目的に応じた適当
な範囲に設定することは容易に実施できることである。

【００９１】本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場５
ＫＯｅで測定した場合、テープ走行方向の角形比は０．
７０以上であり、好ましくは０．８０以上さらに好まし
くは０．９０以上である。テープ走行方向に直角な二つ
の方向の角型比は走行方向の角型比の８０％以下となる
ことが好ましい。磁性層のＳＦＤは０．６以下であるこ
とが好ましい。

【００９２】本発明の磁気記録媒体は、下層と上層を有
するが、目的に応じ下層と上層でこれらの物理特性を変
えることができるのは容易に推定されることである。例
えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させる
と同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くして磁気記
録媒体のヘッドへの当たりを良くするなどである。本発
明の磁気記録媒体は、以下の物性値の範囲が好ましい。

【００９３】本発明の磁気記録媒体を引張り試験試験機
で測定したヤング率が４００〜５０００Ｋｇ／ｍｍ²、
好ましくは、７００〜４０００Ｋｇ／ｍｍ²であり、前
記磁性層のヤング率が４００〜５０００Ｋｇ／ｍｍ²、
好ましくは７００〜４０００Ｋｇ／ｍｍ²、降伏応力は
３〜２０Ｋｇ／ｍｍ²、好ましくは３〜１５Ｋｇ／ｍｍ
²、降伏伸びが０．２〜８％、０．４〜５％であること
が望ましい。

【００９４】これは、強磁性粉末、結合剤、カーボンブ
ラック、無機質粉末、支持体が係わってくるので、耐久
性に影響する。又、本発明の磁気記録媒体の曲げ剛性
（円環式スティフネス）は全厚が１１．５μｍより厚い
場合は好ましくは４０〜３００ｍｇ全厚が１０．５±１
μｍでは好ましくは２０〜９０ｍｇ又全厚が９．５μｍ
より薄い場合は好ましくは１０〜７０ｍｇである。

【００９５】これは、主として支持体に関連するもので
耐久性を確保する上で重要である。また、本発明磁気記
録媒体の２３℃、７０％ＲＨで測定したクラック発生伸
度が好ましくは２０％以下が望ましい。また、本発明磁
気記録媒体をＸ線光電子分光装置を用いて測定した前記
磁性層表面のＣｌ／Ｆｅスペクトルαが好ましくは０．
３〜０．６、Ｎ／Ｆｅスペクトルβが好ましくは０．０
３〜０．１２である。

【００９６】これは、強磁性粉末、無機質粉末及び結合
剤と関連し、耐久性を得る上で重要である。また、本発
明磁気記録媒体を動的粘弾性測定装置を用いて測定した
前記磁性層のガラス転移温度Ｔｇ（１１０Ｈｚで測定し
た動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）が好ましくは
４０〜１２０℃であり、貯蔵弾性率Ｅ′（５０℃）が好
ましくは０．８×１０¹¹〜１１×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ
²であり、損失弾性率Ｅ′′（５０℃）が好ましくは
０．５×１０¹¹〜８×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ²であるこ
とが望ましい。また損失正接は、０．２以下であること
が好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が出やす
い。これらは、バインダー、カーボンブラック、や溶剤
と関連し、耐久性に関連する重要な特性である。

【００９７】また、前記非磁性支持体と前記磁性層との
２３℃、７０％ＲＨでの８ｍｍ幅テープの１８０°密着
強度が好ましくは１０ｇ以上であることが望ましい。ま
た、上層磁性層表面の２３℃、７０％ＲＨの鋼球磨耗が
好ましくは０．１×１０^-5〜５×１０^-5 ｍｍ ³であるこ
とが望ましい。これは、直接に磁性層表面の磨耗を見る
もので主に強磁性粉末に関連する耐久性の尺度である。

【００９８】又、本発明磁気記録媒体をＳＥＭ（電子顕
微鏡）で倍率５００００倍で５枚撮影した前記磁性層表
面の研磨剤の目視での数が好ましくは０．１個／μｍ²
以上であることが望ましい。又、本発明の磁気記録媒体
の上層磁性層端面に存在する研磨剤は５個／１００μｍ
²以上が好ましい。これらは、磁性層の研磨剤と結合剤
により影響を受け、耐久性に効果を発揮する尺度であ
る。

【００９９】また、本発明磁気記録媒体をガスクロマト
グラフィーを用いて測定した前記磁気記録媒体の残留溶
剤が好ましくは５０ｍｇ／ｍ²以下であることが望まし
い。又、上層中に含まれる残留溶媒は好ましくは５０ｍ
ｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ²以下で
あり、上層に含まれる残留溶媒が下層に含まれる残留溶
媒より少ないほうが好ましい。また、本発明磁気記録媒
体よりＴＨＦを用いて抽出された可溶性固形分の磁性層
重量に対する比率であるゾル分率が１５％以下であるこ
とが望ましい。これは、強磁性粉末と結合剤により影響
を受けるもので、耐久性の尺度となる。

【０１００】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明はこれに限定されるものではない。尚、実施例中
「部」は、特に断らない限り、「重量部」を指す。実施例１以下の処方で上層磁性層用磁性塗布液、及び下層非磁性
層用塗布液を調製した。上層磁性層磁性塗布液強磁性粉末１００部Ｆｅ合金粉末（Ｃｏ添加５％）Ｈｃ１６００Ｏｅ、飽和磁化( σ_S) １３５ｅｍｕ／ｇ長軸長０．１８μｍ、針状比９塩化ビニル共重合体１０部 −ＳＯ₃Ｎａ、エポキシ基含有ポリウレタン樹脂５部 −ＳＯ₃Ｎａ含有、分子量４５０００ αアルミナ（平均粒径０．２μｍ）５部シクロヘキサノン１００部メチルエチルケトン２００部上記組成物サンドミル中で６時間混合分散した後、ポリ
イソシアネート（コロネートＬ）５部、及びステアリン
酸５部、スレアリン酸ブチル１０部を加えて上層磁性層
用磁性塗布液を得た。下層非磁性層用塗布液粒状ＴｉＯ₂（平均粒径０．０４μｍ）１００部カーボンブラック（平均粒径２０ｍμ）５部塩化ビニル共重合体８部 −ＳＯ₃Ｎａ、エポキシ基含有ポリウレタン樹脂５部 −ＳＯ₃Ｎａ基含有、分子量４５０００ αアルミナ（平均粒径０．２μｍ）５部シクロヘキサノン１５０部メチルエチルケトン５０部上記組成物をサンドミル中で４時間混合分散した後、ス
テアリン酸５部、ステアリン酸ブチル１０部、ポリイソ
シアネート（コロネートＬ）５部を加えて下層非磁性層
用塗布液を得た。

【０１０１】上記の塗布液をキャップの異なる２つのド
クターを用いて、湿潤状態で塗布した後、永久磁石にて
配向処理後、乾燥した。支持体は５．５μｍのポリオキ
シエチレンナフタレートフィルムを用い、支持体の磁性
層と反対面にはカーボンブラックを含有するバック層を
設けた。その後にスーパーカレンダー処理を行った。塗
布厚味は磁性層０．５μｍ、下層非磁性層２．５μｍで
あった。この様にして得られた原反を３．８１ｍｍ幅に
裁断し、デジタルオーディオテープ（ＤＡＴ）を作成し
た。

【０１０２】その他実施例、比較例は実施例１に対して
表１〜２に示す因子を変更してテープを作成した。これ
らテープは以下の方法で評価し、結果を表１〜２に示し
た。磁性層厚味：蛍光Ｘ線で磁性層中に特有に含まれる
元素について、既知厚味の磁性層サンプルを測定し検量
線を作成。次いで未知試料のサンプルの厚味を蛍光Ｘ線
の強度から求めた。

【０１０３】Ｈｒ：ＶＳＭにて磁気記録媒体サンプルの
上層磁性層面内方向に１０ｋＯｅの磁界を印加した後、
前記上層磁性層の表面に対し法線方向に残留している磁
界を打ち消すに必要な上層磁性層面に対し法線方向に印
加される外部磁場を測定した。なお、測定操作においては、前記サンプルに上層磁性層
面内方向に１０ｋＯｅの磁界を印加した後、そのサンプ
ルを厚味方向に９０°回転して、上層磁性層面に対し法
線方向の残留磁界を打ち消すように上層磁性層面に対
し法線方向に外部磁場を印加して、打ち消すに必要な外
部磁場の大きさを測定する。電磁変換特性使用デッキ：ＳＯＮＹ製ＤＴＣ−１０００再生出力（ＲＦ出力）：４．７ＭＨｚ単一周波数の信号
を最適記録電流で入力し、再生信号をスペクトラムアナ
ライザーに出力させ、信号のピーク値を読みとった。

【０１０４】Ｃ／Ｎ：再生出力測定時にノイズスペクト
ラムをとり、再生出力と中心記録周波数（４．７ＭＨ
ｚ）から０．１ＭＨｚ離れたノイズレベルの比からＣ／
Ｎを求めた。スペクトラムアナライザーはＨＰ−３５８
５Ａを用い、比較例１の磁性層単層のテープを対照とし
て０ｄＢとした。

【０１０５】ＢＥＲ（ブロックエラーレート）：ＢＥＲ
とは１００００トラック中のエラーフラッグの数を言
い、次の式で表される。ＢＥＲ＝エラーフラッグ／１００００×１２８ブロックＤＡＴ信号構成は、アナログ信号を符号化し、１符号は
８ビット、１ブロックは３２シンボル×８ビット＝２５
６ビットであるので、１トラックは１２８ブロックで構
成される。２トラックすなわち１２８×２ブロックの信
号をメモリー上に取り込み、シャッフルし、エラー検出
をする。ソニー社製のＤＡＴデッキを用い、カウンター
としてヒューレットパッカード社製のＨＰ５３２８Ａを
使用し、パソコンに接続して測定した。

【０１０６】ドロップアウト：４．７ＭＨｚ単一周波数
の信号を入力、スレッシュホールドレベル（−１０ｄ
Ｂ）で長さ０．５μ秒のドロップアウトカウンターで測
定した。

【０１０７】

【表１】

【０１０８】

【表２】

【０１０９】表１及び表２に示した通り、本発明の実施
例１〜８は、ＲＦ出力が高く、ドロップアウト、ＢＥＲ
共に低い満足できる評価を得ることができた。尚、比較
例１〜４及び比較例６は、Ｈｒが低く出力の改善が見ら
れず、更に又比較例２では下層に無機質粉末を使用して
いないので、ドロップアウト、ＢＥＲが劣悪であった。
又、比較例４は、無機質粉末として針状比の大きなもの
を使用したために電磁変換特性の改善が見られなかっ
た。これは、上層磁性層の強磁性合金粉末の配向が乱れ
たためと考えられる。比較例５は、上層磁性層厚味が
１．５μｍと厚い例を示したものであり、満足した特性
は得られなかった。比較例６は、下層非磁性層に含まれ
る無機質粉末に代えてカーボンブラックを用いた例であ
り、ドロップアウトおよびＢＥＲも実施例に劣る。

【０１１０】

【０１１１】

【０１１２】

【０１１３】

【０１１４】

【０１１５】

【０１１６】実施例９非磁性支持体としてポリエチレンテレフタレート（厚味
１０μｍ、Ｆ５値：ＭＤ方向２０ｋｇ／ｍｍ²、ＴＤ
方向１４ｋｇ／ｍｍ²、ヤング率：ＭＤ方向７５０ｋ
ｇ／ｍｍ²、ＴＤ方向４７０ｋｇ／ｍｍ²）又はポリ
エチレンテレナフタレート（厚味７μｍ、Ｆ５値：ＭＤ
方向２２ｋｇ／ｍｍ²、ＴＤ方向１８ｋｇ／ｍｍ²、
ヤング率：ＭＤ方向７５０ｋｇ／ｍｍ²、ＴＤ方向
７５０ｋｇ／ｍｍ²）を用い、その上に以下の処方でデ
ィスパ攪拌機で１２時間攪拌して下塗液を調製した。

【０１１７】ポリエステル樹脂（−ＳＯ₃Ｎａ基含有）１００部Ｔｇ６５℃ Ｎａ含量４６００ｐｐｍシクロヘキサノン９９００部得られた下塗液を用いてバーコートにより前記非磁性支
持体上に乾燥厚味０．１μｍで塗布した。

【０１１８】一方、以下の処方で上層磁性層用塗布液及
び下層非磁性層用塗布液を調製した。上層磁性層用塗布液処方強磁性粉末：Ｆｅ合金粉末（Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ）１００部組成；Ｆｅ：Ｃｏ：Ｎｉ＝９２：６：２焼結防止剤としてＡｌ₂Ｏ₃を使用Ｈｃ１６００Oe、σ_S １１９ｅｍｕ／ｇ長軸長０．１３μｍ，針状比７結晶子サイズ１７２Å、含水率０．６重量％塩化ビニル共重合体１３部 −ＳＯ₃Ｎａ８×１０^-5ｅｑ／ｇ、−ＯＨ、エポキシ基含有Ｔｇ７１℃、重合度３００、数平均分子量（Ｍｎ）１２０００重量平均分子量（Ｍｗ）３８０００ポリウレタン樹脂５部 −ＳＯ₃Ｎａ８×１０^-5ｅｑ／ｇ含有 −ＯＨ８×１０^-5ｅｑ／ｇ含有Ｔｇ３８℃、Ｍｗ５００００ αアルミナ（平均粒径０．１５μｍ）１２部Ｓ_BET８．７ｍ²／ｇ、ｐＨ８．２、含水率０．０６重量％シクロヘキサノン１５０部メチルエチルケトン１５０部上記組成物をサンドミル中で６時間混合分散したのち、
ポリイソシアネート（コロネートＬ）及びオレイン酸
５部、ステアリン酸７部、ステアリン酸ブチル１５部を
加えて上層磁性層用塗布液を得た。

【０１１９】下層非磁性層用塗布液処方ＴｉＯ₂ ８５部平均粒径０．０３５μｍ結晶系ルチルＴｉＯ₂含有量９０％以上表面処理剤Ａｌ₂Ｏ₃ Ｓ_BET ３５〜４５ｍ²／ｇ真比重４．１ｐＨ６．５〜８．０カーボンブラック５部平均粒径１６ｍμ ＤＢＰ吸油量８０ｍｌ／１００ｇｐＨ８．０Ｓ_BET ２５０ｍ²／ｇ着色力１４３％塩化ビニル共重合体１３部 −ＳＯ₃Ｎａ８×１０^-5ｅｑ／ｇ、−ＯＨ、エポキシ基含有Ｔｇ７１℃、重合度３００、数平均分子量（Ｍｎ）１２０００重量平均分子量（Ｍｗ）３８０００ポリウレタン樹脂５部 −ＳＯ₃Ｎａ８×１０^-5ｅｑ／ｇ含有 −ＯＨ８×１０^-5ｅｑ／ｇ含有Ｔｇ３８℃、Ｍｗ５００００シクロヘキサン１００部メチルエチルケトン１００部上記組成物をサンドミル中で４時間混合分散したのち、
ポリイソシアネート（コロネートＬ）５部、オレイン酸
５部、ステアリン酸５部、ステアリン酸ブチル１５部を
加えて下層非磁性層用塗布液を得た。

【０１２０】上記の塗布液をギャップの異なる２つのド
クターを用いて、湿潤状態で塗布したのち、永久磁石３
５００ガウス、次いでソレノイド１６００ガウスにて
配向処理後、乾燥した。その後、金属ロールと金属ロー
ルによるスーパーカレンダー処理を温度８０℃で行っ
た。塗布厚みは磁性層０．３μｍ、非磁性層３．０μｍ
であった。

【０１２１】次いで以下の処方により塗布液を調製し
た。ＢＣ層処方カーボンブラック１００部Ｓ_BET ２２０ｍ²／ｇ平均粒径１７ｍμ ＤＢＰ吸油量７５ｍｌ／１００ｇ揮発分１．５％ｐＨ８．０嵩密度１５ｌｂｓ／ｆｔ³ ニトロセルロースＲＳ１／２１００部ポリエステルポリウレタン３０部ニッポラン（日本ポリウレタン社製）分散剤オレイン酸銅１０部銅フタロシアニン１０部硫酸バリウム（沈降性）５部メチルエチルケトン５００部トルエン５００部上記組成を予備混練し、ロールミルで混練した。次に上
記分散物１００重量部に対して、カーボンブラック１００部Ｓ_BET ２００ｍ²／ｇ平均粒径２００ｍμ ＤＢＰ吸油量３６ｍｌ／１００ｇｐＨ８．５ α−Ａｌ₂Ｏ₃（平均粒径０．２μｍ）０．１部を添加した組成にてサンドグラインダーで分散を行い、
濾過後、上記分散物１００重量部に対して以下の組成を
添加し、塗布液を調製した。

【０１２２】メチルエチルケトン１２０部ポリイソシアネート５部得られた塗布液をバーコーターにより、前記磁性層を設
けた非磁性支持体の反対側に乾燥厚味０．５μｍになる
よう塗布した。このようにして得られた原反を８ｍｍ幅
に裁断し試料１（ＰＥＴ支持体）及び試料２（ＰＥＮ支
持体）の８ｍｍビデオテープを作成した。

【０１２３】得られた８ｍｍビデオテープについて以下
の測定を行い、その測定結果を得た。（１）ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）磁性層の超薄切片を観察した。ダイヤモンドカッターで
媒体を約０．１μｍ厚味に切り出し、これを透過型電子
顕微鏡で観察し、写真撮影した。撮影した写真の上下層
の界面と磁性層表面を隈取りし、ＩＢＡＳII画像処理装
置で磁性層厚味を測定し、その平均値ｄと標準偏差σと
を求めた。

【０１２４】磁性層厚味の平均値ｄは０．４５μｍであ
った。実用上は１μｍ以下、特に好ましくは０．６μｍ
以下であることがわかった。磁性層厚味変動の標準偏差
σは、０．００８μｍ以下であった。実用上はσは０．
０２μｍ以下、特に好ましくは０．０１μｍ以下である
ことがわかった。前記磁気テープを延伸して磁性層を支
持体から浮いた状態にし、カッター刃でしごいて磁性層
を剥離した。この剥離した磁性層５００ｍｇを１Ｎ−Ｎ
ａＯＨ／メタノール溶液１００ｍｌ中で２時間環流し、
結合剤を加水分解した。強磁性粉末は比重が大きいため
に底に沈むので上澄み液を除去した。

【０１２５】次いでデカンテーションにより３回水洗、
その後ＴＨＦで３回洗浄した。得られた強磁性粉末は５
０℃の真空乾燥機で乾燥した。次に得られた強磁性粉末
をコロジオン中に分散し、ＴＥＭを用いて６万倍で観察
した。その結果、強磁性粉末の粒子長軸長０．１３μｍ
であり、針状比は１０であった。実用上は粒子長軸長は
０．４μｍ以下が必要であり、好ましくは０．３μｍ以
下であることがわかった。又実用上、針状比は２〜２０
が必要であり、好ましくは２〜１５であることがわかっ
た。（２）ＡＦＭ（ＡｔｏｍｉｃＦｏｒｃｅＭｉｃｒｏ
Ｓｃｏｐｅ）表面粗さＲ_rmsを測定した。磁性層表面をＤｉｇｉｔａ
ｌＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔ社のＮａｎｏｓｃｏｐｅＩＩ
を用い、トンネル電流１０ｎＡ、バイアス電圧４００ｍ
Ｖで６μｍ×６μｍの範囲を走査した。表面粗さはこの
範囲のＲ_rmsを求めた。

【０１２６】その結果、Ｒ_rmsは６ｎｍであった。実用
上は１０ｎｍ以下が必要であり、好ましくは８ｎｍ以下
であることがわかった。（３）表面粗さ計３ｄ−ＭＩＲＡＵを用いた表面粗さを測定した。ＷＹＫ
Ｏ社製ＴＯＰＯ３Ｄを用いてＭＩＲＡＵ法で約２５０×
２５０ｍｍの面積のＲａ、Ｒ_rms、Ｐｅａｋ−Ｖａｌｌ
ｅｙ値を測定した。測定波長約６５０ｎｍにて球面補
正、円筒補正を加えている。この方式は光干渉にて測定
する非接触表面粗さ計である。Ｒａは、２．７ｎｍであ
った。実用上、Ｒａは１〜４ｎｍが好ましく、更に好ま
しくは２〜３．５ｎｍであることがわかった。Ｒ_rmsは
３．５ｎｍであった。実用上は１．３〜６ｎｍが好まし
く、更に好ましくは１．５〜５ｎｍであることがわかっ
た。Ｐ−Ｖ値は２０〜３０ｎｍであった。実用上は８０
ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは１０〜６０ｎｍで
あることがわかった。（４）ＶＳＭ（振動試料型磁束計）ＶＳＭを用いて得られた磁気テープの磁性層の磁気特性
を測定した。東英工業社製の振動試料型磁束計を用いて
Ｈｍ５ｋＯｅで測定した。

【０１２７】その結果、Ｈｃは１６２０Ｏｅ、Ｈｒは１
８００Ｏｅ、Ｂｒ／Ｂｍは０．８２、ＳＦＤは、０．５
８３であった。実用上Ｈｃは１５００〜２５００Ｏｅが
必要で、好ましくは１６００〜２０００Ｏｅであること
がわった。Ｈｒは実用上、１０００〜２８００Ｏｅが必
要で、好ましくは１２００〜２５００Ｏｅであることが
わかった。Ｂｒ／Ｂｍは、実用上０．７５以上が必要
で、好ましくは０．８以上であることがわかった。ＳＦ
Ｄは実用上０．７以下が必要で、好ましくは０．６以下
であることがわかった。（５）Ｘ線回折前述の（１）で磁性層より取り出した強磁性粉末を用い
て、Ｘ線回折をした。

【０１２８】磁気テープを直接にＸ線回折装置にかけ、
（４，４，０）面と（２，２，０）面との回折線の半値
幅の広がりから求めた。その結果、結晶子サイズは１８
０Åであることがわかった。実用上好ましくは４００Å
以下であり、特に好ましくは１００〜３００Åえだるこ
とがわかった。（６）引っ張り試験引っ張り試験機で得られた磁気テープのヤング率、降伏
応力、降伏伸びを測定した。引っ張り試験機（東洋ボー
ルドウィン社製万能引っ張り試験機ＳＴＭ−Ｔ−５０Ｂ
Ｐ）を用いて雰囲気２３℃、７０％ＲＨで引っ張り速度
１０％／分で測定した。

【０１２９】その結果、磁気テープのヤング率はテープ
０．５％伸び弾性率でＱ16e Ｋｇ／ｍｍ²、降伏応力
６〜７Ｋｇ／ｍｍ²、降伏伸びが０．８％であった。実
用上好ましくはヤング率はテープ０．５％伸び弾性率で
４００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²、特に好ましくはテープ
０．５％伸び弾性率で５００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ²で
あることがわかった。降伏応力は、実用上好ましくは３
〜２０Ｋｇ／ｍｍ²、特に好ましくは４〜１５であるこ
とがわかった。降伏伸びは実用上好ましくは０．２〜８
％であり、特に好ましくは０．４〜５％であることがわ
かった。（７）曲げ剛性、円環式スティフネスループスティフネステスタを用いて、幅８ｍｍ、長さ５
０ｍｍの試料を円環とし、変位速度約３．５ｍｍ／秒で
変位５ｍｍを与えるのに要する力をｍｇで表す。

【０１３０】その結果、８ｍｍのｐ６−１２０のテープ
では厚さが１０．５μｍであり、スティフネスは４０〜
６０ｍｍであった。実用上厚さが１０．５±１μｍでは
好ましくは、スティフネスは２０〜９０ｍｇであり、特
に好ましくは３０〜７０ｍｇであることがわかった。厚
さが１１．５μｍ以上の場合は実用上好ましくは４０〜
２００ｍｇであることがわかった。厚さが９．５μｍ以
下の場合は、実用上好ましくは１０〜７０ｍｇであるこ
とがわかった。（８）延伸破壊クラック発生伸度を２３℃、７０％ＲＨで測定した。

【０１３１】テープ長さ１０ｃｍの試験片の両端を０．
１ｍｍ／秒の引っ張り速度で引っ張り、４００倍で磁性
層表面を顕微鏡観察して、磁性層表面に５個以上の明ら
かな亀裂が発生した伸度を測定する。その結果、発生伸
度は４％であった。実用上好ましくは２０％以下、特に
好ましくは１０％以下であることがわかった。（９）熱収縮率７０℃４８時間保存後の磁気テープの熱収縮率を測定し
た。

【０１３２】７０℃の恒温槽に４８時間保存し、その前
後の長さの変化を保存前の長さで除して熱収縮率とし
た。その結果、熱収縮率は０．２％であった。実用上好
ましくは０．４％以下であり、特に好ましくは０．１〜
０．３％であることがわかった。（１０）ＥＳＣＡＣｌ／ＦｅスペクトルαとＮ／Ｆｅスペクトルβを測定
した。

【０１３３】α及びβの測定には、Ｘ線光電子分光装置
（ＰＥＲＫＩＮ−ＦＬＭＥＲ社製）を用いた。Ｘ線源は
Ｍｇアノードを用い、３００Ｗで測定した。まず、ビデ
オテープの潤滑剤をｎ−ヘキサンを用いて洗い流した
後、Ｘ線光電子分光装置にセットした。Ｘ線源と試料と
も距離は１ｃｍとした。試料を真空に排気して５分後か
らＣｌ−２Ｐスペクトル、Ｎ−１ＳスペクトルとＦｅ−
２Ｐ（３／２）スペクトルを１０分間積算し測定した。
なお、パスエネルギーは１００ｅＶで一定とした。測定
したＣｌ−２ＰスペクトルとＦｅ−２Ｐ（３／２）スぺ
クトルとの積分強度比を計算で求め、αとした。

【０１３４】又、Ｎ−１ＳスペクトルとＦｅ−２Ｐ（３
／２）スぺクトルとの積分強度比を計算で求めβとし
た。その結果αは、０．４５であり、βは０．０７であ
った。実用上αは好ましくは０．３〜０．６であり、特
に好ましくは０．４〜０．５であることがわかった。実
用上βは好ましくは０．０３〜０．１２であり、特に好
ましくは０．０４〜０．１であることがわかった。（１１）レオバイブロン１１０Ｈｚの動的粘弾性を測定した。

【０１３５】動的粘弾性測定装置（東洋ボールドウィン
社製レオバイブロン）を用い、周波数１１０Ｈｚでテー
プの粘弾性を測定した。ＴｇはＥ′′のピーク温度とし
た。この方法はテープの一端から振動を加え他端に伝播
する振動を測定する。その結果、Ｔｇは７３℃、Ｅ′
（５０℃）は４×１０¹⁰ｄｙｎｅ／ｃｍ²、Ｅ′′（５
０℃）は１×１０¹¹であった。実用上Ｔｇは好ましくは
４０〜１２０℃、特に好ましくは５０〜１１０℃である
ことがわかった。実用上Ｅ′（５０℃）は０．８×１０
¹¹〜１１×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ²であり、特に好まし
くは、１×１０¹¹〜９×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ²である
ことがわかった。実用上Ｅ′′（５０℃）は好ましくは
０．５×１０¹¹〜８×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ²であり、
特に好ましくは０．７×１０¹¹〜５×１０¹¹ｄｙｎｅ／
ｃｍ²であることがわかった。（１２）密着強度１８０°剥離法により支持体と磁性層との密着強度を測
定した。

【０１３６】８ｍｍ幅にスリットしたテープを３Ｍ製粘
着テープにはりつけ、２３℃、７０％ＲＨで１８０剥離
強度を測定した。得られた結果は５０ｇであった。実用
上好ましくは密着強度は１０ｇ以上であり、特に好まし
くは２０ｇ以上であることがわかった。（１３）磨耗磁性層表面の２３℃、７０％ＲＨの鋼球磨耗を測定し
た。

【０１３７】プレパラートガラス上に試料をその両端を
接着テープで張り付けて固定し、６．２５ｍｍφの鋼球
に荷重５０ｇを加えて摺動させた。その際、２０ｍｍの
距離を速度２０ｍｍ／ｓｅｃで１回走行させた後、新し
い磁性面に鋼球を移動させて同じ操作を２０回繰り返し
た。その後、鋼球の摺動面を４０倍の顕微鏡で観察し、
その面が円であると仮定して直径を求め、その直径から
磨耗量を計算した。

【０１３８】得られた結果は、０．７×１０^-5〜１．１
×１０^-5 ｍｍ ³であった。実用上好ましくは０．１×１
０^-5〜５×１０^-5 ｍｍ ³であり、特に好ましくは０．４
×１０^-5〜２×１０^-5 ｍｍ ³であった。（１４）ＳＥＭ（ＳｃａｎｎｉｎｇＥｌｅｃｔｒｏｎ
ｉｃＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）ＳＥＭで磁性層表面状況を観察した。

【０１３９】日立製電子顕微鏡Ｓ−９００にて倍率５０
００倍で５枚撮影して表面の研磨剤を測定した。その結
果、研磨剤個数は０．２個／μｍ²であった。実用上、
研磨剤個数は０．１個／μｍ²以上であり、特に好まし
くは０．１２個／μｍ²〜０．５個／μｍ²であること
がわかった。（１５）ＧＣ（ガスクロマトグラフィー）ＧＣで磁気テープの残留溶剤を測定した。

【０１４０】島津製作所製ガスクロマトグラフィーＧＣ
−１４Ａを用いて、２０ｃｍ²の試料を１２０℃まで加
熱して、媒体中の残留溶剤を測定した。その結果、残留
溶剤は８ｍｇ／ｍ²であった。実用上、好ましくは５０
ｍｇ／ｍ²以下であり、特に好ましくは２０ｍｇ／ｍ²
以下であることがわかった。（１６）ゾル分率磁気テープの磁性層よりＴＨＦにて抽出された可溶固形
分の磁性層重量に対する比率を求めた。その結果ゾル分
率は７％であった。実用上、ゾル分率は好ましくは１５
％以下であり、特に好ましくは１０％以下であることが
わかった。

【０１４１】上述の方法、特性を有する８ｍｍビデオテ
ープを現在市販されているテープと比較し、その結果を
表３に示した。

【０１４２】

【表３】

【０１４３】尚、評価方法は前記方法もしくは一般的方
法によった。また、判定基準は以下の通りである。ジッター：○ ０．２μｓｅｃ未満 × ０．２μｓｅｃ以上保存安定性：○ ６０℃、９０％に２週間保存して表面
に錆がでていないこと。

【０１４４】× ６０℃、９０％に２週間保存して表面
に錆がでていること。走行耐久性：○ 繰り返し１００ｐａｓｓで目詰まりが
発生しない。 × 繰り返し１００ｐａｓｓで目詰まりが発生する。スリキズ：○ スチルモードで１０分間走行させたとき
のテープ表面のキズがない。

【０１４５】：× スチルモードで１０分間走行させた
ときのテープ表面のキズがある。

【０１４６】

【発明の効果】本発明は、乾燥厚味が１μｍ以下の薄層
磁性層を有する磁気記録媒体の磁性層の法線方向の残留
保磁力を特定の値以上に設定したことにより、特に短波
長記録における再生出力の向上、ドロップアウトおよび
ＢＥＲを低減、改善した電磁変換特性を有する磁気記録
媒体を得ることができる。又、本発明は、乾燥膜厚が均
一でかつ１μｍ以下の磁性層を下層非磁性層に塗布欠陥
がなく設け、ピンホール、すじなどを抑えた大量生産性
に優れた磁性層の極めて薄い、強磁性金属薄膜に匹敵す
る性能を有する磁気記録媒体を提供するものである。

フロントページの続き (56)参考文献特開平４−238111（ＪＰ，Ａ) 特開平４−283416（ＪＰ，Ａ) 特開平４−321924（ＪＰ，Ａ) 特開平４−325917（ＪＰ，Ａ) 特開平４−325915（ＪＰ，Ａ) 特開平５−12650（ＪＰ，Ａ) 特開平５−197946（ＪＰ，Ａ) 特開平５−182177（ＪＰ，Ａ) 特開平５−182178（ＪＰ，Ａ) 特開平５−217149（ＪＰ，Ａ) 特開平５−73883（ＪＰ，Ａ) 特開平５−298653（ＪＰ，Ａ) 特開平２−267724（ＪＰ，Ａ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性支持体上に無機質粉末を結合剤に
分散した下層非磁性層を設け、その上に強磁性粉末を結
合剤に分散した上層磁性層を設けた磁気記録媒体におい
て、前記上層磁性層の乾燥厚みが１．０μｍ以下であ
り、且つＶＳＭ（振動試料型磁束計）にて磁気記録媒体
サンプルの上層磁性層面内方向に１０ｋＯｅの磁界を印
加した後、前記上層磁性層の表面に対し法線方向に残留
している磁界を打ち消すに必要な前記上層磁性層の表面
に対し法線方向に印加される外部磁場（Ｈｒ）が１５０
０Ｏｅ以上であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】前記上層磁性層に含まれる強磁性粉末
が、長軸長が０．３μｍ以下の針状強磁性合金粉末であ
ることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項３】前記上層磁性層に含まれる強磁性粉末
が、長軸長が０．３μｍ以下で、且つ抗磁力（Ｈｃ）が
１５００Ｏｅ以上の針状強磁性合金粉末あるいは板径
０．３μｍ以下で、且つ抗磁力（Ｈｃ）が１０００Ｏｅ
以上の板状強磁性粉末であることを特徴とする請求項１
または請求項２記載の磁気記録媒体。
【請求項４】前記上層磁性層表面の２３℃、７０％Ｒ
Ｈの鋼球摩耗が０．１×１０ ^-5 〜５×１０ ^-5 ｍｍ ³ であ
ることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の
磁気記録媒体。
【請求項５】前記上層磁性層に含まれる強磁性粉末
が、針状強磁性合金粉末であって、ＦｅまたはＮｉまた
はＣｏ等の金属単体またはそれらの合金を主成分（７５
％以上）とし、更に主成分以外にＡｌ，Ｓｉ，Ｓ，Ｓ
ｃ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａ
ｇ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｔｅ，Ｂａ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ａｕ，
Ｈｇ，Ｐｄ，Ｂｉ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐ，Ｃ
ｏ，Ｍｎ，Ｚｎ，Ｎｉ，Ｓｒ，Ｂから選ばれる元素の少
なくとも１種の元素を含むことを特徴とする請求項１〜
４のいずれか１項記載の磁気記録媒体。
【請求項６】前記上層磁性層に含まれる強磁性粉末
が、針状強磁性合金粉末であって、ＦｅまたはＮｉまた
はＣｏ等の金属単体またはそれらの合金を主成分（７５
％以上）とし、更に主成分以外にＡｌ，Ｓｉ，Ｙ，Ｌａ
から選ばれる元素の少なくとも１種の元素を含むことを
特徴とする請求項１〜５のいずれか１項記載の磁気記録
媒体。
【請求項７】前記上層磁性層に含まれる研磨剤の粒子
サイズが０．０１〜２μｍであることを特徴とする請求
項１〜６のいずれか１項記載の磁気記録媒体。
【請求項８】下層非磁性層に含まれる無機質粉末がＴ
ｉＯ ₂ （ルチル、アナターゼ）、ＴｉＯ _X 、酸化セリウ
ム、酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ，ＺｒＯ ₂ ，
ＳｉＯ ₂ ，Ｃｒ ₂ Ｏ ₃ 、α化率９０％以上のαアルミ
ナ、βアルミナ、γアルミナ、α酸化鉄、ゲータイト、
コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マグネ
シウム、窒化硼素、２硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣ
Ｏ ₃ ，ＣａＣＯ ₃ ，ＢａＣＯ ₃ ，ＳｒＣＯ ₃ ，ＢａＳＯ
₄ 、炭化珪素、炭化チタンから選ばれる少なくとも１種
を含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項記
載の磁気記録媒体。
【請求項９】前記下層非磁性層の無機質粉末が真比重
３以上の無機質粉末であることを特徴とする請求項１〜
８のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項１０】前記磁気記録媒体がデジタル用の録音
用テープ、ビデオテープ、コンピューターテープ、デイ
スクであることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１
項に記載の磁気記録媒体。
【請求項１１】非磁性支持体上に無機質粉末と結合剤
を含む下層非磁性層塗布液と強磁性粉末と結合剤を含む
上層磁性層用塗布液をそれぞれ調製し、非磁性支持体上
に前記下層非磁性層塗布液と上層磁性層用塗布液を塗布
することによる磁気記録媒体の製造方法において、前記
強磁性粉末は長軸長が０．３μｍ以下で、且つ抗磁力
（Ｈｃ）が１５００Ｏｅ以上の針状強磁性合金粉末ある
いは板径０．３μｍ以下で、且つ抗磁力（Ｈｃ）が１０
００Ｏｅ以上の板状強磁性粉末であり、かつ前記非磁性
支持体上に前記下層非磁性層塗布液の塗布と同時又は逐
次に、上層磁性層用塗布液を塗布することにより、前記
上層磁性層の乾燥厚みが１．０μｍ以下であり、且つＶ
ＳＭ（振動試料型磁束計）にて磁気記録媒体サンプルの
上層磁性層面内方向に１０ｋＯｅの磁界を印加した後、
前記サンプルを厚み方向に９０°回転した時、残留磁界
を打ち消すに必要な前記上層磁性層の表面に対し法線方
向に印加される外部磁場（Ｈｒ）が１５００Ｏｅ以上で
ある磁気記録媒体を製造することを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法。
【請求項１２】前記下層非磁性層用塗布液中の無機質
粉末が真比重３以上の無機質粉末であることを特徴とす
る請求項１１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１３】前記下層非磁性層用塗布液中の無機質
粉末が、平均粒径が０．２μｍ以下の粒状粒子、もしく
は長軸長が０．０５〜１．０μｍ且つ針状比２０以下の
針状粒子であることを特徴とする請求項１１に記載の磁
気記録媒体の製造方法。