JP2666810C - - Google Patents

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【発明の詳細な説明】 【０００１】 【産業上の利用分野】 本発明は磁気記録媒体、特に磁性層が１．０μｍ以下の非常に薄層な磁気記録
媒体に関し、更に、詳しくは非常に電磁変換特性に優れ、かつ歩留りが良好な生
産特性の優れた磁気記録媒体に関する。特に本発明は磁気記録媒体、特に磁性層
厚みが１．０μｍ以下の高密度な薄層磁気記録媒体に関し、更に詳しくは本発明
は下層として非磁性層を有する磁気記録媒体、特に電磁変換特性、走行性及び耐
久性が改良された磁気記録媒体に関する。 【０００２】 【従来の技術】 従来、ビデオテープ、オーディオテープ、磁気ディスク等の磁気記録媒体とし
ては、強磁性酸化鉄、Ｃｏ変性酸化鉄、ＣｒＯ₂、強磁性合金粉末等を結合剤中
に分散した磁性層を非磁性支持体に塗設したものが広く用いられている。 近年、記録の高密度化と共に記録波長が短くなる傾向があり、磁性層の厚さが
厚いと出力が低下する等の記録再生時の厚み損失の問題が大きくなっている。こ
のため磁性層を薄くすることが行われているが、磁性層を約２μｍ以下に薄くす
ると磁性層表面に支持体の表面性の影響が現れ易くなり、電磁変換特性が悪化す
る傾向があった。 【０００３】 そのため非磁性支持体表面に非磁性の厚い下層を設けてから磁性層を上層に設 けることにより、前記した支持体の表面粗さによる問題を解消すると共に磁性層
を薄層とすることによって、厚み減磁を減らし高出力を達成しようとする試みが
提案された。例えば、特開昭６２−１５４２２５号公報では磁性層の厚さを０．
５μｍ以下にするとともに磁性層の表面電気抵抗が高くなるのを防止するため、
磁性層と基体との間に導電性微粉末を含む厚さが磁性層の厚さ以上の下塗り層を
設けた磁気記録媒体が提案されている。又、特開昭６２−２２２４２７号公報に
は支持体と支持体上に設けられ、平均粒径が０．５〜３μｍの研磨剤を含有する
下塗り層と、下塗り層の上に設けられた強磁性粉末を含有した膜厚１μｍ以下の
磁性層を具備した磁気記録媒体が提案さているが、これは下塗り層中の研磨剤の
一部分が磁性層に突き出しているので、磁気記録媒体の磁気ヘッドクリーニング
作用を併せ持つようにしたものである。このように磁性層を薄くして高密度記録
を達成し、同時に下層非磁性層に帯電防止を図るため、カーボンブラックを含め
たり、クリーニング特性や耐久性を向上するために研磨材を添加したりしている
。 【０００４】 しかながら、従来の技術は、非磁性支持体に先ず下層非磁性層を塗布し、乾燥
してから場合によって、カレンダー処理をしてから上層磁性層を設けているため
、製造工程が煩雑であると共に以下のような問題があった。 即ち、磁性層を薄層化するためには、塗布量を減らすことか、もしくは磁性塗
布液に溶剤を多量に加えて濃度を薄くすることが考えられる。前者を取る場合、
塗布量を減らすと塗布後に十分なレベリングの時間がなく、乾燥が始まるために
、塗布欠陥、例えばスジや刻印のパターンが残るといった問題が発生し、歩留ま
りが非常に悪くなる。後者の方法を取った場合、磁性塗布液の濃度が希薄である
と、できあがった塗膜に空隙が多く、十分な強磁性粉末の充填度が得られないこ
と、また、空隙が多いために塗膜の強度が不十分であること等、種々の弊害をも
たらす。これらの問題を解決する一つの手段に、特開昭６３−１９１３１５号公
報に記載されているように、同時重層塗布方式を用いて下層に非磁性の層を設け
、濃度の高い磁性塗布液を薄く塗布する方法が提案された。 【０００５】 この同時重層塗布方式又は逐次湿潤塗布方式による場合、即ち下層が湿潤状態
にある間に上層を同時又は逐次に塗布するいわゆるＷｅｔ ｏｎ Ｗｅｔ塗布方
式の場合は、すでに重層の磁性層では様々な検討が為されている。しかしながら
下層非磁性層にこの技術を応用しても同じように良好な結果が得られなかった。
つまり、Ｗｅｔ ｏｎ Ｗｅｔにより下層非磁性層と上層磁性層を設けると、こ
れら両者の界面において乱れが生じ、ピンホールが生じたり、磁性層のハジキを
生じたりした。 【０００６】 又、支持体表面に非磁性の厚い下層を設けてから磁性層を上層として磁性層を
設けるようにした場合支持体の表面粗さの影響は解消することができるが、ヘッ
ド摩耗や耐久性が改善されないという問題があった。 これは、従来、非磁性下層として熱硬化系（硬化系）樹脂を結合剤として用い
ているので、下層が硬化し、磁性層とヘッドとの接触や他の部材との接触が無緩
衝状態で行われることや、このような下層を有する磁気記録媒体がやや可撓性に
乏しい等のことに起因していると考えられる。これを解消するために、下層に非
硬化性（熱可塑性）樹脂を結合剤しとて用いることが考えられるが、従来の方式
では、下層を塗布乾燥後磁性層を上層として塗布する場合、下層が上層の塗布液
の有機溶剤により膨潤し、上層の塗布液に乱流を起こさせる等の影響を与え磁性
層の表面性を悪くし、電磁変換特性を低下させる等の問題を生じる。 【０００７】 又、磁気記録媒体の記録密度を向上させるために、短波長記録が進んでおり、
８ｍｍビデオテープで記録波長は０．５４μｍに達している。これに対応する磁
気記録媒体として強磁性金属薄膜を用いたものが実用化されている。金属薄膜磁
気記録媒体は磁性層厚みが非常に薄いため、厚みによる損失が小さく、このため
非常に出力の高い媒体を得ることができる。しかし、これらの媒体は金属を非磁
性支持体上に蒸着して製造するため、従来の塗布型磁気記録媒体に較べて大量生
産性に劣り、また、金属薄膜であるため、酸化されるなど長期保存性の面で問題
を持っている。これらの問題を解決するために、従来の塗布型磁気記録媒体の磁
性層を薄層化することが望まれてきた。 【０００８】 しかしながら、上層磁性層を１．０μｍ以下の薄層で塗布しようとするために
は、磁性液を大量の溶剤で希釈せねばならず、磁性液の凝集を促しやすい。また
、乾燥時に大量の有機溶媒が蒸発するために強磁性粉末の配向性が乱れやすく、
長手記録でない媒体、例えば磁気ディスクのようなものではある程度性能を確保
できるが、テープ形状の磁気記録媒体では配向性が悪く、薄層化を達成しても、
配向性悪化と表面性悪化のために充分な電磁変換特性を確保することが困難であ
る。また、乾燥過多で多くの空隙が発生するために、磁性膜の強度が弱く、走行
耐久性の面でも不十分な結果であった。配向性をよくし、また、塗膜の空隙を少
なくするために希釈する有機溶剤を減らそうとすると塗布安定性が悪くなってし
まう。 【０００９】 この様な問題に対処する手段として非磁性の粒状研磨剤、またはフィラーを下
塗層に含ませることが提案されている。（特開昭６２−２２２４２７号、特開平
２−２５７４２４号） しかしながらこれらの技術の問題点として、磁性層と非磁性層を同時に塗布し
、上層の磁性体を配向するときに、磁場による磁性体の回転運動のため上下層の
界面での混合が発生し、充分な表面性があられないばかりか、配向が充分に行な
われないので充分な電磁変換特性が得られない。 【００１０】 非磁性の鱗片状粒子としてグラファイトを用いた導電性中間層を形成させるこ
とによって、上層の磁性粒子の配向性を改善することが提案されている。（特開
昭５５−５５４３８号）しかしながらこの様な物質では、配向性の改善はなされ
るが、グラファイト自身には膜の補強効果がないため耐久性上不十分であるため
、モース硬度５以上の無機粉体を混合する提案もなされている。（特開昭６０−
１２５９２６号） 又、非磁性の針状粒子として針状の蓚酸塩を用いた補強層を形成させることに
よって、上層の磁性粒子の配向性を改善することが提案されている。（特公昭５
８−５１３２７号）。 【００１１】 これら提案により配向性向上と耐久性の確保はなされるが、実際に媒体を製造
する段階では鱗片状粒子はスタッキングをおこしやすく、また、蓚酸塩のような
物質は結合剤への分散性がよくないため、磁性面の平滑性を損なうことが判明し
た。 又、磁気記録媒体は高密度化、高出力化のためにヘッドとのスペーシングロス
を低減するために非常に平滑な表面性が望まれている。このため、直接表面に出
ていない下層非磁性層も極力分散性が良く、同時重層塗布した場合の表面性が平
滑である必要性が増している。また、前述したように磁性層を薄層化すると更に
下層非磁性層の分散性が同時重層した場合の表面性に寄与する割合が増してきて
いる。鋭意検討した結果、単純に下層のみの分散性を向上させても、同時重層し
た結果、表面が荒れることが判明した。 【００１２】 また磁性層の保磁力が低いと自己減磁損失が大きく、短波長記録には適さない
ので、相当のＨｃを有することが必要である。この様な目的に使用できる手段と
して非磁性支持体と磁性層の間に０．５μｍ〜５．０μｍの下塗層を設け、磁性
層のＨｃを１０００Ｏｅにすることが提案されている。（特開昭５７−１９８５
３６） しかしながら従来公知の技術では、この目的を達成するには次にあげる問題が
ある。前述の特開昭５７−１９８５３６で開示さている技術で、本件の特徴であ
る上下層の同時重層塗布を行なうと上下層の混合が起きて表面性が悪くあるばか
りか配向が乱れる。また同時重層塗布において配向性を改善する技術としては特
開平３−４９０３２にカーボンブラックを分散した層を下層に用い、多段配向を
することが開示さているが、カーボンブラックのような真比重の小さなフィラー
は、配向時の磁性体の回転運動によって、同時重層塗布の時に上下層の界面が乱
れ、面内方向に測定したＳＱは高いものの、本件の目的である磁性層法線方向の
残留保磁力の改善は不十分であった。 【００１３】 この様な技術に対する公知技術として特開昭６２−１１１５がある。しかしな がら同時重層塗布において、この公知技術を適応すると次のような問題がある。 すなわち、非磁性の下層低比重のカーボンブラックを用いて同時重層塗布をし
た場合には、塗布過程あるいは、配向過程において該非磁性下層と磁性層の混合
、あるいは乱流による２層界面の乱れを引き起こす。このような２層間の混合、
乱れは磁性層中の磁性体の配向性を極度に低下させる。 【００１４】 さらに長軸長が短く、かつ針状比の小さい磁性体は流動配向しにくいので、磁
性体の配向性はさらに低下し、充分な電磁変換特性が得られなくなる。 近年、磁性層に含まれる磁性体は高密度化のために微粒子化が進んでいる。微
粒子にすることにより、磁性層の強度が劣るようになり、例えば製造工程やビデ
オデッキ内で高いテンションを被るとテープが伸びてしまい、スキュー（ＳＫＥ
Ｗ）歪が大きくなるようになる。これを対策するために支持体の熱収縮率を小さ
くしたり強度を高くすることが図られているが、限界がある。また、同時重層塗
布方式を採用すると逐次重層塗布方式に比べて熱収縮率が大きくなりＳｋｅｗ歪
が増加することも問題になっている。これは、逐次重層塗布の場合、下層塗布後
カレンダーや硬化処理して下層を硬くして媒体が伸び縮みしにくくしていたので
あるが、同時重層塗布方式では下層と上層を一度に塗布するため、下層によって
媒体の伸び縮みを抑制することができないからである。特開昭６３−１８７４１
８や特開昭６３−１９１３１５に同時重層塗布方式による発明が開示されている
が、このような欠点があった。 【００１５】 また、同様に長時間化を図るためにテープ厚みを薄くしている傾向もある。テ
ープ厚みを薄くするとテープスチフネスが低下して、ヘッドとの良好な接触が保
てなくなり、電磁変換特性の低下を来すことになる。特に、近年普及している８
ｍｍビデオテープやＶＨＳの長時間テープでは全厚みが１４μ以下と薄いために
ヘッド当りを確保することが困難となっている。従来、媒体厚みが厚いものでは
むしろ下層非磁性層の強度を下げて滑らかな接触状態を保つことが効果的であっ
たが、近年の回転ヘッドによる記録再生装置における薄手テープでは下層非磁性
層のスチフネスを高くしないとヘッド当りを確保できにくくなっている。非磁性 支持体の延伸方法でこのスチフネスを制御する方法もあるが、幅方向スチフネス
が低下して走行耐久性に好ましくない。 【００１６】 特開昭６３−１９１３１５で示されているようにヘッド当りを良好にするため
に、下層非磁性層にポリイソシアネートを含まないことに効果を認めたが、その
ため高温高湿の保存性に劣る結果となっている。そのために、保存を重視しない
システムでは有効であるが、業務用やデータ保存のような保存を重視するシスム
では使用しにくい方法である。特開昭６３−１８７４１８についても同様に磁性
層を薄層化し、電磁変換特性を向上させることが開示されているが、該発明では
電磁変換特性的に未だ不十分なものがあった。特開昭５０−８０３にもモース硬
度６以上の細粒状非磁性顔料を磁性層と支持体との間に設けるという発明がある
が、この発明の骨子はアルミニウム基盤をモース硬度６以上の非磁性粉体で研磨
して基盤の平面性を増すことを目的としている。 【００１７】 又、これらの方法では近年の長時間化、高密度化に伴う磁気記録媒体の薄層化
の要請に答えることが困難で、これらの方法では優れた電磁変換特性と走行耐久
性を両立することが不十分であった。特に薄手テープで走行耐久性を向上させる
にはテープエッヂダメージを少なくすることが必要であり、特開昭６３−１９１
３１５や特開昭６３−１８７４１８の発明では不十分であった。 【００１８】 次に上層が磁性層で下層が非磁性で、かつＷｅｔ ｏｎ Ｗｅｔの方式で磁気
記録媒体を得ることについては種々の特許出願がされている。例えば特開昭５０
−１０４００３号公報ではＷｅｔ ｏｎ Ｗｅｔを示唆する記載はあるが非磁性
層はカーボンブラックのみの例であり、構造粘性が強すぎて、界面の乱れが激し
かった。 【００１９】 又特開昭６２−２１２９２２号公報（ＵＳ４９１６０２４号明細書）には導電
性層（中間層）にカーボンブラックの５％〜２５％の強磁性粉末を含有する磁気
記録媒体が開示されている。これはカーボンブラックの分散性を改良するために 加えているものであるが、中間層に加える強磁性粉末は磁性層中のものと同程度
のものを使用しているため、界面の乱れは良好に防止することはできなかった。
又特開昭６２−２１４５２４号公報には隣接した複数層の各塗布液組成の溶媒及
び溶質に対し相互溶解性を有するように各塗布液組成を選定しＷｅｔ ｏｎ Ｗ
ｅｔで塗布、乾燥する磁気記録媒体の製造方法が開示されている。しかしながら
上層磁性層、下層非磁性層の組合せの例示はあるが、結合剤のみの例であり、又
カーボンブラックも中間層に含むことを示唆はしているが、このような開示に基
づいては界面の乱れを解消することはできなかった。 又特開昭６２−２４１１
３０号公報（ＵＳ４８３９２２５号明細書）には中間層が水酸基及び／又はアミ
ノ基を含む結合剤の少なくとも１つを含みかつ該磁性層がイソシアネート化合物
を含む磁気記録媒体であり、これは両者を化学的に結合させて中間層と磁性層の
密着強度を向上させることを開示している。中間層にはカーボンブラックを添加
してもよいこと及びＷｅｔ ｏｎ Ｗｅｔ法により塗布してもよいとしているが
、このような開示では界面変動を解決することはできなかった。 【００２０】 更に特開昭６３−８８０８０号公報（ＵＳ４８５４２６２号明細書）にはドク
ターエッジを改良した塗布装置が開示されている。この中には高剪断速度（１０
⁴ｓｅｃ^-1）での粘度の開示はあるが、単に上層、下層液の粘度を示したに過ぎ
ずこのような開示では界面変動を充分抑えることはできなかった。 又特開昭６３−１４６２１０号公報には下層の磁性層又は非磁性層の結合剤が
非硬化系結合剤であり、最上層の磁性層の結合剤が電子線硬化型樹脂である磁気
記録媒体が開示されている。しかしながら下層非磁性塗料にはカーボンブラック
を含んだ例のみであり、界面の乱れを解決することはできなかった。更に特開昭
６３−１６４０２２号公報にはエクストルージョン型ヘッドのスロット内で磁性
液層を中央に磁性液層より低粘度の非磁性液層をスロット前後壁面側に形成して
多重層の押出塗布をする磁性液の塗布方法が開示されている。高い粘度の磁性層
液を低い粘度の非磁性層バインダー溶液を包み、高速薄層塗布性を増したことを
発明しており、磁性層塗布液ビードとギーサー間の間隙を少なくする目的である
。このような開示のみでは界面の乱れを充分解決することはできなかった。又特 開昭６３−１８７４１８号公報（ＵＳ４８６３７９３号明細書）には上層磁性層
に含まれる強磁性粉末の透過型電子顕微鏡による平均長軸長が０．３０μｍ未満
、Ｘ線回折法による結晶子サイズが３００Å未満である磁気記録媒体が開示され
ている。下層の非磁性層にはカーボンブラック、グラファイト、酸化チタンなど
を含むことができると開示され、具体例としてはα−Ｆｅ₂Ｏ₃１００重量部と導
電性カーボン１０部の組合せが開示されている。しかしながらカーボンの使用量
が少ないこと、α−Ｆｅ₂Ｏ₃の粒子サイズが記載されていないため、これら公報
の開示では界面の乱れを十分解決することはできなかった。 【００２１】 更に特開昭６３−１９１３１５号公報（ＵＳ４９６３４３３号明細書）には下
層の結合剤が熱可塑性結合剤であり、且つ下層の厚さが乾燥厚みで０．５μｍ以
上である磁気記録媒体が開示されている。下層非磁性層に含まれる非磁性粉の具
体例としては前記の特開昭６３−１８７４１８号公報と同じくα−Ｆｅ₂Ｏ₃１０
０重量部と導電性カーボン１０部の組合せが開示されている。しかしながらカー
ボンの使用量が少ないことやα−Ｆｅ₂Ｏ₃の粒子サイズが記載されていないため
、これらの公報の開示では界面の乱れを解決することができなかった。 【００２２】 更に特開平２−２５４６２１号公報にはカーボンブラックを主成分とする非磁
性層を設け、その上にＦｅ−Ａｌ系強磁性粉末を含む磁性層をウェット・オン・
ウェット重層塗布方式で形成した磁気記録媒体が開示されている。しかしながら
下層の例示はカーボンブラックのみであり、これでは構造粘性が強すぎて、界面
の乱れを解決することはできなかった。 【００２３】 更に特開平２−２５７４２４号公報には非磁性層に平均粒径が５０ｍμ以上の
フィラーを含む磁気記録媒体が開示されている。 フィラーとしては、カーボンブラックやＡｌ₂Ｏ₃，ＳｉＣのような研磨剤を挙
げている。しかしながらその具体例はカーボンブラックのみ、Ａｌ₂Ｏ₃のみ、Ｓ
ｉＣのみの使用であり、このような組合せでは界面の乱れを解決することができ
なかった。 【００２４】 次に特開平２−２５７４２５号公報には動摩擦係数が０．２５以下であり、か
つ表面比抵抗が１．０×１０９Ω／ｓｑ以下である複数の層を設けた磁気記録媒
体が開示されている。しかしながら下層の非磁性粉の例示はＳｎＯ₂のみ、カー
ボンブラックのみであり、界面の乱れを解決することはできなかった。又特開平
２−２６０２３１号公報には非磁性支持体上に第１の非磁性層と、第１の磁性層
と、第２の非磁性層と、第２の磁性層とがこの順に積層されている磁気記録媒体
が開示されている。この非磁性層は結合剤のみの例示であり、界面の乱れを解決
することはできなかった。 【００２５】 更に特開平３−４９０３２号公報（ＵＳ５０５１２９１号明細書）には磁性層
の膜厚が１．５μｍ以下であり、かつ該磁性層の角型比が０．８５以上である磁
気記録媒体が開示されている。これは多段配向により角型比を向上させるもので
あるが、下層はカーボンブラックのみを使用する層であり、構造粘性が強すぎて
界面乱れを解決することはできなかった。 【００２６】 近年Ｈｉ８テープの研究がされ、その究極のニーズはＭＥ（蒸着）テープとＭ
Ｐ（メタル）テープのメリットの両立にあり、それをＭＰテープで実現するには
ＭＰテープの本来の優れた走行性、耐久性、生産適性を維持すると共に、如何に
蒸着テープのような短波長領域（高域の輝度信号）の高Ｃ／Ｎ化を達成するかで
あり、最も重要な課題であった。 【００２７】 従来、ダブルコーティング技術は、ＶＴＲの信号記録メカニズム、すなわち各
信号の記録深さに着目し、それぞれに最適な上、下磁性層の設計とすることで性
能向上を図ってきた。ＶＨＳのダブルコーティングは上層と下層にそれぞれサイ
ズや磁気特性の異なる強磁性粉末を採用した２層構造で輝度、色、音の全ての帯
域における高出力、低ノイズが実現されてきた。 【００２８】 そしてＨｉ８ＭＰの重層テープでは上層磁性層に高密度記録に対応する金属磁 性体を用い、下層磁性層には、中、低域特性に優れた酸化鉄磁性体を用い、まっ
たく種類の異なる磁性体を用いたいわゆるハイグリッドダブルコーティングが開
発され、鮮鋭度高い映像と、鮮やかな色が再現するなど大巾な画質向上が図られ
た。 【００２９】 しかしながらＨｉ８ＭＰでの更なる超高密度記録を追求し、高域特性を飛躍的
に向上させるためには従来の技術や考え方だけでは限界があった。そこで本発明
者らは磁気記録そのものの原理、メカニズムまで踏み込んで解析、研究を行ない
、蒸着テープ以上の高域特性を実現するために鋭意検討を行なった。 【００３０】 【発明が解決しようとする課題】 本発明の第１の目的は、塗布型でありながら蒸着テープに匹敵する高域の出力
を発揮すると同時に走行耐久性、保存性を有する高密度磁気記録媒体を提供する
ことである。 本発明の第２の目的は、塗布型本発明の第１の目的は、歩留り良くかつ生産効
率を確保して出力、Ｃ／Ｎ比等の電磁変換特性の優れた薄層磁気記録媒体を提供
することであり、またヘッド当りが良好でかつ保存安定性が良好な薄層磁気記録
媒体を提供することである。 【００３１】 本発明の第３の目的は電磁変換特性が良好で走行耐久性に優れる磁気記録媒体
を提供することである。とりわけ、短波長記録における出力が高く、また、生産
における歩留まりのよい磁気記録媒体を提供することである。 本発明の第４の目的は、ＲＦ出力が高く、かつ走行耐久性に優れドロップアウ
トが少なく、ブロックエラーレート（ＢＥＲ）が低い磁気記録媒体を提供するこ
とにある。 【００３２】 本発明の第５のは電磁変換特性が良好でかつ走行性が良好なる磁気記録媒体を
提供することであり、とりわけ同時重層塗布方式で表面粗さが良好で高い電磁変
換特性を有する磁気記録媒体を提供することである。 本発明の第６の目的は電磁変換特性が良好な磁気記録媒体を提供することであ
り、かつ熱収縮率が小さく、長期保存性に優れる磁気記録媒体を提供することで
ある。 本発明の第７の目的は電磁変換特性が良好な磁気記録媒体を提供することであり
、かつ繰り 返し走行によるエッヂダメージ少ない走行耐久性に優れる媒体を提
供することである。 【００３３】 【課題を解決するための手段】 本発明者らは鋭意検討した結果、従来同時重層塗布技術を部分的には、基本と
しながらも、その枠を越え、短波長記録になるほど大きくなる「信号損失」を
徹底的に少なくすることとそのための磁性層の薄層化、磁性層の磁気エネルギ
ーを限りなく高めるために新磁性体の開発と高密度充填化という２点が重要点で
あることを見出した。先ず第１に信号損失の徹底低減を行なった。磁気記録では
、その記録再生の過程でさまざまな「損失」が発生するが本発明者らは今までＭ
Ｐ（メタル）テープでは避け難いと考えていた「自己減磁損失」を低減すること
によって高域特性を向上させるという、従来にないまったく新しい考え方を見出
した。 【００３４】 すなわち本発明の第１のポイントは上層磁性層と下層非磁性層の塗布液のチキ
ントロピー性を同一もしくは近似したものにすること又は下層非磁性粉の形状を
調節することによって界面に混合領域をなくすことにより磁性層の厚み１μｍ以
下、厚み変動の平均値を厚みの１／２以下、厚み測定値の標準偏差を０．２μｍ
以下という従来にない均一な薄層磁性層を実現し、短波長領域での自己減磁損失
を大幅に低減したものである。 【００３５】 更に本発明の第２のポイントは上記界面の乱れを極めて低く押さえると共に上
層磁性層の強磁性粉末のサイズ、形状と下層非磁性層の非磁性粉のサイズ、形状
を調整し、又非磁性粉末自体に分散性を向上する発明を加えることにより、より
均一な変動の少ない界面が実現できたと共に超平滑な磁性層表面を完成した。こ の平滑な磁性層表面が「スペース損失」を徹底追放し、高域出力が向上した。 【００３６】 又本発明の第３のポイントは磁性層の高エネルギー化である。上層磁性層にＨ
ｒ、Ｈｃ共に高くした微粒子の強磁性粉末を用いることにより高磁気エネルギー
化、高抗磁力化を図り、ＭＥ（蒸着）テープ同等以上の高域出力を発揮すること
を見出した。 本発明の第４のポイントは高密度充填である。従来の技術では磁性層を単純に
薄層化すると低域出力が低下し、カラー特性が悪化するが、本発明では厚み方向
の剛性が極めて高い微粒子無機粉がカレンダー処理による充填効果を大巾に向上
し、高エネルギー強磁性粉末を高密度充填することにより、優れた中、低域特性
も実現できることを見出した。 【００３７】 更に本発明の第５のポイントはＭＥ（蒸着）テープでは達成できない優れた耐
久性を確保する粘弾性特性、密着強度、鋼球摩耗、残留溶剤、ゾル分率などの特
性にある。 以上本発明の第１〜第５のポイントが相互に有機的に補充的に、相剰的に更に
は総合的に作用し合い、今までにない新たな層構成が超薄層、超平滑、超高充填
を可能とし従来の単層塗布技術では困難だった画期的な高域特性と、優れた中、
低域特性が実現したものである。 【００３８】 まず本発明の第１のポイントについて述べる。 すなわち本発明の上記目的は非磁性支持体上に少なくとも非磁性粉末を結合剤
に分散した下層非磁性層を設け、その上に前記下層非磁性層が湿潤状態のうちに
、強磁性粉末を結合剤に分散した上層磁性層を設けた少なくとも二層以上の複数
の層を有する磁気記録媒体において、前記上層磁性層の乾燥厚み平均値（ｄ）が
１．０μｍ以下であり、かつ前記上層磁性層と下層非磁性層の界面における厚味
変動の平均値ΔｄがΔｄ≦０．５０ｄの関係にあることを特徴とする磁気記録媒
体によって達成できる。 【００３９】 すなわち本発明の第１のポイントは超薄層磁性層を実現したものである。自己
減磁の原理から磁性層の断面積が小さくなるほど損失は小さくなるので短波長信
号の出力アップのためには、磁性層の超薄層化が不可欠であることを見出したも
のである。しかも１μｍ以上の厚みでは効果が小さく、一般に記録波長の１／４
といわれている有効記録厚みに近づくほど、すなわち飽和記録に近づくほど、そ
の効果が大きくなるため、サブミクロン単位の超薄層化が必要である。 【００４０】 従来の単層塗布技術では、サブミクロン領域の薄層塗布自体が難しい上、薄層
にすればするほど均一な厚みの確保や超平滑化が難しく、また、安定して大量に
供給することが極めて困難であった。 しかし従来のダブルコーティング技術を革新し、下層で微粒子無機粉を含む非
磁性層をＷｅｔ ｏｎ Ｗｅｔで設け、磁性層の厚み変動の平均値が厚みの１／
２以下、磁性層厚みの標準偏差を０．２μｍ以下とすることにより従来の一般的
なＨｉ８ ＭＰテープの１／３〜１／１０以下という従来の技術では困難であっ
た画期的な超薄層磁性層が自己減磁損失を低減させ、輝度信号出力の大巾な向上
を実現したものである。 【００４１】 自己減磁の原理は以下のようである。 磁化された磁石の磁極は、磁石の外部だけでなく、内部にも磁界を作る。磁石
内部の磁界は、磁化の方向と逆向きであり、磁化を減少させる方向に働く。この
内部磁界のことを「反磁界」と言い、これによって生じる磁化の減少が「自己減
磁」である。 【００４２】 そして、その大きさは、磁石の形状に依存する。つまり、断面積が小さいほど
、また磁極間の距離が大きいほど反磁界が小さくなり、自己減磁は起きにくくな
る。 全く形状の異なる、縫い針とパチンコ玉を例にとって説明すると、いずれも鉄
製で、磁石にくっつくが、縫い針は自己減磁が小さいのでそれ自信が磁石になり
易く、一方、パチンコ玉は自己減磁が大きいので、自分自身は磁石にはなりにく い性質を持っている。 【００４３】 これを磁気テープに置き換えた場合、長波長（低域）記録では反磁界は小さい
が、短波長（高域）記録になるほど、磁化の磁極間距離が小さくなって反磁界が
増大し、自己減磁による損失が大きくなる。これが、テープの高域特性を劣化さ
せる一つの大きな要因である。 この自己減磁損失を小さくするためには、自己減磁の原理に従って、断面積を
小さくすること、すなわち磁性層の厚みを薄くすることが有効である。しかも、
自己減磁損失は飽和記録に近づくほど小さくなって出力が向上するため、記録波
長の１／４といわれる有効磁性層厚みに近づける。サブミクロン領域の超薄層化
が必要である。 【００４４】 Ｈｉ８の最短記録波長は０．４９μｍと、極めて短波長であり、これが磁性層
厚み約０．２μｍと極めて薄いＭＥ（蒸着）テープと同様に優れた高域特性をも
つ理由のひとつである。 一方、塗布型ＭＰテープの磁性層厚みは約３μｍであり、これまでの塗布方式
では記録波長よりかなり厚くならざるをえず、自己減磁損失による高域特性の劣
化が、画質向上をはかる上で避けられない大きな壁であった。 【００４５】 しかし本発明により、このような壁を大きく打ち破ったのである。またスペー
ス損失も重要な要因である。 自己減磁と並び、高域特性劣化のもうひとつの大きな原因となっているのがス
ペース損失である。短波長ほどテープ表面に出る磁束が弱まるため、テープとビ
デオヘッドのごく僅かなスペーシングでも、大きな損失となる。スペース損失に
は、磁性層表面の粗さに起因するミクロ的なものと、テープの剛性に起因するマ
クロ的なものがある。前者は、いかに超平滑性を実現しながら安定した走行性を
確保するかが課題であり、特にＨｉ８のように、最短記録波長がＶＨＳの約４０
％という高密度記録では、その重要性がきわめて高くなる。後者はいわゆる「ヘ
ッド当り」と言われているもので、優れたテープ強度としなやかさをいかに両立 するかが課題である。これは短波長記録に限らず画質への影響が非常に大きくな
るものである。本発明はこのスペース損失の問題も一挙に解決したものである。 【００４６】 次に本発明の第２のポイントについて述べる。 すなわち本発明は、前記上層磁性層の乾燥厚みｄが１．０μｍ以下であり、且
つ前記上層磁性層表面の走査型トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）法による２乗平均粗さ
Ｒ_rmsが前記上層磁性層の乾燥厚みｄとの間に３０≦ｄ／Ｒ_rmsの関係があるこ
とが好ましい。 【００４７】 本発明の第２のポイントは、磁性層表面の超平滑化である。ダブルコーティン
グ技術は、元来、優れた平滑性を実現できる技術である。それは、ベースフィル
ム表面の凹凸を下層磁性層が吸収し、上層へその凹凸の影響を伝えにくくするか
らである。 しかし、０．５μｍ以下の、より短波長でのごく僅かなスペース損失をも問題
にし、さらなる平滑性を目指した時、従来技術だけでは限界があった。 【００４８】 記録メカニズム上、上層には高域特性に優れた超微粒子磁性体を使用する必要
があり、比較的大きな下層非磁性粉末によって起こる粒子サイズ単位のごく微小
な上下層界面の乱れさえも、徹底的に追求する必要があるからである。特に、上
層を超薄層にするほど、界面の平滑性が磁性層表面の平滑性に与える影響が大き
くなり、この課題の解決が一段と重要であった。 【００４９】 本発明では、上下層界面の超平滑化をはかるため、下層非磁性粒子の超微粒子
化と、その高密度充填化を追求した。 しかし一方では、きわめて微粒子のため、そのままでは均一に、かつ高密度に
充填させることが困難であり、そこで超微粒子のひとつひとつの表面に特殊表面
処理を施し、分散性を高めることで、高密度充填を実現し、上下層界面の平滑さ
を飛躍的に高めたものである。 【００５０】 また、この非磁性層は高密度充填層であるため、テープの面方向に対しては自
由度が高く、優れたしなやかさを持ちながら、厚み方向の力に対しては、きわめ
た高い剛性を発揮し、カレンダー処理による平滑化効果を、一段と高めたもので
ある。 その結果、Ｈｉ８ ＭＰ−ＤＣに比べ、さらに２０％もの平滑化を実現し、磁
性層の表面粗さ２．５ｎｍを達成した。下層に非磁性層を設けたＷｅｔ ｏｎＷ
ｅｔだからこそ実現できた超平滑性が、短波長領域におけるスペース損失を大巾
に低減し、高域特性を向上させることができたものである。 【００５１】 次に本発明の第３のポイントについて述べる。 すなわち本発明は、前記上層磁性層に含まれる強磁性粉末が、長軸長が０．３
μｍ以下で、且つＨｃが１５００Ｏｅ以上の針状強磁性合金粉末あるいは板径０
．３μｍ以下の粉末であり、且つＨｃが１０００Ｏｅ以上の板状強磁性粉末であ
ることが好ましい。 【００５２】 すなわち本発明の第３のポイントは、磁気テープの性能向上技術の基本である
磁性層の高出力・低ノイズ化である。短波長での特性向上を徹底追求するために
は、信号損失の極小化とともに、「磁性体の超微粒子化、高エネルギー化と、そ
の高密度充填化」による磁性層自体の高出力、低ノイズ化が不可欠である。 次に本発明の第４のポイントについて述べる。 【００５３】 すなわち本発明は、前記磁気記録媒体の塗布方向ステイフネスＳMDと塗布方向
に対して幅方向のステイフネスＳTDとの比ＳMD／ＳTDが１．０〜１．９であるこ
とが好ましい。具体的には前記下層非磁性層に含まれる無機質粉末のモース硬度
が６以上、平均粒径が０．１５μｍ以下の球状から立方体状までの多面体状無機
質粉末からなることが好ましい。 【００５４】 又、本発明は、前記磁気記録媒体の８０℃、３０分間に於ける熱収縮率が０．
４％以下であることが好ましく、具体的には前記下層非磁性層の乾燥厚みが前記 上層磁性層の乾燥厚みの１倍〜３０倍であり、且つ前記下層非磁性層の粉体体積
比率と前記上層磁性層の粉体体積比率との差が、−５％〜＋２０％の範囲にある
ことが好ましい。 【００５５】 すなわち本発明の第４のポイントは高密度充填であり、本発明の磁性体の高密
度充填を可能にしたのが下層の非磁性層である。平滑で、かつ厚み方向に対して
きわめて剛性の高い非磁性層が、スーパーＨＤＰ（Ｈｉｇｈ Ｄｅｎｓｉｔｙ
Ｐａｃｋｉｎｇ）カレンダーの強力な圧力をしっかりと受け止め、従来にない画
期的な高密度充填を実現した。 【００５６】 又磁性層の超薄層化によって高域特性を徹底追求すると、従来の技術では中・
低域特性が低下し、優れたカラー特性が得られなくなる。しかし、本発明の下層
非磁性層がこれを解決した高エネルギー磁性体の画期的な高充填化を可能にし、
高域出力の大幅な向上と同時に、高い中・低域特性を確保し優れたカラー出力を
実現できたものである。 【００５７】 すなわち本発明では従来塗布型の磁気記録媒体では不可能と考えられていた蒸
着テープに匹適するほどの高密度記録が達成できたものであり、これは前記下層
非磁性層が湿潤状態のうちに前記上層磁性層を設けるいわゆるＷｅｔ ｏｎ Ｗ
ｅｔ法によって、均一な上層磁性層を乾燥厚み１．０μｍ以下という薄層で形成
できたこと、及び、従来このようなＷｅｔ ｏｎ Ｗｅｔ法による磁気記録媒体
法では達成されていなかった上層磁性層の乾燥厚みの平均値が１μｍ以下であり
、かつ前記上層磁性層と下層非磁性層の界面における厚み変動の平均値ΔｄをΔ
ｄ≦ｄ／２の関係にしたことによって初めて現実に実用可能な、塗布型で蒸着テ
ープに匹敵する高密度記録媒体が得られたものである。従来乾燥厚さ１．０μｍ
以下の上層磁性薄層、下層非磁性層の磁気記録媒体は特許出願として散見される
のみであり、今だかつて現実に市販されるような製品は見出されていなかった。
本発明はこのような従来の常識を初めて破る画期的な発明である。 【００５８】 ここでΔｄの定義、測定方法は以下の通りである。 ここで上層磁性層の厚みと界面変動Δｄの求め方は以下の通りである。 すなわち磁気記録媒体を長手方向にわたってダイアモンドカッターで約０．１
μｍの厚みに切り出し、透過型電子顕微鏡で倍率１００００〜１０００００倍好
ましくは２００００〜５００００倍で観察し、その写真撮影を行った。写真のプ
リントサイズはＡ４〜Ａ５で行った。その後、上層磁性層、下層非磁性層の磁性
体や非磁性粉末の形状差に注目して界面を目視判断して黒くふちどり、かつ磁性
層表面も同様に黒くふちどりをした。その後Ｚｅｉｓｓ社製画像処理装置ＩＢＡ
Ｓ２にてふちどりした線の間隔の長さを測定した。これにより上層磁性層厚みの
平均値を求めた。間隔の長さは長さ２１ｃｍの間隔を１００〜３００にセグメン
ト化してその長さを測定した。 【００５９】 上層磁性層と下層非磁性層との界面における厚み変動の平均値Δｄは、長さ２
０μｍ（実長）中の磁性層と下層非磁性層の前記ふちどりをした界面が形成する
山の頂きと谷の底部の厚さ方向の距離（Δｄ_i）を１０〜２０ヵ所（２０μｍ中
全て）求めその総和の平均値とした。 即ち、本発明においては、該界面を形成する曲線は理想的にはｄが一定な直線
であることが最も好ましい態様であるが、現実的には従来に比べ振幅の小さなか
つ山と谷の間隔が長い滑らかなサイン曲線に類似した曲線が形成されたものが好
ましく、山及び谷の数は、２０μｍ長に最大各１０〜２０個程に制限されること
が好ましい（図１参照）。 【００６０】 即ちΔｄは下式より求まる。 Δｄ＝（Δｄ₁ ＋Δｄ₂ ＋… ＋Δｄ_m）／ｍ （ｍ＝１０〜２０） 又、界面が形成する曲線の山−山間の距離（Ｌ）は、好ましくは１μｍ以上、
特に好ましくは２μｍ以上が好ましい。 又、本発明においては、前記１００〜３００にセグメント化した各磁性層厚み
の値を統計処理で用いるものと全く同じものを使用して標準偏差σを求めること
ができる。この標準偏差σは０．２μｍ以下であることが好ましい。 【００６１】 本発明の第１のポイントは、非磁性支持体上に少なくとも非磁性粉末を結合剤
に分散した下層非磁性層を設け、その上に前記下層非磁性層が湿潤状態のうちに
、強磁性粉末を結合剤に分散した上層磁性層を設けた少なくとも二層以上の複数
の層を有する磁気記録媒体において、前記上層磁性層の乾燥厚み平均値（ｄ）が
１．０μｍ以下であり、かつ前記上層磁性層と下層非磁性層の界面における厚味
変動の平均値ΔｄがΔｄ≦０．５ｄの関係にあることを特徴とする磁気記録媒体
によって達成でき、好ましくは、前記上層磁性層の乾燥厚味の測定値の平均値の
標準偏差σが０．２μｍ以下であることを特徴とする磁気記録媒体によって達成
できる。 【００６２】 上記規定を達成するための具体的手段としては、以下の２つがある。 第１の態様は、磁性層の磁性塗料と下層非磁性層の各分散液のチキソトロピー
性を互いに近似するように制御することであり、第２の態様は、下層非磁性層と
磁性層に含まれる粉体のサイズ、形状を規定して力学的に上層および下層に混合
領域が生じないように制御することである。 【００６３】 第１の態様の具体的方法としては、非磁性粉末を結合剤中に分散してなる分散
液が、チキソトロピー性を持ち、剪断速度１０⁴ｓｅｃ^-1での剪断応力 Ａ１０⁴
と剪断速度１０ｓｅｃ^-1での剪断応力 Ａ１０との比Ａ１０⁴／Ａ１０を１００
≧Ａ１０⁴／Ａ１０≧３に調整することである。 このようなチキソトロピー性を有するための具体的な手段としては以下の４つ
がある。本発明の磁気記録媒体はこの４つに限定されるものではなく、あくまで
もその本質とするところは前記分散液のチキソトロピー性を前記磁性塗料のチキ
ソトロピー性と同一又は近似した値にすることであり、更に具体的にはＡ１０⁴
／Ａ１０の値の範囲とすることにある。 （Ａ）下層非磁性層の前記粉末が少なくともカーボンブラックと前記下層非磁性
層の乾燥厚みより小さい平均一次粒子径の無機粉末を含みかつ前記下層非磁性層
と上層磁性層に熱硬化系ポリイソシアネートを結合剤中に１０〜７０重量％含む こと。 （Ｂ）下層非記録層の粉末が平均一次粒子径０．０８μｍ以下である非金属無機
粉末を含むこと。 （Ｃ）上層磁性層の乾燥厚みが１．０μｍ以下で、且つ前記下層非磁性層の飽和
最大磁束密度Ｂｍが３０〜５００ガウスであるようにチキソトロピー性を付与す
る磁性粉末を使用すること。ただし、下層非磁性層は記録に関与しない。 （Ｄ）上層磁性層の強磁性粉末が長軸長が０．３μｍ以下、結晶子サイズが３０
０ｎｍ以下であり、下層に非磁性粉末として非磁性金属酸化物粉末と平均粒径が
２０ｎｍ未満のカーボンブラックを９５／５〜６０／４０の割合で含み、かつ少
なくとも下層に一分子中に３個のＯＨ基を有するポリウレタンとポリイソシアネ
ート化合物を含むこと。 【００６４】 これら、（Ａ）〜（Ｄ）は、Ａ１０⁴／Ａ１０を前記範囲に調整するための好
適な手段を示したものであるが、これらは、例えば、下記の因子とも互いに関係
（重複した記載も含む）があり、種々選定することにより、所望のＡ１０⁴／Ａ
１０を有する分散液、磁性塗料を得、ひいては所期の特性を有する磁気記録媒体
を製造することができる。 【００６５】 該因子としては、例えば、分散される無機粉末あるいは磁性粉末に関しては、
（１）粒子サイズ（比表面積、平均一次粒子径等）、（２）構造（吸油量、粒子
形態等）、（３）粉体表面の性質（ｐＨ、加熱減量等）、（４）粒子の吸引力（
σ_s等）等、結合剤に関しては、（１）分子量、（２）官能基の種類等、溶剤に
関しては（１）種類（極性等）、（２）結合剤溶解性、（３）溶剤処方量等、含
水率等が挙げられる。 【００６６】 次に第２の態様の具体的手段としては、下記（Ｅ）〜（Ｇ）が挙げられるが、
あくまでもその本質とするところは前記下層非磁性層と上層磁性層の間に混合領
域をなくすことにあり、これらは単なる例示にすぎない。 （Ｅ）下層に含有される非磁性粉末の最も長い軸長ｒ₁と最も短い軸長ｒ₂との 比ｒ₁／ｒ₂を２．５以上にすること。 （Ｆ）非磁性粉末が針状比が２．５以上であり、かつ強磁性粉末の最も長い軸長
の平均径を０．３μｍ以下とすること。 （Ｇ）下層非磁性層に鱗片状の非磁性粉末と分子量３万以上のエポキシ基を含む
結合剤を含ませ、かつ上層磁性層に針状の強磁性粉末又は板状の強磁性粉末を含
ませること。 【００６７】 これらは、下層非磁性層と上層磁性層との界面において混合領域が生じないよ
うにするため、下層非磁性層に針状非磁性粉末あるいは鱗片状非磁性粉末を用い
ている。従来の粒状の非磁性粉末に比べ、針状の非磁性粉末が整列して存在する
と未乾燥状態でも強固な塗膜を形成し、上層磁性層の強磁性粉末が回転しても、
その界面で混合を生じない。又、混合領域が生じないようにするためのもう１つ
の手段は下層非磁性層に鱗片状の非磁性粉末を用いて、いわばタイル状に敷きつ
めることであり、上記と同様、上層磁性層の強磁性粉末が回転してもその界面で
混合が生じない。 【００６８】 このタイル状に敷き詰めることは、分散性を改良するため分子量３万以上のエ
ポキシ基を含む結合剤を用いることが好ましい。 このように下層非磁性層に形状的に特徴のある非磁性粉末を用い、その上に上
層磁性層を設けることにより、界面に混合領域が生じず、従って、極めて薄層な
、かつ平滑な磁性層が得られる。 【００６９】 また、本発明の磁気記録媒体は、磁性層の乾燥厚味平均値ｄが最短記録波長λ
に対してλ／４≦ｄ≦３λかつ前記磁性層の表面粗さＲａがＲａ≦λ／５０の関
係にあることが好ましい。 このための好適な粉体構成は、磁性層中の前記強磁性粉末は長軸長が０．３μ
ｍ以下の針状強磁性粉末あるいは板径が０．３μｍ以下の板状強磁性粉末である
こと、下層非磁性層中の非磁性粉末が、平均粒径がλ／４以下の粒状粒子、もし
くは長軸長が０．０５〜１．０μｍで針状比が５〜２０の針状粒子、又は板径が ０．０５〜１．０μｍで、かつ板状比が５〜２０の板状粒子であることが好まし
い。 【００７０】 このような本発明の表面性を達成するのは、前記上層磁性層平均厚味の標準偏
差を０．２μｍ以下にする発明もベースにすると共に以下の（Ｈ）〜（Ｊ）の４
つの手段によって達成できる。 （Ｈ）下層非磁性層に含まれる非磁性粉末がモース硬度３以上の無機質粉末を含
み、上層磁性層に含まれる強磁性粉末が針状の強磁性粉末であり、前記無機質粉
末の平均粒径が針状の強磁性粉末の結晶子サイズの１／２〜４倍であること。 （Ｉ）下層非磁性層に含まれる非磁性粉末がモース硬度３以上の無機質粉末を含
み、上層磁性層に含まれる強磁性粉末が針状の強磁性粉末であり、前記無機質粉
末の平均粒径が針状の強磁性粉末の長軸長の１／３以下であること。 （Ｊ）上層磁性層に含まれる強磁性粉末が、磁化容易軸が平板の垂直方向にある
六角板状の強磁性粉末であり、且つ下層非磁性層に含まれる非磁性粉末が無機質
粉末を含み、その平均粒径が前記上層磁性層に含まれる強磁性粉末の板径以下で
あること。 （Ｋ）下層非磁性層に含まれる無機質粉末が無機質酸化物で被覆された表面層を
有する無機質非磁性粉末を含むこと。 【００７１】 上記に述べた夫々の作用効果は以下の通りである。 先ず、（Ｈ）について述べる。 上層磁性層を１μｍ以下の極薄層に塗布するためには湿潤重層塗布が必要であ
るが、その際、下層非磁性層に含まれる無機質粉末の粒子径と上層磁性層に含ま
れる強磁性粉末の結晶子サイズとが関連して細かい表面粗さが決定される。結晶
子サイズは針状の強磁性粉末の場合は、概ね短軸径に対応する。下層非磁性層の
無機質粉末の平均粒径が針状の強磁性粉末の結晶子サイズの１／２以下であると
分散そのものが困難になり、平滑な下層表面が得られないので、できあがった磁
気記録媒体の表面平滑性も不十分になる。逆に下層の無機質粉末の平均粒径は強
磁性粉末の結晶子サイズの４倍を越えると下層粉体粒子間の粒子間距離が広がる ために、上層強磁性粉末が下層の表面性の影響を受けるので十分な表面性を得る
ことができない。実施例に示すように十分な表面性を得るためには上層針状強磁
性粉末結晶子サイズの１／２〜４倍、更に好ましくは２／３〜２倍の平均粒径を
有する無機質粉末が好ましいのである。無機質粉末の形状としては、球状、サイ
コロ状が好ましい。また、モース硬度は３以上、好ましくは４以上、更に好まし
くは６以上である。 【００７２】 又、無機質粉末の下層における体積充填率が２０〜６０％、更に好ましくは２
５〜５５％の範囲であることが望ましい。 上記のような下層非磁性粉末粒子径と上層強磁性粉末の結晶子サイズとの関係
で表面粗さを小さくするためには下層粉体の体積充填率に好ましい範囲がある。
体積充填率が２０％以下であると下層粉体粒子間の距離が大きくなり、上層磁性
層表面が下層粉体表面の粗さの影響を被るようになり、また、下層に上層強磁性
粉末が混入することにもなり、非常に激しく表面が粗くなる。また、角形比が低
下することにもなる。また、体積充填率が６０％以上であると分散液の粘度が非
常に高くなり、実質的に塗布することが不可能になる。塗布されても走行耐久性
の面で粉落ち等の問題を生ずる また、無機質粉末は、非磁性粉末のうち重量比率で６０％以上含むことが好ま
しく、無機質粉末としては、金属酸化物、アルカリ土類金属塩等であることが好
ましい。また、カーボンブラックを添加することにより公知の効果（例えば、表
面電気抵抗を低減する）を期待できるので、上記無機質粉末と組み合わせて使用
することが好ましいが、カーボンブラックは分散性が非常に悪いので、カーボン
ブラック単独では十分な電磁変換特性を確保することができない。良好な分散性
を得るためには重量比率で６０％以上を金属酸化物、金属、アルカリ土類金属塩
から選択する必要がある。無機質粉末が非磁性粉末の重量比率で６０％未満、カ
ーボンブラックが非磁性粉末の４０％以上であると分散性が不十分となり所望の
電磁変換特性を得ることができなくなる。 【００７３】 次に（Ｉ）について以下に説明する。 湿潤重層塗布で電磁変換特性を良好に保つためには角形比を大きくする必要が
あるが、上層強磁性粉末に対して下層非磁性層の無機質粉末の平均粒径が大きい
と下層粒子間の間隙が大きくなり、特に上層と下層との界面で強磁性粉末の配向
の乱れが生じ、（Ｈ）と同様に磁性層表面性を悪化させる。配向の乱れを少なく
するためには強磁性粉末長軸方向に渡って細かい非磁性粉末を並べるようにして
、強磁性粉末の長手方向に渡って配向が乱れないように支えてやる必要がある。
そのための要件を実験的に確認したところ、角形比が単層磁性層と同等になるの
は針状強磁性粉末の場合、長軸長の１／３以下、更に好ましくは１／３〜１／２
０の無機質粉末を使用すると良好な表面性と角形比を得ることができる。 【００７４】 また、（Ｊ）では上記針状強磁性粉末に代わって同様な考え方で６角板状強磁
性粉末を使用すると垂直方向に配向して界面の乱れが少なくなり、角形比を高く
することができる。下層に使用する無機質粉末は、その板径以下、更に好ましく
は板径以下から板径の１／５以上であることが好ましい。 （Ｉ）及び（Ｊ）では、（Ｈ）と同様な理由から、無機質粉末の下層における
体積充填率は２０〜６０％が好ましい。 【００７５】 また、磁性層の厚味が長軸長の５倍以下であるとカレンダーによる充填度向上
がめざましく、より電磁変換特性の優れた磁気記録媒体が得られる。 無機質粉末の好ましい種類、性質は、（Ｈ）と同様である。 次に（Ｋ）について説明する。 下層非磁性層に含まれる無機質粉末の表面に被覆される無機質酸化物としては
、好ましくはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、Ｚｎ
Ｏ等が好ましく、更に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂である。これら
は、組み合わせて使用してもよいし、単独で用いることもできる。又、目的に応
じて共沈させた表面処理槽を用いても良いし、先ずアルミナで処理した後にその
表層をシリカで処理する構造、その逆の構造を取ることもできる。また、表面処
理層は、目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般に
は好ましい。 【００７６】 例えば、非磁性無機質粉末の表面処理は、非磁性無機質粉末素材を乾式粉砕後
、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒分級が行われる。その後、
微粒スラリーは表面処理槽に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行われる
。まず、所定量のＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎなどの塩類水溶液
を加え、これを中和する酸、またはアルカリを加えて、生成する含水酸化物で無
機質粉末粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカンテーション、濾過、
洗浄により除去し、最終的にスラリーｐＨを調節して濾過し、純水により洗浄す
る。洗浄済みケーキはスプレードライヤーまたはバンドドライヤーで乾燥される
。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕され、製品になる。また、水系ばかり
でなくＡｌＣｌ₃、ＳｉＣｌ₄の蒸気を非磁性無機質粉末に通じ、その後水蒸気を
流入してＡｌ、Ｓｉ表面処理を施すことも可能である。 【００７７】 その他の表面処理法については、「Characterization of Powder Surfaces」
，Academic Pressを参考にすることができる。 本態様は、記録波長に応じた磁性層の最適厚み範囲と下層非磁性層と磁性層界
面における厚み変動（即ち、該界面の厚み方向における変動幅）を規定すること
により、磁性層表面粗さが規定かつ改善され、ひいては磁性層の厚みを薄くかつ
均一、一様に形成されるので記録波長が短くなっても再生出力変動、振幅変調ノ
イズを防止し、高再生出力、高Ｃ／Ｎを実現することができる。 【００７８】 言い換えれば、従来、磁性層が薄くなった時、記録波長が短くなると磁性層全
層が記録再生に寄与するので、磁性層の厚さが変動すると再生出力変動、振幅変
調ノイズがみられたが、本発明はこの欠点を解決したものである。 【００７９】 本発明において、最短記録波長λは、磁気記録媒体の種類により種々異なるが
、例えば、８ｍｍメタルビデオでは０．７μｍ、デジタルビデオでは、０．５μ
ｍ、デジタルオーディオでは０．６７μｍが挙げられる。 【００８０】 本発明の磁性層の厚みｄの範囲は、λ／４≦ｄ≦３λ、好ましくは、λ／４≦
ｄ≦２λ（即ち、０．２５≦ｄ／λ≦２）である。また、本発明の磁性層の厚み
平均値ｄは、通常０．０５μｍ≦ｄ≦１μｍ、好ましくは、０．０５μｍ≦ｄ≦
０．８μｍの範囲である。 【００８１】 該磁性層厚みは、前記の通り実測して求められるが、蛍光Ｘ線で磁性層中に特
有に含まれる元素について、既知厚みの磁性層サンプルを測定し、検量線を作成
し、次いで、未知資料のサンプルの厚みを蛍光Ｘ線の強度から求めることもでき
る。 本発明は、Δｄを０．５０ｄ以下、即ち、Δｄ／ｄを０．５０以下、好ましく
は、０．３以下、更に好ましくは０．２５以下に制御する。また、Δｄの範囲は
、０．００１〜０．５μｍ、好ましくは０．０３〜０．３μｍ、更に好ましくは
０．０５〜０．２５である。これにより、磁性層厚みの一様性を確保すると共に
表面粗さＲａをＲａ≦λ／５０、即ちλ／Ｒａを５０以上、好ましくは７５以上
、更に好ましくは８０以上に規制することができる。また、本発明においてＲａ
は、光干渉粗さ計を用いて測定した中心線平均粗さを測定した値をさす。 【００８２】 本発明の磁気記録媒体は、下層非磁性層が湿潤状態の内に上層磁性層を塗布し
て形成されるが、この場合、同時重層塗布でも逐次でも下層非磁性層が湿潤状態
であればかまわないが、同時重層塗布が好ましい。 【００８３】 即ち、本発明により、例えば、１μｍ以下の磁性層を下層非磁性層と同時塗布
することで、磁性層を単独で薄くした場合あるいは、下層非磁性層が乾燥状態の
逐次で積層した場合問題となる塗布欠陥を防止できる。 【００８４】 本発明において、磁性層の厚みに関しては、単に薄くすればよいとは言えず、
本発明者らは、最短記録波長λに対して最適な範囲があることを見出した。すな
わち、磁性層厚みがλ／４より薄くなると再生に寄与する磁束が減少し出力は低
下する。また、３λを越えると同時に記録する記録波長が長い成分の深層記録磁 界により短波長成分が減磁するので、出力が低下する。従って、ｄ≦３λ、好ま
しくは、ｄ≦２λが良い。 【００８５】 また、媒体の基本性能であるＣ／Ｎをとらえた場合には、従来の厚膜磁性層で
問題とされた磁性層表面の凹凸（いわゆる表面粗さ）に加えて、非磁性層と磁性
層界面での厚み変動が問題となり、これは、磁性層厚みｄがλ／４≦ｄ≦３λの
範囲になると、再生出力は磁性層全体の磁束量の影響を受ける様になるためで、
従来の厚膜磁性層では問題ではなかったことである。本発明は、この問題に対し
て、下層非磁性層と磁性層界面の厚み変動の平均値Δｄが磁性層厚みｄの１／２
以下であることが要求されることを見出したものである。また、磁性層表面の粗
さに関しては従来の厚膜磁性層と同様に平滑なことが要求され、表面粗さＲａが
、Ｒａ≦λ／５０の関係を満たすことが必要である。 【００８６】 この発明によって、真空中での処理が前提であり、腐食に弱い金属薄膜媒体の
生産性、信頼性の問題がなく、電磁変換特性が金属薄膜に匹敵し、しかも生産性
に優れた高性能塗布型磁気記録媒体を得ることができる。 本発明の第２のポイントを達成する態様は、磁性層表面の走査型トンネル顕微
鏡（ＳＴＭ）法による２乗平均粗さ Ｒ_rmsが前記磁性層の乾燥厚味平均値ｄと
の間に３０≦ｄ／Ｒ_rmsの関係があることである。 【００８７】 磁性層厚味が薄くなると、自己減磁損失が低減して出力向上が図れるはずであ
るが、磁性層厚味低減により押されしろが少なくなるためにカレンダー成形性が
悪くなり、表面粗さが大きくなる。自己減磁損失低減による出力向上を図るため
には上式の関係を満たすＳＴＭによる表面粗さが好ましい。 ＡＦＭによるＲ_rmsは、１０ｎｍ以下が好ましい。３ｄ−ＭＩＲＡＵで測定し
た光干渉表面粗さＲａは１〜４ｎｍ、Ｐ−Ｖ値（Ｐｅａｋ−Ｖａｌｌｅｙ）値は
、８０ｎｍ以下であることが好ましい。 【００８８】 磁性層表面の光沢度は、カレンダー処理後で２５０〜４００％が好ましい。 また本発明の第３のポイントを達成するためには、前記上層磁性層に含まれる
強磁性粉末が、長軸長が０．３μｍ以下で、且つＨｃが１５００Ｏｅ以上の針状
強磁性合金粉末あるいは板径０．３μｍ以下で、且つ粉末であり、且つＨｃが１
０００Ｏｅ以上の板状強磁性粉末であることが好ましい。 【００８９】 該強磁性粉末としては、針状強磁性合金粉末、及び板状の六方晶フェライト系
強磁性体（Ｂａフェライト、Ｓｒフェライト等）、及び板状Ｃｏ合金粉末が使用
できる。Ｈｃ，飽和磁化(σ_s)、は適宜選択してよいが、特に最短記録波長が１
μｍ以下の短波長記録には、Ｈｃが１５００（Ｏｅ）以上が好ましい。磁性体の
サイズは一般的に高密度記録に対して適合するための針状のもので長軸長０．３
μｍ以下、板状のもので板径０．３μｍ以下のものを用いる。 【００９０】 本発明の第４のポイントを達成するためには、前記磁気記録媒体の塗布方向ス
テイフネスＳMDと塗布方向（長手方向）に対して幅方向のステイフネスＳTDとの
比ＳMD／ＳTDが１．０〜１．９であることが好ましい。 ステイフネスを上記値とするためには前記下層非磁性層に含まれる無機質粉末
のモース硬度が６以上、平均粒径が０．１５μｍ以下の球状から立方体状までの
多面体状無機質粉末のものを使用することが好ましい。 【００９１】 スチフネスの発明の作用機構は以下の通りである。 本態様は、磁気記録媒体のＳMD／ＳTDを制御することにより、磁気記録媒体の
力学的特性を制御して、磁気記録媒体のヘッド当たりを改善すると共に特に短波
長記録における電磁変換特性を改善したものである。 即ち、本態様は、ＳMD／ＳTDを１．０〜１．９に制御するものである。 【００９２】 塗布方向のスティフネスＳMD及び幅方向のスティフネスＳTDは、共に市販のス
ティフネステスターを使用して測定できる。例えば、東洋精機社製ループスティ
フネステスターを使用し、製造した磁気記録媒体を幅８ｍｍ、長さ５０ｍｍの試
料をＳMDの測定用には試料長さ方向が磁気記録媒体の塗布方向と同じになるよう に、ＳTDの測定用には試料長さ方向が磁気記録媒体の幅方向と同じになるように
切り出してこれを円環として、内径方向に変位速度３．５ｍｍ／秒で変位５ｍｍ
を与えるに要する力をｍｇで表した値を各ＳMD、ＳTDとすることができる。 【００９３】 ここで、ＳMD／ＳTDは、１．０〜１．９、好ましくは１．１〜１．８５に制御
される。また、全厚み１３．５±１μｍの磁気記録媒体においてはＳMDは、５０
〜２００ｍｇ、好ましくは５０〜１５０ｍｇ、ＳTDは、４０〜１５０ｍｇ、好ま
しくは５０〜１３０ｍｇである。 ＳMD／ＳTDの値を制御する手段は特に制限はないが、好ましくは下層無機質粉
末の形状及びモース硬度を選択することが望ましく、下層に含まれる無機質粉末
として、モース硬度が６以上、好ましくは６．５以上、平均粒径が０．１５μｍ
以下、好ましくは０．１２μｍ以下の球状から立方体状までの多面体状無機質粉
末を選択することが望ましい。 【００９４】 磁気記録媒体のヘッド当たりを良好にするためにはテープの各スティフネスを
ある程度高くすることが必要であり、そのためには、配合する粉体の硬さは硬い
方が好ましい。モース硬度が６未満であると各スティフネスが低くなり、良好な
ヘッド当たりが確保できない。また、平均粒径が０，１５μｍ以下と小さい方が
、ヘッド当たりが良好である。これは、結合剤との接触界面が増加するために変
形に強くなり、各スティフネスＳMD、ＳTDが向上するためと考えられる。本発明
においては、このＳMD／ＳTDを上述の範囲に調整する。 【００９５】 特に、電磁変換特性に効果が高いのは、ＳTDがＳMDに近いこと、即ち１に近い
ことである。下層に含まれる無機質粉末を球状から立方体までの多面体形状にす
ると塗膜の力学物性が等方的になるので、ＳTDを向上させるのに都合がよい。 ここで、多面体形状とは、具体的には球状、一面が正方形、正５角形、正６角
形等の正ｎ角形あるいは単なるｎ角形等から１種以上選択される正多面体あるい
は非正多面体等が例示できるが、好ましくは任意に選択した２つの軸比が０．６
〜１．４、好ましくは０．７〜１．３の範囲にあるものが望ましい。 【００９６】 本発明の第４のポイントを達成するための他の態様としては、前記磁気記録媒
体の８０℃、３０分間に於ける熱収縮率が０．４％以下であることであり、具体
的には前記下層非磁性層の乾燥厚みが前記上層磁性層の乾燥厚みの１倍〜３０倍
であり、且つ前記下層非磁性層の粉体体積比率と前記上層磁性層の粉体体積比率
との差が−５％〜＋２０％の範囲にあること、前記上層磁性層に含まれる強磁性
粉末の結晶子サイズが３００オングストローム以下であり、且つ前記下層非磁性
層に含まれる無機質粉末の平均粒子サイズが０．１５μｍ未満である粒状物、も
しくは平均長軸径０．６μｍ未満である針状物であること、前記下層非磁性層に
含まれる無機質粉末が酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、硫酸ストロ
ンチウム、シリカ、アルミナ、酸化亜鉛、α酸化鉄から選ばれた少なくとも１種
であること、前記下層非磁性層が平均粒径３０ｍμ以下であり、かつＤＢＰ吸油
量が３０〜３００ｍｌ／１００ｇで、ＢＥＴ法による比表面積が１５０〜４００
ｍ²／ｇであるカーボンブラックを第二成分として前記無機質粉末１００重量部
に対し、５０重量部未満の割合で含むことである。 【００９７】 本態様は、磁性層厚味が１μｍ以下の自己減磁損失が改善された塗布型磁気記
録媒体がピンホール、すじなどの塗布欠陥なく生産性よく製造でき、かつ磁気記
録媒体の熱収縮を所定の値以下に抑制したものである。 即ち、本態様は７０℃、４８時間保存後における熱収縮率を０．４％以下に制
御したことにより、スキュー歪みを改善、低減し、しかも強磁性金属薄膜に匹敵
する電磁変換特性を有する磁気記録媒体を提供するものである。 【００９８】 言い換えれば、本態様は、磁性層が極めて薄い磁気記録媒体を生産性よく製造
し、かつスキュー歪みを小さくする適切な磁気記録媒体の強度を上記熱収縮率で
規定できることを見出したものである。 ここで、該熱収縮率は、１００×（加熱前の室温における磁気記録媒体の長さ
−７０℃の環境下４８時間磁気記録媒体をテンションを与えずに保持した後の長
さ）÷（加熱前の室温における磁気記録媒体の長さ）で示される値である。 【００９９】 本態様において熱収縮率を制御する手段としては、特に制限なく、任意の方法
が適用できる。該制御手段としては、具体的には下記に挙げる例が好ましい。 下層非磁性層の乾燥厚味を上層磁性層の乾燥厚味の１倍〜３０倍、好ましくは
２〜２０倍に制御し、磁気記録媒体の伸び縮みを下層及び上層の膜強度で制御す
ることが挙げられる。該厚味比が１倍以下であると磁性層微粒子化による強度劣
化による熱収縮率増大を防ぐことができない。また、該厚味比が３０倍以上では
、塗布厚味が厚くなるために、残留溶剤が増加し、膜が可塑化する等の弊害がで
る。 【０１００】 また、下層及び上層の膜強度を調整する手段としては、下層非磁性層の粉体体
積比率と前記上層磁性層の粉体体積比率との差を−５％〜＋２０％、好ましくは
０〜１５％の範囲に制御することが挙げられる。ここで、−５％以下であると磁
性層の熱収縮率増大を抑止できず、また、２０％以上増量すると媒体自体が硬く
なりすぎて、粉落ちが多くなり、好ましくない。 【０１０１】 また、本発明において、上層の粉体体積比率は、１０〜５０％、好ましくは、
２０〜４５％の範囲が例示され、下層の粉体体積比率は、２０〜６０％、好まし
くは、２５〜５０％の範囲が例示される。 この各層の粉体体積比率は、添加する粉体と結合剤の各量を変更すること、各
層の粉体の粒子サイズ、形状で制御できる。結合剤量を増量すると相対的に粉体
体積比率が減少する。また、粉体の粒子サイズは細かい程、熱収縮率低減に効果
があるが、細かすぎると分散が困難になる。 【０１０２】 本態様において、好ましい態様を挙げると、例えば、強磁性粉末の粒子サイズ
としては、結晶子サイズが３００Å以下、好ましくは１００〜２５０Å、平均長
軸径が０．００５〜０．４μｍ、好ましくは０．１〜０．３μｍの範囲が望まし
く、平均長軸径／結晶子サイズは、３〜２５、好ましくは５〜２０の範囲が挙げ
られる。強磁性粉末をＢＥＴ法による比表面積で表せば２５〜８０ｍ²／ｇであ り、好ましくは３０〜７０ｍ²／ｇである。２５ｍ²／ｇ以下ではノイズが高くな
り、８０ｍ²／ｇ以上では表面性が得にくく好ましくない。 【０１０３】 また、下層の無機質粉末の粒子サイズ、形状としては、平均粒径が０．１５μ
ｍ未満、好ましくは０．００５〜０．７μｍである粒状物、平均長軸径が０．６
μｍ未満、好ましくは０．１〜０．３μｍであり、平均長軸径／短軸長で表され
る針状比が４〜５０、好ましくは５〜３０である針状物等が例示される。 無機質粉末としては、ルチル型酸化チタン、α酸化鉄、ゲータイトが好ましい
。 【０１０４】 また、下層に使用される粉体としては、カーボンブラックが挙げられる。この
カーボンブラックとしては、平均粒径が３０ｍμ以下、好ましくは５〜２８ｍμ
であり、且つＤＢＰ吸油量が３０〜３００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは５０〜２
５０ｍｌ／１００ｇで、ＢＥＴ法による比表面積が１５０〜４００ｍ²／ｇ、好
ましくは１７０〜３００ｍ²／ｇ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、
タップ密度は０．１〜１ｇ／ｃｃが好ましい。 【０１０５】 このカーボンブラックは、前記無機質粉末１００重量部に対し、５０重量部未
満、好ましくは１３〜４０重量部の割合で下層に添加されることが好ましい。 該カーボンブラックは、磁気記録媒体の帯電防止、膜強度の強化等の機能の他
、空隙率を制御することにより下層の粉体体積比率を制御するためにも使用され
る。即ち、空隙率が高いと相対的に粉体体積比率は低下するためである。このよ
な空隙率を制御するためのカーボンブラックとしては、構造を持ったカーボンブ
ラックや中空状カーボンブラックを使用すると効果がある。 【０１０６】 下層の空隙率は、上層の空隙率±１０％の範囲が好ましい。又、下層の空隙率
は、１０〜３０％の範囲にあることが好ましい。 本発明の第５のポイントは耐久性に係わるものである。 本発明の磁気記録媒体を引張り試験試験機で測定したヤング率が３００〜２０ ００Ｋｇ／ｍｍ²、好ましくは、４００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ²であり、前記磁性
層のヤング率が４００〜５０００Ｋｇ／ｍｍ²、好ましくは５００〜４０００Ｋ
ｇ／ｍｍ²、降伏応力は３〜２０Ｋｇ／ｍｍ²、好ましくは４〜１８Ｋｇ／ｍｍ²
、降伏伸びが０．２〜８％、好ましくは０．５〜５％であることが望ましい。 【０１０７】 これは、強磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、無機質粉末、支持体が係わ
ってくるので、耐久性に影響する。 又、本発明の磁気記録媒体の曲げ剛性（円環式スティフネス）は全厚が１１．
５μｍより厚い場合は好ましくは４０〜３００ｍｇ全厚が１０．５±１μｍでは
好ましくは２０〜９０ｍｇ又全厚が９．５μｍより薄い場合は好ましくは１０〜
７０ｍｇである。 【０１０８】 これは、主として支持体に関連するもので耐久性を確保する上で重要である。 また、本発明磁気記録媒体の２３℃、７０％ＲＨで測定したクラック発生伸度
が好ましくは２０％以下が望ましい。 また、本発明磁気記録媒体をＸ線光電子分光装置を用いて測定した前記磁性層
表面のＣｌ／Ｆｅスペクトルαが好ましくは０．３〜０．６、Ｎ／Ｆｅスペクト
ルβが好ましくは０．０３〜０．１２である。 【０１０９】 これは、強磁性粉末、無機質粉末及び結合剤と関連し、耐久性を得る上で重要
である。 また、本発明磁気記録媒体を動的粘弾性測定装置を用いて測定した前記磁性層
のガラス転移温度Ｔｇ（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極
大点）が好ましくは４０〜１２０℃であり、貯蔵弾性率Ｅ′（５０℃）が好まし
くは０．８×１０¹¹〜１１×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ²であり、損失弾性率Ｅ′′
（５０℃）が好ましくは０．５×１０¹¹〜８×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ²であるこ
とが望ましい。また損失正接は、０．２以下であることが好ましい。損失正接が
大きすぎると粘着故障が出やすい。これらは、バインダー、カーボンブラック、 や溶剤と関連し、耐久性に関連する重要な特性である。 【０１１０】 また、前記非磁性支持体と前記磁性層との２３℃、７０％ＲＨでの８ｍｍ幅テ
ープの１８０°密着強度が好ましくは１０ｇ以上であることが望ましい。 また、上層磁性層表面の２３℃、７０％ＲＨの鋼球磨耗が好ましくは０．７×
１０^-7〜５×１０^-7ｍ³であることが望ましい。これは、直接に磁性層表面の磨
耗を見るもので主に強磁性粉末に関連する耐久性の尺度である。 【０１１１】 又、本発明磁気記録媒体をＳＥＭ（電子顕微鏡）で倍率５００００倍で５枚撮
影した前記磁性層表面の研磨剤の目視での数が好ましくは０．１個／μｍ²以上
であることが望ましい。又、本発明の磁気記録媒体の上層磁性層端面に存在する
研磨剤は５個／１００μｍ²以上が好ましい。これらは、磁性層の研磨剤と結合
剤により影響を受け、耐久性に効果を発揮する尺度である。 【０１１２】 また、本発明磁気記録媒体をガスクロマトグラフィーを用いて測定した前記磁
気記録媒体の残留溶剤が好ましくは５０ｍｇ／ｍ²以下であることが望ましい。 又、上層中に含まれる残留溶媒は好ましくは２０ｍｇ／ｍ²以下、さらに好ま
しくは１０ｍｇ／ｍ²以下であり、上層に含まれる残留溶媒が下層に含まれる残
留溶媒より少ないほうが好ましい。 【０１１３】 また、本発明磁気記録媒体よりＴＨＦを用いて抽出された可溶性固形分の磁性
層重量に対する比率であるゾル分率が１５％以下であることが望ましい。これは
、強磁性粉末と結合剤により影響を受けるもので、耐久性の尺度となる。 本発明の磁気記録媒体は、その上層磁性層に１ＭＨｚの短波長記録をし、フェ
リコロイドを用いて磁気現像し、微分干渉顕微鏡を用いて１０倍で観察した５ｍ
ｍ幅のサンプルの中に連続した黒又は白い線が５本以内であることが好ましい。 【０１１４】 本発明の磁気記録媒体の摩擦係数（μ）は、磁性面で０．１５〜０．４が好ま
しく、特に好ましくは０．２〜０．３５であり、又、バック層面は０．１５〜０ ．４が好ましく、特に好ましくは０．２〜０．３５である。 又、本発明の磁気記録媒体の接触角は、６０〜１３０であることが好ましく、
特に８０〜１２０が好ましい。又、ヨウ化メチレンの場合、好ましくは１０〜９
０°であり、特に好ましくは２０〜７０°である。 【０１１５】 これら接触角は特に潤滑剤や分散剤によって定まる値である。 本発明の磁気記録媒体の磁性層及びバック層の表面自由エネルギーは、１０〜
１００ｄｙｎｅ／ｃｍが、特に好ましい。 本発明の磁気記録媒体の表面電気抵抗は、磁性層表面及びバック層表面共に１
×１０⁹Ω／ｓｑ以下が好ましく、１×１０⁸Ω／ｓｑ以下が特に好ましい。 【０１１６】 以下、本発明が選択可能な一般的事項について述べる。 本発明に使用できる非磁性無機質粉末は、例えば、金属、金属酸化物、金属炭
酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の非磁性無機質粉末
が挙げられる。具体的にはＴｉＯ₂（ルチル、アナターゼ）、ＴｉＯ_x、酸化セリ
ウム、酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ₂、ＳｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃、α
化率９０％以上のるαアルミナ、βアルミナ、γアルミナ、α酸化鉄、ゲータイ
ト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マグネシウム、窒化硼素、
２硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ₃、ＣａＣＯ₃、ＢａＣＯ₃、ＳｒＣＯ₃、Ｂ
ａＳＯ₄、炭化珪素、炭化チタンなどが単独または組み合わせて使用される。こ
れら無機質粉末の形状、サイズ等は任意であり、これらは必要に応じて異なる無
機質粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布等を選択することも
できる。 【０１１７】 粒子サイズは、前記（Ａ）〜（Ｋ）までの具体的方法に基づくことが好ましい
が、一般的には、粒状、球状、多面体状の場合、０．０１〜０．７μｍであり、
最短記録波長λの１／４以下にすることが好ましい。針状または板状の場合は、
長軸長０．０５〜１．０μｍ、好ましくは０．０５〜０．５で針状比が５〜２０
、好ましくは５〜１５、あるいは板径０．０５〜１．０μｍ、好ましくは、０． ０５〜０．５μｍ、板状比（板径と厚みの比）が５〜２０、好ましくは１０〜２
０のものが用いられる。 【０１１８】 無機質粉末としては、次のものが好ましい。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｃ
ｃ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｃｃ。含水率は０．１〜５％、好ましくは０
．２〜３％。ｐＨは２〜１１、特に４〜１０が好ましい。比表面積は、１〜１０
０ｍ²／ｇ、好ましくは５〜７０ｍ²／ｇ、更に好ましくは７〜５０ｍ²／ｇであ
る。結晶子サイズは０．０１μｍ〜２μｍが好ましい。ＤＢＰを用いた吸油量は
５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、更に好まし
くは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。ＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０
μｍｏｌ／ｍ²、更に好ましくは２〜１５μｍｏｌ／ｍ²である。粉体表面のラフ
ネスファクターは０．８〜１．５が好ましく、更に好ましくは２〜１５μｍｏｌ
／ｍ²である。２５℃での水への湿潤熱は２００ｅｒｇ／ｃｍ²〜６００ｅｒｇ／
ｃｍ²が好ましい。また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができる
。１００〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０個／１００Åが適当である
。水中での等電点のｐＨは３〜９の間にあることが好ましい。比重は１〜１２、
好ましくは３〜６である。 【０１１９】 上記の無機質粉末は必ずしも１００％純粋である必要はなく、目的に応じて表
面を他の化合物、例えば、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ等の各化
合物で処理し、それらの酸化物を表面に形成してもよい。その際、純度は７０％
以上であれば効果を減ずることにはならない。強熱減量は２０％以下であること
が好ましい。 【０１２０】 本発明に用いられる無機質粉末の具体的な例としては、昭和電工社製ＵＡ５６
００、ＵＡ５６０５、住友化学社製ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０
、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、日本化学工業社製Ｇ５、Ｇ７、
Ｓ−１、戸田工業社製ＴＦ−１００、ＴＦ−１２０、ＴＦ−１４０、Ｒ５１６、
石原産業社製ＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５ Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＦＴ−１０００、ＦＴ
−２０００、ＦＴＬ−１００、ＦＴＬ−２００、Ｍ−１、Ｓ−１、ＳＮ−１００
、Ｒ−８２０、Ｒ−８３０、Ｒ−９３０、Ｒ−５５０、ＣＲ−５０、ＣＲ−８０
、Ｒ−６８０、ＴＹ−５０、チタン工業社製ＥＣＴ−５２、ＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴ
Ｔ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、三菱マテリアル社製Ｔ−１、日本
触媒社製ＮＳ−Ｏ、ＮＳ−３Ｙ、ＮＳ−８Ｙ、テイカ社製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ
−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００
Ｅ、堺化学社製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＢＦ−
１Ｌ、ＢＦ−１０Ｐ、同和工業社製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、チタン工
業社製Ｙ−ＬＯＰ及びそれを焼成した物である。 【０１２１】 本発明に使用される非磁性無機質粉末としては、特に酸化チタン（特に二酸化
チタン）が好ましい。以下、この酸化チタンの製法を詳しく記す。酸化チタンの
製法は主に硫酸法と塩素法がある。硫酸法は、イルミナイトの原鉱石を硫酸で蒸
留し、Ｔｉ、Ｆｅなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析分離して除き、残
りの硫酸チタニル溶液を濾過精製後、熱加水分解を行って、含水酸化チタンを沈
殿させる。これを濾過洗浄後、夾雑物質を洗浄除去し、粒径調節剤などを添加し
た後、８０〜１０００℃で焼成すれば粗酸化チタンとなる。ルチル型とアナター
ゼ型は加水分解の時に添加される核材の種類によりわけられる。この粗酸化チタ
ンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作成する。塩素法は原鉱石天然ルチルや
合成ルチルが用いられる。鉱石は高温還元状態で塩素化され、ＴｉはＴｉＣｌ₄
にＦｅはＦｅＣｌ₂となり、冷却により固体となった酸化鉄は液体のＴｉＣｌ₄と
分離される。得られた粗ＴｉＣｌ₄は精留により精製した後、核生成剤を添加し
、１０００℃以上の温度で酸素と瞬間的に反応させ、粗酸化チタンを得る。この
酸化分解工程で生成した粗酸化チタンに顔料的性質を与えるための仕上げ方法は
硫酸法と同じである。 【０１２２】 また、本発明は下層にカーボンブラックを使用することができ、公知の効果で
あるＲ_s（表面電気抵抗）等を下げることもできる。このカーボンブラックとし てはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラッ
ク、等を用いることができる。比表面積は１００〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは
１５０〜４００、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは３０
〜２００ｍｌ／１００ｇである。平均粒径は５ｍμ〜８０ｍμ、好ましくは１０
〜５０ｍμ、更に好ましくは１０〜４０ｍμである。ｐＨは２〜１０、含水率は
０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｃｃが好ましい。 【０１２３】 本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製、
ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、８００、、
８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業社製＃３０５０、＃
３１５０、＃３２５０、＃３７５０、＃３９５０、＃２４００Ｂ、＃２３００、
＃１０００、、＃９７０、＃９５０、、＃９００、＃８５０、＃６５０、＃４０
、ＭＡ４０、ＭＡ−６００、コロンビアカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ Ｓ
Ｃ、ＲＡＶＥＮ社製８８００、８０００、７０００、５７５０、５２５０、３５
００、２１００、２０００、１８００、１５００、１２５５、１２５０、アクゾ
ー社製ケッチェンブラックＥＣなどが挙げられる。カーボンブラックを分散剤な
どで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても表面の一部をグラファイ
ト化したものを使用しても構わない。また、カーボンブラックを非磁性塗料に添
加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラッ
クは単独、または組み合わせて使用することができる。 【０１２４】 本発明で使用できるカーボンブラックは、例えば（「カーボンブラック便覧」
、カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。 本発明に使用される非磁性有機質粉末は、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベン
ゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられ
るが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂
粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂粉末が使用される。その
製法は、特開昭６２−１８５６４号、同６０−２５５８２７号の各公報に記載さ
れているようなものが使用できる。 【０１２５】 これらの非磁性粉末は、通常、結合剤に対して、重量比率で２０〜０．１、体
積比率で１０〜０．１の範囲で用いられる。 なお、一般の磁気記録媒体においては下塗層を設けることが行われているが、
これは支持体と磁性層等の接着力を向上させるために設けられるものであって、
厚さも０．５μｍ以下で本発明の下層非磁性層とは異なるものである。本発明に
おいても下層と支持体との接着性を向上させるために下塗層を設けることが好ま
しい。 【０１２６】 本発明の磁性層に使用する強磁性粉末としては磁性酸化鉄ＦｅＯｘ（ｘ＝１．
３３〜１．５）、Ｃｏ変性ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、ＦｅまたはＮｉ
またはＣｏを主成分（７５％以上）とする強磁性合金粉末、バリウムフエライト
、ストロンチウムフエライトなど公知の強磁性粉末が使用できるが、強磁性合金
粉末が更に好ましい。。これらの強磁性粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、
Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、
Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎ
ｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。
これらの強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤
などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公昭４４
−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭４７−２２０６２号、特公
昭４７−２２５１３号、特公昭４６−２８４６６号、特公昭４６−３８７５５号
、特公昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２４２２号、特公昭４７−１７２８
４号、特公昭４７−１８５０９号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−１
０３０７号、特公昭４８−３９６３９号、米国特許第３０２６２１５号、同３０
３１３４１号、同３１００１９４号、同３２４２００５号、同３３８９０１４号
などに記載されている。 【０１２７】 上記強磁性粉末の中で強磁性合金粉末については少量の水酸化物、または酸化
物を含んでもよい。強磁性合金粉末の公知の製造方法により得られたものを用い ることができ、下記の方法をあげることができる。複合有機酸塩（主としてシュ
ウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性気
体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合
物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン
酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不
活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などである。このようにして得られた
強磁性合金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させ
る方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成
したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整
して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施したものでも用いることができ
る。 【０１２８】 本発明の上層磁性層の強磁性粉末をＢＥＴ法による比表面積で表せば２５〜８
０ｍ²／ｇであり、好ましくは４０〜７０ｍ²／ｇである。２５ｍ²／ｇ以下では
ノイズが高くなり、８０ｍ²／ｇ以上では表面性が得にくく好ましくない。本発
明の上層磁性層の強磁性粉末の結晶子サイズは４５０〜１００Åであり、好まし
くは３５０〜１００Åである。酸化鉄磁性粉末のσ_sは５０ｅｍｕ／ｇ以上、好
ましくは７０ｅｍｕ／ｇ以上であり、強磁性金属粉末の場合は１００ｅｍｕ／ｇ
以上が好ましく、更に好ましくは１１０ｅｍｕ／ｇ〜１７０ｅｍｕ／ｇである。
抗磁力は１１００Ｏｅ以上、２５００Ｏｅ以下が好ましく、更に好ましくは１４
００Ｏｅ以上２０００Ｏｅ以下である。強磁性粉末の針状比は１８以下が好まし
く、更に好ましくは１２以下である。 【０１２９】 強磁性粉末のｒ１５００は１．５以下であることが好ましい。さらに好ましく
はｒ１５００は１．０以下である。ｒ１５００とは磁気記録媒体を飽和磁化した
のち反対の向きに１５００Oeの磁場をかけたとき反転せずに残っている磁化量の
％を示すものである。 強磁性粉末の含水率は０．０１〜２％とするのが好ましい。結合剤の種類によ
って強磁性粉末の含水率は最適化するのが好ましい。γ酸化鉄のタップ密度は０ ．５ｇ／ｃｃ以上が好ましく、０．８ｇ／ｃｃ以上がさらに好ましい。合金粉末
の場合は、０．２〜０．８ｇ／ｃｃが好ましく、０．８ｇ／ｃｃ以上に使用する
と強磁性粉末の圧密過程で酸化が進みやすく、充分な飽和磁化(σ_s)を得ること
が困難になる。０．２ｃｃ／ｇ以下では分散が不十分になりやすい。 【０１３０】 γ酸化鉄を用いる場合、２価の鉄の３価の鉄に対する比は好ましくは０〜２０
％であり、さらに好ましくは５〜１０％である。また鉄原子に対するコバルト原
子の量は０〜１５％、好ましくは２〜８％である。 強磁性粉末のｐＨは用いる結合剤との組合せにより最適化することが好ましい
。その範囲は４〜１２であるが、好ましくは６〜１０である。強磁性粉末は必要
に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施してもかまわ
ない。その量は強磁性粉末に対し０．１〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸
などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ²以下になり好ましい。強磁性粉末には可
溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合があるが、５
００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えない。 【０１３１】 また、本発明に用いられる強磁性粉末は空孔が少ないほうが好ましくその値は
２０容量％以下、さらに好ましくは５容量％以下である。また形状については先
に示した条件を満足するように針状、粒状、米粒状、板状等から選択される。強
磁性粉末のＳＦＤ０．６以下を達成するためには、強磁性粉末のＨｃの分布を小
さくする必要がある。そのためには、ゲータイトの粒度分布をよくする、γ−ヘ
マタイトの焼結を防止する、コバルト変性の酸化鉄についてはコバルトの被着速
度を従来より遅くするなどの方法がある。 【０１３２】 本発明にはまた、磁化容易軸が平板の垂直方向にある六角板状の強磁性粉末と
して、板状六方晶フエライト等が例示され、バリウムフエライト、ストロンチウ
ムフエライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等
、六方晶Ｃｏ粉末が使用できる。具体的にはマグネトブランバイト型のバリウム
フェライト及びストロンチウムフェライト、更に一部スピネル相を含有したマグ ネトブランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙
げられ、特に好ましいものとしてはバリウムフェライト、ストロンチウムフェラ
イトの各置換体である。また、抗磁力を制御するために上記六方晶フェライトに
Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｉｒ−
Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができる。 【０１３３】 バリウムフェライトを用いる場合、板径は六角板状の粒子の板の幅を意味し、
電子顕微鏡を使用して測定する。本発明ではこのを板径を０．００１〜１μｍで
、板厚を直径の１／２〜１／２０とするとよい。比表面積（Ｓ_BET）は、１〜６
０ｍ²／ｇが好ましく、比重は４〜６が好ましい。 本発明の下層非磁性層、上層磁性層に使用される結合剤としては従来公知の熱
可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑
系樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１００
０〜２０００００、好ましくは１００００〜１０００００、重合度が約５０〜１
０００程度のものである。このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビ
ニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデ
ン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタ
ジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル、等
を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹
脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフエノール樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、
アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリ
アミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエ
ステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシア
ネートの混合物等があげられる。 【０１３４】 これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細
に記載されている。 また、公知の電子線硬化型樹脂を下層、または上層に使用することも可能であ る。これらの例とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９号に詳細に
記載されている。 【０１３５】 以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニ
ル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール樹
脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体の群から選ばれる少なくとも
１種とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組合せ
たものがあげられる。 【０１３６】 ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレ
タン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン
、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタ
ンなど公知のものが使用できる。 ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るため
には必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ₁）（
ＯＭ₂）、−ＯＰ＝Ｏ（ＯＭ₁）（ＯＭ₂）、−ＮＲ₄Ｘ（ここで、Ｍ、Ｍ₁、Ｍ₂は
、Ｈ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、−ＮＲ₄、−ＮＨＲ₃を示し、Ｒはアルキル基もしくはＨ
を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）、ＯＨ、ＮＲ₂、Ｎ⁺Ｒ₃、（Ｒは炭化水素
基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮなどから選ばれる少なくとも一つ以上の極性基を
共重合または付加反応で導入したものを用いることが好ましい。このような極性
基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ましくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇで
ある。 【０１３７】 塩化ビニル系共重合体としては、好ましくは、エポキシ基含有塩化ビニル系共
重合体が挙げられ、塩化ビニル繰返し単位と、エポキシ基を有する繰返し単位と
、所望により−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−ＣＯＯＭおよび−ＰＯ（ＯＭ）₂（以
上につきＭは水素原子、またはアルカリ金属）等の極性基を有する繰返し単位と
を含む塩化ビニル系共重合体が挙げられる。エポキシ基を有する繰返し単位との
併用では、−ＳＯ₃Ｎａを有する繰返し単位を含むエポキシ基含有塩化ビニル 系共重合体が好ましい。 【０１３８】 極性基を有する繰返し単位の共重合体中における含有率は、通常０．０１〜５
．０モル％（好ましくは、０．５〜３．０モル％）の範囲内にある。 エポキシ基を有する繰返し単位の共重合体中における含有率は、通常１．０〜
３０モル％（好ましくは１〜２０モル％）の範囲内にある。そして、塩化ビニル
系重合体は、塩化ビニル繰返し単位１モルに対して通常０．０１〜０．５モル（
好ましくは０．０１〜０．３モル）のエポキシ基を有する繰返し単位を含有する
ものである。 【０１３９】 エポキシ基を有する繰返し単位の含有率が１モル％より低いか、あるいは塩化
ビニル繰返し単位１モルに対するエポキシ基を有する繰返し単位の量が０．０１
モルより少ないと塩化ビニル系共重合体からの塩酸ガスの放出を有効に防止する
ことができないことがあり、一方、３０モル％より高いか、あるいは塩化ビニル
繰返し単位１モルに対するエポキシ基を有する繰返し単位の量が０．５モルより
多いと塩化ビニル系共重合体の硬度が低くなることがあり、これを用いた場合に
は磁性層の走行耐久性が低下することがある。 【０１４０】 また、特定の極性基を有する繰返し単位の含有率が０．０１モル％より少ない
と強磁性粉末の分散性が不充分となることがあり、５．０モル％より多いと共重
合体が吸湿性を有するようになり耐候性が低下することがある。 通常、このような塩化ビニル系共重合体の数平均分子量は、１．５万〜６万の
範囲内にある。 【０１４１】 このようなエポキシ基と特定の極性基を有する塩化ビニル系共重合体は、例え
ば、次のようにして製造することができる。 例えばエポキシ基と、極性基として−ＳＯ₃Ｎａとが導入されている塩化ビニ
ル系共重合体を製造する場合には、反応性二重結合と、極性基として−ＳＯ₃Ｎ
ａとを有する２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸ナト リウム（反応性二重結合と極性基とを有する単量体）およびジグリシジルアクリ
レートを低温で混合し、これと塩化ビニルとを加圧下に、１００℃以下の温度で
重合させることにより製造することができる。 【０１４２】 上記の方法による極性基の導入に使用される反応性二重結合と極性基とを有す
る単量体の例としては、上記の２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパ
ンスルホン酸ナトリウムの外に２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパ
ンスルホン酸、ビニルスルホン酸およびそのナトリウムあるいはカリウム塩、（
メタ）アクリル酸−２−スルホン酸エチルおよびナトリウムあるいはカリウム塩
、（無水）マレイン酸および（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸−２−リ
ン酸エステルを挙げることができる。 【０１４３】 また、エポキシ基の導入には、反応性二重結合とエポキシ基とを有する単量体
として一般にグリシジル（メタ）アクリレートを用いる。 なお、上記の製造法の外に、例えば、塩化ビニルとビニルアルコールなどとの
重合反応により多官能−ＯＨを有する塩化ビニル系共重合体を製造し、この共重
合体と、以下に記載する極性基および塩素原子を含有する化合物とを反応（脱塩
酸反応）させて共重合体に極性基を導入する方法を利用することができる。 【０１４４】 ＣｌＣＨ₂ ＣＨ₂ ＳＯ₃ Ｍ、 ＣｌＣＨ₂ ＣＨ₂ ＯＳＯ₃ Ｍ、 ＣｌＣＨ₂ ＣＯＯＭ、 ＣｌＣＨ₂ ＰＯ（ＯＭ）₂ また、この脱塩酸反応を利用するエポキシ基の導入には通常はエピクロルヒド
リンを用いる。 【０１４５】 なお、該塩化ビニル系共重合体は、他の単量体を含むものであってもよい。他
の単量体の例としては、ビニルエーテル（例、メチルビニルエーテル、イソブチ ルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル）、α−モノオレフィン（例、エチ
レン、プロピレン）、アクリル酸エステル（例、（メタ）アクリル酸メチル、ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート等の官能基を含有する（メタ）アクリル酸
エステル）、不飽和ニトリル（例、（メタ）アクリロニトリル）、芳香族ビニル
（例、スチレン、α−メチルスチレン）、ビニルエステル（例、酢酸ビニル、プ
ロピオン酸ビニル等）が例示される。 【０１４６】 本発明に用いられるこれらの結合剤の具体的な例としてはユニオンカーバイト
社製：ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥ
Ｓ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ
、ＰＫＦＥ、日信化学工業社製：ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−
ＴＡＯ、電気化学社製：１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３
、１００ＦＤ、日本ゼオン社製：ＭＲ１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、４００
Ｘ１１０Ａ、日本ポリウレタン社製：ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２
３０４、大日本インキ社製：パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−
５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７
２０９、東洋紡社製：バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ８６００、Ｕ
Ｒ５５００、ＵＲ４３００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製：ダイフエ
ラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２
０、三菱化成社製：ＭＸ５００４、三洋化成社製：サンプレンＳＰ−１５０、旭
化成社製：サランＦ３１０、Ｆ２１０などがあげられる。 【０１４７】 本発明の上層磁性層に用いられる結合剤は強磁性粉末に対し、５〜５０重量％
の範囲、好ましくは１０〜３５重量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を
用いる場合は、５〜３０重量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０重量
％、ポリイソシアネートは２〜２０重量％の範囲でこれらを組合せて用いるのが
好ましい。 【０１４８】 本発明の下層非磁性層に用いられる結合剤は、非磁性粉末に対し、合計で５〜
５０重量％の範囲、好ましくは１０〜３５重量％の範囲で用いられる。また、塩
化ビニル系樹脂を用いる場合は、３〜３０重量％、ポリウレタン樹脂を用いる場
合は３〜３０重量％、ポリイソシアネートは０〜２０重量％の範囲でこれらを組
合せて用いるのが好ましい。 【０１４９】 また、本発明において分子量３万以上のエポキシ基含有樹脂を非磁性粉末に対
し３〜３０重量％使用する場合は、エポキシ基含有樹脂以外の樹脂を非磁性粉末
に対し３〜３０重量％使用でき、ポリウレタン樹脂を用いる場合は、３〜３０重
量％、ポリイソシアネートは０〜２０重量％使用できるが、エポキシ基は結合剤
（硬化剤を含む）全重量に対し、４×１０^-5〜１６×１０^-4ｅｑ／ｇの範囲で含
まれることが好ましい。 【０１５０】 本発明において、ポリウレタン樹脂を用いる場合はガラス転移温度が−５０〜
１００℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃ
ｍ²、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ²が好ましい。 本発明の磁気記録媒体は二層からなる。従って、結合剤量、結合剤中に占める
塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外
の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた
樹脂の物理特性などを必要に応じ下層と上層磁性層とで変えることはもちろん可
能である。 【０１５１】 本発明に用いるポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４
−４′−ジフエニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート
、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−
トルイジンイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフエニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類と
ポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポ
リイソシアネート等を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販 されている商品名としては、日本ポリウレタン社製：コロネートＬ、コロネート
ＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネ
ートＭＴＬ、武田薬品社製：タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、
タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製：デスモジュ
ールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ等があり
、これらを単独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せ
で下層非磁性層、上層磁性層ともに用いることができる。 【０１５２】 本発明の上層磁性層に使用されるカーボンブラックはゴム用フアーネス、ゴム
用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることができる
。比表面積は５〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ
、粒子径は５ｍμ〜３００ｍμ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タ
ップ密度は０．１〜１ｇ／ｃｃが好ましい。本発明に用いられるカーボンブラッ
クの具体的な例としてはキャボット社製：ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、
１３００、１０００、９００、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、旭
カーボン社製：＃８０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製：
＃２４００Ｂ、＃２３００、＃９００、＃１０００、＃３０、＃４０、＃１０Ｂ
、コンロンビアカーボン社製：ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０
、５０，４０，１５などがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処
理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラフアイト化した
ものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前
にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは単独
、または組合せで使用することができる。カーボンブラックを使用する場合は強
磁性粉末に対する量の０．１〜３０％で用いることが好ましい。カーボンブラッ
クは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあ
り、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って本発明に使用される
これらのカーボンブラックは下層、上層でその種類、量、組合せを変え、粒子サ
イズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い
分けることはもちろん可能である。本発明の上層で使用できるカーボンブラック は例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にするこ
とができる。 【０１５３】 本発明の上層磁性層に用いられる研磨剤としてはα化率９０％以上のα−アル
ミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コ
ランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チ
タン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモース硬度６以上の公知の材料が
単独または組合せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤
を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成
分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれば
効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは０．０１〜２μｍが好ましい
が、必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組合せたり、単独の研磨剤でも粒
径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。タップ密度は０．３〜２
ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ²／
ｇ、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、
のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。 【０１５４】 本発明に用いられる研磨剤の具体的な例としては、住友化学社製：ＡＫＰ−２
０，ＡＫＰ−３０，ＡＫＰ−５０，ＨＩＴ−５０、日本化学工業社製：Ｇ５，Ｇ
７，Ｓ−１、戸田工業社製：ＴＦ−１００、ＴＦ−１４０、１００ＥＤ、１４０
ＥＤなどがあげられる。本発明に用いられる研磨剤は下層、上層で種類、量およ
び組合せを変え、目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。これらの
研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添加してもかまわな
い。 【０１５５】 本発明に使用される、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可
塑効果、などをもつものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングステン
、グラフアイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシ
リコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコー ル、フッ素含有エステル、ポリオレフイン、ポリグリコール、アルキル燐酸エス
テルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、ポリフエニルエーテル、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカ
リ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分
岐していてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｃｕな
ど）または、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコー
ル（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１２〜２
２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を
含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三
価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また
分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エス
テルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエー
テルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪
族アミン、などが使用できる。これらの具体例としてはラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸
、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン
酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸ブ
トキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタン
ジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレート、オレイルアルコール
、ラウリルアルコール、があげられる。 【０１５６】 また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフ
エノールエチレンオキサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エ
ステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホス
ホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スル
フォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基を含むアニオ
ン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸また
は燐酸エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用できる。
これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行） に詳細に記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純
粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、等の
不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さら
に好ましくは１０％以下である。 【０１５７】 本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面活性剤は下層非磁性層、上層磁性層
でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。例えば、下層非磁性層、
上層磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、沸点や
極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を
調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を下層非磁性層で多
くして潤滑効果を向上させるなどが考えられ、無論ここに示した例のみに限られ
るものではない。 【０１５８】 また本発明で用いられる添加剤のすべてまたはその一部は、磁性塗料製造のど
の工程で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合する場
合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加
する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。本発明
で使用されるこれら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社製：ＮＡＡ−１０２，
ＮＡＡ−４１５，ＮＡＡ−３１２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８０，ＮＡＡ−
１７４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２２，ＮＡＡ−３４，ＮＡＡ−３５，ＮＡ
Ａ−１７１，ＮＡＡ−１２２，ＮＡＡ−１４２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１７
３Ｋ，ヒマシ硬化脂肪酸，ＮＡＡ−４２，ＮＡＡ−４４，カチオンＳＡ，カチオ
ンＭＡ，カチオンＡＢ，カチオンＢＢ，ナイミーンＬ−２０１，ナイミーンＬ−
２０２，ナイミーンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０８，ノニオンＰ−２０８，ノ
ニオンＳ−２０７，ノニオンＫ−２０４，ノニオンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ
−２１０，ノニオンＨＳ−２０６，ノニオンＬ−２，ノニオンＳ−２，ノニオン
Ｓ−４，ノニオンＯ−２，ノニオンＬＰ−２０Ｒ，ノニオンＰＰ−４０Ｒ，ノニ
オンＳＰ−６０Ｒ，ノニオンＯＰ−８０Ｒ，ノニオンＯＰ−８５Ｒ，ノニオンＬ
Ｔ−２２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノニオンＯＴ−２２１，モノグリＭＢ，ノ ニオンＤＳ−６０，アノンＢＦ，アノンＬＧ，ブチルステアレート，ブチルラウ
レート，エルカ酸、関東化学社製：オレイン酸、竹本油脂社製：ＦＡＬ−２０５
，ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製：エヌジエルブＬＯ，エヌジョルブＩＰＭ，
サンソサイザーＥ４０３０、信越化学社製：ＴＡ−３，ＫＦ−９６，ＫＦ−９６
Ｌ，ＫＦ−９６Ｈ，ＫＦ４１０，ＫＦ４２０，ＫＦ９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０
，ＫＦ５６，ＫＦ−９０７，ＫＦ−８５１，Ｘ−２２−８１９，Ｘ−２２−８２
２，ＫＦ−９０５，ＫＦ−７００，ＫＦ−３９３，ＫＦ−８５７，ＫＦ−８６０
，ＫＦ−８６５，Ｘ−２２−９８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ−１０
３，Ｘ−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，ＫＦ−９１０，ＫＦ−３９３５
、ライオンアーマー社製：アーマイドＰ，アーマイドＣ，アーモスリップＣＰ、
ライオン油脂社製：デュオミンＴＤＯ、日清製油社製：ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成
社製：プロフアン２０１２Ｅ，ニューポールＰＥ６１，イオネットＭＳ−４００
，イオネットＭＯ−２００，イオネットＤＬ−２００，イオネットＤＳ−３００
，イオネットＤＳ−１０００，イオネットＤＯ−２００などがあげられる。 【０１５９】 本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン
、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール
、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル
、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコール
ジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、などのグリコ
ールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン
、などの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化
炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン、等の塩素化
炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用できる。
これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応
物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわない。こ
れらの不純分は３０重量％以下が好ましく、さらに好ましくは１０重量％以下で ある。本発明で用いる有機溶媒は必要ならば上層と下層でその種類は同じである
ことが好ましい。その添加量は変えてもかまわない。下層に表面張力の高い溶媒
（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性をあげる、具体的に
は上層溶剤組成の算術平均値が下層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝
要である。分散性を向上させるためにはある程度極性が強い方が好ましく、下層
非磁性層と上層磁性層の塗布液に用いた溶剤がいずれも溶解パラメーターが８〜
１１であり、２０℃での誘電率が１５以上の溶剤が１５％以上含まれることが好
ましい。 【０１６０】 本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性支持体が１〜１００μｍ、好ましく
は４〜８０μｍ、下層が０．５〜１０μｍ、好ましくは１〜５μｍ、上層は０．
０５μｍ以上１．０μｍ以下、好ましくは０．０５μｍ以上０．６μｍ以下、さ
らに好ましくは０．０５μｍ以上、０．３μｍ以下である。上層磁性層は、下層
非磁性層より薄いことが好ましい。上層と下層を合わせた厚みは非磁性支持体の
厚みの１／１００〜２倍の範囲で用いられる。また、非磁性支持体と下層の間に
密着性向上のための下塗り層を設けてもかまわない。これらの厚みは０．０１〜
２μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μｍである。また、非磁性支持体の磁性層
側と反対側にバックコート層を設けてもかまわない。この厚みは０．１〜２μｍ
、好ましくは０．３〜１．０μｍである。これらの下塗り層、バックコート層は
公知のものが使用できる。 【０１６１】 本発明に用いられる非磁性支持体はポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート、等のポリエステル類、ポリオレフイン類、セルローストリアセ
テート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリ
スルフオン、アラミド、芳香族ポリアミドなどの公知のフイルムが使用できる。
これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱
処理、除塵処理、などをおこなっても良い。本発明の目的を達成するには、非磁
性支持体として中心線平均表面粗さが０．０３μｍ以下、好ましくは０．０２μ
ｍ以下、さらに好ましくは０．０１μｍ以下のものを使用する必要がある。また 、これらの非磁性支持体は単に中心線平均表面粗さが小さいだけではなく、１μ
以上の粗大突起がないことが好ましい。また、表面の粗さ形状は、必要に応じて
支持体に添加されるフィラーの大きさと量により自由にコントロールされるもの
である。これらのフィラーとしては一例としてはＣａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物
や炭酸塩の他、アクリル系などの有機微粉末が挙げられる。 【０１６２】 また、非磁性支持体のテープ走行方向のＦ−５値は、好ましくは５〜５０Ｋｇ
／ｍｍ²、テープ幅方向のＦ−５値は、好ましくは３〜３０Ｋｇ／ｍｍ²であり、
テープ長手方向のＦ−５値がテープ幅方向のＦ−５値より高いのが一般的である
が、特に幅方向の強度を高くする必要があるときはその限りではない。 また、非磁性支持体のテープ走行方向および幅方向の１００℃３０分での熱収
縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での
熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。破断強
度は両方向とも５〜１００Ｋｇ／ｍｍ²、弾性率は１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²
が好ましい。 【０１６３】 本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分
散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個
々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する
強磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤な
どすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個
々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレ
タンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入
してもよい。 【０１６４】 本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工程として
用いることができることはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加圧ニ
ーダなど強い混練力をもつものを使用することにより本発明の磁気記録媒体の高
いＢｒを得ることができる。連続ニーダまたは加圧ニーダを用いる場合は強磁性 粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０重量％以上が好ま
しい）および強磁性粉末１００部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理される
。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号、特開昭６４−
７９２７４号に記載されている。また、下層非磁性層液を調製する場合には高比
重の分散メディアを用いることが望ましく、ジルコニアビーズ、金属ビーズが好
適である。 【０１６５】 本発明では、特開昭６２−２１２９３３号に示されるような同時重層塗布方式
を用いることにより、より効率的に生産することができる。本発明のような重層
構成の磁気記録媒体を塗布する装置、方法の例として以下のような構成を提案で
きる。 １．磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗布、ロール塗布、ブレード
塗布、エクストルージョン塗布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウエッ
ト状態のうちに特公平１−４６１８６号や特開昭６０−２３８１７９号、特開平
２−２６５６７２号に開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布装置
により上層を塗布する。 ２．特開昭６３−８８０８０号、特開平２−１７９２１号、特開平２−２６５６
７２号に開示されているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘ
ッドにより上層及び下層をほぼ同時に塗布する。 ３．特開平２−１７４９６５号に開示されているバックアップロール付きエキス
トルージョン塗布装置により上層及び下層をほぼ同時に塗布する。 なお、強磁性粉末の凝集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止する
ため、特開昭６２−９５１７４号や特開平１−２３６９６８号に開示されている
ような方法により塗布ヘッド内部の塗布液に剪断を付与することが望ましい。さ
らに、塗布液の粘度については、特願平１−３１２６５９号に開示されている数
値範囲を満足することが好ましい。 【０１６６】 本発明では、上記の下層用塗布液を湿潤状態で重畳して塗布する、所謂ウェッ
ト・オン・ウェット塗布方式によって、非磁性支持体上に設ける。 本発明で下層と上層を設けるに用いるウェット・オン・ウェット塗布方式とは
、初め一層を塗布した後に湿潤状態で可及的速やかに次の層をその上に塗布する
所謂逐次塗布方法、及び多層同時にエクストルージョン塗布方式で塗布する方法
等をいう。 ウェット・オン・ウェット塗布方式としては、特開昭６１−１３９９２９号公報
に示した磁気記録媒体塗布方法が使用できる。 【０１６７】 図２は、本発明で両層を設けるのに用いられる逐次塗布方式の一例を示す説明
図であって、連続的に走行するポリエチレンテレフタレート等の可撓性支持体１
に塗布機（Ａ）３にて下層用塗布液（ａ）をプレコートし、その直後にスムージ
ングロール４にて該塗布面を平滑化し、該塗布液２が湿潤状態にある状態で別の
押し出し塗布機（Ｂ）６により次なる上層用塗布液（ｂ）を塗布する。 【０１６８】 図３は、本発明で両層を設けるのに好ましく用いられるエクストルージョン型
同時塗布方式の一例を示す説明図であって、可撓性支持体１上に同時多層塗布器
８を用いた下層用塗布液（ａ）２と上層用塗布液（ｂ）５とを同時に塗布する状
態を説明するものである。両層を塗布した後に、磁場配向、乾燥、平滑化処理を
施して磁気記録媒体とする。 【０１６９】 本発明の媒体を得るためには強力な配向を行う必要がある。１０００Ｇ（ガウ
ス）以上のソレノイドと２０００Ｇ以上のコバルト磁石を併用することが好まし
く、さらには乾燥後の配向性が最も高くなるように配向前に予め適度の乾燥工程
を設けることが好ましい。また、ディスク媒体として、本発明を適用する場合は
むしろ配向をランダマイズするような配向法が必要である。 【０１７０】 さらに、カレンダ処理ロールとしてエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリ
イミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロールを使用する。また、金属ロー
ル同志で処理することもできる。処理温度は、好ましくは７０℃以上、さらに好
ましくは８０℃以上である。線圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ、さらに好ま しくは３００ｋｇ／ｃｍ以上、その速度は２０ｍ／分〜７００ｍ／分の範囲であ
る。本発明の効果は８０℃以上の温度で３００ｋｇ／ｃｍ以上の線圧でより一層
効果を上げることができる。 【０１７１】 カレンダー処理後、磁性層、バック層、非磁性層の硬化を促進するために、４
０℃〜８０℃のサーモ処理を施してもかまわない。 本発明の磁気記録媒体の上層およびその反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦
係数は好ましくは０．５以下、さらに０．３以下、磁性層表面固有抵抗は１０⁴
〜１０¹¹オーム／ｓｑ、下層を単独で塗布した場合の表面固有抵抗は１０⁴〜１
０⁸オーム／ｓｑ、ＢＣ層の表面電気抵抗は１０³〜１０⁹が好ましい。 【０１７２】 上層、下層が有する空隙率は、ともに好ましくは３０容量％以下、さらに好ま
しくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ま
しいが、目的によってはある値を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り返
し用途が重視されるデータ記録用磁気記録媒体では空隙率が大きい方が走行耐久
性は好ましいことが多い。これらの値を目的に応じた適当な範囲に設定すること
は容易に実施できることである。 【０１７３】 本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場５ＫＯｅで測定した場合、テープ走行
方向の角形比は０．７０以上であり、好ましくは０．８０以上さらに好ましくは
０．９０以上である。テープ走行方向に直角な二つの方向の角型比は走行方向の
角型比の８０％以下となることが好ましい。磁性層のＳＦＤは０．６以下である
ことが好ましい。 【０１７４】 本発明の磁気記録媒体は、下層と上層を有するが、目的に応じ下層と上層でこ
れらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。 本発明の磁気記録媒体は基本的には上層磁性層と下層非磁性層の二層からなる
が、三層以上であってもよい。三層以上の構成としては、上層磁性層を２層以上
の複数の磁性層することである。この場合、最上層の磁性層と下層磁性層との関 係は通常の複数の磁性層の考え方が適用できる。例えば、最上層の磁性層の方が
下層磁性層よりも、抗磁力が高く、平均長軸長や結晶子サイズの小さい強磁性粉
末を用いるなどの考え方が適用できる。又、下層非磁性層を複数の非磁性層で形
成してもかまわない。しかし、大きく分類すれば、上層磁性層、下層非磁性層と
いう構成である。 【０１７５】 【実施例】 次に実施例と比較例を示し、本発明を更に具体的に説明する。各例において、
「部」は特に指定しない限り、「重量部」を意味する。 【０１７６】 以下の処方で上層磁性層用塗布液及び下層非磁性層用塗布液を調製した。 実施例１ 上層磁性層用塗布液処方 強磁性粉末：Ｆｅ合金粉末 １００部 組成；Ｆｅ ９３重量％、Ｎｉ ３重量％、Ｃｏ ３重量％、その 他Ｚｎ，Ｃｒ等 Ｈｃ １６００Oe、σ_s １３５ｅｍｕ／ｇ 長軸長 ０．１８μｍ，針状比 ９ 塩化ビニル共重合体 １０部 −ＳＯ₃Ｎａ，エポキシ基含有 ポリウレタン樹脂 ５部 −ＳＯ₃Ｎａ含有，分子量 ４５０００ αアルミナ（平均粒径０．２μｍ） ５部 シクロヘキサノン １５０部 メチルエチルケトン ２００部 上記組成物をサンドミル中で６時間混合分散したのち、ポリイソシアネート（
コロネートＬ）及びステアリン酸５部、ステアリン酸ブチル１０部を加えて磁性
塗布液を得た。 【０１７７】 下層非磁性層用塗布液処方 粒状ＴｉＯ₂ １００部 平均粒径 ０．０９μｍ カーボンブラック ５部 平均粒径 ２０ｍμ 塩化ビニル共重合体 ８部 −ＳＯ₃Ｎａ，エポキシ基含有 分子量 ５００００ ポリウレタン樹脂 ５部 −ＳＯ₃Ｎａ含有、分子量 ４５０００ αアルミナ（平均粒径 ０．２μｍ） ５部 シクロヘキサノン １５０部 メチルエチルケトン ５０部 上記組成物をサンドミル中で４時間混合分散したのち、ポリイソシアネート（
コロネートＬ）５部、ステアリン酸１部、ステアリン酸ブチル１部を加えて下層
非磁性層用塗布液を得た。 【０１７８】 上記の塗布液をギャップの異なる２つのドクターを用いて、湿潤状態で塗布し
たのち、永久磁石にて配向処理後、乾燥した。非磁性支持体は９．８μｍのポリ
エチレンテレフタレートフィルムを用い、支持体の磁性層と反対面にはカーボン
ブラックを含有するバック層を設けた。その後にスーパーカレンダー処理を行っ
た。塗布厚みは磁性層０．３μｍ、非磁性層３．０μｍであった。この様にして
得られた原反を３．８１ｍｍ幅に裁断し実施例１−１のデジタルオーディオテー
プ（ＤＡＴ）を作成した。 【０１７９】 その他の実施例、比較例は実施例１−１に対して表１に示す因子を変更してテ
ープを作成した。これらのテープは以下の方法で評価し、結果を表２に示した。 磁性層平均値ｄ、ｄの標準偏差σ：テープ断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）
にて撮影（倍率２００００倍）し、前記の定義に従って求めた。 厚み変動の平均値（Δｄ）：テープ断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）にて撮
影（倍率２００００倍）、長さ２０μｍ（実長）中の磁性層と下層非磁性層の変
位を測定し、山と谷の変位差の平均値を求めΔｄとした。 【０１８０】 尚、比較例の逐次重層とは、下層非磁性層を塗布し、乾燥後上層磁性層を塗布
することを言う。 電磁変換特性 使用デッキ：ＳＯＮＹ製ＤＴＣ−１０００ 再生出力：４．７ＭＨｚ単一周波数の信号を入力し、再生信号をスペクトラム アナライザーに出力させ、信号のピーク値を読みとった。 【０１８１】 Ｃ／Ｎ：再生出力測定時にノイズスペクトラムをとり、再生出力と中心記録周 波数（４．７ＭＨｚ）から０．１ＭＨｚ離れたノイズレベルの比から Ｃ／Ｎを求めた。スペクトルアナライザーは、ＨＰ−３５８５Ａ、０ ｄＢは比較例１の磁性層単層のテープ ＢＥＲ（ブロックエラーレート）：１００００トラック中のエラーフラッグの
数を言い、次の式で表される。 【０１８２】 ＢＥＲ＝エラーフラッグ／１００００×１２８ブロック ＤＡＴ信号構成は、アナログ信号を符号化し、１符号は８ビット、１ブロック
は３２シンボル×８ビット＝２５６ビットであるので、１トラックは１２８ブロ
ックで構成される。２トラックすなわち１２８×２ブロックの信号をメモリー上
に取り込み、シャッフルし、エラー検出をする。ソニー社製のＤＡＴデッキを用
い、カウンターとしてヒューレットパッカード社製のＨＰ５３２８Ａを使用し、
パソコンに接続して測定した。 【０１８３】 ドロップアウト：４．７ＭＨｚ単一周波数の信号を入力、スレッシュホールド （ＤＯ） レベル−１０ｄＢで長さ０．５μＳＥＣのドロップアウトを ドロップアウトカウンターで測定した。 【０１８４】 【表１】 【０１８５】 【表２】【０１８６】 作成したＤＡＴの最短記録波長λは、０．６７μｍである。従って、λ／４≦ ｄ≦３λより、磁性層の厚み範囲は、０．１７μｍ≦ｄ≦２．０１μｍとなるが
、本発明は、０．１７μｍ≦ｄ≦１．０μｍの範囲である。また、Δｄ／ｄ≦０
．５０の関係がある。 【０１８７】 実施例１−１〜１−３は、下層非磁性層厚みと上層磁性層厚みを変え、かつ上
下層厚み比率を変えたもので実施例１−１は磁性層厚のほぼ下限、実施例１−２
は同厚の中位、実施例１−３はほぼ上限に設定したものである。実施例１−４は
、下層非磁性層厚を薄くして下限近くにした構成である。実施例１−５〜１−７
は、下層非磁性層の非磁性粉末の種類を変えた例であり、本発明の規定内でＲａ
に影響を与えることがわかる。実施例１−９は、上層磁性層厚を上限近くとした
例であり、この系では他の実施例に比較して特性が劣る。 【０１８８】 比較例１−１は、単層厚膜の磁性層を有する磁気記録媒体である。比較例１−
２は、下層非磁性層の非磁性粉末として粗大なベンガラ（平均粒径が０．２５で
、λ／４＝０．１６７５より大）を用いているので、Δｄが大きくＣ／Ｎが劣る
。比較例１−３は、長軸長の長い針状ベンガラを使用しているため、Δｄが大き
く、Ｒａが劣る。比較例１−４は、下層塗布後、乾燥し、その下層の上に上層を
塗布した逐次重層の例デアリ、ピンホールが多い。 【０１８９】 実施例１〜８は、ｄ、Δｄ、σ、及びＲａのうち少なくともｄ及びΔｄの各範
囲を満足しているので、比較例に比べ、再生出力、Ｃ／Ｎ、ＢＥＲ、ＤＯ、塗布
成形性何れも優れていることがわかる。 【０１９０】 本発明により、薄い磁性層（最短記録波長の３倍以下）を下層非磁性層と同時
塗布することで、磁性層を単独で薄くした場合に問題となる塗布欠陥を防止でき
る。同時に記録システムに応じて最短記録波長に対する磁性層の厚みを最適化す
ることで再生出力が向上し、かつ薄膜化した磁性層の厚み変動を小さくし、かつ
磁性層表面を平滑にすることでＣ／Ｎが向上する。 【０１９１】 この発明によって、金属薄膜磁気記録媒体に匹敵する電磁変換特性が得られる
と同時に金属薄膜磁気記録媒体が有する生産性、保存信頼性の問題を解決した塗
布型磁気記録媒体を供給することができる。 実施例２ 以下の処方で上層磁性層用塗布液及び下層非磁性層用塗布液を調製した。 下層非磁性層用塗布液 無機質粉末 ＴｉＯ₂ ９０部 平均粒径 ０．０３５μｍ 結晶系 ルチル ＴｉＯ₂含有量 ９０％以上 表面処理剤 Ａｌ₂Ｏ₃ ＢＥＴ法による比表面積 ３５〜４５ｍ²／ｇ ＤＢＰ吸油量 ２７〜３８ｇ／１００ｇ ｐＨ ６．５〜８ カーボンブラック １０部 平均粒径 １６ｍμ ＤＢＰ吸油量 ８０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ ８．０ ＢＥＴ法による比表面積 ２５０ｍ²／ｇ 揮発分 １．５％ 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １２部 −Ｎ（ＣＨ₃）₃ ⁺Ｃｌ^-の極性基を５×１０^-6ｅｑ／ｇ含む 組成比 ８６：１３：１ 重合度 ４００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン ２００部 シクロヘキサノン ８０部 上層磁性層用塗布液 強磁性金属微粉末 組成 Ｆｅ／Ｚｎ／Ｎｉ＝９２／４／４ １００部 Ｈｃ １６００Ｏｅ ＢＥＴ法による比表面積 ６０ｍ²／ｇ 結晶子サイズ １９５Å 平均長軸長 ０．２０μｍ、針状比 １０ 飽和磁化(σ_s)：１３０ｅｍｕ／ｇ 塩化ビニル系共重合体 １２部 −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有、重合度３００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ３部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 α−アルミナ（平均粒径 ０．２μｍ） ２部 カーボンブラック（平均粒径 ０．１０μｍ） ８部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン ２００部 上記２つの塗料のそれぞれについて、各成分を連続ニーダーで混練した後、サ
ンドミルを用いて分散させた。得られた分散液にポリイソシアネートを下層非磁
性層の塗布液には１部、上層磁性層の塗布液には３部を加え、さらにそれぞれに
酢酸ブチル４０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し
、下層非磁性層用及び上層磁性層用の塗布液をそれぞれ調製した。 【０１９２】 得られた下層非磁性層塗布液を乾燥後の厚さが３μｍになるように更にその直
後にその上に上層磁性層の厚さが０．５μｍになるように、厚さ７μｍで中心平 均表面粗さが０．０１μｍのポリエチレンナフタレート支持体上に同時重層塗布
を行い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに３０００ガウスの磁力をもつコバルト
磁石と１５００ガウスの磁力をもつソレノイドにより配向させ、乾燥後、金属ロ
ールのみから構成される７段のカレンダーで温度９０℃にて処理を行い、８ｍｍ
の幅にスリットし、実施例２−１の８ｍｍビデオテープを製造した。 【０１９３】 また、同様に表３〜４に記載の因子を変更して試料、実施例２−２〜２−９、
比較例２−１〜２−７を作成し、性能を下記により評価し、その結果を表３−４
に示した。 １．下層無機質粉末の体積比率（充填率） ダイヤモンドカッターで媒体を約０．１μｍに切り出して試験片を作成し、こ
れを透過型電子顕微鏡で観察した。この透過型電子顕微鏡写真映像から１μｍ²
当たりの無機質粉末粒子個数を勘定して、切り出した試験片の厚味を計算に入れ
て、単位体積当たりに含まれる無機質粉末の粒子個数を計測し、また、同じ写真
から求めた粉体粒子径より１個当たりの体積を求めて単位体積当たりに含まれる
無機質粉末粒子個数を乗じて、無機質粉末の体積比率を求めた。計算式は以下の
通り。 【０１９４】 下層無機質粉末の体積比率 ＝４π／３（Ｄ／２）³ （ｎ／ｔ）×１００（％） Ｄ：切片写真から求めた粉体の粒子径（μｍ） ｎ：切片写真から求めた単位面積当たりに含まれる粉体の個数（個／μｍ²） ｔ：切片の厚味（μｍ） ２．上層磁性層の粉体体積比率 強磁性粉末密度は下式から求めることができる。 【０１９５】 ｄＭ＝Ｂｍ／４πσ_S ここで、Ｂｍ（ガウス）：残留磁束密度 ｄＭ（ｇ／ｃｃ）：強磁性粉末密度 σ_S（ｅｍｕ／ｇ）：強磁性粉末の持つ磁化量 強磁性粉末の上層における体積比率は、上記密度を強磁性粉末の比重で割るこ
とにより、求まる。また、磁性層中の他の粉体成分及び結合剤の密度は磁性層処
方量より算出し、各粉体成分の比重で割ることにより、各粉体成分の体積比率が
求まり、これらを合計することにより、上層の粉体体積比率が求まる。 ３．無機質粉末の平均粒径 透過型電子顕微鏡より長軸の平均粒子径を求めた。 ４．強磁性金属粉末の結晶子サイズ Ｘ線回折により（１，１，０）面と（２，２，０）面の回折線の半値幅のひろ
がり分から求めた。 ５．表面粗さＲ_rms 走査型トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）の測定は、Digital Instrument社製のNanosc
ope IIを用いトンネル電流１０Ａ、バイアス電圧４００ｍＶの条件で６μｍ×６
μｍの範囲をスキャンして下式数１より求めた。 【０１９６】 【数１】 【０１９７】 ６．σ；実施例１と同じ方法である。 ７．７ＭＨｚ出力 富士写真フィルム社製ＦＵＪＩＸ８ ８ｍｍビデオデッキを用いて７ＭＨｚの
信号を記録し、この信号を再生したときの７ＭＨｚ信号再生出力をオシロスコー
プで測定した。リファレンスは富士写真フィルム（株）社内リファレンスである
。 ８．ピンホール 磁性層塗布後でバック層を塗布する前に透過光で磁性層を目視観察して１００
ｍ²当たりのピンホールを測定した。１００ｍ²当たり１個以内であることが望ま
しい。 【０１９８】 【表３】 【０１９９】 【表４】 【０２００】 表３〜４に示す通り、実施例試料は、下層非磁性層に含まれる無機質粉末の平
均粒径が、上層磁性層に含まれる強磁性粉末の結晶子サイズの１／２倍〜４倍で
あるために表面粗さＲ_rmsが小さく、かつｄ／Ｒ_rmsが３０以上、と一様かつ表面
性が優れた磁性層が形成され、再生出力が高く、かつピンホールが極めてすくな
い優れた磁気記録媒体である。一方、比較例２−１は、（無機質粉末の平均粒径
／強磁性粉末の結晶子サイズ）が所定の範囲より大きすぎるためにＲ_rmsが大き
くなり、再生出力が改善されない。比較例２−２は、（無機質粉末の平均粒径／
強磁性粉末の結晶子サイズ）が所定の範囲より小さすぎるためにＲ_rmsが大きく
なり、再生出力が改善されない。比較例２−３は、磁性層の厚味ｄは１．２μｍ
と厚いために再生出力がやや劣る。比較例２−４は、磁性層のみの単層磁気記録
媒体である。比較例２−５は、無機質粉末の添加量が少ないためにＲ_rmsが大き
くなり、電磁変換特性が改善されない。比較例２−６は、粉体の体積比率が小さ
すぎるため、Ｒ_rmsが大きく、電磁変換特性が改善されない。比較例２−７は無
機質粉末の体積比率が大きすぎるために塗布が不可能であった。 【０２０１】 実施例３ 以下の処方で上層磁性層用塗布液及び下層非磁性層用塗布液を調製した。 下層非磁性層；実施例２−１と同じ 上層磁性層用塗布液 Ｃｏ変性γＦｅ₂Ｏ₃ １００部 Ｈｃ ７００Ｏｅ ＢＥＴ法による比表面積 ４２ｍ²／ｇ 結晶子サイズ ３００Å 飽和磁化(σ_s) ７５ｅｍｕ／ｇ 塩化ビニル系共重合体 ９部 −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-5ｅｑ／ｇ含有、重合度３００ 微粒子研磨剤（Ｃｒ₂Ｏ、平均粒径 ０．３μｍ） ７部 トルエン ３０部 メチルエチルケトン ３０部 上記の組成物をニーダーで約１時間混練した後に更に下記組成物を加えニーダ
ーで約２時間分散を行った。 【０２０２】 ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 平均分子量 ３５０００ トルエン ２００部 メチルエチルケトン ２００部 次いで下記カーボンブラック、粗粒子研磨剤を添加、サンドグラインダーにて
分散処理を行った。 【０２０３】 カーボンブラック（平均粒径 ２０〜３０ｍμ） ５部 ライオンアクゾ社製ケッチェンブラックＥＣ 粗粒子研磨剤 ２部 α−アルミナ（住友科学社製ＡＫＰ−１２、平均粒径 ０．５μｍ） さらに下記組成物を加え、再度サンドグラインダー分散し、上層磁性層用塗布
液を得た。 【０２０４】 ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネートＬ） ６部 トリデシルステアレート ６部 以上のようにして得られた上層磁性層用塗布液と下層非磁性層用塗布液を厚さ
７５μｍのポリエチレンテレフタレート上にまず、下層非磁性層用塗布液を、次
に湿潤状態にある内に上記上層磁性層用塗布液を塗布し、裏面にも同様に処理し
た。乾燥膜厚で下層非磁性層の厚味が１．５μｍ、磁性層の厚味が０．５μｍと
なるようにした。その後、カレンダー処理を施して磁気記録媒体を得た。しかる
のちに、この磁気記録媒体を３．５吋に打ち抜き、ライナーが内側に設置済みの
３．５吋カートリッジに入れ、所定の機構部品を付加し、実施例３−１の３．５ 吋フロッピーディスクを得た。また、同様に表５に記載の因子を変更して試料、
実施例３−２〜３−５、比較例３−１〜３−３を作成し、性能を下記により評価
し、その結果を表５に示した。 １．下層無機質粉末の体積比率（充填率）；実施例２と同じ ２．無機質粉末の平均粒径；実施例２と同じ ３．酸化鉄磁性粉の結晶子サイズ；Ｘ線回折により、（４．４．０）面と（２．
２．０）面の回折線の広がり分から求めた。 ４．表面粗さＲ_rms；実施例２と同じ ５．σ；実施例１と同じ方法である。 ６．最内周２Ｆ出力相対値（％）；実施例３−１の初期２Ｆ出力値として算出し
た。使用ドライブはＰＤ２１１ 東芝株式会社製である。 【０２０５】 【表５】 【０２０６】 表５より明らかなとおり、実施例試料は、下層非磁性層に含まれる無機質粉末
の平均粒径が、上層磁性層に含まれる強磁性粉末の結晶子サイズの１／２倍〜４
倍であるために表面粗さＲ_rmsが小さく、かつｄ／Ｒ_rmsが３０以下、σが０．２
μｍ以下と一様かつ表面性が優れた磁性層が形成され、再生出力が高く、かつピ
ンホールが極めてすくない優れた磁気記録媒体である。一方、比較例３−１は、
（無機質粉末の平均粒径／強磁性粉末の結晶子サイズ）が所定の範囲より大きす
ぎるためにＲ_rmsが大きくなり、出力が改善されない。比較例３−２は、（無機
質粉末の平均粒径／強磁性粉末の結晶子サイズ）が所定の範囲より小さすぎるた
めにＲ_rmsが大きくなり、出力が改善されない。比較例３−３は、磁性層の厚味
ｄは１．２μｍと厚いために再生出力がやや劣る。 【０２０７】 実施例４ 実施例２−１と同様の上層磁性層及び下層非磁性層用塗布液組成において、表
６〜７に記載の因子（特に下層非磁性層の無機質粉末平均粒径と上層磁性層の強
磁性粉末の長軸長の比）を変更して各種の試料を作成し、性能を実施例２と同様
に評価し、その結果を表６〜７に示した。 【０２０８】 角形比：振動試料型磁束計（ＶＮＭ；東英工業製）を用いてＨｍ５ｋＯｅで測
定した時の塗布方向Ｂｒ／Ｂｍを角形比とした。 【０２０９】 【表６】 【０２１０】 【表７】 【０２１１】 上表から明らかなとおり、実施例試料は、△ｄ≦０．５０ｄを満足し、下層非
磁性層に含まれる無機質粉末の平均粒径が、上層磁性層に含まれる強磁性粉末の
長軸長の１／３倍以下であるためにｄ／Ｒ_rmsが３０以上であり、一様な磁性層
が形成され、再生出力が高く、かつピンホールが極めてすくない優れた磁気記録
媒体である。一方、比較例は、△ｄ≦０．５０ｄを満足しない。比較例４−２は
、磁性層の厚味ｄが１．３μｍと厚いために再生出力が劣る。比較例４−３は、
磁性層単層の例であり、下層非磁性層がなくｄが薄いために塗布性、電磁変換特
性が劣悪である。比較例４−４は下層乾燥後の逐次重層であるために塗布性が改
善されない。参考例４−１は、磁性層単層でｄが厚いために塗布性は良好である
が電磁変換特性が改善されない。比較例４−５は、下層に無機質粉末を使用して
いないので、上層及び下層の界面変動が大きくなるためΔｄが高く電磁変換特性
が悪い。比較例４−６は、下層に含まれるカーボンブラックが多すぎるので、や
はりΔｄが高くなり、電磁変換特性が悪い。 【０２１２】 実施例５ 実施例３−１の上層磁性層用塗布液組成の内Ｃｏ変性γＦｅ₂Ｏ₃を下記強磁性
粉末に変更した他は実施例３−１と同じ上層磁性層用塗布液及び実施例３−１の
下層非磁性層用塗布液と同じ塗布液を作成し、実施例５−１の試料を作成した。 【０２１３】 強磁性粉末（六方晶バリウムフェライト） 平均板径 ０．０５μｍ 、板状比 ４ ＢＥＴ法による比表面積 ３９ｍ²／ｇ Ｈｃ １１００Ｏｅ 又、表８に記載の因子（特に下層非磁性層の無機質粉末平均粒径と上層磁性層
の強磁性粉末の平均板径の比）を変更して試料、実施例５−２〜５−３、比較例
５−２を作成し、性能を実施例３と同様に評価し、その結果を表８に示した。 【０２１４】 垂直方向角形比：振動試料型磁束計を用いて塗布面に対して垂直方向のＢｒ／
Ｂｍを測定した。 Ｄ５０（ｋｆｃｉ）：出力が長波長記録再生出力の５０％となる記録密度。こ
のＤ５０は、装置として実現可能な最大記録密度の目安となる。 【０２１５】 【表８】 【０２１６】 表８より、実施例試料は、下層非磁性層に含まれる無機質粉末の平均粒径が、
上層磁性層に含まれる板状強磁性粉末の平均板径以下であるために垂直方向角形
比が高く、Δｄが０．５０ｄ以下と一様な磁性層が形成されている。従って、実
施例試料は、Ｄ５０が高く、かつピンホールが極めてすくない優れた磁気記録媒
体である。比較例５−２は、下層非磁性層のない磁性層単層の例であり、Ｄ５０
が悪い。 【０２１７】 実施例６ 以下の処方で上層磁性層用塗布液及び下層非磁性層用塗布液を調製した。 実施例６−１ 下層非磁性層用塗布液 無機質粉末 ＴｉＯ₂ ８０部 平均粒径 ０．０３５μｍ 結晶系 ルチル ＴｉＯ₂含有量 ９０重量％ 無機質粉末表面処理層 Ａｌ₂Ｏ₃（１０重量％） ＢＥＴ法による比表面積 ４０ｍ²／ｇ ＤＢＰ吸油量 ２７〜３８ｇ／１００ｇ ｐＨ ７ カーボンブラック ２０部 平均粒径 １６ｍμ ＤＢＰ吸油量 ８０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ ８．０ ＢＥＴ法による比表面積 ２５０ｍ²／ｇ 揮発分 １．５％ 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １２部 −Ｎ（ＣＨ₃）₃ ⁺Ｃｌ^-の極性基を５×１０^-6ｅｑ／ｇ含む 組成比 ８６：１３：１ 重合度 ４００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン １００部 シクロヘキサノン ５０部 トルエン ５０部 上層磁性層用塗布液 強磁性金属微粉末 組成 Ｆｅ／Ｚｎ／Ｎｉ＝９２／４／４ １００部 Ｈｃ １６００Ｏｅ ＢＥＴ法による比表面積 ６０ｍ²／ｇ 結晶子サイズ １９５Å 平均長軸長 ０．２０μｍ、針状比 １０ 飽和磁化(σ_s)：１３０ｅｍｕ／ｇ 表面処理剤：Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂ 塩化ビニル系共重合体 １２部 −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有、重合度３００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ３部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 α−アルミナ（平均粒径 ０．３μｍ） ２部 カーボンブラック（平均粒径 ０．１０μｍ） ０．５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン ９０部 シクロヘキサノン ５０部 トルエン ６０部 上記２つの塗料のそれぞれについて、各成分を連続ニーダーで混練した後、サ
ンドミルを用いて分散させた。得られた分散液にポリイソシアネートを下層非磁
性層の塗布液には１部、上層磁性層の塗布液には３部を加え、さらにそれぞれに
酢酸ブチル４０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し
、下層非磁性層用及び上層磁性層用の塗布液をそれぞれ調製した。 【０２１８】 得られた下層非磁性層塗布液を乾燥後の厚さが２μｍになるように更にその直
後にその上に上層磁性層の厚さが０．５μｍになるように、厚さ７μｍで中心平
均表面粗さが０．０１μｍのポリエチレンテレフタレート支持体上に同時重層塗
布を行い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに３０００ガウスの磁力をもつコバル
ト磁石と１５００ガウスの磁力をもつソレノイドにより配向させ、乾燥後、金属
ロールのみから構成される７段のカレンダーで温度９０℃にて処理を行い、８ｍ
ｍの幅にスリットし、実施例６−１の８ｍｍビデオテープを製造した。 【０２１９】 また、同様に表９〜１０に記載の因子を変更して試料、実施例６−２〜６−１
２、比較例６−１〜６−３を作成し、性能を前述と同様に評価し、その結果を表
９〜１０に示した。尚、８ｍｍビデオの相対速度は３８ｍ／ｓｅｃであり、７Ｍ
Ｈｚ記録波長は０．５４μｍである。従って、λ／５０は１０．８ｎｍとなる。 中心線平均表面粗さ（Ｒａ）：ＷＹＫＯ社製ＴＯＹＯ３Ｄを用いてＭＩＲＡＵ
法で約２５０×２５０ｎｍの面積Ｒａを測定した。測定波長は約６５０ｎｍにて
球面補正。円筒補正を加えた。 【０２２０】 【表９】 【０２２１】 【表１０】 【０２２２】 上表より明らかなとおり、実施例試料は、無機質粉末表面にＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ
₂、ＺｒＯ₂等の処理層を上表に示す通り含むために分散性が改善され、Ｒａが低
く、λ／５０（１０．８ｎｍ）以下であり、電磁変換特性が良好である。比較例
６−１は、無機質粉末に処理層が含まれないので、分散性が悪く、Ｒａおよびσ
、Δｄが高くなり、電磁変換特性が劣る。比較例６−２は、磁性層が厚いために
電磁変換特性が悪い。比較例３は、逐次重層のため試料が作成できなかった。 【０２２３】 実施例７ 以下の処方で上層磁性層用塗布液及び下層非磁性層用塗布液を調製した。 実施例７−１ 下層非磁性層用塗布液；実施例６−１と同じ 上層磁性層用塗布液 Ｃｏ置換バリウムフェライト １００部 ＢＥＴ法による比表面積 ３５ｍ²／ｇ 平均粒径 ０．０６、板状比 ５ 塩化ビニル系共重合体 ９部 −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-5ｅｑ／ｇ含有、重合度３００ 微粒子研磨剤（Ｃｒ₂Ｏ、平均粒径 ０．３μｍ） ７部 トルエン ３０部 メチルエチルケトン ３０部 上記の組成物をニーダーで約１時間混練した後に更に下記組成物を加えニーダ
ーで約２時間分散を行った。 【０２２４】 ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 平均分子量 ３５０００ メチルエチルケトン ２００部 シクロヘキサノン １００部 トルエン ８０部 次いで下記カーボンブラック、粗粒子研磨剤を添加、サンドグラインダーにて
２０００回転、約２時間分散処理を行った。 【０２２５】 カーボンブラック（平均粒径 ２０〜３０ｍμ） ５部 ライオンアクゾ社製ケッチェンブラックＥＣ 粗粒子研磨剤 ２部 α−アルミナ（住友化学社製ＡＫＰ−１２、平均粒径 ０．５μｍ） さらに下記組成物を加え、再度サンドグラインダー分散し、上層磁性層用塗布
液を得た。 【０２２６】 ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネートＬ） ６部 トリデシルステアレート ６部 以上のようにして得られた上層磁性層用塗布液と下層非磁性層用塗布液を厚さ
７５μｍのポリエチレンテレフタレート上にまず、下層非磁性層用塗布液を、次
に湿潤状態にある内に上記上層磁性層用塗布液を塗布し、裏面にも同様に処理し
た。乾燥膜厚で下層非磁性層の厚味が１．５μｍ、磁性層の厚味が０．５μｍと
なるようにした。その後、カレンダー処理を施して磁気記録媒体を得た。しかる
のちに、この磁気記録媒体を３．５吋に打ち抜き、ライナーが内側に設置済みの
３．５吋カートリッジに入れ、所定の機構部品を付加し、実施例７−１の３．５
吋フロッピーディスクを得た。また、同様に表１１に記載の因子を変更して試料
、実施例７−２〜７−７、比較例７−１を作成し、性能を評価し、その結果を表
１１に示した。 【０２２７】 初期最内周２Ｆ出力：実施例７−１のサンプルを１００として相対値として算
出した。使用ドライブはＰＤ２１１（東芝社製）である。尚、記録波長は、１４
２８μｍである。従って、λ／５０は２８．５ｎｍである。 表面粗さ：Ｒａを実施例６と同様の方法で測定した。 【０２２８】 【表１１】 【０２２９】 上表から、実施例６と同様に実施例試料は、無機質粉末表面にＡｌ₂Ｏ₃、Ｓｉ
Ｏ₂、ＺｒＯ₂等の処理層を上表に示す通り含むために分散性が改善され、Ｒａが
低く、電磁変換特性が良好である。比較例７−１は、無機質粉末に処理層が含ま
れないので、分散性が悪く、Ｒａおよびσ、Δｄが高くなり、電磁変換特性が劣
る。 【０２３０】 実施例８ 以下の処方で上層磁性層用塗布液及び下層非磁性層用塗布液を調製した。 実施例８−１ 下層非磁性層用塗布液 無機質粉末 ＴｉＯ₂ ８０部 平均粒径 ０．０３５μｍ 結晶系 ルチル ＴｉＯ₂含有量 ９０％以上 比表面積 ４０ｍ²／ｇ ＤＢＰ吸油量 ２７〜３８ｇ／１００ｇ ｐＨ ７ カーボンブラック ２０部 平均粒径 １６ｍμ ＤＢＰ吸油量 ８０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ ８．０ ＢＥＴ法による比表面積 ２５０ｍ²／ｇ 揮発分 １．５％ 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １２部 −Ｎ（ＣＨ₃）₃ ⁺Ｃｌ^-の極性基を５×１０^-6ｅｑ／ｇ含む 組成比 ８６：１３：１ 重合度 ４００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン ２００部 上層磁性層 強磁性金属微粉末 組成 Ｆｅ／Ｚｎ／Ｎｉ＝９２／４／４ １００部 Ｈｃ １６００Ｏｅ ＢＥＴ法による比表面積 ６０ｍ²／ｇ 結晶子サイズ １９５Å 平均長軸径 ０．２０μｍ、針状比 ７ 飽和磁化(σ_s)：１２８ｅｍｕ／ｇ 塩化ビニル系共重合体 １２部 −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有、重合度３００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ３部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 α−アルミナ（平均粒径 ０．２μｍ） ２部 カーボンブラック（平均粒径 ０．１０μｍ） ０．５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン ２００部 上記２つの塗料のそれぞれについて、各成分をオープンニーダーで混練した後
、サンドミルを用いて分散させた。得られた分散液にポリイソシアネートを下層
非磁性層の塗布液には１部、上層磁性層の塗布液には３部を加え、さらにそれぞ
れに酢酸ブチル４０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾
過し、下層非磁性層用及び上層磁性層用の塗布液をそれぞれ調製した。 【０２３１】 得られた下層非磁性層塗布液を乾燥後の厚さが３μｍになるように更にその直
後にその上に上層磁性層の厚さが０．５μｍになるように、厚さ７μｍで中心平
均表面粗さが０．０１μｍのポリエチレンテレフタレート支持体上に同時重層塗
布を行い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに３０００ガウスの磁力をもつコバル
ト磁石と１５００ガウスの磁力をもつソレノイドにより配向させ、乾燥後、金属
ロールのみから構成される７段のカレンダーで温度９０℃にて処理を行い、８ｍ
ｍの幅にスリットし、実施例８−１の８ｍｍビデオテープを製造した。 【０２３２】 また、同様に表１２〜１７に記載の因子を変更して試料、実施例８−２〜８−
６、比較例８−１〜８−４を作成した。また、実施例８−４、比較例８−１の磁
性層は強磁性粉末の充填密度を上げるために混練に連続ニーダーを用いた。 その試料の特性を評価し、その結果を表１６、１７に示した。 評価方法 ７ＭＨｚ出力 富士写真フィルム社製ＦＵＪＩＸ８ ８ｍｍビデオデッキを用いて７ＭＨｚ信
号を記録し、この信号を再生したときの７ＭＨｚ信号再生出力をオシロスコープ
で測定した。対照は富士写真フィルム社製８ミリテープＳＡＧ Ｐ６−１２０で
ある。 【０２３３】 Ｃ／Ｎ比 富士写真フィルム社製ＦＵＪＩＸ８ ８ｍｍビデオデッキを用いて７ＭＨｚ信
号を記録し、この信号を再生したときの６ＭＨｚで発生するノイズをスペクトル
アナライザーで測定し、このノイズに対する再生信号の比を測定した。 テープ熱収縮率 試料テープを７０℃の恒温槽に４８分間保存し、その前後の長さの変化をもっ
て熱収縮率とした。テープ長は約１００ｍｍでコンパレーターで長さを測定した
。恒温槽に保存中はテンションをかけなかった。 【０２３４】 スキュー歪み 予め、カラーバー信号を記録し、その後７０℃の恒温槽中に４８時間保存した
後、十分室温に戻ったのを確認した後、再生して画面上でのカラーバー信号の変
化より求めた。カラーバー１本が７．４８μｓｅｃである。 走行耐久性 試料を２３℃、７０％ＲＨの雰囲気で富士写真フィルム社製８ｍｍビデオデッ
キＦＵＪＩＸ８ １０台でＰ６−１２０を１００回走行させた。その間、出力低
下を測定し、また走行後のデッキ内各部の汚れを評価した。○は、汚れが付着し
ている部分が５ヵ所以内であることを示し、△は、汚れが付着している部分が５
ヵ所以上であるが、目詰まりの実害はないことを示し、×は、汚れが付着してい
る部分が５ヵ所以上であり、目詰まりの実害があることを示す。尚、○△は、○
と△の中間の性能を意味する。 【０２３５】 【表１２】 【０２３６】 【表１３】 【０２３７】 【表１４】 【０２３８】 【表１５】 【０２３９】 【表１６】 【０２４０】 【表１７】 【０２４１】 上表より、各実施例に示される本発明の磁気記録媒は、Δｄ≦０．５０ｄを満
足し、比較例に比べ、スキュー歪みが小さく、σ、Δｄも小さいので再生出力、
Ｃ／Ｎ比、走行耐久性も良好であった。比較例８−１は、上層厚味が、１．２μ
ｍと厚いために電磁変換特性が劣る。 【０２４２】 本実施例は、磁気記録媒体の７０℃、４８時間における熱収縮率を０．４％以
下に制御したことによりスキュー歪みを低減すると共に走行耐久性、更にＣ／Ｎ
、再生出力を良好に確保できる優れた特性を有する極めて磁性層の薄い塗布型磁
気記録媒体であり、しかも塗布欠陥なく大量に製造できることがわかる。 実施例９ 下記処方により下層非磁性層用塗布液及び上層磁性層用塗布液を調製した。 下層非磁性層用塗布液 無機質粉末 ＴｉＯ₂ ８０部 平均粒径 ０．０３５μｍ 結晶系 ルチル ＴｉＯ₂含有量 ９０％以上 ＢＥＴ法による比表面積 ４０ｍ²／ｇ ＤＢＰ吸油量 ２７〜３８ｇ／１００ｇ ｐＨ ７ カーボンブラック ２０部 平均粒径 １６ｍμ ＤＢＰ吸油量 ８０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ ８．０ ＢＥＴ法による比表面積 ２５０ｍ²／ｇ 揮発分 １．５％ 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １２部 −Ｎ（ＣＨ₃）₃ ⁺Ｃｌ^-の極性基を５×１０^-6ｅｑ／ｇ含む 組成比 ８６：１３：１ 重合度 ４００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン ２００部 上層磁性層（ａ） 強磁性金属微粉末 組成 Ｆｅ／Ｚｎ／Ｎｉ＝９２／４／４ １００部 Ｈｃ １６００Ｏｅ ＢＥＴ法による比表面積 ６０ｍ²／ｇ 結晶子サイズ １９５Å 平均長軸長 ０．２０μｍ、針状比 １０ 飽和磁化(σ_s)：１３０ｅｍｕ／ｇ 塩化ビニル系共重合体 １２部 −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有、重合度３００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ３部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 α−アルミナ（平均粒径 ０．３μｍ） ２部 カーボンブラック（平均粒径 ０．１０μｍ） ０．５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン ２００部 上記２つの塗料のそれぞれについて、各成分を連続ニーダーで混練した後、サ
ンドミルを用いて分散させた。得られた分散液にポリイソシアネートを下層非磁
性層の塗布液には１部、上層磁性層の塗布液には３部を加え、さらにそれぞれに
酢酸ブチル４０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し 、下層非磁性層用及び上層磁性層用の塗布液をそれぞれ調製した。 【０２４３】 得られた下層非磁性層塗布液を乾燥後の厚さが２．５μｍになるように更にそ
の直後にその上に上層磁性層の厚さが０．５μｍになるように、厚さ７μｍで中
心平均表面粗さが０．０１μｍのポリエチレンテレフタレート支持体上に同時重
層塗布を行い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに３０００ガウスの磁力をもつコ
バルト磁石と１５００ガウスの磁力をもつソレノイドにより配向させ、乾燥後、
金属ロールのみから構成される７段のカレンダーで温度９０℃にて処理を行い、
８ｍｍの幅にスリットし、実施例９−１の８ｍｍビデオテープを製造した。 【０２４４】 また、同様に表１８〜１９に記載の因子を変更して試料、実施例９−２〜９−
６、比較例９−１〜９−４を作成した。 上記試料を評価し、その結果を表１８〜１９に示す。 ＳMD、ＳTD、スチフネス比率 東洋精機製ループスチフネステスターを用いて、幅８ミリ、長さ５０ミリの試
料をＳMD用及びＳTD用に切り出してこれを円環として、内径方向に変位速度３．
５ｍｍ／秒で変位５ｍｍを与えるのに要する各力をｍｇでＳMD、ＳTDを求めスチ
フネス比率ＳMD／ＳTDを求めた。 エンベロープ平坦度 富士写真フィルム社製ＦＵＪＩＸ８ ８ｍｍビデオデッキを用いて７ＭＨｚ信
号を記録し、この信号を再生した時７ＭＨｚ信号再生出力をオシロスコープで観
察し、１フィールド中で最大出力と最小出力との差をもって表す。 ７ＭＨｚ出力 富士写真フィルム社製ＦＵＪＩＸ８ ８ｍｍビデオデッキを用いて７ＭＨｚ信
号を記録し、この信号を再生したときの７ＭＨｚ信号再生出力をオシロスコープ
で測定した。対照は富士写真フィルム社製８ミリテープＳＡＧ Ｐ６−１２０で
ある。 Ｃ／Ｎ比 富士写真フィルム社製ＦＵＪＩＸ８ ８ｍｍビデオデッキを用いて７ＭＨｚ信 号を記録し、この信号を再生したときの６ＭＨｚで発生するノイズをスペクトル
アナライザーで測定し、このノイズに対する再生信号の比を測定した。 走行耐久性測定法 試料を２３℃、７０％ＲＨ雰囲気で富士写真フィルム社製８ｍｍビオデデッキ
ＦＵＪＩＸ８ １０台でＰ６−１２０を１００回走行させた。その間、出力低下
を測定した。 【０２４５】 ○は、出力低下２ｄＢ以内 △は、出力低下２〜４ｄＢ ×は、出力低下４ｄＢ以上又は目詰まり発生 ピンホール 磁性層塗布後、バック層を塗布する前に、透過白色光で磁性層を目視観察して
１００ｍ²当たりのピンホールを測定した。１００ｍ²に１個以下が好ましい。 【０２４６】 【表１８】 【０２４７】 【表１９】 【０２４８】 上表より、本発明の実施例は、ＳMD／ＳTDが１．０〜１．９に制御されている
ために比較例に比べ、ヘッド当たりが改善され、エンベロープ平坦度が小さい。
また、実施例は塗布欠陥がなくかつσが小さいので走行耐久性、出力、Ｃ／Ｎに
優れることが分かる。比較例９−１は、下層に無機質粉末でなくモース硬度２の
カーボンを使用しているためにＳTDが低く所定のＳMD／ＳTDが得られず、エンベ
ロープ平坦度、σ、走行耐久性が改善されない。比較例９−２は、平均粒径の大
きな無機質粉末を使用したために所定のＳMD／ＳTDが得られず、エンベロープ平
坦度、σが改善されない。比較例９−３は、下層を設けない例であり、磁性層は
塗布欠陥が生じ評価試料はできなかった。比較例９−４は、磁性層の厚味は１．
２と厚いために他の実施例に比べ電磁変換特性が劣るものの、エンベロープ平坦
度、走行耐久性は改善された。 【０２４９】 実施例１０ 非磁性粉体としてポリエチレンテレフタレート（厚味１０μｍＮＦ５値：ＭＤ
方向 ２０Ｋｇ／ｍｍ²、ＴＤ方向 １４Ｋｇ／ｍｍ²、ヤング率：ＭＤ方向 ７
５０Ｋｇ／ｍｍ²、ＴＤ方向 ４７０Ｋｇ／ｍｍ²）又はポリエチレンテレナフタ
レート（厚味 ７μｍ、Ｆ５値：ＭＤ方向 ２２Ｋｇ／ｍｍ²、ＴＤ方向 １８
Ｋｇ／ｍｍ²、ヤング率：ＭＤ方向 ７５０Ｋｇ／ｍｍ²、ＴＤ方向 ７５０Ｋｇ
／ｍｍ²）を用い、その上に以下の処方でディスパ攪拌機で１２時間攪拌して下
塗液を調製した。 【０２５０】 ポリエステル樹脂（−ＳＯ₃Ｎａ基含有） １００部 Ｔｇ ６５℃ Ｎａ含量 ４６００ｐｐｍ シクロヘキサノン ９９００部 得られた下塗液を用いてバーコートにより前記非磁性支持体上に乾燥厚味 ０
．１μｍで塗布した。 【０２５１】 一方、以下の処方で上層磁性層用塗布液及び下層非磁性層用塗布液を調製した
。 上層磁性層用塗布液処方 強磁性粉末：Ｆｅ合金粉末（Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ） １００部 組成；Ｆｅ：Ｃｏ：Ｎｏ：Ｎｉ＝９２：６：２ 焼結防止剤としてＡｌ₂Ｏ₃を使用 Ｈｃ １６００Oe、σ_s １１９ｅｍｕ／ｇ 長軸長 ０．１３μｍ，針状比 ７ 結晶子サイズ １７２Å、含水率 ０．６重量％ 塩化ビニル共重合体 １３部 −ＳＯ₃Ｎａ ８×１０^-5ｅｑ／ｇ、−ＯＨ、エポキシ基含有 Ｔｇ ７１℃、重合度 ３００、数平均分子量（Ｍｎ）１２０００ 重量平均分子量（Ｍｗ）３８０００ ポリウレタン樹脂 ５部 −ＳＯ₃Ｎａ ８×１０^-5ｅｑ／ｇ含有 −ＯＨ ８×１０^-5ｅｑ／ｇ含有 Ｔｇ ３８℃、Ｍｗ ５００００ αアルミナ（平均粒径０．１５μｍ） １２部 Ｓ_BET８．７ｍ₂／ｇ、ｐＨ ８．２、含水率 ０．０６重量％ シクロヘキサノン １５０部 メチルエチルケトン １５０部 上記組成物をサンドミル中で６時間混合分散したのち、ポリイソシアネート（
コロネートＬ）を５部及びオレイン酸 １部、ステアリン酸１部、ステアリン酸
ブチル１．５部を加えて上層磁性層用塗布液を得た。 【０２５２】 下層非磁性層用塗布液処方 ＴｉＯ₂ ８５部 平均粒径 ０．０３５μｍ 結晶系 ルチル ＴｉＯ₂含有量 ９０％以上 表面処理剤 Ａｌ₂Ｏ₃ Ｓ_BET ３５〜４５ｍ²／ｇ 真比重 ４．１ ｐＨ ６．５〜８．０ カーボンブラック ５部 平均粒径 １６ｍμ ＤＢＰ吸油量 ８０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ ８．０ Ｓ_BET ２５０ｍ²／ｇ 着色力 １４３％ 塩化ビニル共重合体 １３部 −ＳＯ₃Ｎａ ８×１０^-5ｅｑ／ｇ、−ＯＨ、エポキシ基含有 Ｔｇ ７１℃、重合度 ３００、数平均分子量（Ｍｎ）１２０００ 重量平均分子量（Ｍｗ）３８０００ ポリウレタン樹脂 ５部 −ＳＯ₃Ｎａ ８×１０^-5ｅｑ／ｇ含有 −ＯＨ ８×１０^-5ｅｑ／ｇ含有 Ｔｇ ３８℃、Ｍｗ ５００００ シクロヘキサン １００部 メチルエチルケトン １００部 上記組成物をサンドミル中で４時間混合分散したのち、ポリイソシアネート（
コロネートＬ）５部、オレイン酸１部、ステアリン酸１部、ステアリン酸ブチル
１．５部を加えて下層非磁性層用塗布液を得た。 【０２５３】 上記の塗布液をギャップの異なる２つのドクターを用いて、湿潤状態で塗布し
たのち、永久磁石３５００ガウス、次いでソレノイド １６００ガウスにて配向
処理後、乾燥した。その後、金属ロールと金属ロールによるスーパーカレンダー
処理を温度８０℃で行った。塗布厚みは磁性層０．３μｍ、非磁性層３．０μｍ であった。 【０２５４】 次いで以下の処方により塗布液を調製した。 ＢＣ層処方 カーボンブラック １００部 Ｓ_BET ２２０ｍ²／ｇ 平均粒径 １７ｍμ ＤＢＰ吸油量 ７５ｍｌ／１００ｇ 揮発分 １．５％ ｐＨ ８．０ 嵩密度 １５ ｌｂｓ／ｆｔ³ ニトロセルロース ＲＳ１／２ １００部 ポリエステルポリウレタン ３０部 ニッポラン（日本ポリウレタン社製） 分散剤 オレイン酸銅 １０部 銅フタロシアニン １０部 硫酸バリウム（沈降性） ５部 メチルエチルケトン ５００部 トルエン ５００部 上記組成を予備混練し、ロールミルで混練した。次に上記分散物１００重量部
に対して、 カーボンブラック １００部 Ｓ_BET ２００ｍ²／ｇ 平均粒径 ２００ｍμ ＤＢＰ吸油量 ３６ｍｌ／１００ｇ ｐＨ ８．５ α−Ａｌ₂Ｏ₃（平均粒径 ０．２μｍ） ０．１部 を添加した組成にてサンドグラインダーで分散を行い、濾過後、上記分散物１０
０重量部に対して以下の組成を添加し、塗布液を調製した。 【０２５５】 メチルエチルケトン １２０部 ポリイソシアネート ５部 得られた塗布液をバーコーターにより、前記磁性層を設けた非磁性支持体の反
対側に乾燥厚味０．５μｍになるよう塗布した。このようにして得られた原反を
８ｍｍ幅に裁断し試料１（ＰＥＴ支持体）及び試料２（ＰＥＮ支持体）の８ｍｍ
ビデオテープを作成した。 【０２５６】 得られた８ｍｍビデオテープについて以下の測定を行い、その測定結果を得た
。 （１）ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡） 磁性層の超薄切片を観察した。 ダイヤモンドカッターで媒体を約０．１μｍ厚味に切り出し、これを透過型電
子顕微鏡で観察し、写真撮影した。撮影した写真の上下層の界面と磁性層表面を
隈取りし、ＩＢＡＳII画像処理装置で磁性層厚味を測定し、その平均値ｄと標準
偏差σとを求めた。 【０２５７】 磁性層厚味の平均値ｄは０．４５μｍであった。実用上は１μｍ以下、特に好
ましくは０．６μｍ以下であることがわかった。磁性層厚味変動△ｄは、０．０
７μｍで、△ｄ≦０．５ｄを満足し、磁性層厚味の標準偏差σは、０．０８μｍ
以下であった。実用上はσは０．２μｍ以下、特に好ましくは０．１μｍ以下で
あることがわかった。 同様に実施例２−４は、σが０．０６であった。 【０２５８】 前記磁気テープを延伸して磁性層を支持体から浮いた状態にし、カッター刃で
しごいて磁性層を剥離した。この剥離した磁性層５００ｍｇを１Ｎ−ＮａＯＨ／
メタノール溶液１００ｍｌ中で２時間環流し、結合剤を加水分解した。強磁性粉
末は比重が大きいために底に沈むので上澄み液を除去した。 次いでデカンテーションにより３回水洗、その後ＴＨＦで３回洗浄した。得ら れた強磁性粉末は５０℃の真空乾燥機で乾燥した。次に得られた強磁性粉末をコ
ロジオン中に分散し、ＴＥＭを用いて６万倍で観察した。その結果、強磁性粉末
の粒子長軸長０．１３μｍであり、針状比は１０であった。同様に実施例２−２
では長軸長０．２５μｍで、針状比は１５であった。実用上は粒子長軸長は０．
４μｍ以下が必要であり、好ましくは０．３μｍ以下であることがわかった。又
実用上、針状比は２〜２０が必要であり、好ましくは２〜１５であることがわか
った。 （２）ＡＦＭ（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏ Ｓｃｏｐｅ） 表面粗さＲ_rmsを測定した。磁性層表面をＤｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅ
ｎｔ社のＮａｎｏｓｃｏｐｅＩＩを用い、トンネル電流１０ｎＡ、バイアス電圧
４００ｍＶで６μｍ×６μｍの範囲を走査した。表面粗さはこの範囲のＲ_rmsを
求めた。 【０２５９】 その結果、Ｒ_rmsは６ｎｍであった。実用上は２０ｎｍ以下が必要であり、好
ましくは１０ｎｍ以下であることがわかった。同様に実施例２も参考にできる。 （３）表面粗さ計 ３ｄ−ＭＩＲＡＵを用いた表面粗さを測定した。ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ３Ｄを
用いてＭＩＲＡＵ法で約２５０×２５０μｍ²の面積のＲａ、Ｒ_rms、Ｐｅａｋ−
Ｖａｌｌｅｙ値を測定した。測定波長約６５０ｎｍにて球面補正、円筒補正を加
えている。この方式は光干渉にて測定する非接触表面粗さ計である。Ｒａは、２
．７ｎｍであった。実用上、Ｒａは１〜４ｎｍが好ましく、更に好ましくは２〜
３．５ｎｍであることがわかった。Ｒ_rmsは３．５ｎｍであった。実用上は１．
３〜６ｎｍが好ましく、更に好ましくは１．５〜５ｎｍであることがわかった。
Ｐ−Ｖ値は２０〜３０ｎｍであった。実用上は８０ｎｍ以下が好ましく、更に好
ましくは１０〜６０ｎｍであることがわかった。 （４）ＶＳＭ（振動試料型磁束計） ＶＳＭを用いて得られた磁気テープの磁性層の磁気特性を測定した。東英工業
社製の振動試料型磁束計を用いてＨｍ ５ｋＯｅで測定した。 【０２６０】 その結果、Ｈｃは１６２０Ｏｅ、Ｈｒ（９０°）は１８００Ｏｅ、Ｂｒ／Ｂｍ
は０．８２、ＳＦＤは、０．５８３であった。実用上Ｈｃは１５００〜２５００
Ｏｅが必要で、好ましくは１６００〜２０００Ｏｅであることがわった。Ｈｒ（
９０°）は実用上、１０００〜２８００Ｏｅが必要で、好ましくは１２００〜２
５００Ｏｅであることがわかった。Ｂｒ／Ｂｍは、実用上０．７５以上が必要で
、好ましくは０．８以上であることがわかった。ＳＦＤは実用上０．７以下が必
要で、好ましくは０．６以下であることがわかった。 【０２６１】 実施例４も同様の結果を得た。 （５）Ｘ線回折 前述の（１）で磁性層より取り出した強磁性粉末を用いて、Ｘ線回折をした。 磁気テープを直接にＸ線回折装置にかけ、（１，１，０）面と（２，２，０）
面との回折線の半値幅の広がりから求めた。その結果、結晶子サイズは１８０Å
であることがわかった。実用上好ましくは４００Å以下であり、特に好ましくは
１００〜３００Åであることがわかった。同様に実施例６−２を測定すると２８
０Åであった。 （６）引っ張り試験 引っ張り試験機で得られた磁気テープのヤング率、降伏応力、降伏伸びを測定
した。引っ張り試験機（東洋ボールドウィン社製万能引っ張り試験機ＳＴＭ−Ｔ
−５０ＢＰ）を用いて雰囲気２３℃、７０％ＲＨで引っ張り速度１０％／分で測
定した。 【０２６２】 その結果、磁気テープのヤング率は７００Ｋｇ／ｍｍ²、降伏応力 ６〜７Ｋ
ｇ／ｍｍ²、降伏伸びが０．８％であった。実用上好ましくはヤング率は４００
〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²、特に好ましくは５００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ²であるこ
とがわかった。降伏応力は、実用上好ましくは３〜２０Ｋｇ／ｍｍ²、特に好ま
しくは４〜１５であることがわかった。降伏伸びは実用上好ましくは０．２〜８
％であり、特に好ましくは０．４〜５％であることがわかった。 （７）曲げ剛性、円環式スティフネス ループスティフネステスタを用いて、幅８ｍｍ、長さ５０ｍｍの試料を円環と
し、変位速度約３．５ｍｍ／秒で変位５ｍｍを与えるのに要する力をｍｇで表す
。 【０２６３】 その結果、８ｍｍのｐ６−１２０のテープでは厚さが１０．５μｍであり、ス
ティフネスは４０〜６０ｍｍであった。実用上厚さが１０．５±１μｍでは好ま
しくは、スティフネスは２０〜９０ｍｇであり、特に好ましくは３０〜７０ｍｇ
であることがわかった。厚さが１１．５μｍ以上の場合は実用上好ましくは４０
〜２００ｍｇであることがわかった。厚さが９．５μｍ以下の場合は、実用上好
ましくは１０〜７０ｍｇであることがわかった。 （８）延伸破壊 クラック発生伸度を２３℃、７０％ＲＨで測定した。 【０２６４】 テープ長さ１０ｃｍの試験片の両端を０．１ｍｍ／秒の引っ張り速度で引っ張
り、４００倍で磁性層表面を顕微鏡観察して、磁性層表面に５個以上の明らかな
亀裂が発生した伸度を測定する。同様にして実施例８−４は１２％であった。 その結果、発生伸度は４％であった。実用上好ましくは２０％以下、特に好ま
しくは１０％以下であることがわかった。 （９）ＥＳＣＡ Ｃｌ／ＦｅスペクトルαとＮ／Ｆｅスペクトルβを測定した。 【０２６５】 α及びβの測定には、Ｘ線光電子分光装置（ＰＥＲＫＩＮ−ＦＬＭＥＲ社製）
を用いた。Ｘ線源はＭｇアノードを用い、３００Ｗで測定した。まず、ビデオテ
ープの潤滑剤をｎ−ヘキサンを用いて洗い流した後、Ｘ線光電子分光装置にセッ
トした。Ｘ線源と試料とも距離は１ｃｍとした。試料を真空に排気して５分後か
らＣｌ−２Ｐスペクトル、Ｎ−１ＳスペクトルとＦｅ−２Ｐ（３／２）スペクト
ルを１０分間積算し測定した。なお、バスエネルギーは１００ｅＶで一定とした
。測定したＣｌ−２ＰスペクトルとＦｅ−２Ｐ（３／２）スペクトルとの積分強
度比を計算で求め、αとした。 【０２６６】 又、Ｎ−１ＳスペクトルとＦｅ−２Ｐ（３／２）スペクトルとの積分強度比を
計算で求めβとした。 その結果αは、０．４５であり、βは０．０７であった。また、実施例３−５
を測定するとαは０．３２、βは、０．１０であった。実用上αは好ましくは０
．３〜０．６であり、特に好ましくは０．４〜０．５であることがわかった。実
用上βは好ましくは０．０３〜０．１２であり、特に好ましくは０．０４〜０．
１であることがわかった。 （１１）レオバイブロン １１０Ｈｚの動的粘弾性を測定した。 【０２６７】 動的粘弾性測定装置（東洋ボールドウィン社製レオバイブロン）を用い、周波
数１１０Ｈｚでテープの粘弾性を測定した。ＴｇはＥ′′のピーク温度とした。
この方法はテープの一端から振動を加え他端に伝播する振動を測定する。 その結果、Ｔｇは７３℃、Ｅ′（５０℃）は４×１０¹⁰ｄｙｎｅ／ｃｍ²、Ｅ
′′（５０℃）は１×１０¹¹であった。実用上Ｔｇは好ましくは４０〜１２０℃
、特に好ましくは５０〜１１０℃であることがわかった。実用上Ｅ′（５０℃）
は０．８×１０¹¹〜１１×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ²であり、特に好ましくは、１
×１０¹¹〜９×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ²であることがわかった。実用上Ｅ′′（
５０℃）は好ましくは０．５×１０¹¹〜８×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ²であり、特
に好ましくは０．７×１０¹¹〜５×１０¹¹ｄｙｎｅ／ｃｍ²であることがわかっ
た。 （１２）密着強度 １８０°剥離法により支持体と磁性層との密着強度を測定した。 【０２６８】 ８ｍｍ幅にスリットしたテープを３Ｍ製粘着テープにはりつけ、２３℃、７０
％ＲＨで１８０剥離強度を測定した。 得られた結果は５０ｇであった。又、実施例３−１を同様に測定すると２５ｇ
であった。実用上好ましくは密着強度は１０ｇ以上であり、特に好ましくは２０ ｇ以上であることがわかった。 （１３）磨耗 磁性層表面の２３℃、７０％ＲＨの鋼球磨耗を測定した。 【０２６９】 プレパラートガラス上に試料をその両端を接着テープで張り付けて固定し、６
．２５ｍｍφの鋼球に荷重５０ｇを加えて摺動させた。その際、２０ｍｍの距離
を速度２０ｍｍ／ｓｅｃで１回走行させた後、新しい磁性面に鋼球を移動させて
同じ操作を２０回繰り返した。その後、鋼球の摺動面を４０倍の顕微鏡で観察し
、その面が円であると仮定して直径を求め、その直径から磨耗量を計算した。 【０２７０】 得られた結果は、０．７×１０^-5〜１．１×１０^-5ｍｍ³であった。また、実
施例３−２は、４×１０^-5ｍｍ³であった。実用上好ましくは０．１×１０^-5〜
５×１０^-5ｍｍ³であり、特に好ましくは０．４×１０^-5〜２×１０^-5ｍｍ³であ
った。 （１４）ＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍｉｃｒｏｓｃｏ
ｐｅ） ＳＥＭで磁性層表面状況を観察した。 【０２７１】 日立製電子顕微鏡Ｓ−９００にて倍率５０００倍で５枚撮影して表面の研磨剤
を測定した。 その結果、研磨剤個数は０．２個／μｍ²であった。また、実施例４−６を測
定すると０．４個／ｍｍ²であった。 実用上、研磨剤個数は０．１個／μｍ²以上であり、特に好ましくは０．１２
個／μｍ²〜０．５個／μｍ²であることがわかった。 （１５）ＧＣ（ガスクロマトグラフィー） ＧＣで磁気テープの残留溶剤を測定した。 【０２７２】 島津製作所製ガスクロマトグラフィーＧＣ−１４Ａを用いて、２０ｃｍ²の試
料を１２０℃まで加熱して、媒体中の残留溶剤を測定した。 その結果、残留溶剤は８ｍｇ／ｍ²であった。また、実施例１−１を同様に測
定すると１８ｍｇ／ｍ²であった。実用上、好ましくは５０ｍｇ／ｍ²以下であり
、特に好ましくは２０ｍｇ／ｍ²以下であることがわかった。 （１６）ゾル分率 磁気テープの磁性層よりＴＨＦにて抽出された可溶固形分の磁性層重量に対す
る比率を求めた。その結果ゾル分率は７％であった。また、実施例１−１を同様
に測定すると５％であった。実用上、ゾル分率は好ましくは１５％以下であり、
特に好ましくは１０％以下であることがわかった。 （１７）磁気現像パターン 得られた８ｍｍ幅の磁気記録媒体をＳＯＮＹ社製ＶＴＲ ＥＶＯ−９５００を
用い、１ＭＨｚの短波長記録をし、記録された部分のみ５ｍｍ幅にスリットし、
フェリコロイド（約１００Åφ）（タイホウ工業社製）の液を流して磁気現像し
、リグロイン液中に２４時間浸漬処理したものを日本光学（株）製微分干渉顕微
鏡を用い、干渉色をブルーにして１０倍で撮影した。写真を目視で観察すると、
磁性層の厚味の平均したサンプルは、黒又は白の線は現れないが、磁性層の厚み
変動が大きくなってくると黒又は白の線が現れてくる。この線は厚みにむらがあ
る部分であり、このような黒又は白の線は５ｍｍ幅の内に５本以内であることが
好ましい。更にそれらの線をミクロデンシトメーターで測定した黒と白の線の濃
度差が、好ましくは０．２以下、特に０．１以下が好ましい。 （１８）摩擦係数（μ） ８ｍｍ幅テープとｓｕｓ４２０Ｊ、４ｍｍφの棒とを２０ｇ（Ｔ１）の張力で
ラップ角約１８０°で接触させて、この条件下でテープを１４ｍｍ／ｓｅｃの速
度で走行させるのに必要な張力（Ｔ２）を測定し、下式により求めた。 【０２７３】 μ＝（１／π）・１ｎ（Ｔ１／Ｔ２） その結果、磁性面のμは０．３であった。実用上、磁性面のμは０．１５〜０
．４が好ましく、特に好ましくは０．２〜０．３５であることがわかった。又、
バック層面のμは０．２であった。実用上、バック層面のμは０．１５〜０．４
が好ましく、特に好ましくは０．２〜０．３５であることがわかった。 【０２７４】 この摩擦係数は、磁性体、研磨剤、カーボンブラック、潤滑剤、分散剤等が関
係して定まる。 （１９）接触角 磁性層上に水、ヨウ化メチレンの液滴を落とし、顕微鏡でその接触角を測定し
た。水の場合、９０°であった。実用上６０〜１３０°であることが好ましく、
特に８０〜１２０°が好ましいことがわかった。 【０２７５】 又ヨウ化メチレンの場合、接触角は、２０°であった。実用上、好ましくは１
０〜９０°であり、特に好ましくは１０〜７０°であった。 これら接触角は特に潤滑剤や分散剤によって定まる値である。 （２０）磁性層及びバック層の表面自由エネルギー 特開平３−１１９５１３号公報、D．K．Owens，J．Appl．polymer Sci.，13(1
969)とJ．Panzer J．Colloid & Interfacial Sci.，44，No1に記載さふぇている
方法に基づく。 【０２７６】 この結果、磁性層及びバック層共に４０ｄｙｎｅ／ｃｍであった。実用上１０
〜１００ｄｙｅｎ／ｃｍが、特に好ましいことがわかった。 この表面自由エネルギーは特に潤滑剤や分散剤によって定まってくる値である
。 （２１）表面電気抵抗 ８ｍｍ幅の試料を半径１０ｍｍの四分円の断面を持ち８ｍｍの間隔で置かれた
２個の電極に渡して、デジタル表面電気抵抗計ＴＲ−８６１１Ａ（タケダ理研製
）で測定した。 【０２７７】 その結果、磁性層表面及びバック層表面共に１×１０⁶Ω／ｓｑであった。実
用上１×１０⁹Ω／ｓｑ以下が好ましく、１×１０⁸Ω／ｓｑ以下が特に好ましい
ことがわかった。 この表面電気抵抗は強磁性粉末、結合剤、カーボンブラック等によって定まっ てくる値である。 【０２７８】 上述の方法、特性を有する８ｍｍビデオテープを現在市販されているテープと
比較し、その結果を表２０に示した。 【０２７９】 【表２０】 【０２８０】 尚、評価方法は前記方法もしくは一般的方法によった。 また、判定基準は以下の通りである。 ジッター：○ ０．２μｓｅｃ未満 × ０．２μｓｅｃ以上 保存安定性：○ ６０℃、９０％RHに１０日間保存後の錆の発生が皆無 × ６０℃、９０％RHに１０日間保存後の錆の発生がある 走行耐久性：８ｍｍビデオデッキで５０パス走行させた時 ○ ３０秒以上続く目詰まりがない。 【０２８１】 × ３０秒以上続く目詰まりがある。 スリキズ：スチルモードで１０分間走行させた。 ○ 目視で傷が認められない。 × 目視で傷が認められる。

【図面の簡単な説明】 【図１】 本発明の磁気記録媒体のΔｄを測定する方法を説明するための図である。 【図２】 本発明で下層及び上層をウェット・オン・ウェット塗布方式で設けるのに用い
る逐次塗布方式の一例を示す説明図である。 【図３】 同じく同時重層塗布方式の一例を示す説明図である。 【符合の説明】 １ 可撓性支持体 ２ 塗布液（ａ） ３ 塗布機（Ａ） ４ スムージングロール ５ 塗布液（ｂ） ６ 塗布機（Ｂ） ７ バックアップロール ８ 同時多層塗布器

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 非磁性支持体上に少なくとも非磁性粉末を結合剤に分散した下
   層非磁性層を設け、その上に前記下層非磁性層が湿潤状態のうちに、強磁性粉末
   を結合剤に分散した上層磁性層を設けた少なくとも二層以上の複数の層を有する
   磁気記録媒体において、前記上層磁性層の乾燥厚み平均値（ｄ）が１μｍ以下で
   あり、かつ前記上層磁性層と下層非磁性層の界面における厚味変動の平均値Δｄ
   がΔｄ≦ｄ／２の関係にあることを特徴とする磁気記録媒体。 【請求項２】 前記上層磁性層表面が、３ｄ−ＭＩＲＡＵで測定した光干渉表
   面粗さでＲａが１〜５ｎｍ、Ｒ_rmsが１．３〜６ｎｍ、Ｐ−Ｖ値が８０ｎｍ以下
   の内少なくとも１つの値を満足することを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒
   体。 【請求項３】 前記磁気記録媒体の曲げ剛性（円環式スティフネス）は全厚が
   １１．５μｍより厚い場合は４０〜３００ｍｇであり、全厚が１０．５±１μｍ
   では２０〜９０ｍｇであり、又全厚が９．５μｍより薄い場合は１０〜７０ｍｇ
   であることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。 【請求項４】 前記磁気記録媒体の２３℃、７０％ＲＨで測定した磁性層のク
   ラック発生伸度が２０％以下であることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒
   体。 【請求項５】 前記磁気記録媒体をＸ線光電子分光装置を用いて測定した前記
   上層磁性層表面のＣｌ／Ｆｅスペクトルαが０．３〜０．６であり、Ｎ／Ｆｅス
   ペクトルβが０．０３〜０．１２であることを特徴とする請求項１記載の磁気記
   録媒体。 【請求項６】 前記上層磁性層表面の２３℃、７０％ＲＨの鋼球磨耗が０．７
   ×１０^-5〜５×１０^-5ｍｍ³であることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒
   体。 【請求項７】 前記磁気記録媒体をＳＥＭ（電子顕微鏡）で倍率５００００倍
   で５枚撮影した前記上層磁性層表面の研磨剤の目視での数が ０．１個／μｍ²以上であることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。 【請求項８】 前記磁気記録媒体の上層磁性層に１ＭＨｚの短波長記録をし、
   フェリコロイドを用いて磁気現像し、微分干渉顕微鏡を用いて１０倍で観察した
   ５ｍｍ幅のサンプルの中に連続した黒又は白い線が５本以内であることを特徴と
   する請求項１記載の磁気記録媒体。 【請求項９】 前記磁気記録媒体の上層磁性層の塗布方向（長手方向）の面内
   角形比が０．７以上であり、垂直方向の角形比が０．６以上であることを特徴と
   する請求項１記載の磁気記録媒体。