JP2008159177A5 - - Google Patents

Claims (7)

1. 基板と、該基板上に形成されたグラニュラー層と、該グラニュラー層上に形成されたアモルファス磁性膜からなる記録層と、を少なくとも有する磁気記録媒体の製造方法であって、
   該基板上に、複数の柱状磁性体と、該柱状磁性体を取り囲む非磁性体マトリックス領域と、を有するグラニュラー層を形成する第１工程と、
   該グラニュラー層上に連続膜を形成する第２工程と、
   該第２工程と同時に、又は該第１工程及び該第２工程の後に熱処理を行なう第３工程と、
   該連続膜を除去する第４工程と、
   該連続膜が除去された該グラニュラー層上に、該記録層を形成する第５工程と、
   からなることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
2. 前記柱状磁性体はＦｅＰｔを主成分としており、前記非磁性マトリックス領域はＳｉＯ_２を主成分としており、及び、前記アモルファス磁性膜はＴｂＦｅＣｏを主成分としていることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体の製造方法。
3. 前記第２工程は、スパッタリング法によってなされることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気記録媒体の製造方法。
4. 熱処理前の前記柱状磁性体の平均直径は、１ｎｍ以上５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
5. 前記連続膜は、前記柱状磁性体と同じ化合物であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
6. 前記連続膜の膜厚は、１ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
7. 前記第３工程は、水素を含む還元性雰囲気下で行なわれることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。