JP2010186159A5 - - Google Patents

Claims (8)

1. 光学基材に直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成することと、
   前記第１の層の表面を低抵抗化することと、
   を含む、
   光学物品の製造方法。
2. 請求項１において、
   前記低抵抗化することは、前記第１の層の表面をシリサイド化することを含む、
   光学物品の製造方法。
3. 請求項２において、
   前記第１の層は金属酸化物を含む層であり、
   前記シリサイド化することは、前記第１の層の表面にシリコンを添加することを含む、
   光学物品の製造方法。
4. 請求項２において、
   前記シリサイド化することは、前記第１の層の表面にシリコンおよび金属を添加することを含む、光学物品の製造方法。
5. 請求項２において、前記シリサイド化することは、前記第１の層の表面に遷移金属ケイ素化物を添加することを含む、光学物品の製造方法。
6. 光学基材と、
   前記光学基材に直にまたは他の層を介して形成された透光性の第１の層と、
   を有し、
   前記第１の層の表面がシリサイド化されている、
   光学物品。
7. 請求項６において、
   多層構造の反射防止層を有し、
   前記第１の層は前記反射防止層に含まれる、
   光学物品。
8. 請求項６または請求項７において、前記光学基材は、プラスチックレンズ基材である、光学物品。