JP2011039218A5 - 光学物品の製造方法および光学物品 - Google Patents

光学物品の製造方法および光学物品 Download PDF

Info

Publication number
JP2011039218A5
JP2011039218A5 JP2009185495A JP2009185495A JP2011039218A5 JP 2011039218 A5 JP2011039218 A5 JP 2011039218A5 JP 2009185495 A JP2009185495 A JP 2009185495A JP 2009185495 A JP2009185495 A JP 2009185495A JP 2011039218 A5 JP2011039218 A5 JP 2011039218A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
optical article
titanium
niobium
oxide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009185495A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5588135B2 (ja
JP2011039218A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2009185495A priority Critical patent/JP5588135B2/ja
Priority claimed from JP2009185495A external-priority patent/JP5588135B2/ja
Priority to US12/844,701 priority patent/US20110033635A1/en
Priority to EP10172158.7A priority patent/EP2286985B1/en
Priority to CN201010250256.XA priority patent/CN101995588B/zh
Publication of JP2011039218A publication Critical patent/JP2011039218A/ja
Publication of JP2011039218A5 publication Critical patent/JP2011039218A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5588135B2 publication Critical patent/JP5588135B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (8)

  1. 光学基材に直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成することと、
    チタン、ニオブ、チタンの酸化物およびニオブの酸化物の少なくともいずれかを前記第１の層にイオンアシスト蒸着することと、
    を含む、
    光学物品の製造方法。
  2. 請求項１において、前記第１の層はチタンの酸化物を含み、
    前記イオンアシスト蒸着することは、ニオブまたはニオブの酸化物をイオンアシスト蒸着することを含む、
    光学物品の製造方法。
  3. 請求項１において、前記第１の層はニオブの酸化物を含み、
    前記イオンアシスト蒸着することは、チタンまたはチタンの酸化物をイオンアシスト蒸着することである、
    光学物品の製造方法。
  4. 光学基材と、
    前記光学基材に直にまたは他の層を介して形成された透光性の第１の層と、
    を含み、
    前記第1の層は、チタン、ニオブ、および酸素を含む、
    光学物品。
  5. 請求項の光学物品において、
    前記第1の層の少なくとも一部がチタンニオブオキサイド化されている、
    光学物品。
  6. 請求項または請求項において、
    前記第１の層は、多層構造の反射防止層に含まれる、
    光学物品。
  7. 請求項において、
    前記第１の層に直にまたは他の層を介して形成された防汚層をさらに有する、
    光学物品。
  8. 請求項１ないし請求項８のいずれか１項において、
    前記光学基材はプラスチックレンズ基材である、
    光学物品。
JP2009185495A 2009-08-10 2009-08-10 光学物品の製造方法 Expired - Fee Related JP5588135B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009185495A JP5588135B2 (ja) 2009-08-10 2009-08-10 光学物品の製造方法
US12/844,701 US20110033635A1 (en) 2009-08-10 2010-07-27 Method for Producing Optical Article
EP10172158.7A EP2286985B1 (en) 2009-08-10 2010-08-06 Method of producing a plastic lens having an antistatic coating
CN201010250256.XA CN101995588B (zh) 2009-08-10 2010-08-09 光学物品制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009185495A JP5588135B2 (ja) 2009-08-10 2009-08-10 光学物品の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2011039218A JP2011039218A (ja) 2011-02-24
JP2011039218A5 true JP2011039218A5 (ja) 2012-09-06
JP5588135B2 JP5588135B2 (ja) 2014-09-10

Family

ID=42782081

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009185495A Expired - Fee Related JP5588135B2 (ja) 2009-08-10 2009-08-10 光学物品の製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20110033635A1 (ja)
EP (1) EP2286985B1 (ja)
JP (1) JP5588135B2 (ja)
CN (1) CN101995588B (ja)

Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011013654A (ja) * 2008-10-23 2011-01-20 Seiko Epson Corp 多層反射防止層およびその製造方法、プラスチックレンズ
JP2010231171A (ja) * 2009-03-04 2010-10-14 Seiko Epson Corp 光学物品およびその製造方法
JP5523066B2 (ja) * 2009-11-17 2014-06-18 ホーヤ レンズ マニュファクチャリング フィリピン インク 光学物品の製造方法
JP2012032690A (ja) 2010-08-02 2012-02-16 Seiko Epson Corp 光学物品およびその製造方法
CN102831962B (zh) * 2011-06-17 2016-09-07 比亚迪股份有限公司 一种介质导电膜、制备方法及电致变色后视镜
US10203088B2 (en) * 2011-06-27 2019-02-12 Cree, Inc. Direct and back view LED lighting system
EP2548991B1 (en) * 2011-07-18 2014-03-05 ESSILOR INTERNATIONAL (Compagnie Générale d'Optique) Machine for coating an optical article with an anti-soiling coating composition and method for using the machine
JP5840448B2 (ja) * 2011-10-12 2016-01-06 株式会社タムロン 反射防止膜及び反射防止膜の製造方法
JP2013156523A (ja) * 2012-01-31 2013-08-15 Topcon Corp 基板
JP5770940B2 (ja) * 2012-07-26 2015-08-26 キヤノンオプトロン株式会社 光学部品
JP2014194530A (ja) * 2013-02-28 2014-10-09 Asahi Glass Co Ltd 光学素子
JP2014199327A (ja) * 2013-03-29 2014-10-23 Hoya株式会社 眼鏡レンズ
US9110230B2 (en) 2013-05-07 2015-08-18 Corning Incorporated Scratch-resistant articles with retained optical properties
US9366784B2 (en) 2013-05-07 2016-06-14 Corning Incorporated Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film
JP6253009B2 (ja) * 2013-08-28 2017-12-27 東海光学株式会社 光学製品及び眼鏡レンズ
JP6451057B2 (ja) 2014-02-04 2019-01-16 東海光学株式会社 可視域反射防止近赤外域透過抑制光学製品並びに眼鏡レンズ及び眼鏡
US11267973B2 (en) 2014-05-12 2022-03-08 Corning Incorporated Durable anti-reflective articles
US9335444B2 (en) * 2014-05-12 2016-05-10 Corning Incorporated Durable and scratch-resistant anti-reflective articles
US9790593B2 (en) 2014-08-01 2017-10-17 Corning Incorporated Scratch-resistant materials and articles including the same
PE20171683A1 (es) * 2015-03-09 2017-11-27 Vision Ease Lp Revestimiento antiestatico, antirreflejante
WO2017001902A1 (en) * 2015-06-29 2017-01-05 Universidade De Trás-Os-Montes E Alto Douro Anti-scratch and photochromic coating, respective method of application and use
JP6544853B2 (ja) * 2015-07-02 2019-07-17 東海光学株式会社 光学製品並びにプラスチックレンズ及び眼鏡
CN107735697B (zh) 2015-09-14 2020-10-30 康宁股份有限公司 减反射制品以及包含其的显示器装置
CN106977113A (zh) * 2016-01-19 2017-07-25 精工爱普生株式会社 透光性部件、钟表及透光性部件的制造方法
JP6780416B2 (ja) * 2016-01-19 2020-11-04 セイコーエプソン株式会社 透光性部材、時計、および透光性部材の製造方法
JP2020024237A (ja) * 2016-12-14 2020-02-13 コニカミノルタ株式会社 光学製品
JP2020024238A (ja) * 2016-12-14 2020-02-13 コニカミノルタ株式会社 光学素子
JP6931538B2 (ja) * 2017-02-23 2021-09-08 アルバック成膜株式会社 マスクブランクス及びフォトマスク
JP7117081B2 (ja) * 2017-05-12 2022-08-12 Hoya株式会社 防塵レンズ及びその製造方法
JP2018077477A (ja) * 2017-11-16 2018-05-17 Hoya株式会社 眼鏡レンズ
CN110029310A (zh) * 2018-01-12 2019-07-19 北京优美科巨玻薄膜产品有限公司 一种蒸发镀膜材料NbO2及其制备方法
CN108398824A (zh) * 2018-03-01 2018-08-14 厦门天马微电子有限公司 显示装置
EP3837223A1 (en) 2018-08-17 2021-06-23 Corning Incorporated Inorganic oxide articles with thin, durable anti-reflective structures
JP7237489B2 (ja) * 2018-08-20 2023-03-13 株式会社タムロン 反射防止膜、光学素子及び反射防止膜の成膜方法
JP7349798B2 (ja) * 2019-03-06 2023-09-25 株式会社タムロン 反射防止膜、光学素子及び反射防止膜の成膜方法
US11133206B2 (en) * 2019-04-15 2021-09-28 Tokyo Electron Limited Method for die-level unique authentication and serialization of semiconductor devices using electrical and optical marking
JP2021113936A (ja) 2020-01-21 2021-08-05 デクセリアルズ株式会社 偏光板、光学機器及び偏光板の製造方法
CN111381299B (zh) * 2020-04-23 2024-02-13 江苏万新光学有限公司 一种低反射色中性低应力树脂镜片及其制备方法
CN113817986A (zh) * 2020-06-19 2021-12-21 比亚迪股份有限公司 一种镀膜材料及其制备方法

Family Cites Families (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1696111A1 (de) * 1968-01-27 1972-01-13 Jenaer Glaswerk Schott & Gen Mit antistatischer Schicht versehene Kunststoffgegenstaende
US4609267A (en) * 1980-12-22 1986-09-02 Seiko Epson Corporation Synthetic resin lens and antireflection coating
JPH05502310A (ja) * 1990-08-30 1993-04-22 バイラテック・シン・フィルムズ・インコーポレイテッド 酸化ニオブを含むｄｃ反応性スパッタリングされた光学被覆
US5719705A (en) * 1995-06-07 1998-02-17 Sola International, Inc. Anti-static anti-reflection coating
GB9600210D0 (en) * 1996-01-05 1996-03-06 Vanderstraeten E Bvba Improved sputtering targets and method for the preparation thereof
AUPP740798A0 (en) * 1998-11-30 1998-12-24 Sola International Holdings Ltd Customised coated lens
JP2000294980A (ja) * 1999-04-06 2000-10-20 Nippon Sheet Glass Co Ltd 透光性電磁波フィルタおよびその製造方法
CA2396799C (en) * 2000-01-26 2012-04-24 Sola International Holdings Ltd. Anti-static, anti-reflection coating
JP4046921B2 (ja) 2000-02-24 2008-02-13 触媒化成工業株式会社 シリカ系微粒子、該微粒子分散液の製造方法、および被膜付基材
US7261957B2 (en) * 2000-03-31 2007-08-28 Carl Zeiss Smt Ag Multilayer system with protecting layer system and production method
JP3708429B2 (ja) * 2000-11-30 2005-10-19 Ｈｏｙａ株式会社 蒸着組成物の製造方法、蒸着組成物及び反射防止膜を有する光学部品の製造方法
TWI281748B (en) * 2001-12-18 2007-05-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd Non-volatile memory
JP2004030058A (ja) 2002-06-24 2004-01-29 Toshiba Corp マルチエージェントシステム
JP2004341052A (ja) 2003-05-13 2004-12-02 Ito Kogaku Kogyo Kk 光学要素
JP2005301208A (ja) 2004-03-17 2005-10-27 Seiko Epson Corp 防汚性光学物品の製造方法
US7304719B2 (en) * 2004-03-31 2007-12-04 Asml Holding N.V. Patterned grid element polarizer
FR2868770B1 (fr) * 2004-04-09 2006-06-02 Saint Gobain Substrat, notamment substrat verrier, portant une couche a propriete photocatalytique modifiee pour pouvoir absorber des photons du visible
JP2004300580A (ja) 2004-05-20 2004-10-28 Hoya Corp 蒸着組成物の製造方法、蒸着組成物及び反射防止膜を有する光学部品の製造方法
JP2005338366A (ja) * 2004-05-26 2005-12-08 Olympus Corp 反射防止膜及び光学部品
KR20070048780A (ko) 2004-08-13 2007-05-09 카나가와 아카데미 오브 사이언스 앤드 테크놀로지 투명 전도체, 투명 전극, 태양 전지, 발광 소자 및디스플레이 패널
JP2006091694A (ja) * 2004-09-27 2006-04-06 Nidec Copal Corp Ｎｄフィルタ及びその製造方法と光量絞り装置
JP2006126782A (ja) 2004-10-01 2006-05-18 Seiko Epson Corp 光学物品の防汚層処理方法
JP2006221142A (ja) * 2005-01-14 2006-08-24 Sony Corp 光学素子、レンズ鏡筒、撮像装置及び電子機器
CN101111783B (zh) * 2005-01-31 2010-12-08 旭硝子株式会社 带防反射膜的基体
JP2006276123A (ja) * 2005-03-28 2006-10-12 Seiko Epson Corp プラスチック製眼鏡レンズ及びその製造方法
US7488538B2 (en) * 2005-08-08 2009-02-10 Guardian Industries Corp. Coated article including soda-lime-silica glass substrate with lithium and/or potassium to reduce sodium migration and/or improve surface stability and method of making same
WO2007030679A2 (en) * 2005-09-07 2007-03-15 The Regents Of The University Of California Materials for the formation of polymer junction diodes
US7948675B2 (en) * 2005-10-11 2011-05-24 Nikon Corporation Surface-corrected multilayer-film mirrors with protected reflective surfaces, exposure systems comprising same, and associated methods
JP4207083B2 (ja) * 2006-04-04 2009-01-14 セイコーエプソン株式会社 光学多層膜フィルタ、光学多層膜フィルタの製造方法および電子機器装置
TWI447442B (zh) * 2008-06-26 2014-08-01 Eternal Chemical Co Ltd 具有非球形粒子之光學薄膜
FR2903197B1 (fr) * 2006-06-28 2009-01-16 Essilor Int Article d'optique revetu d'une sous-couche et d'un revetement anti-reflets multicouches resistant a la temperature, et procede de fabrication
JP2009128820A (ja) * 2007-11-27 2009-06-11 Hoya Corp 多層反射防止膜を有するプラスチックレンズおよびその製造方法
JP5217887B2 (ja) * 2008-01-28 2013-06-19 セイコーエプソン株式会社 光学物品
JP5326407B2 (ja) * 2008-07-31 2013-10-30 セイコーエプソン株式会社 時計用カバーガラス、および時計
JP2010103500A (ja) * 2008-09-26 2010-05-06 Toppan Printing Co Ltd 有機電界発光素子及びその製造方法、画像表示装置、照明装置
JP2011013654A (ja) * 2008-10-23 2011-01-20 Seiko Epson Corp 多層反射防止層およびその製造方法、プラスチックレンズ
JP2010102157A (ja) * 2008-10-24 2010-05-06 Seiko Epson Corp 光学物品およびその製造方法
JP5489604B2 (ja) * 2009-01-14 2014-05-14 ホーヤ レンズ マニュファクチャリング フィリピン インク 光学物品の製造方法
JP2010231171A (ja) * 2009-03-04 2010-10-14 Seiko Epson Corp 光学物品およびその製造方法
US8128255B2 (en) * 2009-06-16 2012-03-06 Day Sun Industrial Corp. Structure for securing conductive strip of flashlight
JP5523066B2 (ja) * 2009-11-17 2014-06-18 ホーヤ レンズ マニュファクチャリング フィリピン インク 光学物品の製造方法
JP5622468B2 (ja) * 2010-07-26 2014-11-12 ホーヤ レンズ マニュファクチャリング フィリピン インク レンズの製造方法及びレンズ
JP2012032690A (ja) * 2010-08-02 2012-02-16 Seiko Epson Corp 光学物品およびその製造方法
JP2012128135A (ja) * 2010-12-15 2012-07-05 Seiko Epson Corp 光学物品およびその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011039218A5 (ja) 光学物品の製造方法および光学物品
JP2010231172A5 (ja)
JP2013501378A5 (ja)
JP2009084143A5 (ja)
WO2012022876A3 (fr) Vitrage
JP2011113052A5 (ja)
EP2708922A3 (en) Anti-reflection coating, optical member having it, and optical equipment comprising such optical member
JP2012216797A5 (ja) 半導体装置
JP2015527277A5 (ja)
WO2010132661A3 (en) Roll-to-roll glass material attributes and fingerprint
JP2010527816A5 (ja)
WO2011084391A3 (en) Light redirecting film laminate
JP2014529516A5 (ja) 無機ナノコーティングが下塗りされた有機フィルムを形成する方法
JP2014224979A5 (ja)
JP2017027394A5 (ja)
JP2012098628A5 (ja)
JP2008209867A5 (ja)
JP2013097160A5 (ja)
WO2010131854A3 (ko) 유기전계발광소자 및 그 제조방법
WO2012047249A3 (en) Silicon titanium oxide coating, coated article including silicon titanium oxide coating, and method of making the same
WO2015000381A1 (zh) 一种显示装置、触摸屏及其制造方法
JP2010066750A5 (ja)
JP2013097159A5 (ja)
JP2009283456A5 (ja)
JP2014107303A5 (ja)