JP2014224979A5

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Publication number: JP2014224979A5
Application number: JP2014032103A
Authority: JP
Filing date: 2014-02-21
Publication date: 2016-09-15
Anticipated expiration: 2034-02-21

Description

本発明は、上記の目的を達成するため、ガラス基板に両面に低反射膜が形成された両面低反射膜付ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板の一方の面の外周部には、印刷により遮光部が形成されており、
前記ガラス基板の前記遮光部が形成されている面に、乾式成膜法により低反射膜を全面成膜した後、前記ガラス基板の前記遮光部が形成されていない面に乾式成膜法により低反射膜を全面成膜することを特徴とする、ガラス基板両面に低反射膜が形成された両面低反射膜付ガラス基板の製造方法を提供する。

本発明の両面低反射膜付ガラス基板の製造方法において、前記ガラス基板には予め化学強化処理が施されていてもよい。

本発明の両面低反射膜付ガラス基板の製造方法において、前記ガラス基板の前記遮光部が形成されていない面の低反射膜上に防汚膜を成膜してもよい。

本発明の両面低反射膜付ガラス基板の製造方法において、前記反射膜が、高屈折率材料からなる膜と、低屈折率材料から膜と、を交互に積層させた積層膜であることが好ましい。
前記積層膜において、前記高屈折率材料が、酸化ニオブまたは酸化タンタルであり、前記低屈折率材料が酸化ケイ素であることが好ましい。
また、前記積層膜において、前記高屈折率材料が、窒化ケイ素であり、前記低屈折率材料がＳｉとＳｎとの混合酸化物、ＳｉとＺｒとの混合酸化物、ＳｉとＡｌとの混合酸化物のいずれかを含むことが好ましい。
前記積層膜は、前記高屈折率材料からなる膜と、前記低屈折率材料からなる膜と、が交互に２層以上６層以下積層されていることがより好ましい。

本発明の両面低反射膜付ガラス基板の製造方法において、前記反射膜が、スパッタリング法により成膜されることが好ましい。

本発明の両面低反射膜付ガラス基板の製造方法において、前記防汚膜がフッ素含有有機ケイ素化合物からなることが好ましい。
前記フッ素含有有機ケイ素化合物は、ポリフルオロポリエーテル基、ポリフルオロアルキレン基及びポリフルオロアルキル基からなる群から選ばれる１つ以上の基を有することが好ましい。
本発明の両面低反射膜付ガラス基板の製造方法において、前記防汚膜が真空蒸着法により成膜されていることが好ましい。

また、本発明は、ガラス基板と、
前記ガラス基板の表面および裏面のいずれか一方の面の外周部に設けられた遮光部と、
前記表面および裏面と前記遮光部上の全面と、前記ガラス基板の１つ以上の端面に設けられた低反射膜とを備え、
前記ガラス基板の端面から１０ｍｍまでの範囲において、前記遮光部が設けられた面側から見て反射光の色ムラが無いことを特徴とする両面低反射膜付ガラス基板（１）を提供する。
本発明の両面低反射膜付ガラス基板（１）において、前記ガラス基板の端面から１０ｍｍまでの範囲において、蛍光灯下（１５００Ｌｘ）で前記遮光部が設けられた面側から見て基板の端部が変色して見えないことが好ましい
また、本発明は、ガラス基板と、
前記ガラス基板の表面および裏面のいずれか一方の面の外周部に設けられた遮光部と、
前記表面および裏面と前記遮光部上の全面と、前記ガラス基板の１つ以上の端面に設けられた低反射膜とを備え、
前記遮光部が設けられた面の前記ガラス基板の端面から１０ｍｍまでの範囲において、前記低反射膜を構成する材料を含むナノメートルオーダーのサイズの粒子が付着していないことを特徴とする両面低反射膜付ガラス基板（２）を提供する。
本発明の両面低反射膜付ガラス基板（２）において、前記粒子は散乱光を生じさせるサイズであることが好ましい。
本発明の両面低反射膜付ガラス基板（１）、（２）において、少なくとも前記遮光部が設けられた面側の前記低反射膜上に２〜２０ｎｍの厚さの防汚膜が設けられていてもよい。
本発明の両面低反射膜付ガラス基板（１）、（２）において、前記低反射膜は波長５５０ｎｍでの屈折率が１．９以上の材料からなる膜と、波長５５０ｎｍでの屈折率が１．６以下の材料からなる膜の積層構造からなり、視感反射率が３％以下であることが好ましい。
前記視感反射率が２％以下であることが好ましい。

Claims

ガラス基板に両面に低反射膜が形成された両面低反射膜付ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板の一方の面の外周部には、印刷により遮光部が形成されており、
前記ガラス基板の前記遮光部が形成されている面に、乾式成膜法により低反射膜を全面成膜した後、前記ガラス基板の前記遮光部が形成されていない面に乾式成膜法により低反射膜を全面成膜することを特徴とする、ガラス基板両面に低反射膜が形成された両面低反射膜付ガラス基板の製造方法。
前記ガラス基板に予め化学強化処理が施されている、請求項１に記載の両面低反射膜付ガラス基板の製造方法。
前記ガラス基板の前記遮光部が形成されていない面の低反射膜上に防汚膜を成膜する、請求項１または２に記載の両面低反射膜付ガラス基板の製造方法。
前記反射膜が、高屈折率材料からなる膜と、低屈折率材料から膜と、を交互に積層させた積層膜である、請求項１〜３のいずれかに記載の両面低反射膜付ガラス基板の製造方法。
前記積層膜において、前記高屈折率材料が酸化ニオブまたは酸化タンタルであり、前記低屈折率材料が酸化ケイ素である、請求項４に記載の両面低反射膜付ガラス基板の製造方法。
前記積層膜において、前記高屈折率材料が、窒化ケイ素であり、前記低屈折率材料がＳｉとＳｎとの混合酸化物、ＳｉとＺｒとの混合酸化物、ＳｉとＡｌとの混合酸化物のいずれかを含む、請求項４に記載の両面低反射膜付ガラス基板の製造方法。
前記積層膜は、前記高屈折率材料からなる膜と、前記低屈折率材料からなる膜と、が交互に２層以上６層以下積層されている、請求項４〜６のいずれかに記載の両面低反射膜付ガラス基板の製造方法。
前記反射膜が、スパッタリング法により成膜される、請求項１〜７のいずれかに記載の両面低反射膜付ガラス基板の製造方法。
前記防汚膜がフッ素含有有機ケイ素化合物からなる、請求項３〜８のいずれかに記載の両面低反射膜付ガラス基板の製造方法。
前記フッ素含有有機ケイ素化合物は、ポリフルオロポリエーテル基、ポリフルオロアルキレン基及びポリフルオロアルキル基からなる群から選ばれる１つ以上の基を有する、請求項９に記載の両面低反射膜付ガラス基板の製造方法。
前記防汚膜が真空蒸着法により成膜されている、請求項３〜１０のいずれかに記載の両面低反射膜付ガラス基板の製造方法。
ガラス基板と、
前記ガラス基板の表面および裏面のいずれか一方の面の外周部に設けられた遮光部と、
前記表面および裏面と前記遮光部上の全面と、前記ガラス基板の１つ以上の端面に設けられた低反射膜とを備え、
前記ガラス基板の端面から１０ｍｍまでの範囲において、前記遮光部が設けられた面側から見て反射光の色ムラが無いことを特徴とする両面低反射膜付ガラス基板。
前記ガラス基板の端面から１０ｍｍまでの範囲において、蛍光灯下（１５００Ｌｘ）で前記遮光部が設けられた面側から見て基板の端部が変色して見えないことを特徴とする請求項１２に記載の両面低反射膜付ガラス基板。
ガラス基板と、
前記ガラス基板の表面および裏面のいずれか一方の面の外周部に設けられた遮光部と、
前記表面および裏面と前記遮光部上の全面と、前記ガラス基板の１つ以上の端面に設けられた低反射膜とを備え、
前記遮光部が設けられた面の前記ガラス基板の端面から１０ｍｍまでの範囲において、前記低反射膜を構成する材料を含むナノメートルオーダーのサイズの粒子が付着していないことを特徴とする両面低反射膜付ガラス基板。
前記粒子は散乱光を生じさせるサイズであることを特徴とする請求項１４に記載の両面低反射膜付ガラス基板。
少なくとも前記遮光部が設けられた面側の前記低反射膜上に２〜２０ｎｍの厚さの防汚膜が設けられていることを特徴とする請求項１２または１４に記載の両面低反射膜付ガラス基板。
前記低反射膜は波長５５０ｎｍでの屈折率が１．９以上の材料からなる膜と、波長５５０ｎｍでの屈折率が１．６以下の材料からなる膜の積層構造からなり、視感反射率が３％以下であることを特徴とする請求項１２または１４に記載の両面低反射膜付ガラス基板。
前記視感反射率が２％以下であることを特徴とする請求項１７に記載の両面低反射膜付ガラス基板。