TW201518082A - 介電鏡體 - Google Patents

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Abstract

一介電鏡體包括具有交替高及低折射率層之一塗層。該鏡體塗層在某些示例性實施例中不具有Al或Ag之金屬反射層，且在某些示例性實施例中可具有約50%至90%(更佳約60%至80%，且最佳約65%至75%)的膜側及/或玻璃側可見反射及約10%至50%(更佳約10%至40%或20%至40%)的可見透射率。

Description

介電鏡體
本案為2013年2月13日申請的美國申請案第13/766,025號之部分接續申請案(CIP)，該申請案之揭示內容以引用之方式併入本文中。
發明領域
本發明之某些示例性實施例係有關於介電鏡體及/或製造該等介電鏡體之方法。某些示例性實施例係有關於介電鏡體，該等介電鏡體實現約50%至90%(更佳約60%至80%，且最佳約65%至75%)的膜側及/或玻璃側可見反射及約10%至50%(更佳約10%至40%，甚至更佳約20%至40%，且最佳約25%至35%)的可見透射率。
鏡體已存在數年，且已用於許多應用中。鏡體通常為(a)第一表面鏡體，其中鏡體塗層提供於檢視者與支撐玻璃基板之間，或(b)第二表面鏡體，其中支撐玻璃基板插入於檢視者與鏡體塗層之間。舉例來說，見美國專利第7,276,289號、第7,678,459號；美國公開案第2006/0077580號、第2007/0178316號、第2008/0073203號、第2008/0164173號、第2010/0229853號、第2011/0176212號及第2011/0176236號。此等專利文件中的每一者之全部內容特 此以引用之方式併入本文中。
鏡體常常需要使用金屬(Al或Ag)反射層。然而，可在不需要Al或Ag之金屬反射層的情況下提供鏡體將為合乎需要的。
本發明之某些示例性實施例係有關於介電鏡體及/或製造該等介電鏡體之方法。更特定言之，某些示例性實施例係有關於介電鏡體，該等介電鏡體不具有金屬反射層(例如，不具有Ag層且不具有Al層)且仍然能夠實現約50%至90%(更佳約60%至80%，且最佳約65%至75%)的膜側及/或玻璃側可見反射及約10%至50%(更佳約10%至40%，甚至更佳約20%至40%，且最佳約25%至35%)的可見透射率。在某些示例性實施例中，在某些實例情況下可提供NiCr層或類似物層或包含NiCr或其類似物的層，其可能輕微或顯著地氧化。在某些示例性實施例中，給定關於玻璃側反射及膜側反射兩者的良好效能，該等介電鏡體可為第一或第二表面鏡體。在某些示例性實施例中，該等鏡體可或可不經熱處理(例如，熱回火及/或熱彎曲)。在某些實例情況下，此些介電鏡體可用於消費型、商業及/或數位標牌應用，諸如相框、浴室鏡體、TV及/或電子裝置。
在本發明之某些示例性實施例中，提供一種介電鏡體，其包括支撐一塗層的玻璃基板，該塗層包含自該玻璃基板移開的以下各者：包含氧化鈮及/或氧化鈦之第一透明介電高折射率層，該第一透明介電高折射率層具有約70 至140nm之厚度；包含氧化矽之第二透明介電低折射率層，該第二透明介電低折射率層具有約30至140nm之厚度；包含氧化鈮及/或氧化鈦之第三透明介電高折射率層；包含氧化矽之第四透明介電低折射率層；包含氧化鈮及/或氧化鈦之第五透明介電高折射率層；其中包含氧化鈮及/或氧化鈦之該第一透明介電高折射率層比(a)包含氧化鈮及/或氧化鈦之該第三透明介電高折射率層，及/或(b)包含氧化鈮及/或氧化鈦之該第五透明介電高折射率層中的一者或兩者厚至少10nm；其中該塗層不含任何基於Al或Ag之金屬反射層；且其中該介電鏡體具有(i)約50%至90%之膜側可見反射率或玻璃側可見反射率，及(ii)約10%至40%之可見透射率，且其中該鏡體之該玻璃側可見反射率比該鏡體之該膜側可見反射率高或低至少約30%。該鏡體可進一步包含一對稱性調整層，其位於該第三透明介電高折射率層與該第五透明介電高折射率層之間。該對稱性調整層可包含NiCr或其類似物，且可至少部分氧化。該對稱性調整層可位於該第三透明介電高折射率層與包含氧化矽的該第四透明介電低折射率層之間且與其接觸，或可位於該第五透明介電高折射率層與包含氧化矽的該第四透明介電低折射率層之間且與其接觸。替代使用對稱性調整層，該鏡體之該玻璃基板可為灰色玻璃基板以達成該鏡體之該膜側與玻璃側之間的可見反射率不對稱性。
在本發明之某些示例性實施例中，提供一種介電鏡體，其包括支撐一塗層之基板，該塗層包含自該基板移 開的以下各者：一第一介電層，其具有約2.15至2.5之折射率(n)；包含氧化矽之一第二介電層；一第三介電層，其具有約2.15至2.5之折射率；包含氧化矽之一第四介電層；一第五介電層，其具有約2.15至2.5之折射率；其中該第一介電層比該第三介電層及/或該第五介電層中的一者或兩者薄至少20nm；且其中該塗層不含任何金屬反射層。
在本發明之某些示例性實施例中，提供一種介電鏡體，其包括支撐一塗層之玻璃基板，該塗層包含自該玻璃基板移開的以下各者：包含氧化鈮之一第一透明介電高折射率層，該第一透明介電高折射率層具有約70至140nm之厚度；包含氧化矽之一第二透明介電低折射率層，該第二透明介電低折射率層具有約30至140nm之厚度；包含氧化鈮之一第三透明介電高折射率層；包含氧化矽之一第四透明介電低折射率層；包含氧化鈮之一第五透明介電高折射率層；其中包含氧化鈮之該第一透明介電高折射率層比包含氧化鈮之該第三透明介電高折射率層及/或包含氧化鈮之該第五透明介電高折射率層中的一者或兩者厚至少10nm；其中該塗層不含任何金屬反射層；且其中該介電鏡體具有約50%至90%之可見膜側反射率及/或可見玻璃側反射率及約10%至40%之可見透射率。
在本發明之某些示例性實施例中，提供一種介電鏡體，其包括支撐一塗層之基板(例如，玻璃基板)，該塗層包含自該基板移開的以下各者：一第一介電層，其具有約70至140nm之厚度及約2.15至2.5之折射率(n)；包含氧化矽 之一第二介電層；一第三介電層，其具有約2.15至2.5之折射率；包含氧化矽之一第四介電層；一第五介電層，其具有約2.15至2.5之折射率；其中該第一介電層比該第三介電層及/或該第五介電層中的一者或兩者厚至少10nm；其中該塗層不含任何金屬反射層；且其中該鏡體具有約50%至90%之可見膜側反射率及/或可見玻璃側反射率及約20%至40%之可見透射率。
1‧‧‧玻璃基板
2、4、6‧‧‧高折射率透明介電層
3、5‧‧‧低折射率透明介電層
7‧‧‧透明介電障壁層/氮化矽層
8‧‧‧對稱性調整層
100‧‧‧介電鏡體
150‧‧‧介電塗層
圖1為根據本發明之一示例性實施例的介電鏡體之橫截面圖；圖2為說明根據圖1實施例之實例的介電鏡體之光學特性的模型化波長(nm)與可見透射率(Ts)、膜側反射(BRs)、玻璃側反射(Ra)曲線圖；以及圖3為說明根據圖1實施例之實例的介電鏡體之反射色彩的角分佈之模型化角度(度)與玻璃側反射a*及b*色彩值曲線圖。
圖4為根據本發明之一示例性實施例的介電鏡體之橫截面圖。
圖5(a)及圖5(b)為根據本發明之示例性實施例的介電鏡體之橫截面圖。
現更特定地參考諸圖式，其中參考數字貫穿若干視圖指示相同部分/材料。
圖1為根據本發明之某些示例性實施例的介電鏡 體100之橫截面圖。該鏡體包括在玻璃基板1上之介電塗層150。在本發明之示例性實施例中，玻璃基板1可為基於鈉鈣矽的玻璃或任何其他適當類型之玻璃，且可為約1至10mm厚，更佳約2至6mm厚。或者，基板1可為石英、矽或其類似物。鏡體塗層150包括具有或包括氧化鈮(例如，Nb2O5、NbO2及/或NbO)之高折射率透明介電層2、4及6以及具有或包括氧化矽(例如，可或可不摻雜有鋁及/或氮的SiO2)之低折射率透明介電層3及5。在某些示例性實施例中，氧化矽層3及/或5中的一者或兩者可摻雜有諸如約1%至8%的鋁及/或約1%至10%的氮之其他材料。在某些實例情況下，層2、4及6中的一或多者亦可摻雜有其他材料。在圖1實施例中，層6為塗層150之最外層且可暴露於空氣。層2至7中的每一者視為「透明」的，因為此等層中的每一者獨立地對可見光透明(例如，對可見光至少約50%透明、更佳對可見光至少約60%或70%透明)。
具有或包括氧化鈮的高折射率透明介電層2、4及6可具有約2.15至2.5、更佳約2.2至2.4且最佳約2.25至2.35(在550nm)之折射率(n)。在某些替代實施例中，在高折射率層2、4及/或6中的一或多者中，氧化鈮可用氧化鈦(例如，TiO2)、氧化鋯、氧化鉿(例如，HfO2)、氧化鈰(例如，CeO2)、氧化鋅或氧化鉍(例如，Bi2O3)替代。因此，在一個此種實例中，層6可具有或包括氧化鈦，而層2及4具有或包括氧化鈮，且層3及5具有或包括氧化矽。具有或包括氧化矽的低折射率透明介電層3及5可具有約1.4至1.7、更佳約 1.4至1.6且最佳約1.45至1.55(本文中的所有折射率n值係在550nm量測)之折射率(n)。
在本發明之示例性實施例中，透明介電層2至6較佳藉由濺鍍而沈積。舉例而言，具有或包括氧化鈮之透明介電層2、4及6可經由具有或包括Nb之至少一個濺鍍靶材、經由在包括氬氣及反應性氧氣之混合物的氣氛中濺鍍而經濺鍍沈積。且舉例而言，具有或包括氧化矽之透明介電層3及5可經由具有或包括Si或SiAl之至少一個濺鍍靶材、經由在包括氬氣及反應性氧氣之混合物的氣氛中濺鍍而經濺鍍沈積。可使用旋轉C-Mag濺鍍靶材或其他類型之靶材。在濺鍍操作中，可使用足夠反應性氧氣來達成本文中論述之折射率值。可替代地使用陶瓷靶材來濺鍍沈積此等層中的一或多者。儘管層2至6較佳經由濺鍍而沈積，但在本發明之替代實施例中，其有可能經由其他技術來沈積。儘管鏡體塗層150在圖1實施例中由五個層組成，但在替代實施例中，有可能可提供額外層。
在圖1實施例及其他示例性實施例中，介電鏡體100不含金屬反射層(例如，不具有Ag層且不具有Al層)且仍然能夠實現約50%至90%(更佳約60%至80%，且最佳約65%至75%)的膜側及/或玻璃側可見反射及約10%至50%(更佳約10%至40%，甚至更佳約20%至40%，且最佳約25%至35%)的可見透射率。儘管無金屬反射層，但仍可藉助於塗層150中之鄰近層之間的大折射率差結合本文中論述之層厚度值達成高反射率值。在某些示例性實施例中，玻璃側反射率 (自鏡體之玻璃1側量測之反射率)與膜側反射率(自鏡體之膜150側量測之反射率)可實質上對稱(例如，鏡體之玻璃側反射率與膜側反射率的差可不大於約10%)。本文中的折射率及厚度值亦可經特製以允許透射及反射色彩值(例如，a*及/或b*色彩值)實質上為中性的。在某些示例性實施例中，介電鏡體100可為第一或第二表面鏡體。舉例而言，介電鏡體100可用作分束器(beamsplitter)。在某些示例性實施例中，鏡體100可或可不經熱處理(例如，熱回火及/或熱彎曲)。在某些實例情況下，此些介電鏡體100可用於消費型、商業及/或數位標牌應用，諸如相框、浴室鏡體、TV及/或電子裝置。此等鏡體可用於電子鏡體或隱式TV以用於消費型、商業及/或數位標牌應用中。在某些電子應用中，給定本文中論述的鏡體之反射率及可見透射率值，當顯示器開啟時，可經由玻璃1檢視螢幕影像，且當顯示器關斷時，鏡體100具有鏡體之外觀。
圖4為根據本發明之另一示例性實施例的介電鏡體之橫截面圖。圖4實施例與圖1實施例相同，惟透明介電障壁層7提供於玻璃基板1與高折射率層2之間除外。在本發明之某些示例性實施例中，障壁層7具有或包括氮化矽(例如，Si3N4)。在某些示例性實施例中，基於氮化矽之障壁層7可摻雜有諸如約1%至8%的鋁及/或約1%至10%的氧的其他材料。圖4實施例在經熱處理(例如，熱回火)實施例中尤其有用，其中障壁層7幫助防止或降低元素(例如，Na)在高溫熱處理期間自玻璃基板至塗層中的遷移。舉例而言，此 種熱處理(例如，熱回火)可包括在烘箱或其類似物中在至少約攝氏580度、更佳至少約攝氏600度的溫度下加熱經塗佈物品。在本發明之示例性實施例中，圖4實施例之鏡體可或可不經熱處理(例如，熱回火)。
在本發明之某些示例性實施例中，具有或包括氧化鈮之透明介電層2可為約70至140nm厚，更佳約80至130nm厚，甚至更佳約90至120nm厚，其中實例厚度為約105nm。在本發明之某些示例性實施例中，具有或包括氧化鈮之透明介電層4可為約20至90nm厚，更佳約30至80nm厚，甚至更佳約40至65nm厚，其中實例厚度為約52nm。類似地，在本發明之某些示例性實施例中，具有或包括氧化鈮之透明介電層6可為約20至90nm厚，更佳約30至80nm厚，甚至更佳約40至70nm厚，其中實例厚度為約54nm。為實現本文中的所需反射率及透射率值，基於氧化鈮的層2較佳實質上比基於氧化鈮的層4及6中的每一者厚。舉例而言，在某些示例性實施例中，基於氧化鈮的層2比基於氧化鈮的層4及/或6中的一者或兩者厚至少約10nm(更佳厚至少約25nm，且最佳厚至少約40nm)。
在本發明之某些示例性實施例中，具有或包括氧化矽之透明介電層3可為約30至140nm厚，更佳約40至120nm厚，甚至更佳約60至120nm厚，甚至更佳約75至100nm厚，其中實例厚度為約88nm。類似地，在本發明之某些示例性實施例中，具有或包括氧化矽之透明介電層5可為約30至140nm厚，更佳約40至120nm厚，甚至更佳約60至120nm 厚，甚至更佳約75至100nm厚，其中實例厚度為約88nm。因此，在某些示例性實施例中，基於氧化矽之層3與5可具有實質上相同的厚度(即，在某些示例性實施例中，基於氧化矽之層3與5的厚度差不大於約20nm，更佳不大於約10nm)。且在某些示例性實施例中，基於氧化矽的層3及/或5中的一者或兩者比基於氧化鈮的層2薄至少約10nm(更佳薄至少約15nm)，且比基於氧化鈮的層4及/或6厚至少約10nm(更佳厚至少約20nm)。
在某些示例性實施例中，透明介電障壁層7(其亦可經濺鍍沈積)可為約5至150nm厚，更佳約10至40nm厚，甚至更佳約10至30nm厚，其中實例厚度為約20nm。在某些示例性實施例中，障壁層7可具有約1.95至2.10、更佳約2.0至2.05之折射率。
實例1
如下製得為本發明之實例的實例介電鏡體100：乾淨玻璃基板1
氧化鈮層2：105nm厚
氧化矽層3：88nm厚
氧化鈮層4：53nm厚
氧化矽層5：88nm厚
氧化鈮層6：53nm厚
此實例鏡體之光學特性展示於圖2至圖3中。使用乾淨玻璃基板。圖2為說明此實例介電鏡體之光學特性的模型化波長(nm)與可見透射率(Ts)、膜側反射(BRs)、玻璃側 反射(Ra)曲線圖；且圖3為說明此實例介電鏡體之反射色彩的角分佈之模型化角度(度)與玻璃側反射a*及b*色彩值曲線圖。量測以下可見光學值(L*、可見透射率值(TY或TaY)、可見反射率值(膜側RfY或BRa、玻璃側RgY或Ra)，及可見透射/反射色彩值a*及b*)：
因此，自以上表1可看出，該介電鏡體具有30%之可見透射率、70%之可見玻璃側反射率，及68%之可見膜側反射率(玻璃側反射率與膜側反射率實質上相同)。亦可看出，鏡體具有中性(-2至+2)玻璃側及膜側反射色彩值a*及b*。此等值係根據Ill.C,2度進行量測。且在圖3中可看出，反射a*及b*色彩值之角分佈在約0至30度之角度下不展示大的波動。
該鏡體之一優點在於，385nm下的紫外線(UV)透射率為至少約70%，更佳至少約75%，且最佳至少約80%或85%，如圖2中所示(注意圖2中在385nm處的Ts曲線)，但亦如圖2中所示，可見透射率小於約40%、更佳小於約35%。與低可見透射率及高反射率值結合的此高UV透射率允許該鏡體尤其適合於其中需要高UV的某些應用。
實例2
如下製得為本發明之實例的另一實例介電鏡體100：乾淨玻璃基板1
氧化鈮層2：108nm厚
氧化矽層3：88nm厚
氧化鈮層4：55nm厚
氧化矽層5：90nm厚
氧化鈮層6：53nm厚
此實例2鏡體的關於可見透射率(Ts或TY)、可見反射率(膜側RfY及玻璃側RgY可見反射率)及色彩值a*、b*的光學特性如下：
因此，自以上表2可看出，此實例之介電鏡體具有29%之可見透射率、70%之可見玻璃側反射率，及71%之可見膜側反射率(玻璃側反射率與膜側反射率實質上相同)。亦可看出，鏡體具有中性(-2至+2)玻璃側及膜側反射色彩值a*及b*。此等值係根據Ill.C,2度進行量測。
實例3
如下製得為本發明之實例的另一實例介電鏡體100： 乾淨玻璃基板1
氮化矽層7：20nm厚
氧化鈮層2：98nm厚
氧化矽層3：88nm厚
氧化鈮層4：55nm厚
氧化矽層5：90nm厚
氧化鈮層6：53nm厚
此實例3鏡體的關於可見透射率(Ts或TY)、可見反射率(膜側RfY及玻璃側RgY可見反射率)及色彩值a*、b*的光學特性如下：
因此，自以上表3可看出，此實例之介電鏡體(例如，見圖4)具有29%之可見透射率、69%之可見玻璃側反射率，及71%之可見膜側反射率(玻璃側反射率與膜側反射率實質上相同)。亦可看出，鏡體具有中性(-2至+2)膜側反射色彩值a*及b*。此等值係根據Ill.C,2度進行量測。
實例4
如下製得為本發明之實例的另一實例介電鏡體100：乾淨玻璃基板1
氧化鈮層2：124nm厚
氧化矽層3：45nm厚
氧化鈮層4：72nm厚
氧化矽層5：68nm厚
氧化鈮層6：71nm厚
此實例4鏡體的關於可見透射率(Ts或TY)、可見反射率(膜側RfY及玻璃側RgY可見反射率)及色彩值a*、b*的光學特性如下：
因此，自以上表4可看出，此實例之介電鏡體具有39%之可見透射率、58%之可見玻璃側反射率，及60%之可見膜側反射率(玻璃側反射率與膜側反射率實質上相同)。亦可看出，鏡體具有實質上中性(-3.0至+3.0)玻璃側及膜側反射色彩值a*及b*。此等值係根據Ill.C,2度進行量測。
實例5
如下製得為本發明之實例的另一實例介電鏡體100：乾淨玻璃基板1
氮化矽層7：21.4nm厚
氧化鈮層2：106.6nm厚
氧化矽層3：43.3nm厚
氧化鈮層4：59.4nm厚
氧化矽層5：80.1nm厚
氧化鈮層6：67.3nm厚
此實例5鏡體的關於可見透射率(Ts或TY)、可見反射率(膜側RfY及玻璃側RgY可見反射率)及色彩值a*、b*的光學特性如下：
因此，自以上表5可看出，此實例之介電鏡體具有39%之可見透射率、58%之可見玻璃側反射率，及60%之可見膜側反射率(玻璃側反射率與膜側反射率實質上相同)。亦可看出，鏡體具有中性(-2至+2)玻璃側及膜側反射色彩值a*及b*。此等值係根據Ill.C,2度進行量測。
實例6
如下製得為本發明之實例的另一實例介電鏡體100：乾淨玻璃基板1
氧化鈮層2：19.5nm厚
氧化矽層3：27nm厚
氧化鈮層4：59.1nm厚
氧化矽層5：91.8nm厚
氧化鈮層6：57.6nm厚
此實例6鏡體的關於可見透射率(Ts或TY)、可見反射率(膜側RfY及玻璃側RgY可見反射率)及色彩值a*、b*的光學特性如下：
因此，自以上表6可看出，此實例之介電鏡體具有48%之可見透射率、50%之可見玻璃側反射率，及51%之可見膜側反射率(玻璃側反射率與膜側反射率實質上相同)。亦可看出，鏡體具有中性(-2至+2)玻璃側及膜側反射色彩值a*及b*。此等值係根據Ill.C,2度進行量測。
實例7
如下製得為本發明之實例的另一實例介電鏡體100：乾淨玻璃基板1
氮化矽層7：20nm厚
氧化鈮層2：8.4nm厚
氧化矽層3：20nm厚
氧化鈮層4：55.6nm厚
氧化矽層5：89.4nm厚
氧化鈮層6：56.3nm厚
此實例7鏡體的關於可見透射率(Ts或TY)、可見反射率(膜側RfY及玻璃側RgY可見反射率)及色彩值a*、b*的光學特性如下：
因此，自以上表7可看出，此實例之介電鏡體具有48%之可見透射率、50%之可見玻璃側反射率，及51%之可見膜側反射率(玻璃側反射率與膜側反射率實質上相同)。亦可看出，鏡體具有中性(-2至+2)玻璃側及膜側反射色彩值a*及b*。此等值係根據Ill.C,2度進行量測。
實例8
如下製得為本發明之實例的另一實例介電鏡體100：乾淨玻璃基板1
氧化鈮層2：9nm厚
氧化矽層3：20nm厚
氧化鈮層4：85nm厚
氧化矽層5：103nm厚
氧化鈮層6：30nm厚
此實例8鏡體的關於可見透射率(Ts或TY)、可見 反射率(膜側RfY及玻璃側RgY可見反射率)及色彩值a*、b*的光學特性如下：
因此，自以上表8可看出，此實例之介電鏡體具有58%之可見透射率、40%之可見玻璃側反射率，及41%之可見膜側反射率(玻璃側反射率與膜側反射率實質上相同)。亦可看出，鏡體具有中性(-2至+2)玻璃側及膜側反射色彩值a*及b*。此等值係根據Ill.C,2度進行量測。
實例9
如下製得為本發明之實例的另一實例介電鏡體100：乾淨玻璃基板1
氮化矽層7：20nm
氧化鈮層2：8.4nm厚
氧化矽層3：28.8nm厚
氧化鈮層4：60.3nm厚
氧化矽層5：49nm厚
氧化鈮層6：80.1nm厚
此實例9鏡體的關於可見透射率(Ts或TY)、可見反射率(膜側RfY及玻璃側RgY可見反射率)及色彩值a*、b* 的光學特性如下：
因此，自以上表9可看出，此實例之介電鏡體具有59%之可見透射率、38%之可見玻璃側反射率，及40%之可見膜側反射率(玻璃側反射率與膜側反射率實質上相同)。亦可看出，鏡體具有中性(-2至+2)玻璃側及膜側反射色彩值a*及b*。此等值係根據Ill.C,2度進行量測。
上文闡述之根據本發明之實例1至9使用乾淨玻璃基板1，且導致每一情況中的鏡體具有與鏡體的膜側可見反射率實質上相同之玻璃側可見反射率。然而，在本發明之替代實施例中，對稱的玻璃與膜側可見反射率並非始終合乎需要。在某些情況下，可能需要使鏡體具有不對稱的玻璃側與膜側可見反射率。已在本發明之示例性實施例中提供對此之若干方法。第一方法(例如，見下文實例10)係使用灰色玻璃基板1替代圖1至4實施例中的任一者中的乾淨玻璃基板，且已發現此將導致不對稱的玻璃側與膜側可見反射率。第二方法係在經設計以調整玻璃側與膜側之間的可見反射之對稱性的位置處在堆疊中提供對稱性調整層(例如，具有或包括NiCr、NiCrOx或其類似物)。對於兩種方法，鏡體皆可達成與鏡體的膜側可見反射率相差至少約 30%、更佳相差至少約40%的玻璃側可見反射率。實例10為第一方法之實例，其中玻璃基板經調整以提供不對稱性。
實例10
如下製得為本發明之實例的另一實例介電鏡體100：灰色玻璃基板1
氧化鈮層2：105nm厚
氧化矽層3：110nm厚
氧化鈮層4：40nm厚
氧化矽層5：110nm厚
氧化鈮層6：45nm厚
此實例10鏡體的關於在零度檢視角度下的可見透射率(Ts或TY)、可見反射率(膜側RfY及玻璃側RgY可見反射率)及色彩值a*、b*的光學特性如下：
因此，自以上表10可看出，此實例之介電鏡體具有14%之可見透射率、69%之可見玻璃側反射率，及18%之可見膜側反射率(玻璃側反射率與膜側可見反射率係非對稱的，且實質上不同)。亦可看出，鏡體具有中性(-2至+2)玻璃側及膜側反射色彩值a*及b*。此等值係根據Ill.C,2度 進行量測。令人驚奇的是，在實例10中提供灰色玻璃基板提供不對稱的可見反射率值，且在某些情況下可為有利的。因此，在本發明之某些示例性實施例中，對於鏡體，玻璃側可見反射率與膜側可見反射率相差至少約30%、更佳相差至少約40%。
實例11及12係第二方法的實例，其中對稱性調整層(例如，具有或包括NiCr、NiCrOx或其類似物)在經設計以調整玻璃側與膜側之間的可見反射之對稱性且使其不對稱的位置處提供於鏡體堆疊中。實例11之鏡體展示於圖(5a)中，且實例12之鏡體大體展示於圖5(b)中。圖5(a)及圖5(b)實施例與上文論述之圖1至圖4實施例相同，惟額外對稱性調整層8提供於堆疊中除外。當然，在需要的情況下，包括氮化矽之層7亦可任擇地提供於圖5(a)至圖5(b)實施例中。
實例11
如下製得為本發明之實例的實例介電鏡體100：乾淨玻璃基板1
氧化鈮層2：130nm厚
氧化矽層3：41nm厚
氧化鈮層4：67nm厚
氧化矽層5：93nm厚
NiCr對稱性調整層8：20nm厚
氧化鈮層6：35.5nm厚
實例12
如下製得為本發明之實例的實例介電鏡體100： 乾淨玻璃基板1
氧化鈮層2：102nm厚
氧化矽層3：95nm厚
氧化鈮層4：52nm厚
NiCr對稱性調整層8：10nm厚
氧化矽層5：49nm厚
氧化鈮層6：65nm厚
類似於上文對於實例10所表明，提供包括NiCr之對稱性調整層8導致膜側與玻璃側之間的不對稱可見反射率。然而，已發現使NiCr對稱性調整層8(其可輕微或顯著氧化)之位置在圖5(a)與圖5(b)中展示之位置之間切換使不對稱性反轉。換言之，可藉由使用層8位置中的一者而達成高玻璃側可見反射率及低膜側可見反射率，而可藉由使用其他層8位置而達成低玻璃側可見反射率及高膜側可見反射率。在實例11至12兩者中，鏡體具有約18%至20%之可見透射率。然而，在該兩個實例中的一者中，玻璃側可見反射率係66%，且膜側可見反射率係10%，而在該兩個實例中的另一者中，玻璃側可見反射率係30%，且膜側可見反射率係73%。因此，將瞭解，基於NiCr之層8並非產生反射之層(實情為，基於NiCr之層8基於其位置而減小來自該等側中的一者的反射)，但其確實使得可見反射在玻璃側與膜側之間不對稱，其在某些情況中係合乎需要的。在本發明之某些示例性實施例中，對稱性調整層8(例如，具有或包括NiCr，其可或可不被氧化)為約3至50nm厚，更佳約5至 45nm厚，甚至更佳約5至30nm厚，且最佳約10至20nm厚。
應注意，本文中係在不考慮可施加到鏡體或容納鏡體的任何可選噴塗層或實體襯層的情況下量測諸如可見透射率、a*及b*值、玻璃側可見反射率及膜側可見反射率之光學特性。
儘管可稱一層、層系統、塗層或其類似物在基板、層、層系統、塗層或其類似物「上」或由其「支撐」，但可在其間提供其他層。因此，可將上文描述之塗層或層視為在基板及/或其他圖層或層「上」且由其「支撐」，即使在其間提供其他層亦如此。
在本發明之某些示例性實施例中，提供一種介電鏡體，其包括支撐一塗層的玻璃基板1，該塗層包含自該玻璃基板移開的以下各者：包含氧化鈮及/或氧化鈦之第一透明介電高折射率層2，該第一透明介電高折射率層具有約70至140nm之厚度；包含氧化矽之第二透明介電低折射率層3，該第二透明介電低折射率層具有約30至140nm之厚度；包含氧化鈮及/或氧化鈦之第三透明介電高折射率層4；包含氧化矽之第四透明介電低折射率層5；包含氧化鈮及/或氧化鈦之第五透明介電高折射率層6；其中包含氧化鈮及/或氧化鈦之該第一透明介電高折射率層比(a)包含氧化鈮及/或氧化鈦之該第三透明介電高折射率層及/或(b)包含氧化鈮及/或氧化鈦之該第五透明介電高折射率層中的一者或兩者厚至少10nm；其中該塗層不含任何基於Al或Ag之金屬反射層；且其中該介電鏡體具有(i)約50%至90%之膜側可見 反射率或玻璃側可見反射率，及(ii)約10%至40%之可見透射，且其中該鏡體之該玻璃側可見反射率比該鏡體之該膜側可見反射率高至少約30%或低至少約30%。
在緊接於前的段落之鏡體中，包含氧化鈮及/或氧化鈦之第一透明介電高折射率層可比該第三透明介電高折射率層及該第五透明介電高折射率層兩者厚至少10nm。
在前兩個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化鈮及/或氧化鈦之該第一透明介電高折射率層可比該第三透明介電高折射率層及/或該第五透明介電高折射率層中的一者或兩者厚至少25nm。
在前三個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化鈮及/或氧化鈦之該第一透明介電高折射率層可比該第三透明介電高折射率層及該第五透明介電高折射率層中兩者厚至少25nm。
前四個段落中的任一者之鏡體可進一步包含一對稱性調整層8，其位於該第三透明介電高折射率層與該第五透明介電高折射率層之間。該對稱性調整層可包含NiCr或其類似物，且可至少部分氧化。該對稱性調整層8可位於該第三透明介電高折射率層與包含氧化矽的該第四透明介電低折射率層之間且與其接觸，或可位於該第五透明介電高折射率層與包含氧化矽的該第四透明介電低折射率層之間且與其接觸。或者，前四個段落中的任一者之鏡體之玻璃基板可為灰色玻璃基板。
在前五個段落中的任一者之鏡體中，第一透明介電高折射率層可包含氧化鈮或基本上由氧化鈮組成。
在前六個段落中的任一者之鏡體中，該第三透明介電高折射率層可包含氧化鈮或基本上由氧化鈮組成。
在前七個段落中的任一者之鏡體中，該第五透明介電高折射率層可包含氧化鈮或基本上由氧化鈮組成。
在前八個段落中的任一者之鏡體中，該第三透明介電高折射率層可為約30至80nm厚。
在前九個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化矽之該第四透明介電低折射率層可為約40至120nm厚。
在前十個段落中的任一者之鏡體中，該第五透明介電高折射率層可為約30至80nm厚。
在前十一個段落中的任一者之鏡體中，該第一透明介電高折射率層可直接接觸該玻璃基板，或替代地，包含氮化矽之層7可位於該玻璃基板1與該第一透明介電高折射率層2之間且與其接觸。
在前十二個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化矽之該第二透明介電低折射率層可位於該第一透明介電高折射率層與該第三透明介電高折射率層之間且與其直接接觸。
在前十三個段落中的任一者之鏡體中，所有該等層可為濺鍍沈積層。
在前十四個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化矽之該第二透明介電低折射率層與該第四透明介電低折射 率層中的每一者可摻雜有鋁。
在前十五個段落中的任一者之鏡體中，該第一透明介電高折射率層、該第三透明介電高折射率層及該第五透明介電高折射率層可各自具有約2.15至2.5之折射率。
在前十六個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化矽之該第二透明介電低折射率層與該第四透明介電低折射率層可各自具有約1.4至1.7之折射率。
在前十七個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化矽之該第二透明介電低折射率層及該第四透明介電低折射率層可各自：(i)比該第一透明介電高折射率層薄，且(ii)比該第三透明介電高折射率層及該第五透明介電高折射率層中的至少一者厚。
在前十八個段落中的任一者之鏡體中，該鏡體可經熱回火。
在前十九個段落中的任一者之鏡體中，該鏡體可具有中性玻璃側反射色彩值a*及b*，該等玻璃側反射a*及b*值中的每一者為約-2至+2。
在前二十個段落中的任一者之鏡體中，該鏡體可具有中性膜側反射色彩值a*及b*，該等膜側反射a*及b*值中的每一者為約-2至+2。
在本發明之某些示例性實施例中，提供一種介電鏡體，其包括支撐一塗層之基板，該塗層包含自該基板移開的以下各者：一第一介電層2，其具有約2.15至2.5之折射率(n)；包含氧化矽之一第二介電層3；一第三介電層4，其 具有約2.15至2.5之折射率；包含氧化矽之一第四介電層5；一第五介電層6，其具有約2.15至2.5之折射率；其中該第一介電層比該第三介電層及/或該第五介電層中的一者或兩者薄至少20nm；且其中該塗層不含任何金屬反射層。
緊接於前的段落之鏡體可具有約40%至90%之可見膜側反射率及/或可見玻璃側反射率以及約20%至60%之可見透射率。
在前兩個段落中的任一者之鏡體中，該第一介電層、該第三介電層及該第五介電層中的至少一者可包含氧化鈮。
在前三個段落中的任一者之鏡體中，該第一介電層、該第三介電層及該第五介電層中的至少一者可包含氧化鈦。
在前四個段落中的任一者之鏡體中，該第一介電層可比該第三介電層及該第五介電層兩者薄至少20nm。
在前五個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化矽之該第二介電層可：(i)比該第一介電層厚，及/或(ii)比該第三介電層及該第五介電層中的每一者薄。
在前六個段落中的任一者之鏡體中，該鏡體之玻璃側與膜側可見反射率可實質上相同。
在前七個段落中的任一者之鏡體中，該鏡體可具有中性玻璃側及/或膜側反射色彩值a*及b*，該等玻璃側及/或膜側反射a*及b*值中的每一者為約-2至+2。
在前八個段落中的任一者之鏡體中，該鏡體可進 一步包含位於該基板與該第一介電層之間的包含氮化矽之層。
在前九個段落中的任一者之鏡體中，該第一介電層可比該第三介電層及該第五介電層兩者薄至少40nm。
在本發明之示例性實施例中，提供一種介電鏡體，其包括支撐一塗層之玻璃基板，該塗層包含自該玻璃基板移開的以下各者：包含氧化鈮之一第一透明介電高折射率層，該第一透明介電高折射率層具有約70至140nm之厚度；包含氧化矽之一第二透明介電低折射率層，該第二透明介電低折射率層具有約30至140nm之厚度；包含氧化鈮之一第三透明介電高折射率層；包含氧化矽之一第四透明介電低折射率層；包含氧化鈮之一第五透明介電高折射率層；其中包含氧化鈮之該第一透明介電高折射率層比包含氧化鈮之該第三透明介電高折射率層及/或包含氧化鈮之該第五透明介電高折射率層中的一者或兩者厚至少10nm；其中該塗層不含任何金屬反射層；且其中該介電鏡體具有約50%至90%之可見膜側反射率及/或可見玻璃側反射率及約10%至40%之可見透射率。
在緊接於前的段落之鏡體中，包含氧化鈮之該第一透明介電高折射率層可比包含氧化鈮之該第三透明介電高折射率層及包含氧化鈮之該第五透明介電高折射率層兩者厚至少10nm。
在前兩個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化鈮之該第一透明介電高折射率層可比包含氧化鈮之該第三透 明介電高折射率層及/或包含氧化鈮之該第五透明介電高折射率層中的一者或兩者厚至少25nm。
在前三個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化鈮之該第一透明介電高折射率層可比包含氧化鈮之該第三透明介電高折射率層及包含氧化鈮之該第五透明介電高折射率層兩者厚至少25nm。
在前四個段落中的任一者之鏡體中，該第一層、該第三層及該第五層中之一者、兩者或全部可基本上由氧化鈮組成。
在前五個段落中的任一者之鏡體中，該介電鏡體可具有約60%至80%之可見膜側反射率及約60%至80%之可見玻璃側反射率。
在前六個段落中的任一者之鏡體中，該介電鏡體可具有約25%至35%之可見透射率。
在前七個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化鈮之該第三透明介電高折射率層可為約30至80nm厚。
在前八個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化矽之該第四透明介電低折射率層可為約40至120nm厚。
在前九個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化鈮之該第五透明介電高折射率層可為約30至80nm厚。
在前十個段落中的任一者之鏡體中，該塗層可基本上由該第一層、該第二層、該第三層、該第四層及該第五層組成。
在前十一個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化 鈮之該第一透明介電高折射率層可直接接觸該玻璃基板。
在前十二個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化矽之該第二透明介電低折射率層可位於包含氧化鈮之該第一透明介電高折射率層與包含氧化鈮之該第三透明介電高折射率層之間且與其直接接觸。
在前十三個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化矽之該第四透明介電低折射率層可位於包含氧化鈮之該第三透明介電高折射率層與包含氧化鈮之該第五透明介電高折射率層之間且與其直接接觸。
在前十四個段落中的任一者之鏡體中，該第一層、該第二層、該第三層、該第四層及該第五層可為濺鍍沈積層。
在前十五個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化矽之該第二透明介電低折射率層與該第四透明介電低折射率層中的每一者可摻雜有鋁及/或氮。
在前十六個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化鈮之該第一透明介電高折射率層、該第三透明介電高折射率層及該第五透明介電高折射率層可具有約2.15至2.5、更佳約2.2至2.4之折射率。
在前十七個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化矽之該第二透明介電低折射率層與該第四透明介電低折射率層可具有約1.4至1.7、更佳約1.4至1.6之折射率。
在前十八個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化矽之該第二透明介電低折射率層及該第四透明介電低折射 率層可各自：(i)比包含之該第一透明介電高折射率層薄，且(ii)比包含氧化鈮之該第三透明介電高折射率層及該第五透明介電高折射率層兩者厚。
在前十九個段落中的任一者之鏡體中，該鏡體在385nm下可具有至少約75%、更佳至少約80%之紫外線(UV)透射率。
在前二十個段落中的任一者之鏡體中，該鏡體可經熱處理(例如，熱回火)。
在前二十一個段落中的任一者之鏡體中，該第五層可為該塗層之最外層。
在前二十二個段落中的任一者之鏡體中，該鏡體可具有中性玻璃側及/或膜側反射色彩值a*及b*，該等玻璃側及/或膜側反射a*及b*值中的每一者為約-2至+2。
前二十三個段落中的任一者之鏡體可進一步包括位於至少該第三介電層與該第五介電層之間的包含NiCr之層。該包含NiCr之層可或可不含有至少一些氧，且可位於該第三介電層與該第四介電層之間且與其接觸，或位於該第四介電層與該第五介電層之間且與其接觸。
在本發明之示例性實施例中，提供一種介電鏡體，其包括支撐一塗層之基板，該塗層包含自該基板移開的以下各者：一第一介電層，其具有約70至140nm之厚度及約2.15至2.5之折射率(n)；包含氧化矽之一第二介電層；一第三介電層，其具有約2.15至2.5之折射率；包含氧化矽之一第四介電層；一第五介電層，其具有約2.15至2.5之折 射率；其中該第一介電層比該第三介電層及/或該第五介電層中的一者或兩者厚至少10nm；其中該塗層不含任何金屬反射層；且其中該鏡體具有約50%至90%之可見膜側反射率及/或可見玻璃側反射率及約20%至40%之可見透射率。
在緊接於前之段落之鏡體中，(i)該第一介電層、該第三介電層及該第五介電層中的至少一者可包含氧化鈮或基本上由氧化鈮組成，及/或(ii)該第一介電層、該第三介電層及該第五介電層中的至少一者可包含氧化鈦或基本上由氧化鈦組成。
在前兩個段落中的任一者之鏡體中，該第一介電層可比該第三介電層及該第五介電層兩者厚至少10nm。
在前三個段落中的任一者之鏡體中，該塗層可基本上由該第一層、該第二層、該第三層、該第四層及該第五層組成。
在前四個段落中的任一者之鏡體中，包含氧化矽之該第二介電層及該第四介電層可各自：(i)比該第一介電層薄，且(ii)比該第三介電層及該第五介電層兩者厚。
在前五個段落中的任一者之鏡體中，該鏡體在385nm下可具有至少約75%、更佳至少約80%或85%之紫外線(UV)透射率。
儘管已結合當前認為係最實際且最佳的實施例描述本發明，但應理解，本發明不限於所揭示實施例，而相反，意欲涵蓋包括在所附申請專利範圍之精神及範疇內的各種修改及等效配置。
1‧‧‧玻璃基板
2‧‧‧高折射率透明介電層
3‧‧‧低折射率透明介電層
4‧‧‧高折射率透明介電層
5‧‧‧低折射率透明介電層
6‧‧‧高折射率透明介電層
100‧‧‧介電鏡體
150‧‧‧介電塗層

Claims (45)

  1. 一種介電鏡體，其包括支撐一塗層之一玻璃基板，該塗層包含自該玻璃基板移開之以下各者：包含氧化鈮及/或氧化鈦之一第一透明介電高折射率層，該第一透明介電高折射率層具有一約70至140nm之厚度；包含氧化矽之一第二透明介電低折射率層，該第二透明介電低折射率層具有一約30至140nm之厚度；包含氧化鈮及/或氧化鈦之一第三透明介電高折射率層；包含氧化矽之一第四透明介電低折射率層；包含氧化鈮及/或氧化鈦之一第五透明介電高折射率層；其中包含氧化鈮及/或氧化鈦之該第一透明介電高折射率層比(a)包含氧化鈮及/或氧化鈦之該第三透明介電高折射率層及/或(b)包含氧化鈮及/或氧化鈦之該第五透明介電高折射率層中的一者或兩者厚至少10nm；其中該塗層不含基於Al或Ag之任何金屬反射層；以及其中該介電鏡體具有(i)約50%至90%之一膜側可見反射率或一玻璃側可見反射率及(ii)約10%至40%之一可見透射率，以及其中該鏡體之該玻璃側可見反射率比該鏡體之該 膜側可見反射率高至少約30%或低至少約30%。
  2. 如請求項1之鏡體，其中包含氧化鈮及/或氧化鈦之該第一透明介電高折射率層比該第三透明介電高折射率層及該第五透明介電高折射率層兩者厚至少10nm。
  3. 如請求項1或2之鏡體，其中包含氧化鈮及/或氧化鈦之該第一透明介電高折射率層比該第三透明介電高折射率層及/或該第五透明介電高折射率層中的一者或兩者厚至少25nm。
  4. 如請求項1至3中任一項之鏡體，其中包含氧化鈮及/或氧化鈦之該第一透明介電高折射率層比該第三透明介電高折射率層及該第五透明介電高折射率層兩者厚至少25nm。
  5. 如請求項1至4中任一項之鏡體，其進一步包含一對稱性調整層，其位於該第三透明介電高折射率層與該第五透明介電高折射率層之間。
  6. 如請求項5之鏡體，其中該對稱性調整層包含NiCr。
  7. 如請求項6之鏡體，其中包含NiCr之該對稱性調整層係至少部分氧化。
  8. 如請求項5至7中任一項之鏡體，其中該對稱性調整層位於該第三透明介電高折射率層與包含氧化矽之該第四透明介電低折射率層之間且與其等接觸。
  9. 如請求項5至7中任一項之鏡體，其中該對稱性調整層位於該第五透明介電高折射率層與包含氧化矽之該第四透明介電低折射率層之間且與其等接觸。
  10. 如請求項1至9中任一項之鏡體，其中該玻璃基板為一灰色玻璃基板。
  11. 如請求項1至10中任一項之鏡體，其中該第一透明介電高折射率層包含氧化鈮。
  12. 如請求項1至11中任一項之鏡體，其中該第三透明介電高折射率層包含氧化鈮。
  13. 如請求項1至12中任一項之鏡體，其中該第五透明介電高折射率層包含氧化鈮。
  14. 如請求項1至13中任一項之鏡體，其中該第三透明介電高折射率層為約30至80nm厚。
  15. 如請求項1至14中任一項之鏡體，其中包含氧化矽之該第四透明介電低折射率層為約40至120nm厚。
  16. 如請求項1至15中任一項之鏡體，其中該第五透明介電高折射率層為約30至80nm厚。
  17. 如請求項1至16中任一項之鏡體，其中該第一透明介電高折射率層直接接觸該玻璃基板。
  18. 如請求項1至16中任一項之鏡體，其進一步包含一層體，該層體包含氮化矽且位於該玻璃基板與該第一透明介電高折射率層之間且與其等接觸。
  19. 如請求項1至18中任一項之鏡體，其中包含氧化矽之該第二透明介電低折射率層位於該第一透明介電高折射率層與該第三透明介電高折射率層之間且與其等直接接觸。
  20. 如請求項1至19中任一項之鏡體，其中該第一層、該第 二層、該第三層、該第四層及該第五層為濺鍍沈積層。
  21. 如請求項1至20中任一項之鏡體，其中包含氧化矽之該第二透明介電低折射率層與該第四透明介電低折射率層中的每一者摻雜有鋁。
  22. 如請求項1至21中任一項之鏡體，其中該第一透明介電高折射率層、該第三透明介電高折射率層及該第五透明介電高折射率層各自具有約2.15至2.5之折射率。
  23. 如請求項1至22中任一項之鏡體，其中包含氧化矽之該第二透明介電低折射率層與該第四透明介電低折射率層各自具有約1.4至1.7之折射率。
  24. 如請求項1至23中任一項之鏡體，其中包含氧化矽之該第二透明介電低折射率層及該第四透明介電低折射率層各自(i)比該第一透明介電高折射率層薄，且(ii)比該第三透明介電高折射率層及該第五透明介電高折射率層中的至少一者厚。
  25. 如請求項1至24中任一項之鏡體，其中該鏡體經熱回火。
  26. 如請求項1至25中任一項之鏡體，其中該鏡體具有中性玻璃側反射色彩值a*及b*，該等玻璃側反射a*及b*值中的每一者為約-2至+2。
  27. 如請求項1至26中任一項之鏡體，其中該鏡體具有中性膜側反射色彩值a*及b*，該等膜側反射a*及b*值中的每一者為約-2至+2。
  28. 一種介電鏡體，其包括支撐一塗層之一基板，該塗層包含自該基板移開之以下各者： 一第一介電層，其具有一約70至140nm之厚度及一約2.15至2.5之折射率；包含氧化矽之一第二介電層；一第三介電層，其具有一約2.15至2.5之折射率；包含氧化矽之一第四介電層；一第五介電層，其具有一約2.15至2.5之折射率；其中該第一介電層比該第三介電層及/或該第五介電層中的一者或兩者厚至少10nm；其中該塗層不含任何金屬反射層；以及其中該鏡體具有約50%至90%之一可見膜側反射率及/或一可見玻璃側反射率，以及約10%至50%之可見透射率。
  29. 如請求項28之鏡體，其中該第一介電層、該第三介電層及該第五介電層中的至少一者包含氧化鈮。
  30. 如請求項28之鏡體，其中該第一介電層、該第三介電層及該第五介電層中的至少一者包含氧化鈦。
  31. 如請求項28之鏡體，其中該第一介電層比該第三介電層及該第五介電層兩者厚至少10nm。
  32. 如請求項28之鏡體，其中該塗層基本上由該第一層、該第二層、該第三層、該第四層及該第五層組成。
  33. 如請求項28之鏡體，其中包含氧化矽之該第二介電層及該第四介電層各自：(i)比該第一介電層薄，且(ii)比該第三介電層及該第五介電層兩者厚。
  34. 如請求項28之鏡體，其中該鏡體具有中性玻璃側反射及 膜側反射色彩值a*及b*，該等玻璃側及膜側反射a*及b*值中的每一者為約-2至+2。
  35. 如請求項28之鏡體，其中該鏡體進一步包含位於該基板與該第一介電層之間的包含氮化矽之一層體。
  36. 一種介電鏡體，其包括支撐一塗層之一基板，該塗層包含自該基板移開之以下各者：一第一介電層，其具有一約2.15至2.5之折射率；包含氧化矽之一第二介電層；一第三介電層，其具有一約2.15至2.5之折射率；包含氧化矽之一第四介電層；一第五介電層，其具有一約2.15至2.5之折射率；其中該第一介電層比該第三介電層及/或該第五介電層中的一者或兩者薄至少20nm；以及其中該塗層不含任何金屬反射層。
  37. 如請求項36之鏡體，其中該鏡體具有約40%至90%之一可見膜側反射率及/或一可見玻璃側反射率，以及約20%至60%之可見透射率。
  38. 如請求項36之鏡體，其中該第一介電層、該第三介電層及該第五介電層中的至少一者包含氧化鈮。
  39. 如請求項36之鏡體，其中該第一介電層、該第三介電層及該第五介電層中的至少一者包含氧化鈦。
  40. 如請求項36之鏡體，其中該第一介電層比該第三介電層及該第五介電層兩者薄至少20nm。
  41. 如請求項36之鏡體，其中包含氧化矽之該第二介電層係 (i)比該第一介電層厚，且(ii)比該第三介電層及該第五介電層中的每一者薄。
  42. 如請求項36之鏡體，其中該鏡體之該玻璃側與膜側可見反射率實質上相同。
  43. 如請求項36之鏡體，其中該鏡體具有中性玻璃側及/或膜側反射色彩值a*及b*，該等玻璃側及/或膜側反射a*及b*值中的每一者為約-2至+2。
  44. 如請求項36之鏡體，其中該鏡體進一步包含位於該基板與該第一介電層之間的包含氮化矽之一層體。
  45. 如請求項36之鏡體，其中該第一介電層比該第三介電層及該第五介電層兩者薄至少40nm。
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