TWI640802B - 介電鏡體 - Google Patents

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TWI640802B
TWI640802B TW103104583A TW103104583A TWI640802B TW I640802 B TWI640802 B TW I640802B TW 103104583 A TW103104583 A TW 103104583A TW 103104583 A TW103104583 A TW 103104583A TW I640802 B TWI640802 B TW I640802B
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喬爾吉 維科爾
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盧森堡研究中心的玻璃與陶瓷有限責任公司
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Abstract

一介電鏡體，包括具有交替高及低折射率層的塗層。該鏡體塗層不具有金屬性反射層，且可具有自約50-90%(更佳自約60-80%及最佳自約65-75%)之膜側及/或玻璃側可見反射率，及自約10-50%(更佳自約20-40%，且最佳自約25-35%)之可見穿透率。

Description

介電鏡體 發明領域
本發明之特定例示實施例係有關於介電鏡體及/或製造該等介電鏡體的方法。更具體而言，特定例示實施例係有關於不具有金屬性反射層的介電鏡體，及實現膜側及/或玻璃側可見反射率為自約50-90%(更佳自約60-80%及最佳自約65-75%)以及可見穿透率為自約10-50%(更佳自約20-40%，及最佳自約25-35%)的介電鏡體。
發明背景
鏡體已存在多年且已被用於許多應用中。鏡體通常為(a)第一表面鏡體，其中該鏡體塗層被提供於該觀看者及該支撐玻璃基材之間，或是(b)第二表面鏡體，其中該支撐玻璃基材係插入於該觀看者及該鏡體塗層之間。見例如，美國專利Nos.7,276,289及7,678,459；美國申請案Nos.2006/0077580；2007/0178316；2008/0073203；2008/0164173；2010/0229853；2011/0176212；及2011/0176236。此等各專利文件的整體內容被併入此處作為參考。
鏡體通常需要使用金屬性(例如，Al或Ag)反射層。然而，希望鏡體可不需要金屬性反射層而被提供。
發明概要
本發明之特定例示實施例係有關於介電鏡體及/或製造該等介電鏡體的方法。更具體而言，特定例示實施例係有關於不具有金屬性反射層(例如，無Ag層及無Al層)的介電鏡體，且，然而，其係得以達成自約50-90%之膜側及/或玻璃側可見反射率(更佳自約60-80%及更佳自約65-75%)以及自約10-50%之可見穿透率(更佳自約20-40%，且最佳自約25-35%)。於特定例示實施例中，該等介電鏡體可為第一或第二表面鏡體，產生對於玻璃側反射及膜側反射兩者良好效能。於特定例示實施例中，該等鏡體可被熱處理或不被熱處理(例如，熱回火及/或熱彎曲)。在特定示例實例中，此等介電鏡體可被用於消費、商業及/或數位標牌應用諸如相框、衛浴鏡體、TV，及/或電子元件。
於本發明之特定例示實施例中，提供一種包括支撐一塗層之一玻璃基材的介電鏡體，該塗層包含，自該玻璃基材而遠離：包含鈮氧化物之第一透明介電高折射率層，該第一透明介電高折射率層具有自約70-140nm之厚度；包含矽氧化物之第二透明介電低折射率層，該第二透明介電低折射率層具有自約30-140nm之厚度；包含鈮氧化物之第三透明介電高折射率層；包含矽氧化物之第四透明介電低折射率層；包含鈮氧化物之第五透明介電高折射率 層；其中該包含鈮氧化物之第一透明介電高折射率層係較該包含鈮氧化物之第三透明介電高折射率層及/或該包含鈮氧化物之第五透明介電高折射率層之一或兩者厚至少10nm；其中該塗層不包含任何金屬性反射層，且其中該介電鏡體具有自約50-90%之可見膜側反射及/或可見玻璃側反射，以及自約20-40%之可見穿透率。
於本發明之特定例示實施例中，提供包括支撐一塗層之一基材(例如，玻璃基材)的介電鏡體，該塗層包含，自該玻璃基材而遠離：具有自約70-140nm之厚度及自約2.15至2.5之折射率(n)的第一介電層；包含矽氧化物的第二介電層；具有自約2.15至2.5之折射率的第三介電層；包含矽氧化物之一第四介電層；具有自約2.15至2.5之折射率的一第五介電層；其中該第一介電層較該第三介電層及/或第五介電層之一或兩者厚至少10nm；其中該塗層不包含任何金屬性反射層；且其中該鏡體具有自約50-90%之可見膜側反射率及/或可見玻璃側反射率，及自約20-40%之可見穿透率。
1‧‧‧基材
2,4,6‧‧‧高折射率透明介電層
3,5‧‧‧低折射率透明介電層
100‧‧‧介電鏡體
150‧‧‧塗層
圖1係根據本發明之一例示實施例的介電鏡體之剖視圖；圖2係模型(modeled)波長(nm)對可見穿透率(Ts)、膜側反射率(BRs)、玻璃側反射率(Ra)圖，其顯示根據圖1之一實例的介電鏡體之光學特徵；及圖3為模型角(度)對玻璃側反射率a*及b*顏色值 圖，其顯示根據該圖1實施例之該實例的介電鏡體之經反射顏色的角分布。
較佳實施例之詳細說明
現更特別參照該等圖式，其中在該等數個視圖中，參考標號表示相似部件/材料。
圖1為根據本發明之特定例示實施例之介電鏡體100的剖面圖。該鏡體包括一介電塗層150，其係於一玻璃基材1上。玻璃基材1可為以鈉-鈣-矽為主之玻璃或任何其他適合之玻璃類型，且於本發明之例示實施例中，可為自約1-10mm厚，更佳自約2-6mm厚。或是，基材1可為石英、矽，或類似物。該鏡體塗層150包含，鈮氧化物或包括鈮氧化物(例如，Nb2O5、NbO2及/或NbO)之高折射率透明介電層2、4，及6，及矽氧化物或包括矽氧化物(例如，可或未以鋁及/或氮摻雜之SiO2)之低折射率透明介電層3及5。於特定例示實施例中，該等矽氧化物層3及/或5之一或兩者可以其他材料摻雜，諸如自約1-8%鋁及/或自約1-10%氮。於特定例示實例中，層2、4及6之一或多者亦可被以其他材料摻雜。於該圖1實施例中，層6係該塗層150之最外部層且可被暴露至空氣。各層2-6被認為是“透明”因為此等各層，單獨而言，係實質上對可見光為透明(例如，對可見光至少約50%透明，更佳至少約60%或70%透明)。
鈮氧化物或包括鈮氧化物之高折射率透明介電層2、4及6可具有自約2.15至2.5之折射率(n)，更佳自約2.2 至2.4，且最佳自約2.25至2.35(於550nm下)。於特定另外的實施例中，在一或多個高折射率層2、4及/或6中，該鈮氧化物可以氧化鈦(例如，TiO2)、氧化鋯、氧化鉿(例如，HfO2)、氧化鈰(例如，CeO2)、硫化鋅，或氧化鉍(例如，Bi2O3)取代。矽氧化物或包括矽氧化物之低折射率透明介電層3及5可具有自約1.4至1.7之折射率(n)，更佳自約1.4至1.6且最佳自約1.45至1.55(此處之所有折射率n值係於550nm下測量)。
於本發明之例示實施例中，透明介電層2-6較佳藉由濺鍍被沉積。例如，鈮氧化物或包括鈮氧化物之高折射率透明介電層2、4及6可經由Nb或包括Nb之至少一濺鍍標的，經由於一包括氬及反應性氧氣氣體之混合物的大氣下濺鍍，而被濺鍍沉積。且，例如，矽氧化物或包括矽氧化物之透明介電層3及5可經由包括Si或SiAl之至少一濺鍍標的，經由包括氬及反應性氧氣氣體之混合物的大氣下濺鍍，而被濺鍍沉積。旋轉C-Mag濺鍍標的，或其他類型之標的可被使用。於濺鍍操作中，充足的反應性氧氣氣體可被用於達到此處所討論之該等折射率值。或是陶瓷標的可被使用以濺鍍沉積此等層之一或多者。雖然層2-6係較佳經由濺鍍而沉跡，他們於本發明之另外的實施例中可經由其他之技術而沉積。雖然鏡體塗層150由該圖1實施例中的五個層所組成，額外的層可被提供於其他的實施例中。
於圖1實施例及其他例示實施例中之介電鏡體100，不含金屬性反射層(例如，無Ag層及無Al層)，然而係 得以實現自約50-90%(更佳自約60-80%且最佳自約65-75%)之膜側及/或玻璃側可見反射率，及自約10-50%(更佳自約20-40%，且最佳自約25-35%)之可見穿透率。雖然沒有金屬性反射層，但藉由在該塗層150中之介於鄰近層間的折射率差異，與此處所討論之該等層厚度值相組合，該高反射值被達成。於特定例示實施例中，該玻璃側反射(由該鏡體之該玻璃1側測量的反射)及該膜側反射率(由該鏡體之該膜150側測量的反射)可為實質上對稱地(例如，該鏡體之該玻璃側反射及膜側反射相差不大於約10%)。此處之該折射率及厚度亦可被定制已允許被穿透及反射之顏色值(例如，a*及/或b*顏色值)為實質上中性的。於特定例示實施例中，該等介電鏡體100可為第一或第二表面鏡體。該介電鏡體100可被用於，例如，作為分光鏡。於特定例示實施例中，該等鏡體100可被熱處理或不被熱處理(例如，熱回火及/或熱彎曲)。於特定例示實例中，此等介電鏡體100可被用於消費、商業及/或數位標牌應用諸如相框、衛浴鏡體、TV，及/或電子元件。此等鏡體可被用於消費、保全、商業，及/或數位標牌應用的電子鏡體或隱藏電視。於特定電子應用中，當該顯示器開啟時，該螢幕影像可經由該玻璃1而看見，且當該顯示器關閉時該鏡體100具有一鏡體的外觀，產生此處所討論之該鏡體的反射及可見穿透值。
於本發明之特定例示實施例中，鈮氧化物或包括鈮氧化物之透明介電層2可為自約70-140nm厚，更佳自約80-130nm厚，再更佳自約90-120nm厚，例示厚度為約105 nm。於本發明之特定例示實施例中，鈮氧化物或包括鈮氧化物之透明介電層4可為自約20-90nm厚，更佳自約30-80nm厚，再更佳自約40-65nm厚，例示厚度為約52nm。相似地，於本發明之特定例示實施例中，鈮氧化物或包括鈮氧化物之透明介電層6可為自約20-90nm厚，更佳自約30-80nm厚，再更佳自約40-70nm厚，例示厚度為約54nm。為了實現此處之該所欲折射及穿透值，以鈮氧化物為主之層2較佳較各以鈮氧化物為主之層4及6厚。例如，於特定例示實施例中，以鈮氧化物為主之層2相較以鈮氧化物為主之層4及/或6之一或兩者，係至少厚約10nm(更佳至少厚約25nm，且最佳至少厚約40nm)。
於本發明之特定例示實施例中，矽氧化物或包括矽氧化物之透明介電層3可為自約30-140nm厚，更佳自約40-120nm厚，再更佳自約60-120nm厚，在更佳自約75-100nm厚，例示厚度為約88nm厚。相似地，於本發明之特定例示實施例中，矽氧化物或包括矽氧化物之透明介電層5可為自約30-140nm厚，更佳自約40-120nm厚，再更佳自約60-120nm厚，再更佳自約75-100nm厚，例示厚度為約88nm。因此，於特定例示實施例中，該等以矽氧化物為主之層3及5可為實質上相同厚度(即，以矽氧化物為主之層3及5之厚度相差不大於約20nm，於特定例示實施例中，更佳相差不大於約10nm)。且於特定例示實施例中，以矽氧化物為主之層3及/或5之一或兩者相較於以鈮氧化物為主之層2薄至少約10nm(更佳至少約15nm)，且相較於以鈮氧化物為 主之層4及/或6厚至少約10nm(更佳至少約20nm)。
介電鏡體100之一實例係以下列所製成：
玻璃基材1
鈮氧化物層2：105nm厚
矽氧化物層3：88nm厚
鈮氧化物層4：53nm厚
矽氧化物層5：88nm厚
鈮氧化物層6：53nm厚
此例示鏡體的光學特性顯示於圖2-3中。圖2為模型(modeled)波長(nm)對可見穿透率(Ts)、膜側反射率(BRs)、玻璃側反射率(Ra)圖，其顯示此例示介電鏡體之光學特徵；而圖3為模型角(度)對玻璃側反射a*及b*顏色值圖，其顯示此例示介電鏡體之經反射顏色的角分布。下列可見光學值(L*，可見穿透值(TY或TaY)，可見折射率值(膜側RfY或Bra，玻璃側RgY或Ra)，及可見穿透/折射顏色值a*及b*)被測量：
因此，由上列表1可見，該介電鏡體具有30%之可見穿透率、70%之可見玻璃側反射率，及68%之可見膜側反射率(該玻璃側及膜側反射係實質上相同)。亦可看到該鏡 體具有中性(自-2至+2)玻璃側及膜側反射顏色值a*及b*。此等係根據Ill.C，2度而測量。且可見於圖3中，該經反射之a*及b*顏色值之角分布在自約0-30度下顯示不大的波動。
該鏡體之一優點係在385nm之紫外光(UV)穿透率係至少約70%，更佳至少約75%，且最佳至少約80%或85%，如圖2所示(注意於圖2中之在385nm的該Ts曲線)，雖然該可見穿透率係少於約40%，更佳少於約35%，如亦於圖2中所示。此高UV穿透率，與該低可見穿透率及高反射值耦合，允許該鏡體特別適於其中希望有高UV之特定應用中。
雖然一層、層系統、塗層，或類似物，可被表達為“於一基材、層、層系統、塗層，或類似物上”或“由一基材、層、層系統、塗層，或類似物支撐”，其他層可被提供於其等之間。因此，例如，上述該等塗層或層可被認為是“於該基材及/或其他塗層或層上”或“由該基材及/或其他塗層或層所支撐”，即使其他層被提供於其等之間。
於本發明之例示實施例中，提供一包括支撐一塗層的一玻璃基材，該塗層包含，自該玻璃基材遠離：一包含鈮氧化物第一透明介電高折射率層，該第一透明介電高折射率層具有自70-140nm之厚度；一包含矽氧化物之第二透明介電低折射率層，該第二透明介電低折射率層具有自約30-140nm之厚度；一包含鈮氧化物之第三透明介電高折射率層；一包含矽氧化物之第四透明介電低折射率層；一包含鈮氧化物之第五透明介電高折射率層；其中該包含鈮 氧化物之第一透明介電高折射率層較該包含鈮氧化物之第三透明介電高折射率層及/或該包含鈮氧化物之第五透明介電高折射率層之一或兩者厚至少10nm；其中該塗層不包含任何金屬性反射層，且其中該介電鏡體具有自約50-90%之可見膜側反射率及/或可見玻璃側反射率，及自約20-40%之可見穿透率。
於前段之該鏡體中，該包含鈮氧化物之第一透明介電高折射率層可較該包含鈮氧化物之該第三透明介電高折射率層及該包含鈮氧化物之第五透明介電高折射率層之一或兩者厚至少10nm。
於前述兩個段落之任一個的鏡體中，該包含鈮氧化物之第一透明介電高折射率層可較該第三透明介電高折射率層及/或該包含鈮氧化物之第五透明介電高折射率層之一或兩者厚至少25nm。
於前述三個段落之任一個的鏡體中，該包含鈮氧化物之第一透明介電高折射率層可較該第三透明介電高折射率層及該包含鈮氧化物之第五透明介電高折射率層之兩者厚至少25nm。
於前述四個段落之任一個的鏡體中，該第一、第三及第五層之一、二或所有三者可實質上由鈮氧化物所組成。
於前述五個段落之任一個的鏡體中，該介電鏡體可具有自約60-80%之可見膜側反射率及自約60-80%之可見玻璃側反射率。
於前述六個段落之任一個的鏡體中，該介電鏡體可具有自約25-35%之可見穿透率。
於前述七個段落之任一個的鏡體中，該包含鈮氧化物之第三透明介電高折射率層可為自30-80nm厚。
於前述八個段落之任一個的鏡體中，該包含矽氧化物之該第四透明介電低折射率層可為自約40-120nm厚。
於前述九個段落之任一個的鏡體中，該包含鈮氧化物之第五透明介電高折射率層可為自約30-80nm厚。
於前述十個段落之任一個的鏡體中，該塗層可實質上由該第一、第二、第三、第四及第五層所組成。
於前述十一個段落之任一個的鏡體中，該包含鈮氧化物之第一透明介電高折射率層可直接與該玻璃基材接觸。
於前述十二個段落之任一個的鏡體中，該包含矽氧化物之第二透明介電低折射率層可位於該包含鈮氧化物之第一透明介電高折射率層及該包含鈮氧化物之第三透明介電高折射率層之間並與其等直接接觸。
於前述十三個段落之任一個的鏡體中，該包含矽氧化物之第四透明介電低折射率層可位於該包含鈮氧化物之第三透明介電高折射率層及該包含鈮氧化物之第五透明介電高折射率層之間並與其等直接接觸。
於前述十四個段落之任一個的鏡體中，該第一、第二、第三、第四，及第五層可為經濺鍍沉積之層。
於前述十五個段落之任一個的鏡體中，包含矽氧 化物之各該第二及第四透明介電低折射率層可以鋁及/或氮摻雜。
於前述十六個段落之任一個的鏡體中，該等包含鈮氧化物之第一、第三，及第五透明介電高折射率層可具有自約2.15至2.5，更佳自約2.2至2.4之折射率。
於前述十七個段落之任一個的鏡體中，該等包含矽氧化物之第二及第四透明介電低折射率層可具有自約1.4至1.7，更佳自約1.4至1.6之折射率。
於前述十八個段落之任一個的鏡體中，該等包含矽氧化物之第二及第四透明介電低折射率層可各自為：(i)較該包含鈮氧化物之第一透明介電高折射率層薄，及(ii)較該等包含鈮氧化物之第三及第五透明介電高折射率層厚。
於前述十九個段落之任一個的鏡體中，該鏡體可具有於385nm至少約75%，更佳為至少約80%之紫外光(UV)穿透率。
於前述二十個段落之任一個的鏡體中，該鏡體可被熱處理(例如，熱回火)。
於前述二十一個段落之任一個的鏡體中，該第五層可為該塗層的最外層。
於前述二十二個段落之任一個的鏡體中，該鏡體可具有中性玻璃側及/或膜側反射顏色值a*及b*，各該玻璃側及/或膜側折射率a*及b*值為自約-2至+2。
於本發明之例示實施例中，提供一包括支撐一塗層之基材的鏡體，該塗層包含，自該基材遠離：具有自約 70-140nm之厚度及自約2.15至2.5之折射率(n)的第一介電層；包含矽氧化物之第二介電層；具有自約2.15至2.5之折射率(n)的第三介電層；包含矽氧化物之第四介電層；具有自約2.15至2.5之折射率的第五介電層；其中該第一介電層係較該第三介電層及/或第五介電層之一或兩者厚至少10nm；其中該塗層不包含任何金屬性反射層；且其中該鏡體具有自約50-90%之可見膜側反射率及/或可見玻璃側反射率，及自約20-40%之可見穿透率。
於前段的該鏡體中，(i)該第一、第三及第五介電層之至少一者可包含鈮氧化物或實質上由鈮氧化物所組成，及/或(ii)該第一、第三及第五介電層之至少一者可包含或實質上由鈦氧化物所組成。
於前述兩個段落之任一者中，該第一介電層可為較該第三及第五介電層之兩者厚至少10nm。
於前述三個段落之任一者中，該塗層可實質上由該第一、第二、第三、第四及第五層所組成。
於前述四個段落之任一者中，該等包含矽氧化物之第二及第四介電層各自可為：(i)較該第一介電層薄，及(ii)較該第三及第五介電層之兩者厚。
於前述五個段落之任一者中，該鏡體可具有於385nm下至少約75%，更佳為至少約80%或85%之紫外光(UV)穿透率。
雖然本發明被與現在被認為是最符合實務及最佳實施例相關而敘述，須被了解的是本發明被未被限制至 該被揭露的實施例，但相反地，係意欲涵蓋各種被包括於該所附之申請專利範圍的精神及範圍內的各種改良及相等的配置。

Claims (31)

  1. 一種介電鏡體，其包括支撐一塗層之玻璃基材，該塗層自距該玻璃基材由近到遠依序實質上由下列各層所組成：一包含鈮氧化物之第一透明介電高折射率層，該第一透明介電高折射率層具有約70-140nm之厚度；一包含矽氧化物之第二透明介電低折射率層，該第二透明介電低折射率層具有約30-140nm之厚度；一包含鈮氧化物之第三透明介電高折射率層；一包含矽氧化物之第四透明介電低折射率層；一包含鈮氧化物之第五透明介電高折射率層；其中該包含鈮氧化物之第一透明介電高折射率層較該包含鈮氧化物之第三透明介電高折射率層及該包含鈮氧化物之第五透明介電高折射率層中之至少一者厚至少10nm；其中該塗層不包含任何金屬性反射層；且其中該介電鏡體具有約50-90%之一可見膜側反射率及一可見玻璃側反射率，及在所有波長500-600nm具有約20-40%之可見穿透率。
  2. 如請求項1之鏡體，其中該包含鈮氧化物之第一透明介電高折射率層較該包含鈮氧化物之第三透明介電高折射率層及該包含鈮氧化物之第五透明介電高折射率層兩者厚至少10nm。
  3. 如請求項1之鏡體，其中該包含鈮氧化物之第一透明介電高折射率層係較該包含鈮氧化物之第三透明介電高折射率層及該包含鈮氧化物之第五透明介電高折射率層中之至少一者厚至少25nm。
  4. 如請求項1之鏡體，其中該包含鈮氧化物之第一透明介電高折射率層係較該包含鈮氧化物之第三透明介電高折射率層及該包含鈮氧化物之第五透明介電高折射率層兩者厚至少25nm。
  5. 如請求項1之鏡體，其中該介電鏡體具有約60-80%之一可見膜側反射率及約60-80%之一可見玻璃側反射率。
  6. 如請求項1之鏡體，其中該介電鏡體具有約25-35%之一可見穿透率。
  7. 如請求項1之鏡體，其中該包含鈮氧化物之第三透明介電高折射率層係約30-80nm厚。
  8. 如請求項1之鏡體，其中該包含矽氧化物之第四透明介電低折射率層係約40-120nm厚。
  9. 如請求項1之鏡體，其中該包含鈮氧化物之第五透明介電高折射率層係約30-80nm厚。
  10. 如請求項1之鏡體，其中該包含鈮氧化物之第一透明介電高折射率層直接接觸該玻璃基材。
  11. 如請求項1之鏡體，其中該包含矽氧化物之第二透明介電低折射率層係位於該包含鈮氧化物之第一透明介電高折射率層及該包含鈮氧化物之第三透明介電高折射率層之間，且與其等直接接觸。
  12. 如請求項1之鏡體，其中該包含矽氧化物之第四透明介電低折射率層係位於該包含鈮氧化物之第三透明介電高折射率層及該包含鈮氧化物之第五透明介電高折射率層之間，且與其等直接接觸。
  13. 如請求項1之鏡體，其中該第一、第二、第三、第四、及第五層係經濺鍍沉積之層。
  14. 如請求項1之鏡體，其中該包含矽氧化物之第二及第四透明介電低折射率層之各者係以鋁摻雜。
  15. 如請求項1之鏡體，其中該包含鈮氧化物之第一、第三、及第五透明介電高折射率層具有約2.15至2.5之折射率。
  16. 如請求項1之鏡體，其中該包含鈮氧化物之第一、第三、及第五透明介電高折射率層具有約2.2至2.4之折射率。
  17. 如請求項1之鏡體，其中該包含矽氧化物之第二及第四透明介電低折射率層具有約1.4至1.7之折射率。
  18. 如請求項1之鏡體，其中該包含矽氧化物之第二及第四透明介電低折射率層具有約1.4至1.6之折射率。
  19. 如請求項1之鏡體，其中該包含矽氧化物之第二及第四透明介電低折射率層各自為：(i)較該包含鈮氧化物之第一透明介電高折射率層薄，且(ii)較該包含鈮氧化物之第三及第五透明介電高折射率層兩者厚。
  20. 如請求項1之鏡體，其中該鏡體具有於385nm下至少約75%之紫外光(UV)穿透率。
  21. 如請求項1之鏡體，其中該鏡體具有於385nm下至少約80%之紫外光(UV)穿透率。
  22. 如請求項1之鏡體，其中該鏡體係經熱回火。
  23. 如請求項1之鏡體，其中該鏡體具有中性玻璃側反射顏色值a*及b*，該玻璃側反射值a*及b*各自為約-2至+2。
  24. 如請求項1之鏡體，其中該鏡體具有中性膜側反射顏色值a*及b*，該膜側反射值a*及b*各自為約-2至+2。
  25. 一種鏡體，包括支撐一塗層之基材，該塗層自距該基材由近到遠依序實質上由下列各層所組成：一具有約70-140nm之厚度及約2.15至2.5之折射率(n)之第一介電層；一包含矽氧化物之第二介電層；一具有約2.15至2.5之折射率之第三介電層；一包含矽氧化物之第四介電層；一具有約2.15至2.5之折射率的第五介電層；其中該第一介電層係較該第三介電層及/或該第五介電層之一或兩者厚至少10nm；其中該塗層不包含任何金屬性反射層；其中該塗層實質上由該等第一、第二、第三、第四及第五層所組成；其中該鏡體具有約50-90%之一可見膜側反射率及約50-90%之一可見玻璃側反射率中之至少一者，且其中該鏡體在500-600nm的所有波長具有約20-40%之可見穿透率。
  26. 如請求項25之鏡體，其中該第一、第三及第五介電層之至少一者包含鈮氧化物。
  27. 如請求項25之鏡體，其中該第一、第三及第五介電層之至少一者包含鈦氧化物。
  28. 如請求項25之鏡體，其中該第一介電層係較該第三及第五介電層兩者厚至少10nm。
  29. 如請求項25之鏡體，其中該包含矽氧化物之第二及第四介電層各自為：(i)較該第一介電層薄，且(ii)較該第三及第五介電層兩者厚。
  30. 如請求項25之鏡體，其中該鏡體具有於385nm下至少約75%之紫外光(UV)穿透率。
  31. 如請求項25之鏡體，其中該鏡體具有中性玻璃側及膜側反射顏色值a*及b*，該玻璃側反射顏色值a*及b*及該膜側反射顏色值a*及b*各自為約-2至+2。
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