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  1. 光学基材直にまたは他の層を介して形成され、所定の波長域の光を透過し、かつ、前記所定の波長域よりも長波長および/または短波長の光を遮断するフィルター層を有する光学物品の製造方法であって、
    前記フィルター層に含まれる第1の層を形成することと、
    前記第1の層、炭素、シリコンおよびゲルマニウムの少なくともいずれかを添加することと、を有する、
    光学物品の製造方法。
  2. 請求項において、さらに
    炭素、シリコンおよびゲルマニウムの少なくともいずれかと化合物を形成する遷移金属を前記第1の層の表面に添加することを含む
    光学物品の製造方法。
  3. 請求項1または請求項2において、
    前記フィルター層は前記第1の層を含む多層膜であり、
    さらに、前記第1の層に重ねて前記多層膜の他の層を形成することを含む、
    光学物品の製造方法。
  4. 光学基材と、
    前記光学基材直にまたは他の層を介して形成され所定の波長域の光を透過し、かつ、前記所定の波長域よりも長波長および/または短波長の光を遮断するフィルター層と、を有し、
    前記フィルター層は、炭素、シリコンおよびゲルマニウムの少なくともいずれか含む第1の層を備えている、
    光学物品。
  5. 請求項において、
    前記第1の層は、炭素、シリコンおよびゲルマニウムの少なくともいずれかと化合物を形成可能な遷移金属を含
    光学物品。
  6. 請求項4または請求項5において、
    前記第1の層は、炭素、シリコンおよびゲルマニウムの少なくともいずれかと遷移金属との化合物を含む、
    光学物品。
  7. 請求項4ないし請求項7のいずれか1項において、
    前記フィルター層は多層膜であり、
    前記第1の層は、前記多層膜を構成する1つの層である、
    光学物品。
  8. 請求項9において、
    前記第1の層は、炭素、シリコンおよびゲルマニウムの少なくともいずれかと化合物を形成可能な遷移金属を含む酸化物層である、光学物品。
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