JP5489604B2 - 光学物品の製造方法 - Google Patents
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Description
1.1 レンズ基材
レンズ基材1は、特に限定されないが、(メタ)アクリル樹脂をはじめとしてスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリル樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂(CR−39)等のアリルカーボネート樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、イソシアネート化合物とジエチレングリコールなどのヒドロキシ化合物との反応で得られたウレタン樹脂、イソシアネート化合物とポリチオール化合物とを反応させたチオウレタン樹脂、分子内に1つ以上のジスルフィド結合を有する(チオ)エポキシ化合物を含有する重合性組成物を硬化して得られる透明樹脂等を例示することができる。レンズ基材1の屈折率は、たとえば、1.64〜1.75程度である。この実施形態においては、屈折率は上記の範囲でも、上記の範囲から上下に離れていてもよい。
ハードコート層2は、耐擦傷性を向上するものである。ハードコート層2に使用される材料として、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、アミノ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、スチレン系樹脂、シリコン系樹脂およびこれらの混合物もしくは共重合体等を挙げることができる。ハードコート層2の一例は、シリコーン系樹脂であり、金属酸化物微粒子、シラン化合物からなるコーティング組成物を塗布し硬化させてハードコート層を形成できる。このコーティング組成物にはコロイダルシリカ、および多官能性エポキシ化合物等の成分が含まれていてもよい。
ハードコート層2の上に形成される反射防止層3の典型的なものは無機系の反射防止層と有機系の反射防止層である。無機系の反射防止層は多層膜で構成され、例えば、屈折率が1.3〜1.6である低屈折率層と、屈折率が1.8〜2.6である高屈折率層とを交互に積層して形成することができる。層数としては、5層あるいは7層程度が好ましい。反射防止層を構成する各層に使用される無機物の例としては、SiO2、SiO、ZrO2、TiO2、TiO、Ti2O3、Ti2O5、Al2O3、TaO2、Ta2O5、NdO2、NbO、Nb2O3、NbO2、Nb2O5、CeO2、MgO、Y2O3、SnO2、MgF2、WO3、HfO2、Y2O3などが挙げられる。これらの無機物は単独で用いるかもしくは2種以上を混合して用いる。
反射防止層3の上に撥水膜、または親水性の防曇膜(防汚層)4を形成することが多い。防汚層4は、光学物品(レンズ)10の表面の撥水撥油性能を向上させる目的で、反射防止層3の上に、フッ素を含有する有機ケイ素化合物からなる層を形成したものである。フッ素を含有する有機ケイ素化合物としては、例えば、特開2005−301208号公報や特開2006−126782号公報に記載されている含フッ素シラン化合物を好適に使用することができる。
2.1 実施例1(サンプルS1)
2.1.1 レンズ基材の選択およびハードコート層の成膜
ハードコート層2を形成するための塗布液(コーティング液)を次のように調製した。エポキシ樹脂−シリカハイブリッド(商品名:コンポセランE102(荒川化学工業(株)製))20重量部に、酸無水物系硬化剤(商品名:硬化剤液(C2)(荒川化学工業(株)製))4.46重量部を混合、攪拌して塗布液(コーティング液)を得た。このコーティング液を所定の厚さになるようにスピンコーターを用いて基材1の上に塗布してハードコート層2を成膜した。
2.1.2.1 蒸着装置
次に、図2に示す蒸着装置100により無機系の反射防止層3を製造(成膜)した。例示した蒸着装置100は電子ビーム蒸着装置であり、真空容器110、排気装置120およびガス供給装置130を備えている。真空容器110は、ハードコート層2までが形成されたレンズサンプル10が載置されるサンプル支持台115と、サンプル支持台115にセットされたレンズサンプル10を加熱するための基材加熱用ヒーター116と、熱電子を発生するフィラメント117とを備えており、電子銃(不図示)により熱電子を加速して蒸発源(るつぼ)112および113にセットされた蒸着材料に熱電子を照射し蒸発させ、レンズサンプル10に材料を蒸着する。
ハードコート層2が形成されたレンズサンプル10をアセトンにて洗浄し、真空容器110の内部にて約70°Cの加熱処理を行い、レンズサンプル10に付着した水分を蒸発させる。次に、レンズサンプル10の表面にイオンクリーニングを実施した。具体的には、イオン銃118を用いて酸素イオンビームを数百eVのエネルギーでレンズサンプル10の表面に照射し、レンズサンプル10の表面に付着した有機物の除去を行った。この方法により、レンズサンプル10の表面に形成する膜の付着力を強固なものとすることができる。なお、酸素イオンの代わりに不活性ガス、例えばAr、キセノン(Xe)、N2を用いて同様の処理を行ってもよいし、酸素ラジカルや酸素プラズマを照射してもよい。
図1に示すように、第1層および第3層が低屈折率層31であり、イオンアシストは行わず、真空蒸着によりSiO2層を成膜した。成膜レートは2.0nm/secとした。
第2層および第4層が高屈折率層32であり、タブレット状のZrO2焼結体材料を電子ビームで加熱蒸発させZrO2層として成膜した。成膜レートは0.8nm/secとした。
レンズサンプル10上に第1層31、第2層32、第3層31および第4層32を成膜した後、図3に示すように、蒸着装置100を用い、シリサイド層(導電層、シリサイド層:TiSi)33を第5層として成膜した。シリサイド層33は、TiOx焼結体材料を電子ビームで加熱蒸発し、TiOxを、イオンアシストを行わず真空蒸着により成膜した(図3(A))。そして、そのTiOxの層に上からSi(金属シリコン)を、アルゴンイオンを用いたイオンアシスト蒸着により打ち込んだ(図3(B))。Si(金属シリコン)原子は、アルゴンイオンを用いたイオンアシスト蒸着により、あらかじめ、蒸着されたTiOx層中でミキシングされて化学反応し、シリサイド層(TiSi)33が形成される(図3(C))。なお、この実施例1において、シリサイド層(TiSi)の厚さは3nmになるよう設定された。なお上記ではTiOxを用いた例で説明したが、TiOxの代わりにTiO2を用いてもよい。
シリサイド層33の上に、第1および第3層と同様の条件で、SiO2層を成膜した。成膜レートは2.0nm/secとし、電子銃の加速電圧は7kV、電流は100mAとした。
反射防止層3を形成した後、酸素プラズマ処理を施し、真空容器110内で、分子量の大きなフッ素含有有機ケイ素化合物を含む「KY−130」(商品名、信越化学工業(株)製)を含有させたペレット材料を蒸着源として、約500°Cで加熱し、KY−130を蒸発させて、防汚層4を成膜した。蒸着時間は、3分間程度とした。酸素プラズマ処理を施こすことにより最終のSiO2層の表面にシラノール基を生成できるので、反射防止層3と防汚層4との化学的密着性(化学結合)を向上できる。蒸着終了後、真空蒸着装置100からレンズサンプル10を取り出し、反転して再び投入し、上記の2.1.2〜2.1.3の工程を同じ手順で繰り返し、反射防止層の成膜、シリサイド層および防汚層の成膜を行った。その後、レンズサンプル10を真空蒸着装置100から取り出した。これにより、レンズ基材1の両面にハードコート層2、シリサイド層を層内に含むタイプA1の反射防止層3、および防汚層4を備えた実施例1のレンズサンプルS1が得られた。
サンプルS2として、上記と同じレンズ基材1を用い、同じ条件でハードコート層2を形成し、その表面にタイプA1の反射防止層3が形成されたサンプルS2を製造した。低屈折率層31および高屈折率層32の成膜方法は、実施例1と同じ条件(2.1.2.2)である。ただし、シリサイド層(第5層)33には、蒸着源としてTiSi化合物を採用し、イオンアシストを用いない真空蒸着によりシリサイド層33を成膜した。ここで、サンプルS2のシリサイド層33の膜厚は1nmに設定された。そして、反射防止層3を形成した後、実施例1と同様に防汚層4を成膜した(2.1.3参照)。
サンプルR1として、実施例1と同じレンズ基材1を用い、同じ条件でハードコート層2が成膜され、さらに、その表面に反射防止層3が形成されたサンプルR1を製造した。低屈折率層31および高屈折率層32は、上記の2.1.2と同じ条件で成膜した。
サンプルR2として、実施例1と同じレンズ基材1を用い、同じ条件でハードコート層2が成膜され、さらに、その表面に反射防止層3が形成されたサンプルR2を製造した。低屈折率層31および高屈折率層32は、上記の2.1.2と同じ条件で成膜した。
造になる。
上記により製造されたサンプルS1、S2、R1およびR2のシート抵抗を測定した。測定結果を図4に纏めて示している。
図5(A)および(B)に、各サンプルのシート抵抗を測定する様子を示している。この例では、測定対象、たとえば、レンズサンプル10の表面10Aにリングプローブ61を接触し、レンズサンプル10の表面10Aのシート抵抗を測定した。測定装置60は、三菱化学(株)製高抵抗抵抗率計ハイレスタUP MCP−HT450型を使用した。使用したリングプローブ61は、URSタイプであり、2つの電極を有し、外側のリング電極61Aは外径18mm、内径10mmであり、内側の円形電極61Bは直径7mmである。それらの電極間に10〜1kVの電圧を印加し、各サンプルのシート抵抗を計測した。
図4に測定結果を示している。反射防止層3にシリサイド層を含めたレンズサンプルS1およびS2のシート抵抗は7×109[Ω/□]および1×1010[Ω/□]であった。反射防止層3にSi(金属シリコン)層を含めたレンズサンプルR1および反射防止層3にITO層を含めたレンズサンプルR2のシート抵抗は9×1012[Ω/□]および2×1012[Ω/□]であった。レンズサンプルS1およびS2のシート抵抗は、レンズサンプルR1およびR2のシート抵抗と比較して、2桁〜3桁(102〜103)程度小さくなる。すなわち、シート抵抗が1/102〜1/103になる。したがって、シリサイド層33を含めることにより反射防止層3のシート抵抗を大幅に低減でき、3nm程度以下、さらには、1nm程度の厚みのシリサイド層33が反射防止層3を含めた光学基材の表面の導電性を向上することに有効であることが分かった。
3.1 参考例3(サンプルS3)
参考例3として、光学基材1としてカバーガラスを用い、その表面に反射防止層3が形成されたサンプルS3を製造した。このカバーガラスのサンプル(ガラスサンプル)S3は、光学基材1として透明な白板ガラス(B270)を採用し、この光学基材1の上に、ハードコート層を成膜せず、直に反射防止層3を成膜した。反射防止層は、6層構造のタイプA1である。すなわち、第1層、第3層および第6層がSiO2層の低屈折率層31、第2層および第4層がZrO2層の高屈折率層32、そして、第5層がシリサイド層33である。SiO2層の低屈折率層31およびZrO2層の高屈折率層32は、実施例1と同じ条件(2.1.2.2)で成膜した。一方、シリサイド層33は、参考例2と同じ条件(2.2)で成膜した。したがって、このガラスサンプルS3は、タイプA1の反射防止層3を備えている。また、反射防止層3の上に防汚層4を形成した。
レンズ基材を用いたレンズサンプルと、カバーガラスを用いたガラスサンプルとについて、実施例1(2.1.2.2)のシリサイド層の成膜条件を変えた幾つかのサンプルS4〜S9を製造した。これらのサンプルは、第5層としてシリサイド層33を備えており、シリサイド層33の成膜条件を除き、レンズサンプルは実施例1と同様に、ガラスサンプルは参考例3と同様に製造した。
シリサイド層33を成膜するために、第4層(ZrO2層)を成膜後、Si(金属シリコン)を、アルゴンイオンを用いてイオンアシスト蒸着して第4層(ZrO2層)の表層をシリサイド化し、シリサイド層(この例では、ZrSi)33を形成した。イオンアシスト蒸着の条件は、イオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は1000eV、電流は150mAであり、イオンアシスト蒸着の時間は10秒である。
シリサイド層33を成膜するために、通常の真空蒸着工程により、第4層(ZrO2層)の表面に厚さ1nm程度に達するTiOx層を作成して下地処理した。その後、Si(金属シリコン)をイオンアシスト蒸着して添加してシリサイド化した。イオンアシスト蒸着の条件は、イオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は500eV、電流は150mA、蒸着時間(イオンアシスト蒸着の時間)を10秒とした。
シリサイド層33を成膜するために、通常の真空蒸着工程により、第4層(ZrO2層)の表面に厚さ1nm程度に達するTiOx層を作成して下地処理した。その後、Si(金属シリコン)をイオンアシスト蒸着して添加してシリサイド化した。イオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴンと酸素の1対1、イオンアシスト電圧は250eV、電流は150mA、蒸着時間を10秒とした。
上述した比較例1および2(レンズサンプルR1およびR2)に加え、上記の実施例により得られたガラスサンプルと比較するために、シリサイド層を有しないガラスサンプルR3を製造した。それ以外は、参考例3と同様にガラスサンプルR3を製造した。すなわち、比較例3により製造されたガラスサンプルR3は、ガラス基材1と、シリサイド層を含まない5層(SiO2層、ZrO2層、SiO2層、ZrO2層およびSiO2層、以降ではタイプA2)の反射防止層3とを含む。また、反射防止層3の上に防汚層4を形成している。
上記により製造されたサンプルS1〜S9およびR1〜R3について、シート抵抗、ごみの付着試験、吸収損失、耐薬品性(剥がれの発生の有無)、耐湿性(むくみの発生の有無)について評価した。それらの評価結果を図8に纏めて示している。
上記の2.5.1に示した測定方法により、各サンプルのシート抵抗を測定した。シート抵抗については、サンプルR3の測定結果が示すように、従来のガラスサンプルではシート抵抗は5×1014[Ω/□]である。これに対し、反射防止層3の1つの層としてシリサイド層を形成したサンプルS1〜S9においては、シート抵抗が2×109[Ω/□]〜8×1011[Ω/□]となり、シート抵抗が従来のサンプルに比較し、3桁〜5桁(103〜105)程度小さくなる。すなわち、シート抵抗が1/103〜1/105になり、導電率が向上している。したがって、シリサイド層を形成することにより大幅にシート抵抗が低下し、導電率が向上することが確認された。また、これらのサンプルS1〜S9は上述した測定方法で測定されたシート抵抗が1×1012[Ω/□]以下であり、良好な帯電防止性を備えている。
プラスチックレンズの表面上で、眼鏡レンズ用拭き布を1kgの垂直荷重にて10往復こすりつけ、このときに発生した静電気によるごみの付着の有無を調べた。ここで、ごみとしては、発泡スチロールを粒子径2〜3mmの大きさに砕いたものを使用した。判断基準は以下の通りである。
○:ゴミの付着が認められなかった。
△:ゴミが数個付着していることが認められた。
×:数多くのゴミが付着していることが認められた。
光の吸収損失を測定した。光の吸収損失は、表面が湾曲していたりすると測定が難しい。このため、上記のサンプルS1〜S9およびR1〜R3のうち、ガラスサンプルS3、S5、S7およびS9について吸収損失を測定し、ガラスサンプルR3の吸収損失と比較した。
吸収率(吸収損失)=100%−透過率−反射率 ・・・・(A)
以下、吸収率は波長550nm付近の吸収率を記している。
各サンプルの表面に傷をつけ、その後、薬液浸漬を行い、反射防止層の剥がれの有無を観察して耐薬品性を評価した。
図9(A)に示す容器(ドラム)71の内壁に図9(B)に示すように評価用のサンプル10を4つ貼り付け、擦傷用として不織布73とオガクズ74を入れる。そして、蓋をした後、図10に示すようにドラム71を30rpmで30分間回転させる。
人の汗を模した薬液(純水に乳酸を50g/L、塩を100g/L溶解した溶液)を用意した。(1)の擦傷工程を経たサンプル10を、50°Cに保持した薬液に100時間浸漬した。
上記の工程を経た各サンプルを従来のサンプルであるサンプルR3を基準に目視により評価した。判断基準は以下の通りである。
○:基準のサンプルと比較し、傷がほとんど見えず、同等の透明性がある。
△:基準のサンプルに対して傷が見え、透明性が劣る。
×:基準のサンプルに対して層の剥離および多数の傷が見え、透明性が著しく低下した。
(1)恒温恒湿度環境試験
各サンプルを恒温恒湿度環境(60°C、98%RH)で8日間放置した。
上記の恒温恒湿度環境試験を経た各サンプルの表面または裏面の表面反射光を観察し、むくみの有無を判断した。具体的には、図11に示すように、サンプル10の凸面10Aにおける蛍光灯75の反射光を観察した。図12(A)に示すように、蛍光灯75の反射光76の像の輪郭がくっきりと明瞭に観察できる場合は「むくみ無し」と判定した。一方、図12(B)に示すように、蛍光灯75の反射光77の像の輪郭がぼやけている、またはかすれて観察できるときは「むくみ有り」と判定した。
以上の各評価より、反射防止層3にシリサイド層を含むサンプルS1〜S9については、シート抵抗が大幅に低下し、その一方で、耐薬品性および耐湿性の劣化はなく、帯電防止などの特性を持ち、さらに、耐久性の良い光学物品であることがわかった。したがって優れた帯電防止性能および電磁波遮断性能を備えた光学物品を提供できることが分かった。
4.1 実施例10(サンプルS10)
4.1.1 サンプルS10の製造
上記の実施例1と同様にレンズ基材1を選択し、ハードコート層2を成膜した(2.1.1参照)。さらに、実施例1と同様の蒸着装置100を用いて以下の反射防止層3を成膜した。実施例10のレンズサンプルS10には、二酸化ケイ素(SiO2)層を低屈折率層31として形成し、酸化チタン(TiO2)層を高屈折率層32として形成した。
図13に示すように、第1層、第3層および第5層が低屈折率層31であり、SiO2をイオンアシストは行わず、真空蒸着によりSiO2層を成膜した。成膜レートは2.0nm/secとし、電子銃の加速電圧は7kV、電流は100mAとした。
第2層、第4層および第6層が高屈折率層32であり、TiO2を酸素ガスを導入しながらイオンアシスト蒸着を行い、TiO2層を成膜した。成膜レートは0.4nm/secとし、電子銃の加速電圧は7kV、電流は360mAとした。
第6層(TiO2層)を成膜後、Si(金属シリコン)を、アルゴンイオンを用いてイオンアシスト蒸着してシリサイド層33を第7層として形成した。イオンアシスト蒸着の条件は、イオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は1000eV、電流は150mAであり、イオンアシスト蒸着の時間は10秒である。電子銃の加速電圧は7kV、電流は400mAとした。
シリサイド層33の上に、第1層、第3層および第5層と同じ条件でSiO2を真空蒸着し低屈折率層31を成膜した。
レンズ以外の光学物品の実施例として、光学基材1としてカバーガラスを用い、その表面に反射防止層3が形成されたガラスサンプルS11を製造した。このガラスサンプルS11では、光学基材1は、透明な白板ガラス(B270)である。この光学基材1の上に、ハードコート層を成膜せず、直に反射防止層3を成膜した。成膜方法は、上記の4.1.1と同じである。さらに、第7層として上記の4.1.1と同様にシリサイド層を形成した。したがって、このサンプルS11は、タイプB1の反射防止層3を備えている。また、反射防止層3の上に、防汚層4を形成した。
レンズサンプルS10と、カバーガラスのサンプル(ガラスサンプル)S11とについて、上記4.1.1のシリサイド層形成のための処理条件を変えた幾つかのサンプルS12〜S17を製造した。レンズサンプルS12およびガラスサンプルS13は、シリサイド層形成時のイオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は1000eV、電流は150mA、イオンアシスト蒸着による蒸着時間を5秒とした。レンズサンプルS14およびガラスサンプルS15は、シリサイド層形成時のイオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴン、イオンアシスト電圧は500eV、電流は150mA、蒸着時間を10秒とした。レンズサンプルS16およびガラスサンプルS17は、シリサイド層形成時のイオンアシスト蒸着の条件をイオン種がアルゴンと酸素の1対1、イオンアシスト電圧は250eV、電流は150mA、蒸着時間を5秒とした。
上記の実施例により得られたレンズサンプルおよびガラスサンプルと比較するために、実施例10および実施例11と同様にレンズサンプルR4およびガラスサンプルR5を製造した。ただし、シリサイド層の形成(4.1.1)は行わなかった。すなわち、比較例4により製造されたレンズサンプルR4は、レンズ基材1と、ハードコート層2と、シリサイド層を含まないタイプB2の反射防止層3と、防汚層4とを含む。比較例5により製造されたガラスサンプルR5は、ガラス基材1と、シリサイド層を含まないタイプB2の反射防止層3とを含む。また、反射防止層3の上に防汚層4を形成している。
上記の実施例により得られたレンズサンプルと比較するために、透明な導電層としてITO(酸化インジウムスズ)層を備えたレンズサンプルR6〜R11を製造した。これらのレンズサンプルR6〜R11は、上記の実施例10と同様にレンズ基材1を選択し、ハードコート層2を成膜した(2.1.1参照)。第1〜第6層および第8層までは、実施例10と同様に、低屈折率層31にSiO2層、高屈折率層32にTiO2層を用いた。ただし、第1〜第6層および第8層の膜厚は、図14に示す。たとえば、比較例6は、28.4、6.7、204.3、23.2、35.7、26.7、99.5nmである。
上記3.4と同様に、サンプルS10〜S17およびR4〜R11について、シート抵抗、ごみの付着試験、吸収損失、耐薬品性(剥がれの発生の有無)、耐湿性(むくみの発生の有無)について評価した。それらの評価結果を図15に纏めて示している。
以上の各評価より、反射防止層3の1つの層として、シリサイド層を形成したサンプルS10〜S17については、シート抵抗が大幅に低下し、その一方で、耐薬品性および耐湿性の劣化はなく、帯電防止などの特性を持ち、さらに、耐久性の良い光学物品であることがわかった。シリサイド層を形成することにより、若干の吸収損失の増加が観測される。しかしながら、帯電防止および電磁波遮断などの他の目的に応じた適切な導電性が得られる程度にシリサイド層を形成することにより、吸収損失の影響は光学物品としてほとんど無視できる程度のものを提供できる。このため、反射防止層3の1つの層として、シリサイド層を形成することにより、良好な透光性と、さらに、優れた帯電防止性能および電磁波遮断性能とを備えた光学物品を提供できる。
5.1 実施例18(サンプルS18)
5.1.1 サンプルS18の製造
図16に示すように有機系反射防止層35を備えたレンズサンプルS18を製造した。まず、上記の実施例1と同様にレンズ基材1を選択し、ハードコート層2を成膜した(2.1.1参照)。このハードコート層2の表面に有機系の層35により反射防止層3を形成した。
化学式 (CH3O)3Si−C2H4−C6F12−C2H4−Si(OCH3)3で表されるフッ素含有シラン化合物47.8重量部(0.08モル)に、有機溶剤としてメタノール312.4重量部、フッ素を含有しないシラン化合物であるγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン4.7重量部(0.02モル)を加え、さらに0.1規定の塩酸水溶液36重量部を加えて混合した。その後、設定温度が25°Cの恒温槽内で2時間攪拌して、固形分比率が10重量%のシリコーンレジンを得た。
有機系反射防止層35を成膜後、有機系反射防止層35上に、イオンアシスト蒸着ではなく、通常の真空蒸着工程により、有機系反射防止層35上に厚さ2nm程度のTiO2層を作る下地処理を行い、Si(金属シリコン)原子をイオンアシスト蒸着により添加した。この処理により有機系の反射防止層35上にシリサイド層36を形成した。イオンアシスト蒸着の条件はイオン種がアルゴンおよび酸素、イオンアシスト電圧は250eV、電流は150mAであり、イオンアシスト蒸着時間は5秒である。
シリサイド層36を形成した後、実施例1と同様に防汚層4を成膜した(2.1.3参照)。このようにして、プラスチック基材1、ハードコート層2、有機系の反射防止層35、シリサイド層36、防汚層4を含むレンズサンプルS18を得た(図16)。
上記3.4と同様に、サンプルS18について、シート抵抗、吸収損失、耐薬品性(剥がれの発生の有無)、耐湿性(むくみの発生の有無)について評価した。シート抵抗は、2×1010[Ω/□]であり、優れた帯電防止性能が得られた。光の吸収損失は、0.6%程度であり、眼鏡レンズとして問題のない値であり、十分な透光性を備えている。また、耐薬品性は○であり、日常的に用いられる環境において、優れた耐薬品性を示した。むくみの発生は観測されず、すぐれた耐湿性を示した。
以上の各評価より、有機系の反射防止層35においても、シリサイド層36を形成することによりシート抵抗を低下できる。その一方で、耐薬品性および耐湿性の劣化はなく、帯電防止などの特性を持ち、さらに、耐久性の良い光学物品であることがわかった。したがって、無機系の層に限らず、有機系の層においても、表面にシリサイド層を形成することにより、優れた帯電防止性能および電磁波遮断性能を備えた光学物品を提供できることがわかった。
図17に、上記のサンプルS1〜S17およびR6〜R11において測定されたシート抵抗を、シリサイド層を形成する際のシリコンの蒸着時間と、ITO層を成膜するための蒸着時間の関数で示している。
Claims (2)
- 光学基材に直にまたは他の層を介して透光性の第1の層を形成することと、
前記第1の層の表面に、シリサイドを含む透光性薄膜を形成することと、
を有し、
前記第1の層は金属酸化物を含み、
前記シリサイドを含む透光性薄膜を形成することは、前記第1の層の表面にシリコンを打ち込むことを含む、
光学物品の製造方法。 - 前記シリコンを打ち込むことは、金属シリコン原子をイオンアシスト蒸着により添加することである請求項1に記載の光学物品の製造方法。
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