JP5622468B2 - レンズの製造方法及びレンズ - Google Patents

Description

本発明は、レンズ及びレンズの製造方法に関するものである。

眼鏡レンズにおいては、典型的には、種々の機能を果たすための基材（光学基材）の表面に、その基材の機能をさらに強化したり保護したりするための種々の機能を備えた層（膜）が形成されている。種々の機能を備えた層（膜）としては、例えば、レンズ基材の耐久性を確保するためのハードコート層、ゴースト及びちらつきを防止するための反射防止層などが公知である。反射防止層の典型的なものは、ハードコート層が積層された基材の表面に異なる屈折率を持つ酸化膜を交互に積層してなる、いわゆる多層反射防止層（多層膜）である。

特許文献１には、低耐熱性基材に好適な帯電防止性能を有する光学素子を提供することが記載されている。プラスチック製の光学基材上に複層構成の反射防止層を備えた眼鏡レンズなどの光学要素において、反射防止層が透明導電層を含み、該透明導電層をイオンアシスト真空蒸着により形成し、他の反射防止層の構成は、電子ビーム真空蒸着などにより形成することが記載されている。導電層としては、インジウム、スズ、亜鉛などのいずれか、又は２種以上の複数を成分とする無機酸化物が挙げられており、特に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide：酸化インジウムと酸化錫との混合物）が望ましいことが記載されている。

特開２００４−３４１０５２号公報

基材の表面に形成される膜或いは層に、帯電防止、電磁遮蔽などを目的として導電性を付与するために、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）層を挿入することが公知である。しかしながら、ＩＴＯ層は、透明性と帯電防止性には優れているものの、酸やアルカリなどの薬品により侵されやすい。人の汗は塩分を含んだ酸であるため、ＩＴＯ層を含む反射防止層は、その耐久性が問題になる可能性がある。

一方、金や銀などの金属の層を薄く形成することで導電性を得ることが可能である。しかしながら、反射防止層、ハードコート層、防汚層などの眼鏡レンズの基材の表面に形成される層は、シリコン（ケイ素）を中心とする化合物或いは酸化物が主成分であることが多く、このような金属の層は、それらとの相性が問題になる。また、例えば金は、一般的に密着性が低く、膜の剥れが発生する虞がある。銀は、酸化により導電性が低下することがある。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。

［適用例１］光学基材の上に、直に又は他の層を介して透光性の第１の層を形成すること、前記第１の層の表面に、少なくともＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）である部分を有する透光性薄膜を物理的蒸着により形成すること、を有し、前記透光性薄膜を物理的蒸着により形成することは、炭素を含む第１の化合物群に含まれる少なくとも１種を含む第１の気体をイオン化し、ＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）に照射することを含むことを特徴とするレンズの製造方法。

これによれば、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）は、電気的に低抵抗な素材であり、酸に対する耐久性も高い。一方、炭素を含む第１の化合物群に含まれる少なくとも１種を含む第１の気体をイオン化する工程を含む物理的蒸着では、物理的蒸着において電子ビームを用いたり、イオンアシストする際に、第１の気体がイオン化されたもの、すなわち、炭素の化合物がイオン化されたものを含めたりすることができる。このため、そのような物理蒸着を用いることにより、第１の層の表面に、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）の薄膜を簡単に形成することができ、第１の層を低抵抗化できる。したがって、帯電防止機能及び／又は電磁波遮断機能などを備えたレンズをいっそう容易に製造できる。

物理的蒸着（ＰＶＤ：Physical Vapor Deposition）は、熱、レーザー光、電子ビームなどによる物理的作用を利用して、固体の薄膜原料を蒸気化して基板に蒸着する蒸着法を一般的に示し、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどを含み、近年では反応性真空蒸着、反応性スパッタリング、及び反応性イオンプレーティングも含む概念である。上記の製造方法においては、例えば、電子ビームを照射するイオンガンへ導入するガスに二酸化炭素などの炭素を含む第１の気体を含めたり、イオンガンへ導入するガスを第１の気体に変更したりすることによりイオン化された第１の気体を用い、第１の層を低抵抗化できる。

Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む薄膜は、薄膜であっても、基材の上に形成された第１の層の表面を十分に低抵抗にすることができる。このため、透光性を良好に確保でき、レンズの表面の抵抗を低減するのに適している。したがって、例えば、レンズに適宜適用される既存の反射防止層の層構造を変えずに、又は、ほとんど変えずに、反射防止層に、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む導電性の薄膜（透光性薄膜）を挿入することができる。
また、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）は、ＩＴＯと比較して、酸やアルカリなどの薬品に対して安定している。したがって、帯電防止機能及び／又は電磁波遮断機能を備えており、しかも、酸やアルカリなどの薬品に対する耐久性が良好なレンズを提供できる。このレンズは、帯電防止と耐久性とが要求される身の回りのレンズ（素子、製品）、例えば、眼鏡のレンズ、カメラのレンズ、情報端末の表示装置、ＤＶＤなどの多種多様な物品に適用できる。

［適用例２］上記レンズの製造方法であって、前記第１の気体をイオン化することは、ＴｉＯ₂膜に対して前記第１の気体をイオン化して照射することにより、前記第１の層の表面に前記透光性薄膜を形成することを含むことを特徴とするレンズの製造方法。

これによれば、第１の層の表面のＴｉＯ₂膜の全部又は一部にＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む透光性薄膜の導電層が形成され、表面の抵抗が小さなレンズを製造できる。

［適用例３］上記レンズの製造方法であって、前記第１の気体をイオン化することは、ＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を蒸着源とし、前記第１の気体をイオンアシストガスとして用い、前記第１の層の表面に前記透光性薄膜を形成することを含むことを特徴とするレンズの製造方法。

これによれば、第１の層の表層（表層部、表層域）に、又は表層として、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む透光性薄膜の導電層が形成され、表面の抵抗が小さなレンズを製造できる。

［適用例４］上記レンズの製造方法であって、前記第１の気体をイオン化することは、Ｔｉを含むターゲットに前記第１の気体をイオン化して照射し、前記第１の層の表面に前記透光性薄膜を形成することを含むことを特徴とするレンズの製造方法。

これによれば、炭素の化合物がイオン化されたものを含むイオンビームを用いてＴｉＯ₂をスパッタリングし、第１の層の表面に（表層として）、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む透光性薄膜の導電膜が形成され、表面の抵抗が小さなレンズを製造できる。

［適用例５］上記レンズの製造方法であって、前記第１の気体は、二酸化炭素であることを特徴とするレンズの製造方法。

これによれば、第１の気体のハンドリングが容易である。

［適用例６］上記レンズの製造方法であって、前記レンズは、多層構造の反射防止層を有するものであり、前記第１の層は、前記多層構造の反射防止層に含まれる１つの層であることを特徴とするレンズの製造方法。

これによれば、多層構造の反射防止層の抵抗値（抵抗率）を低減できる。

［適用例７］上記レンズの製造方法であって、前記透光性薄膜の上に、直に又は他の層を介して防汚層を形成することをさらに有することを特徴とするレンズの製造方法。

これによれば、レンズ表面の撥水撥油性能が向上する。また、防汚層を有するレンズであっても、帯電を防止できる。

［適用例８］光学基材と、前記光学基材の上に、直に又は他の層を介して形成された透光性の第１の層と、前記第１の層の表面に形成された、少なくともＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）である部分を有する透光性薄膜と、を含むことを特徴とするレンズ。

これによれば、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）は、低抵抗な素材であり、酸に対する耐久性も高い。したがって、帯電防止機能及び／又は電磁波遮断機能などを備えたレンズをいっそう容易に提供できる。

［適用例９］光学基材と、前記光学基材の上に、直に又は他の層を介して形成された透光性の導電膜でＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）したときに検出されるＣ１ｓスペクトルに関し、炭素の相異なる結合状態から生ずる波形を結合エネルギーに応じて波形分離することにより得られるピークについて、少なくとも２９０ｅＶにピークトップを有する材料である部分を有する透光性薄膜と、を含むことを特徴とするレンズ。

これによれば、第１の層を低抵抗化できる。したがって、帯電防止機能及び／又は電磁波遮断機能などを備えたレンズをいっそう容易に提供できる。

［適用例１０］上記レンズであって、前記透光性薄膜は、少なくともＴｉＯ_Xである部分をさらに有することを特徴とするレンズ。

これによれば、さらに第１の層を低抵抗化できる。

［適用例１１］上記レンズであって、前記第１の層を含む多層構造の反射防止層を有することを特徴とするレンズ。

これによれば、多層構造の反射防止層の抵抗値（抵抗率）を低減できる。

［適用例１２］上記レンズであって、前記反射防止層の上に、直に又は他の層を介して形成された防汚層をさらに有することを特徴とするレンズ。

これによれば、レンズ表面の撥水撥油性能が向上する。また、防汚層を有するレンズであっても、帯電を防止できる。

［適用例１３］上記レンズであって、前記光学基材は、プラスチックレンズ基材であることを特徴とするレンズ。

これによれば、光学基材が熱又はアークによる損傷のない安定した品質のレンズの提供が可能となる。

本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記のレンズに含まれる眼鏡レンズと、眼鏡レンズが装着されたフレームとを有する眼鏡である。眼鏡レンズの表面の帯電性を抑制できるため、眼鏡レンズの表面にゴミや埃などが付着し難い。また、電磁は遮蔽能力を付与できる。さらに、汗や薬品に強いため、耐久性が良好である。

本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記のレンズ、窓であって、一方の面が外界に面したレンズ、窓を有し、このレンズ、窓を通して画像を透視するためのシステムである。このシステムの典型的なものは、時計、表示装置、及び表示装置を有する端末などの情報処理装置である。表示装置の表面の帯電性を抑制でき、また、電磁波遮蔽能力を高めることができる。

本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記のレンズ、窓と、レンズ、窓を通して画像を投影させるための画像形成装置とを有するシステムである。このシステムの典型的なものは、プロジェクターである。この際、レンズ、窓の典型的なものは、投射用のレンズ、ダイクロイックプリズム、カバーガラスなどである。上記の眼鏡レンズを、画像形成装置の１つであるＬＣＤ（液晶デバイス）などのライトバルブあるいはそれらに含まれる素子に適用してもよい。

本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記のレンズ、窓と、レンズ、窓を通して画像を取得するための撮像装置とを有するシステムである。このシステムの典型的なものは、カメラである。この際、レンズ、窓の典型的なものは、結像用のレンズ、カバーガラスなどである。上記の眼鏡レンズを、撮像装置の１つであるＣＣＤなどに適用してもよい。

本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記のレンズと、レンズを通してアクセスする媒体とを有するシステムである。このシステムの典型的なものは、記録媒体を内蔵し、表面の帯電性が低いことが要望されるＤＶＤなどの情報記録装置、美的表現を発揮する媒体を内蔵した装飾品などである。

本実施形態に係る典型的なレンズの構造を、基材を中心とした一方の面の側より示す断面図。 本実施形態に係るＸＰＳ用サンプルの構成を示す図。 本実施形態に係るＸＰＳサンプルの作製条件を示す表。 本実施形態に係る炭酸ガスプラズマの成分を示すグラフ。 本実施形態に係るＸＰＳのＣ１ｓスペクトルを示すグラフ。 本実施形態に係るＸＰＳのＯ１ｓスペクトルを示すグラフ。 本実施形態に係るＸＰＳのＴｉ２ｐスペクトルを示すグラフ。 本実施形態に係るＣ１ｓスペクトルの波形分離を示すグラフ。 本実施形態に係るＸＰＳの光電子取り出し角度の変化による原子濃度を示す表。 本実施形態に係る反射防止層の構成を示す表。 本実施形態に係る反射防止層の製造に用いる蒸着装置の一例を模式的に示す図。 本実施形態に係る最上（最外）の高屈折率層を第１の層とし、その表面にＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む層の形成を模式的に示す図。 本実施形態に係る実施例と比較例との評価結果を示す図。 本実施形態に係る各サンプルのシート抵抗を測定する様子を示す図。 図１５（Ａ）は、本実施形態に係る耐薬品性試験の擦傷工程に使用される試験装置の外観を示す図、図１５（Ｂ）は、本実施形態に係る試験装置の内部構造を示す図。 本実施形態に係る耐薬品性試験の擦傷工程に使用する試験装置を回転させることを示す図。 本実施形態に係る耐湿性試験におけるむくみを判定する装置の概略を示す図。 図１８（Ａ）は、本実施形態に係るレンズ表面にむくみのない状態を模式的に示す図、図１８（Ｂ）は、本実施形態に係るレンズ表面にむくみのある状態を模式的に示す図。 本実施形態に係るＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む層を形成する模式的に示す図。 図２０は、本実施形態に係るＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む層の形成を模式的に示す図、図２０（Ａ）は、本実施形態に係るチタンターゲットに二酸化炭素ガス及びアルゴンガスをイオン化して照射している様子を示す図、図２０（Ｂ）は、本実施形態に係るＺｒＯ₂層（第６層）の上にＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む層（透光性薄膜）がスパッタにより形成された様子を示す図。 本実施形態に係る眼鏡の一例を示す図。 本実施形態に係るプロジェクターの一例の概要を示す図。 本実施形態に係るデジタルカメラの一例の概要を示す図。 本実施形態に係る記録媒体の一例の概要を示す図。

以下では、レンズとして眼鏡用のレンズを例示して説明する。
図１は、本実施形態に係る典型的なレンズの構造を、基材を中心とした一方の面の側より示す断面図である。レンズ２は、光学基材（レンズ基材）１０と、レンズ基材１０の表面に形成されたハードコート層１２と、ハードコート層１２の上に形成された透光性の反射防止層１４と、反射防止層１４の上に形成された防汚層１６とを含む。なお、防汚層１６は省略可能である。

（１）レンズの概要
（１．１）レンズ基材
レンズ基材１０に使用される材料は、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル樹脂をはじめとして、スチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリル樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ−３９）などのアリルカーボネート樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、イソシアネート化合物とジエチレングリコールなどのヒドロキシ化合物との反応で得られるウレタン樹脂、イソシアネート化合物とポリチオール化合物との反応で得られるチオウレタン樹脂、分子内に１つ以上のジスルフィド結合を有する（チオ）エポキシ化合物を含有する重合性組成物を硬化して得られる透明樹脂などを挙げることができる。レンズ基材１０の屈折率は、例えば、１．６４〜１．７５程度である。レンズ基材１０の屈折率は、上記の範囲でも、上記の範囲から上下に離れていてもよい。

（１．２）ハードコート層（プライマー層）
ハードコート層１２は、耐擦傷性を向上（付与）するものである。ハードコート層１２に使用される材料は、例えば、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、アミノ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、スチレン系樹脂、シリコン系樹脂、及びこれらの混合物若しくは共重合体などを挙げることができる。

ハードコート層１２の一例は、シリコン系樹脂である。このようなハードコート層１２は例えば、シリコン系樹脂などの樹脂成分、金属酸化物微粒子、及びシラン化合物を含むコーティング組成物を用意し、このコーティング組成物をレンズ基材１０に塗布し硬化させることにより形成することができる。このコーティング組成物には、コロイダルシリカや多官能性エポキシ化合物などの成分が含まれていてもよい。

ハードコート層１２を形成するためのコーティング組成物（ハードコート層形成用のコーティング組成物）に用いる金属酸化物微粒子の具体例は、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅、ＣｅＯ₂、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＷＯ₃、ＺｒＯ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂などの金属酸化物からなる微粒子、又は２種以上の金属の金属酸化物からなる複合微粒子である。これらの微粒子は、例えば、分散媒（例えば、水、アルコール系若しくはその他の有機溶媒）にコロイド状に分散させ、これをコーティング組成物に混合する。

レンズ基材１０とハードコート層１２との密着性を確保するために、レンズ基材１０とハードコート層１２との間にプライマー層を設けてもよい。プライマー層は、高屈折率レンズ基材の欠点である耐衝撃性を改善するためにも有効である。プライマー層に使用される材料としては、例えば、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、アミノ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、スチレン系樹脂、シリコン系樹脂、及びこれらの混合物若しくは共重合体などを挙げることができる。密着性を持たせるためのプライマー層としては、ウレタン系樹脂及びポリエステル系樹脂が好ましい。

ハードコート層１２及びプライマー層の製造方法の典型的なものは、ディッピング法、スピナー法、スプレー法、フロー法によりコーティング組成物を塗布し、その後、４０〜２００℃の温度で数時間加熱乾燥する方法である。

（１．３）反射防止層
ハードコート層１２の上に形成される反射防止層１４の典型的なものは、無機系の反射防止層である。無機系の反射防止層１４は、典型的には多層膜で構成され、例えば、屈折率が１．３〜１．６である低屈折率層１８と、屈折率１．８〜２．６である高屈折率層２０とを交互に積層して形成することができる。層数の一例は、５層（典型的には、低屈折率層１８が３層、高屈折率層２０が２層）あるいは７層（典型的には、低屈折率層１８が４層、高屈折率層２０が３層）である。以下の実施例においては、反射防止層１４に透光性薄膜２２を加える。透光性薄膜２２は反射防止層１４の基本的な光学的性質に影響を与えるものではない。したがって、以下において透光性薄膜２２を含む５層及び７層の反射防止層１４を全体として６層あるいは８層と表現する場合もあるが、光学的な反射防止層１４の構成は５層及び７層である。

反射防止層１４を構成する各層に使用される無機物の例としては、ＳｉＯ₂、ＳｉＯ、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、ＴｉＯ、Ｔｉ₂Ｏ₃、Ｔｉ₂Ｏ₅、Ａｌ₂Ｏ₃、ＴａＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、ＮｄＯ₂、ＮｂＯ、Ｎｂ₂Ｏ₃、ＮｂＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、ＣｅＯ₂、ＭｇＯ、Ｙ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、ＭｇＦ₂、ＷＯ₃、ＨｆＯ₂、Ｙ₂Ｏ₃などを挙げることができる。これらの無機物は、単独で用いるか、若しくは２種以上を混合して用いる。

反射防止層１４を形成する典型的な方法は、乾式法、すなわち物理的蒸着法であり、例えば、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法などが挙げられる。真空蒸着法においては、蒸着中にイオンビームを同時に照射するイオンビームアシスト法を用いてもよい。

（１．４）防汚層
反射防止層１４の上に撥水膜、又は親水性の防曇膜（防汚層）１６を形成することが多い。防汚層１６は、眼鏡レンズ２の表面の撥水撥油性能を向上させる目的で、反射防止層１４の上に形成されるものであり、典型的なものとして、フッ素を含有する有機ケイ素化合物からなる層を挙げることができる。フッ素を含有する有機ケイ素化合物（含フッ素シラン化合物）としては、例えば、含フッ素シラン化合物を好適に使用することができる。

含フッ素シラン化合物は、有機溶剤に溶解し、所定濃度に調整した撥水処理液（防汚層形成用のコーティング組成物）として用いることが好ましい。防汚層１６は、この撥水処理液を反射防止層１４上に塗布することにより形成することができる。塗布方法としては、ディッピング法、スピンコート法などを用いることができる。なお、撥水処理液を金属ペレットに充填した後、真空蒸着法などの乾式法を用いて、防汚層１６を形成することも可能である。

防汚層１６の膜厚は、特に限定されないが、０．００１〜０．５μｍが好ましい。より好ましくは０．００１〜０．０３μｍである。防汚層１６の膜厚が薄すぎると撥水撥油効果が乏しくなり、厚すぎると表面がべたつくので好ましくない。また、防汚層１６の厚さが０．０３μｍより厚くなると反射防止効果が低下する可能性がある。

本実施形態に係る眼鏡レンズ２は、導電層である透光性薄膜２２を反射防止層１４中に作製することで実施可能である。特に眼鏡レンズ２には、酸やアルカリに対する耐久性、透明度が求められていて、これらを満足する帯電防止材料とその実現方法（プロセス）が必要である。まず、反射防止層１４中にＴｉＯ₂を数ｎｍから数十ｎｍ堆積し、その表面に炭酸ガスイオンビームを照射することで導電性を得ることができる。具体的には、炭酸ガス（ＣＯ₂）をプラズマ化し数百ｅＶのエネルギーを与え、６０秒程度イオンビームを照射する。

本実施形態において、イオン化した炭酸ガス（ＣＯ、Ｏ、ＣＯ₂、Ｃを含む）を照射することにより、ＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）の表層域では、以下の化学反応が起こる。
ＴｉＯ₂ ＋ ＣＯ⁺ → Ｔｉ−ＣＯ₃ ・・・・（１）
ＴｉＯ₂ ＋ ＣＯ⁺ → ＴｉＯ_X（０＜Ｘ＜２） ＋ ＣＯ₂ ・・・・（２）
これらの化学反応にて、ＴｉＯ₂膜の表面には、ＴｉＯ（ＴｉＯ_X）とＴｉ−ＣＯ₃とが混在した状態になっていると推測できる。
ここで、ＴｉＯ_Xは、酸素原子が分離あるいは離脱し、金属原子と酸素原子との化学量論比が所定の化合物としての比から外れた組成（非化学量論な組成）である。ＴｉＯ₂中にＴｉＯ_Xが存在すると、酸素欠損（欠陥）や格子欠陥が多数形成されている。
これらの欠損がキャリアとなって導電性が発現する（シート抵抗が低下する）と考えられる。
また、Ｔｉ−ＣＯ₃は炭酸金属である。Ｔｉ−ＣＯ₃が存在していると格子歪が発生しているために、局在準位が形成されたり、ＴｉＯ_Xの酸素欠損の再結合が抑制されることも予想できる。このため、時間とともに導電性が低下するといったことがないか、あるいは少ない。

また、本実施形態では表面反応のみを用いているので、薄い領域（数ｎｍ）だけを導電処理している。そのため本来透明性を損なう材料であるＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）、ＴｉＯ_Xでも薄くすることが可能となり光吸収が殆どなく、電気抵抗（シート抵抗）を下げることができる。したがって眼鏡レンズ２としての透明性を確保できる。また、これら材料は酸やアルカリに対しての耐食性にも優れ、眼鏡レンズ２としての耐久性も向上する。

（２）Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）用サンプルの製造
図２は、本実施形態に係るＸＰＳ用サンプルの構成を示す図である。図３は、本実施形態に係るＸＰＳサンプルの作製条件を示す図である。図４は、本実施形態に係る炭酸ガスプラズマの成分を示すグラフである。図５は、本実施形態に係るＸＰＳのＣ１ｓスペクトルを示すグラフである。図６は、本実施形態に係るＸＰＳのＯ１ｓスペクトルを示すグラフである。図７は、本実施形態に係るＸＰＳのＴｉ２ｐスペクトルを示すグラフである。図８は、本実施形態に係るＣ１ｓスペクトルの波形分離を示すグラフである。先に、式（１）及び（２）を導き出した実験に関して記載する。先ず、図２に示すように、Ｓｉウエハー４上にＴｉＯ₂層６を８ｎｍ堆積する。なお、条件の詳細は図３に示す。その後、炭酸ガスでイオンビームを生成し表面６ａに照射する。炭酸ガスでプラズマを生成したときのガスの成分を四重極質量分析計（Ｑ−ＭＡＳ）で計測したものを図４に示す。ＣＯ₂の大部分は、ＣＯ⁺、Ｏ⁺となり（ＣＯ₂ ⁺ではなく）、これらのイオンビームを照射していることになる。

このイオンビームを６０秒間ＴｉＯ₂層６の表面６ａに照射し、ＸＰＳで元素濃度分析、化学結合状態を調査した。比較のために導電処理（イオンビーム照射）なしのサンプルのスペクトルも一緒に図５に表記した。イオンビーム照射したサンプルからＣ１ｓスペクトルにおいて新たに２９０ｅＶ付近に結合エネルギーのピーク（炭酸イオン照射により形成された化合物に起因するピーク）を観測することができた（図５の矢印ａ参照）。また、Ｏ１ｓスペクトルでは５３２ｅＶ付近にケミカルシフトを観測することができた（図６の矢印ｂ参照）。更に、Ｔｉ２ｐスペクトルでは僅かであるが、ＴｉＯ_Xの存在も確認できた（図７の矢印ｃ参照）。図８に示すように、ＣＯ₃、ＣＯＯ、Ｃ＝Ｏ、ＣＯ、Ｃ−Ｃ、Ｃ−Ｈとして波形分離することで、イオンビームの照射によりＣＯ₃、ＣＯＯｏｒＣ＝Ｏが形成されたことがわかる。（ＣＯ、Ｃ−Ｃ、Ｃ−Ｈはサンプルの表面汚染（サンプル作製からＸＰＳ分析の間の汚染）に由来している）これらの結果から、上記式（１）及び（２）が推測できる。

ＸＰＳの測定方法は、ＵＬＶＡＣ ＰＨＩ Ｑｕａｎｔｕｍ２０００を用いＡｌ−Ｋα線（１４８６．６ｅＶ）をＸ線源として使用した。計測は、サンプルを真空蒸着で作製後、一度大気に出してからＸＰＳの装置に投入した。ＸＰＳ計測前には表面クリーニングを実施せずに行った。ＯとＴｉとＣとの元素比はＡｌ−Ｋα線を用いたＣ１ｓとＴｉ２ｐとＯ１ｓのピーク面積より感度係数で補正して算出する。用いた感度係数はＦ１ｓが１のとき、１ｓは０．７１１、Ｃ１ｓは０．２９６、Ｔｉ２ｐは１．７９８である。さらにＣ１ｓピークのデコンボリュージョンは以下のように行った。測定したＣ１ｓナロースペクトルに対して、Ｓｈｉｒｌｅｙ法によりバックグランドを差し引いた後、ＣＯ₃（２８９．８ｅＶ）、Ｃ＝Ｏ ｏｒ ＣＯＯ（２８８．６ｅＶ）、ＣＯ（２８６．４ｅＶ）、Ｃ−Ｃ ｏｒ Ｃ−Ｈ（２８４．８ｅＶ）の成分が存在すると仮定しガウシアン−ローレンツィアンの混合関数、あるいはガウシアン関数を用いて４つのピークの合成でカーブフィッティングした。

図９は、本実施形態に係るＸＰＳの光電子取り出し角度の変化による原子濃度を示す表である。図９（Ａ）に示すように、ＸＰＳ計測は光電子取り出し角度θを２０度、４５度、７５度で行い、それぞれの角度でカーブフィットと定量分析を実施した。ＣＯ（２８６．４ｅＶ）、Ｃ−Ｃ ｏｒ Ｃ−Ｈ（２８４．８ｅＶ）の成分は図５のレファレンスサンプル（ＴｉＯ₂）にも存在するので、本実施形態による表面処理によって生じたものでなく、サンプルを大気中に出したことによる表面汚染によるものであるので定量を行う際にはこれら成分を除いて行っている。結果は、図９（Ｂ）に示すように、ＣＯ₃に起因する成分は約４％（原子数濃度）であった。なお、表面の電気抵抗及び電気抵抗の劣化性は、Ｓｉウエハー上では計測できないため、同一ロッドでガラス基板上に形成したサンプルで評価した。

（３）第１の方法によるＳｉＯ₂−ＺｒＯ₂系の反射防止層を備えたサンプルの製造
図１０は、本実施形態に係る反射防止層の構成を示す表である。本実施形態に係る眼鏡レンズ２は、図１０に示すように、上記サンプルの製造工程を眼鏡レンズ２の反射防止層１４に適応した。

低屈折率層１８としてのＳｉＯ₂層、高屈折率層２０としてのＺｒＯ₂層を採用した反射防止層１４を備えたサンプルを製造した。さらに、以下に詳述するが、最上（最外）の高屈折率層２０を第１の層として、その表面にさらにＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を遷移金属酸化物薄膜として積層（形成）し、ＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）の薄膜に対し、炭酸ガス（二酸化炭素の気体）を第１の気体として使用し、その炭酸ガスをイオン化して照射することにより、最上（最外）の高屈折率層２０の表面に透光性薄膜２２を形成している。

また、以降では、各々の実施例のサンプルはサンプルＳ１、サンプルＳ２と呼び、各実施例に共通してサンプルを指す場合にはレンズサンプル２と呼ぶことにする。

（３．１）実施例１（サンプルＳ１）
（３．１．１）レンズ基材の選択及びハードコート層の成膜
レンズ基材１０としては、屈折率１．６７の眼鏡用のプラスチックレンズ基材（商品名：セイコースーパーソブリン（ＳＳＶ）（セイコーエプソン（株）製））を用いた。

ハードコート層１２を形成するための塗布液（コーティング液、コーティング組成物）を次のように調整した。エポキシ樹脂−シリカハイブリッド（商品名：コンポセランＥ１０２（荒川化学工業（株）製））２０重量部に、酸無水物系硬化剤（商品名：硬化剤液（Ｃ２）（荒川化学工業（株）製））４．４６重量部を混合、攪拌して塗布液（コーティング液）を得た。

このコーティング液を所定の厚さになるようにスピンコートを用いてレンズ基材１０の上に塗布した。コーティング液塗布後のレンズ基材を１２５℃で２時間焼成し、レンズ基材１０の上にハードコート層１２を成膜した。

（３．１．２）反射防止層の成膜
（３．１．２．１）蒸着装置
図１１は、本実施形態に係る反射防止層の製造に用いる蒸着装置の一例を模式的に示す図である。図１１に示す蒸着装置１００により、ハードコート層１２の上に無機系の反射防止層１４を製造（成膜）した。

図１１に例示した蒸着装置１００は電子ビーム蒸着装置であり、真空容器１０２、排気装置１０４、及びガス供給装置１０６を備えている。真空容器１０２は、ハードコート層１２までが形成されたレンズサンプル２が載置されるサンプル支持台１０８にセットされたレンズサンプル２を加熱するための基材加熱用ヒーター１１０と、熱電子を発生するフィラメント１１２とを備えている。

この蒸着装置１００では、電子銃（不図示）により熱電子を加速し、蒸発源（るつぼ）１１４，１１６にセットされた蒸着材料に熱電子を照射し、これを蒸発させ、レンズサンプル２に材料を蒸着する。

さらに、この蒸着装置１００は、容器１０２の内部に導入したガスをイオン化して加速し、レンズサンプル２に照射するためのイオン銃１１８を備えている。このような構成を有しているため、この蒸着装置１００は、イオンビームを形成したり、イオンアシスト蒸着を行ったりできる。

また、真空容器１０２には、残留した水分を除去するためのコールドトラップや、層厚を管理するための装置などをさらに設けることができる。層厚を管理する装置としては、例えば、反射型の光学膜厚計や水晶振動子膜厚計などがある。

真空容器１０２の内部は、排気装置１０４に含まれるターボ分子ポンプ又はクライオポンプ１２０と、圧力調整バルブ１２２とにより、高真空、例えば１×１０^-4Ｐａに保持することができる。一方、真空容器１０２の内部は、ガス供給装置１０６により所定のガス雰囲気とすることも可能である。ガス供給装置１０６は、ガス容器１２４、流量制御装置１２６、圧力計１２８などを含む。例えば、ガス容器１２４には、二酸化炭素ガス（ＣＯ₂）などの第１の気体（炭素、ケイ素、ゲルマニウムのいずれかを含む第１の化合物群に含まれる気体（単体又は混合ガス））、アルゴンガス（Ａｒ）、窒素ガス（Ｎ₂）、酸素ガス（Ｏ₂）などが用意される。ガスの流量は流量制御装置１２６により制御でき、真空容器１０２の内圧は圧力計１２８により制御できる。

基材加熱用ヒーター１１０は、例えば赤外線ランプであり、レンズサンプル２を加熱することによりガス出しあるいは水分飛ばしを行い、レンズサンプル２の表面に形成される層の密着性を確保する。

したがって、この蒸着装置１００における主な蒸着条件は、蒸着材料、電子銃の加速電圧及び電流値、イオンアシストの有無である。イオンアシストを利用する場合の条件は、イオンの種類（真空容器１０２の雰囲気）と、イオン銃１１８の電圧値及び電流値とにより与えられる。以下において特に記載しないかぎり、電子銃の加速電圧は、５〜１０ｋＶの範囲、電流値は５０〜５００ｍＡの範囲の中で、成膜レートなどをもとに選択される。また、イオンビームを形成したり、イオンアシストを利用したりする場合は、イオン銃１１８が電圧値２００Ｖ〜１ｋＶの範囲、電流値が１００〜５００ｍＡの範囲で、成膜レートなどをもとに選択される。

（３．１．２．２）低屈折率層、高屈折率層、及びＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む層（透光性薄膜）の成膜
ハードコート層１２が形成されたレンズサンプル２をアセトンにて洗浄し、真空容器１０２の内部にて約７０℃の加熱処理を行い、レンズサンプル２に付着した水分を蒸発させた。次に、レンズサンプル２の表面にイオンクリーニングを実施した。具体的には、イオン銃１１８を用いて酸素イオンビームを数百ｅＶのエネルギーでレンズサンプル２の表面に照射し、レンズサンプル２の表面に付着した有機物の除去を行った。この方法により、レンズサンプル２の表面に形成する層（膜、後述する第１層１８）の付着力を強固なものとすることができる。なお、酸素イオンの代わりに不活性ガス、例えば、アルゴン（Ａｒ）、キセノン（Ｘｅ）や、窒素（Ｎ_２）を用いて同様の処理を行ってもよいし、酸素ラジカルや酸素プラズマを照射してもよい。

真空容器１０２の内部を十分に真空排気した後、電子ビーム真空蒸着法により、低屈折率層１８及び高屈折率層２０を交互に積層して、以下のような多層構造の無機系の反射防止層１４を製造した。

（低屈折率層）
第１層及び第３層は低屈折率層１８であり、イオンアシストは行わず、真空蒸着によりＳｉＯ₂層を成膜した。成膜レートは２．０ｎｍ／ｓｅｃとし、材料加熱用の電子銃の加速電圧は７ｋＶ、電流は１００ｍＡとした。

（高屈折率層）
第２層及び第４層は高屈折率層２０であり、タブレット状のＺｒＯ₂焼結体材料を電子ビームで加熱蒸着させＺｒＯ₂層を成膜した。成膜レートは０．８ｎｍ／ｓｅｃとした。材料加熱用の電子銃の加速電圧は７ｋＶ、電流は２００ｍＡとした。

（Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む層（透光性薄膜））
図１２（Ａ）〜（Ｃ）は、本実施形態に係る最上（最外）の高屈折率層２０を第１の層とし、その表面にＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む層２２の形成を模式的に示す図である。図１２（Ａ）〜（Ｃ）は、蒸着装置１００においてＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む層（透光性薄膜）２２を形成する様子を示しており、高屈折率層２０と透光性薄膜２２との上下関係は図１に示したレンズサンプル２とは逆転して示されている。したがって、これらの図は、レンズサンプル２上に、第１層１８、第２層２０、第３層１８、第４層２０を成膜した後、蒸着装置１００を用い、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む層、本実施例では、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む層２２を第５層（導電層）として成膜する様子を示している。すなわち、本実施例では、第４層２０が第１の層、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む層（第５層）２２が透光性薄膜（導電層）である。以下、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む層を単にＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層と記載する。

Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２は、以下のようにして成膜した。先ず、ＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）材料を電子ビームで加熱蒸発させ、イオンアシスト蒸着にて形成した。このときの蒸着条件は図３に記載の通りである。これにより、第４層２０の上にＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２ａは、厚さが８ｎｍとなるように成膜した。

その後、イオンガンに二酸化炭素ガスを２０ｓｃｃｍ導入し、プラズマ化し、イオンエネルギー８００ｅＶ、イオン電流２００ｍＡに設定した。これにより、図１２（Ｂ）に示すように、二酸化炭素ガスからＣＯ₂ ⁺、ＣＯ⁺、Ｃ⁺などを含む炭酸ガスイオンビームを生成し、成膜したＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２ａに照射した。炭酸ガスイオンビームの照射時間は１２０秒とした。

炭酸ガスイオンビームは、二酸化炭素を原料として生成したイオンビームであり、二酸化炭素イオンの他、分解生成物である一酸化炭素イオン、炭素イオン、酸素イオンなどが含まれていてもよい。また、炭酸ガスイオンビームには、一価のイオンの他、二価や三価の多価イオンも含まれてもよい。炭酸ガスイオンビームをＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２ａに照射することにより、高屈折率層２０の表層を形成しているＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２ａ中で炭素（Ｃ）がミキシングされて化学反応し、典型的には、ＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）の一部がＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）となる。これにより、図１２（Ｃ）に示すように、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む層２２が形成される。

なお、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）は、ＴｉＯ_X層２２ａの全部又は一部（典型的には表面）の領域に形成されて、導電層として機能する透光性薄膜２２を形成する。また、ＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２ａ中に導入された炭素（Ｃ）は、全てがＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）の生成に寄与するとは限られないが、正孔又は電子を生成することにより電荷のキャリアを増やし透光性薄膜２２の導電率を高めることに寄与する可能性がある。

ＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２ａのうちのどの程度の領域（厚さ、深さ）まで炭素（Ｃ）が導入されるか（典型的にはＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）が形成されるか）は、炭酸ガスイオンビームの照射時間、イオンエネルギー（電圧）、及びイオン電流によって決まる。本例の条件では、８ｎｍのＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２ａのほとんどの領域にＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）が形成され、導電性の透光性薄膜２２が形成されると考えられる。第４層（ＺｒＯ₂層）２０の表面に積層されたＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２ａは光学的には第４層（ＺｒＯ₂層）２０とともに高屈折率層として機能する。したがって、このサンプルＳ１の製造方法は、最上又は最外の高屈折率層２０を形成するＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２ａの表面に炭酸ガスイオンビームを照射することにより高屈折率層２０の表面（表層）２２を低抵抗化することを含む製造方法である。

（低屈折率層）
Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２の上に、第６層として、第１及び第３層と同様の条件で、ＳｉＯ₂層（低屈折率層１８）を成膜した。成膜レートは２．０ｎｍ／ｓｅｃとし、電子銃の加速電圧は７ｋＶ、電流は１００ｍＡとした。

これらの工程において、反射防止層１４の光学的性能を主に決める第１〜第４層及び第６層の層厚は、それぞれ、２９ｎｍ、４０ｎｍ、１６ｎｍ、６０ｎｍ、９１ｎｍに管理した。この層構造、すなわち、第１層、第３層、及び第６層がＳｉＯ₂層の低屈折率層１８、第２層及び第４層がＺｒＯ₂層の高屈折率層２０、そして、最外の高屈折率層２０の表面（外側）に第５層としてＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を形成した。

（３．１．３）防汚層の成膜
反射防止層１４までが形成されたレンズサンプル２に酸素プラズマ処理を施し、その後、分子量の大きなフッ素含有有機ケイ素化合物を含む「ＫＹ−１３０」（商品名、信越化学工業（株）製）を含有させたペレット材料を蒸着源として防汚層１６を成膜した。より具体的には、真空容器１０２内において、ＫＹ−１３０を約５００℃で加熱して蒸発させて、反射防止層１４の上に防汚層１６を成膜した。蒸着時間は３分間程度とした。反射防止層１４までが形成されたレンズサンプル２に酸素プラズマ処理を施こすことにより、最終のＳｉＯ₂層（第６層）１８の表面にシラノール基を生成することができる。このため、酸素プラズマ処理の後に防汚層１６を形成することにより、反射防止層１４と防汚層１６との化学的密着性（化学結合）を高めることができる。

蒸着終了後、蒸着装置１００からレンズサンプル２を取り出し、反転して再び投入し、上記の３．１．２〜３．１．３の工程を同じ手順で繰り返して、反射防止層１４の成膜（Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２の形成を含む）及び防汚層１６の成膜を行った。その後、レンズサンプル２を蒸着装置１００から取り出した。これにより、レンズ基材１０の両面に、ハードコート層１２、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を層内（第５層）に含む反射防止層１４、及び防汚層１６を備えた実施例１のサンプルＳ１が得られた。

（３．２）実施例２（サンプルＳ２）
ＴｉＯ₂の膜厚を１０ｎｍとし、それ以外の条件を実施例１と同じとしてサンプルを作製した。

（３．３）実施例３（サンプルＳ３）
ＴｉＯ₂の膜厚を１２ｎｍとし、それ以外の条件を実施例１と同じとしてサンプルを作製した。

（３．４）実施例４（サンプルＳ４）
ＴｉＯ₂の膜厚を１５ｎｍとし、それ以外の条件を実施例１と同じとしてサンプルを作製した。

（３．５）実施例５（サンプルＳ５）
ＴｉＯ₂の膜厚を８ｎｍ、イオンビームの照射時間を６０秒として、それ以外の条件を実施例１と同じとしてサンプルを作製した。

（３．６）実施例６（サンプルＳ６）
ＴｉＯ₂の膜厚を８ｎｍ、イオンビームの照射時間を９０秒として、それ以外の条件を実施例１と同じとしてサンプルを作製した。

（３．８）比較例１（サンプルＲ１）
本比較例では、実施例１と同じレンズ基材１０を用い、同じ条件（３．１．１）でハードコート層１２を形成し、さらに、その上に反射防止層１４と防汚層１６とを形成し、サンプルＲ１を製造した。

低屈折率層１８及び高屈折率層２０の成膜方法は、実施例１と同じ条件（３．１．２．２）で行った。

Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層は成膜しなかった。先ず、ＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）材料を電子ビームで加熱蒸発させ、イオンアシスト蒸着にて形成した。このときの蒸着条件は図３に記載の通りである。これにより、第４層２０の上にＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２ａは、厚さが８ｎｍとなるように成膜した。

その後、導電処理は行わなかった。他の条件及び成膜方法は実施例１と同じである（３．１．２．２参照）。そして、反射防止層１４を形成した後、実施例１と同様に防汚層１６を成膜した（３．１．３参照）。

（３．９）比較例２（サンプルＲ２）
サンプルＲ２として、実施例１と同じレンズ基材を用い、同じ条件（３．１．１）でハードコート層を形成し、さらに、その表面に反射防止層を形成し、サンプルＲ２を製造した。低屈折率層及び高屈折率層は、上記の３．１．２．２と同じ条件で成膜した。

ただし、第５層（導電層）としては、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）をイオンアシスト真空蒸着により８ｎｍだけ成膜した。すなわち、第４層（ＺｒＯ₂層）を成膜後、ＩＴＯをイオンアシスト真空蒸着により８ｎｍ成膜し、第５層（導電層）としてＩＴＯ層を形成した。ＩＴＯ層の成膜の際は、材料にＩＴＯの焼結材を用い、電子銃の加速電圧を７ｋＶ、電流値を５０ｍＡとした。また、ＩＴＯ膜の酸化を促進させるために、真空容器内に１５ｓｃｃｍの酸素ガスを導入し、酸素雰囲気とした。イオン銃へは３５ｓｃｃｍで酸素ガスを導入し、プラズマ化し、イオンエネルギー５００ｅＶ、イオン電流値を２５０ｍＡとして、サンプルに酸素イオンビームを照射した。そして、その上に第６層として、ＳｉＯ₂層を形成した。したがって、反射防止層１４は、ＩＴＯ層を含む６層構造になる。

反射防止層を形成した後、実施例１と同様に防汚層を成膜した（３．１．３参照）。したがって、本比較例により製造されたサンプルＲ２は、プラスチックレンズ基材と、ハードコート層と、第５層（導電層）にＩＴＯ層を含む反射防止層と、防汚層とを含む。

（３．１０）サンプルの評価
なお、二酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）からなる低屈折率層は波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎは１．４６２である。また、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）からなる高屈折率層波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎは２．０５、ＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎは２．３〜２．４である。ＩＴＯ層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎは２．１である。

上記により製造されたサンプルＳ１（実施例１）〜Ｓ６（実施例６）、Ｒ１（比較例１）、Ｒ２（比較例２）について、それぞれ、シート抵抗及び吸収損失を測定した。さらに、耐薬品性（剥がれの発生の有無）、耐湿性（むくみの発生の有無）をそれぞれ試験し、これらを評価した。
図１３は、本実施形態に係る実施例と比較例との評価結果を示す図である。

最初に、上記測定方法、試験方法、及び評価方法について説明する。

（３．１０．１）測定、試験、及び評価方法
（３．１０．１．１）シート抵抗
図１４（Ａ）及び（Ｂ）は、本実施形態に係る各サンプルのシート抵抗を測定する様子を示す図である。この例では、測定対象、例えば、レンズサンプル２の表面２ａにリングプローブ２４を接触させ、レンズサンプル２の表面２ａのシート抵抗を測定した。測定装置２６は、三菱化学（株）製高抵抗抵抗率計ハイレスタＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０型を使用した。使用したリングプローブ２４は、ＵＲＳタイプであり、２つの電極を有し、外側のリング電極２４ａは、外径１８ｍｍ、内径１０ｍｍであり、内側の円形電極２４ｂは、直径７ｍｍである。それらの電極間に１０〜１ｋＶの電圧を印加し、各サンプルのシート抵抗を計測した。

（３．１０．１．２）吸収損失
光の吸収損失は、表面が湾曲していたりすると測定が難しい。このため、上記のサンプルＳ１〜Ｓ６と同一ロッドで平面のガラス基板上に形成したサンプルで評価した。

光の吸収損失の測定には、日立製分光光度計Ｕ−４１００を使用した。分光光度計を用いて反射率と透過率を測定し、式（３）にて吸収率を算出した。
吸収率（吸収損失）＝１００％−透過率−反射率 ・・・・（３）
以下、吸収率は波長４００ｎｍから７００ｎｍの平均吸収率として記している。

（３．１０．１．３）耐薬品性
各サンプルの表面に傷をつけ、その後、薬液浸漬を行い、反射防止層の剥がれの有無を観察して耐薬品性を評価した。

（擦傷工程）
図１５（Ａ）は、本実施形態に係る耐薬品性試験の擦傷工程に使用される試験装置の外観を示す図である。図１５（Ｂ）は、本実施形態に係る試験装置の内部構造を示す図である。図１６は、本実施形態に係る耐薬品性試験の擦傷工程に使用する試験装置を回転させることを示す図である。

図１５（Ａ）に示す容器（ドラム）２８の内壁に、図１５（Ｂ）に示すように評価用のレンズサンプル２を４つ貼り付け、さらに、容器（ドラム）２８内に擦傷用として不織布３０とオガクズ３２を入れた。そして、蓋をした後、図１６に示すように、ドラム２８を３０ｒｐｍで３０分間回転させた。

（薬液浸漬工程）
人の汗を模した薬液（純水に乳酸を５０ｇ／Ｌ、塩を１００ｇ／Ｌ溶解した溶液）を用意した。（１）の擦傷工程を経たレンズサンプル２を、５０℃に保持した薬液に１００時間浸漬した。

（評価方法）
上記の工程を経た各サンプルを、従来のサンプルであるサンプルＲ２を基準に目視により評価した。判断基準は以下の通りである。
◎：基準のサンプルと比較し、傷がほとんど見えず、同等の透明性がある。
△：基準のサンプルに対して傷が見え、透明性が劣る。
×：基準のサンプルに対して層の剥離及び多数の傷が見え、透明性が著しく低下した。

耐薬品性については、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層を含むサンプルＳ１〜Ｓ６の評価はすべて◎であり、本耐久試験において優れた耐薬品性を示した。一方、ＩＴＯ層を成膜したサンプルＲ２の評価は×であった。

（３．１０．１．４）むくみ（耐湿性）
（恒温恒湿度環境試験）
各サンプルを恒温恒湿度環境（６０℃、９８％ＲＨ）で８日間放置した。

（むくみの判定方法（評価方法））
図１７は、本実施形態に係る耐湿性試験におけるむくみを判定する装置の概略を示す図である。図１８（Ａ）は、本実施形態に係るレンズ表面にむくみのない状態を模式的に示す図である。図１８（Ｂ）は、本実施形態に係るレンズ表面にむくみのある状態を模式的に示す図である。

上記の恒温恒湿度環境試験を経た各サンプルの表面又は裏面の表面反射光を観察し、むくみの有無を判断した。具体的には、図１７に示すように、レンズサンプル２の凸面２ａにおける蛍光灯３４の反射光を観察した。図１８（Ａ）に示すように、蛍光灯３４の反射光３６の像の輪郭がくっきりと明瞭に観察できる場合は「むくみなし」と判定した。一方、図１８（Ｂ）に示すように、蛍光灯３４の反射光３８の像の輪郭がぼやけている、又はかすれて観察できるときは「むくみ有り」と判定した。図１３からわかるように、実施例１〜６では、電気抵抗（シート抵抗）値も問題なく、むくみも発生しない。一方、比較例１はむくみは発生していないが、電気抵抗（シート抵抗）値が大きくごみが付着しており、帯電防止性が劣っている。比較例２は電気抵抗（シート抵抗）値が低く帯電防止性に優れるが、むくみが僅かに発生している。

（３．１０．２）結果
（３．１０．２．１）シート抵抗の測定結果
図１３に示すように、反射防止層１４にＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を含めたサンプルＳ１〜Ｓ６のシート抵抗の測定値は、それぞれ、２×１０⁹［Ω／□]、１×１０⁹［Ω／□]、１×１０⁹［Ω／□]、２×１０⁹［Ω／□]、１×１０⁹［Ω／□]、２×１０⁹［Ω／□]であった。

これに対し、導電層を含まない（Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を含まない）サンプルＲ１のシート抵抗の測定値は１×１０¹³［Ω／□]、反射防止層にＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層と置換してＩＴＯ層を含めたサンプルＲ２のシート抵抗の測定値は１×１０¹⁰［Ω／□]であった。

サンプルＲ１の測定結果が示すように、低抵抗化の処理を施していない従来のサンプル（ガラスサンプル）では、シート抵抗は１×１０¹³［Ω／□］である。これに対し、反射防止層１４の１つの層２０の表面にＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を形成したサンプルＳ１〜Ｓ６においては、シート抵抗が１×１０⁹［Ω／□]〜２×１０⁹［Ω／□］となり、シート抵抗が従来のサンプルと比較して４桁（１０⁴）程度小さくなっている。すなわち、シート抵抗が１／１０⁴となっており、導電率が向上している。したがって、これらのサンプルＳ１〜Ｓ６は後述するように十分な帯電防止性能を備えている。

反射防止層１４にＩＴＯ層を含めたサンプルＲ２では、シート抵抗が、１×１０¹⁰［Ω／□］であった。実施例のサンプルＳ１〜Ｓ６のシート抵抗は、比較例のサンプルＲ２のシート抵抗と比較しても、１桁（１０）程度小さくなっている。すなわち、シート抵抗が１／１０となっており、良好な帯電防止性を有していることが分かる。

このように、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を設けることによって反射防止層１４の電気抵抗値を大幅に低減でき、例えば８ｎｍ程度又はそれ以下の厚みのＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を含めることにより、反射防止層１４を含めた光学基材の表面の導電性の向上に有効であることがわかった。

光学物品のシート抵抗を低減することにより幾つかの効果が得られる。典型的な効果は、帯電防止、及び電磁遮蔽である。眼鏡用のレンズにおいて帯電防止性の有無の目安は、シート抵抗が１×１０¹³［Ω／□］以下であると考えられている。使用上の安全性などを考慮すると、上記の測定方法で測定されたシート抵抗が１×１０¹²［Ω／□］以下であることがいっそう好ましい。サンプルＳ１〜Ｓ６は、上記の測定方法で測定されたシート抵抗が１×１０⁹［Ω／□］程度であり非常に優れた帯電防止性を備えていることがわかる。

（３．１０．２．２）吸収損失の測定結果
光の吸収損失については、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を形成することにより若干吸収損失が上昇する傾向がみられる。しかしながら、最大でも０．８７％程度であり、眼鏡用のレンズとしての許容範囲である透光性を備えている。したがって、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を形成しても、透光性を確保でき、しかも帯電防止性能の優れた光学物品を提供できることがわかった。

（３．１０．２．３）耐薬品性の評価結果
耐薬品性については、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を備えたサンプルＳ１〜Ｓ６の評価はすべて◎であり、日常的に用いられる環境において優れた耐薬品性を有することがわかった。一方、ＩＴＯ層を備えたサンプルＲ２の評価は×であった。

（３．１０．２．４）むくみ（耐湿性）の評価結果
Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を備えたサンプルＳ１〜Ｓ６を含め、すべてのサンプルについてむくみの発生は観測されず、優れた耐湿性を示した。一方、ＩＴＯ層を備えたサンプルＲ２の評価は「僅かに発生」であった。

（３．１１）考察
以上の各測定結果及び評価より、反射防止層１４の１つの層、本実施形態においては最外の高屈折率層２０の表面にＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を設けたサンプルＳ１〜Ｓ６については、シート抵抗が大幅に低下し、その一方で、耐薬品性及び耐湿性の劣化はほとんどみられないことがわかった。したがって、ＴｉＯ₂を予め設け、その表面に第１の気体（炭酸ガス）をイオン化して照射する方法（第１の方法）により、反射防止層１４にＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を設けることができ、表面の電気抵抗が小さく、帯電防止などの特性を持ち、さらに、耐久性の良い光学物品を提供できることがわかった。

さらに、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を形成することにより、若干の吸収損失の増加が観測されるが、帯電防止及び電磁波遮断などの目的に応じた適切な導電性が得られる程度にＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を形成することにより、吸収損失の影響は光学物品としてほとんど無視できる程度の光学物品を提供できることがわかった。

このように、反射防止層１４にＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を設けることにより、優れた帯電防止性能及び電磁波遮断性能と、良好な透光性と、耐久性とを備えた光学物品を提供できる。

帯電防止性能及び／又は電磁波遮断性能を与えるためには、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）は、必ずしも所定の層（例えばＴｉＯ_X層）の表面全体に均一に存在しなくてもよく、部分的に存在していてもよい。このようなＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２が存在することにより、反射防止層１４の電気抵抗値を低減でき、導電性を高めることができる。このため、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を設ける位置は、最外の高屈折率層２０の表面（外側）に限定されず、反射防止層１４のいずれかの層の表面あるいは層間に設ければよく、さらに、複数の層上にそれぞれＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層を形成してもよい。

本実施形態の条件から、ＴｉＯ₂膜２２ａの膜厚が８ｎｍ以上であり炭酸ガスイオンビームを照射したサンプルは帯電防止としての耐久性に優れる。また、イオンビームの照射時間は６０秒以上が必要である（図１３からも裏づけられる）。

反射防止層１４中にＴｉＯ₂からなる導電膜があり、その導電膜はＴｉＯ₂表面に炭酸ガスを出発原料とするイオンビーム照射により導電処理されることにより、導電性が発現する。それは、ＴｉＯ₂薄膜中にＸＰＳのＣ１ｓのスペクトルにおいて２９０ｅＶに結合ピークを持つ材料で構成された導電層（膜）である。これら導電膜は、眼鏡レンズ２として、透明性、導電膜、耐久性を十分に兼ね備えたものである。

比較例では透明性、酸やアルカリに対しての耐食性の評価項目全てにおいて満足するものは得られなかった。実施例１〜６は、導電層の形成条件を変えたものであるが、殆どの評価項目において満足する結果が得られ、帯電防止メガネレンズとして十分な機能を持ったものである。

（４）第２の方法によるＳｉＯ₂−ＺｒＯ₂系の反射防止層を備えたサンプルの製造
ＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）蒸発源とし、炭酸ガスを第１の気体として蒸着の際のイオンアシストガスとして用い、高屈折率層２０を第１の層として、その表面に透光性薄膜を形成する方法（第２の方法）により、低屈折率層１８としてＳｉＯ₂層、高屈折率層２０としてＺｒＯ₂層を採用した反射防止層１４を備えたサンプルを製造した。

図１９（Ａ）及び（Ｂ）は、本実施形態に係るＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む層２２を形成する模式的に示す図である。図１９（Ａ）及び（Ｂ）は蒸着装置１００においてＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を形成する様子を示しており、高屈折率層２０と透光性薄膜２２との上下関係は図１に示したレンズサンプル２とは逆転して示されている。したがって、レンズサンプル２上に、第１層１８、第２層２０、第３層１８、及び第４層２０を成膜した後、蒸着装置１００を用い、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を第５層（導電層、透光性薄膜）として成膜する様子を示している。

Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２は、次のようにして成膜した。図１９（Ａ）に示すように、ＴｉＯ₂の材料を蒸着源とし、これに熱電子を照射して蒸発させ、蒸発させたＴｉＯ₂を、炭酸ガスイオンビームを用いて、第５層２２形成中に照射した。（イオンアシスト蒸着）蒸着源はＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）であってもよい。炭酸ガスイオンビームは、二酸化炭素（ＣＯ₂）ガス（第１の気体）を２０ｓｃｃｍイオンガンに導入し、プラズマ化し、イオンエネルギー８００ｅＶ、イオン電流２００ｍＡとした。

炭酸ガスイオンビームをイオンアシストに用いることにより、ＣＯ₂、ＣＯ、及びＣを含む炭酸ガスイオンがＴｉＯ₂又はＴｉＯ_Xとともに積層される。このため、図１９（Ｂ）はＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）となる。本実施形態では、このＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層厚が８ｎｍになるように形成した。

さらに、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２の上に、第６層として、第１及び第３層と同様の条件で、ＳｉＯ₂層（低屈折率層１８）を成膜した。

これらの工程において、反射防止層１４を形成するため、光学的性能を主に決める第１〜第４層及び第６層の層厚は、それぞれ、１５０ｎｍ、３０ｎｍ、２１ｎｍ、５５ｎｍ、８５ｎｍに管理した。第４層２０の表層を形成するＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層（第５層）２２の厚みは、適当な導電性を得るために変えることができ、例えば厚みを８．０ｎｍとした。

本実施形態によれば、反射防止層１４の１つの層２２の上に、蒸着源として遷移金属酸化物であるＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を用い、第１の気体（炭酸ガス）をイオン化してイオンアシストガスとしてイオンアシスト蒸着する方法（第２の方法）で、導電性のＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を形成することができ、従来とほぼ同等の吸収損失で透光性であり（透明であり）、良好な耐久性を有し、しかも、帯電防止性能及び電磁波遮蔽性能の優れた光学物品を提供できる。

（５）第３の方法によるＳｉＯ₂−ＺｒＯ₂系の反射防止層を備えたサンプルの製造
金属Ｔｉあるいは酸化チタンのターゲットに炭酸ガスを第１の気体としてイオン化して照射し、高屈折率層２０を第１の層として、その表面に透光性薄膜をスパッタリングにより形成する方法（第３の方法）により、低屈折率層１８としてＳｉＯ₂層、高屈折率層２０としてＺｒＯ₂層を採用した反射防止層１４を備えたサンプルを製造した。

図２０は、本実施形態に係るＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む層の形成を模式的に示す図である。図２０（Ａ）は、本実施形態に係るチタンターゲットに二酸化炭素ガス及びアルゴンガスをイオン化して照射している様子を示す図である。図２０（Ｂ）は、本実施形態に係るＺｒＯ₂層（第６層）の上にＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む層（透光性薄膜）がスパッタにより形成された様子を示す図である。図２０（Ａ）及び（Ｂ）はＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む層（透光性薄膜）２２を形成する様子を示しており、高屈折率層２０と透光性薄膜２２との上下関係は図１に示したレンズサンプル２とは逆転して示されている。したがって、レンズサンプル２上に、第１層１８、第２層２０、第３層１８、第４層２０を成膜した後、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む層を成膜する様子を示している。

Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２は、以下のようにして成膜した。チャンバ（真空容器）内を十分に真空排気し、二酸化炭素（ＣＯ₂）ガス（第１の気体）とアルゴン（Ａｒ）ガスとの混合ガスを、二酸化炭素（ＣＯ₂）ガスの流量を１００ｓｃｃｍ、アルゴン（Ａｒ）ガスの流量を２００ｓｃｃｍとしてチャンバ内に導入し、チャンバ内の圧力を５．０×１０^-1Ｐａとした。そして、図２０（Ａ）に示すように、二酸化炭素ガス及びアルゴンガスを高周波（ＲＦ）によりイオン化し、チタンターゲット４０に照射した。これにより、図２０（Ｂ）に示すように、チタンターゲット４０からチタン（Ｔｉ）元素がスパッタされ、第４層２０の上に堆積する。このときのＣＯ₂より分解したＣＯ、Ｏなどのガスと反応し、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２として堆積する。この際、スパッタソースのＲＦパワーは１．５ｋＷとした。このようにすることにより、第４層２０の上に層厚８．０ｎｍのＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を成膜した。

さらに、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２の上に、第６層として、第１層及び第３層及び第５層と同じ条件でＳｉＯ₂層（低屈折率層）１８を成膜した。

本実施形態によれば、反射防止層１４の１つの層２０の表面に、遷移金属を含むターゲットとし、第１の気体（炭酸ガス）をイオン化し、スパッタリングによりＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層を生成する方法（第３の方法）により導電性のＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２を形成でき、従来とほぼ同等の吸収損失で透光性であり（透明であり）、良好な耐久性を有し、しかも、帯電防止性能及び電磁波遮蔽性能の優れた光学物品を提供できる。

なお、第３の方法を含む反射防止層の製造方法（Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層２２の成膜方法）は、第１又は第２の方法を含む製造方法と同様に、ＳｉＯ₂−ＺｒＯ₂系の反射防止層だけでなく、ＳｉＯ₂−ＴｉＯ₂系の反射防止層にも適用できる。

また、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を含む層（透光性薄膜）は、例えば、３層以下、あるいは９層以上の反射防止層に適用することも可能であり、また、導入される透光性薄膜は１層に限定されない。また、高屈折率層と低屈折率層の組合せは、ＺｒＯ₂／ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂／ＳｉＯ₂に限定されることはなく、Ｔａ₂Ｏ₅／ＳｉＯ₂、ＮｄＯ₂／ＳｉＯ₂、ＨｆＯ₂／ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃／ＳｉＯ₂などの系であってもよく、これらのいずれかの層の表面に上記透光性薄膜を形成することが可能である。

（６）光学物品（眼鏡レンズ）を含むシステムの例
図２１は、本実施形態に係る眼鏡の一例を示す図である。図２２は、本実施形態に係るプロジェクターの一例の概要を示す図である。図２３は、本実施形態に係るデジタルカメラの一例の概要を示す図である。図２４は、本実施形態に係る記録媒体の一例の概要を示す図である。

図２１に、本実施形態に係るＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層を含む眼鏡レンズ２と、眼鏡レンズ２が装着されたフレーム２００とを含む眼鏡２０２を示している。また、図２２に、本実施形態に係るＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層を含むレンズ２０４と、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層を含むカバーガラス２０６と、投射レンズ２０４及びカバーガラス２０６とを通して投影する光を生成する画像形成装置を示している。例えばＬＣＤ２０８とを備えたプロジェクター２１０を示している。また、図２３に、本実施形態に係るＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層を含む撮像レンズ２１２と、Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層を含むカバーガラス２１４と、撮像レンズ２１２及びカバーガラス２１４を通して画像を取得するための撮像装置を示している。例えばＣＣＤ２１６とを備えたデジタルカメラ２１８を示している。また、図２４に、本実施形態に係るＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層として形成された透過層２２０と、光学的な方法により記録を読み書きできる記録層２２２とを備えた記録媒体、例えばＤＶＤ２２４を示している。

本実施形態の眼鏡レンズは、これらのシステムの光学物品、例えば、レンズ、ガラス、プリズム、カバー層などとして多種多様な用途を備えている。なお、上記に示したシステムは例示にすぎず、当業者が本実施形態を利用しうる光学物品及びシステムは、本実施形態に含まれるものである。

２…レンズ（眼鏡レンズ、レンズサンプル、光学物品） ２ａ…表面（凸面） ４…Ｓｉウエハー ６…ＴｉＯ₂層 ６ａ…表面 １０…レンズ基材（光学基材） １２…ハードコート層 １４…反射防止層 １６…撥水膜（防汚層） １８…低屈折率層（第１層）（第３層）（第６層）（ＳｉＯ₂層）（第８層） ２０…高屈折率層（第２層）（第４層）（ＺｒＯ₂層）（反射防止層の１つの層） ２２…透光性薄膜（Ｔｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）層）（表面（表層））（第７層） ２２ａ…ＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２） ２４…リングプローブ ２４ａ…リング電極 ２４ｂ…円形電極 ２６…測定装置 ２８…容器（ドラム） ３０…不織布 ３２…オガクズ ３４…蛍光灯 ３６，３８…反射光 ４０…チタンターゲット １００…蒸着装置 １０２…真空容器（容器） １０４…排気装置 １０６…ガス供給装置 １０８…サンプル支持台 １１０…基材加熱用ヒーター １１２…フィラメント １１４，１１６…蒸発源（るつぼ） １１８…イオン銃 １２０…ターボ分子ポンプ（クライオポンプ） １２２…圧力調整バルブ １２４…ガス容器 １２６…流量制御装置 １２８…圧力計 ２００…フレーム ２０２…眼鏡 ２０４…レンズ（投射レンズ） ２０６…カバーガラス ２０８…ＬＣＤ ２１０…プロジェクター ２１２…撮像レンズ ２１４…カバーガラス ２１６…ＣＣＤ ２１８…デジタルカメラ ２２０…透過層 ２２２…記録層 ２２４…ＤＶＤ。

Claims (13)

1. 光学基材の上に、直に又は他の層を介して透光性の第１の層を形成すること、
   前記第１の層の表面に、少なくともＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）である部分を有する透光性薄膜を物理的蒸着により形成すること、
   を有し、
   前記透光性薄膜を物理的蒸着により形成することは、炭素を含む第１の化合物群に含まれる少なくとも１種を含む第１の気体をイオン化し、ＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）に照射することを含むことを特徴とするレンズの製造方法。
2. 請求項１に記載のレンズの製造方法において、
   前記第１の気体をイオン化することは、ＴｉＯ₂膜に対して前記第１の気体をイオン化して照射することにより、前記第１の層の表面に前記透光性薄膜を形成することを含むことを特徴とするレンズの製造方法。
3. 請求項１に記載のレンズの製造方法において、
   前記第１の気体をイオン化することは、ＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）を蒸着源とし、前記第１の気体をイオンアシストガスとして用い、前記第１の層の表面に前記透光性薄膜を形成することを含むことを特徴とするレンズの製造方法。
4. 請求項１に記載のレンズの製造方法において、
   前記第１の気体をイオン化することは、Ｔｉを含むターゲットに前記第１の気体をイオン化して照射し、前記第１の層の表面に前記透光性薄膜を形成することを含むことを特徴とするレンズの製造方法。
5. 請求項１〜４のいずれか一項に記載のレンズの製造方法において、
   前記第１の気体は、二酸化炭素であることを特徴とするレンズの製造方法。
6. 請求項１〜５のいずれか一項に記載のレンズの製造方法において、
   前記レンズは、多層構造の反射防止層を有するものであり、
   前記第１の層は、前記多層構造の反射防止層に含まれる１つの層であることを特徴とするレンズの製造方法。
7. 請求項１〜６のいずれか一項に記載のレンズの製造方法において、
   前記透光性薄膜の上に、直に又は他の層を介して防汚層を形成することをさらに有することを特徴とするレンズの製造方法。
8. 光学基材と、
   前記光学基材の上に、直に又は他の層を介して形成された透光性の第１の層と、
   前記第１の層の表面に形成された、少なくともＴｉ−ＣＯ₃を含むＴｉＯ_X（０＜Ｘ≦２）である部分を有する透光性薄膜と、
   を含むことを特徴とするレンズ。
9. 前記透光性薄膜を有する表面において測定されるシート抵抗が、２×１０ ^９ Ω／□以下である請求項８に記載のレンズ。
10. 請求項８又は９に記載のレンズにおいて、
    前記透光性薄膜は、少なくともＴｉＯ_Xである部分をさらに有することを特徴とするレンズ。
11. 請求項８〜１０のいずれか一項に記載のレンズにおいて、
    前記第１の層を含む多層構造の反射防止層を有することを特徴とするレンズ。
12. 請求項１１に記載のレンズにおいて、
    前記反射防止層の上に、直に又は他の層を介して形成された防汚層をさらに有することを特徴とするレンズ。
13. 請求項８〜１２のいずれか一項に記載のレンズにおいて、
    前記光学基材は、プラスチックレンズ基材であることを特徴とするレンズ。