JP5698902B2 - 光学物品およびその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、眼鏡レンズなどのレンズ、その他の光学材料あるいは製品に用いられる光学物品およびその製造方法に関するものである。

眼鏡レンズなどの光学物品は、種々の機能を果たすための基材（光学基材）の表面に、その基材の機能をさらに強化したり、保護したりするために種々の機能を備えた層（膜）が形成されている。たとえば、レンズ基材の耐久性を確保するためのハードコート層、ゴーストおよびちらつきを防止するための反射防止層などが公知である。反射防止層の典型的なものは、ハードコート層が積層されたレンズ基材の表面に異なる屈折率を持つ酸化膜を交互に積層してなるいわゆる多層反射防止層である。

引用文献１には、新規な、低耐熱性基材に好適な帯電防止性能を有する光学要素を提供することが記載されている。プラスチック製の光学基材上に複層構成の反射防止膜を備えた眼鏡レンズなどの光学要素において、反射防止膜が透明導電層を含み、該透明導電層をイオンアシスト真空蒸着により形成し、他の反射防止膜の構成層は、電子ビーム真空蒸着等により形成することが記載されている。導電層としては、インジウム、スズ、亜鉛等のいずれか、又は２種以上の複数を成分とする無機酸化物が挙げられており、特に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：酸化インジウムと酸化錫との混合物）が望ましいことが記載されている。

特開２００４−３４１０５２号公報

基材の表面に形成される膜あるいは層に、帯電防止、電磁波遮蔽などを目的として導電性を付与するために、ある程度の厚みの導電層を形成することができる。たとえば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）層、金や銀などの金属の層を用いることができる。しかしながら、ＩＴＯや銀は、酸やアルカリなどに対する耐久性や腐食が問題になる可能性がある。金は一般的に密着性が低く膜の剥れが発生する恐れがある。

本発明の一態様は、光学基材の上に直にまたは他の層を介して形成された反射防止層を有する光学物品の製造方法である。この製造方法は、反射防止層に含まれる第１の層を形成することと、第１の層の表面に、ゲルマニウムを主成分とする金属、および／または、ゲルマニウムと遷移金属との化合物を含む透光性の導電層を形成することとを有する。ゲルマニウムは身近な製品の素材や半導体基板などに使用されている素材である。また、ゲルマニウムを主成分とする金属、および／または、ゲルマニウムと遷移金属との化合物はシート抵抗が低く、導電性がある。さらに、ゲルマニウムは、反射防止層で多用されているシリコンよりも真空蒸着時の蒸発温度が低く簡単に蒸着（イオンアシスト蒸着）できる。またターゲット材の入手も容易で化学的に安定であるためスパッタリングなどにより成膜することが可能である。

このため、反射防止層に、ゲルマニウムを含む透光性の導電層を含めたり、反射防止層にゲルマニウムを含む透光性の導電層を重ねたりすることにより、帯電防止性能の高い光学物品を提供できる。また、ゲルマニウムはＩＴＯあるいは銀よりも腐食の問題は少なく、反射防止層で多用されるシリコンとの相性は良く、膜の剥れが発生する可能性も小さい。

したがって、この製造方法を採用することにより、反射防止層の光学的性能に与える影響を抑制しながら、反射防止層のシート抵抗を下げ、帯電防止効果の優れた光学物品を経済的に提供することが可能となる。

導電層を形成することは、ゲルマニウム、ゲルマニウムと化合物を形成する遷移金属、およびゲルマニウムと遷移金属との化合物の少なくともいずれかを第１の層の表面に蒸着することを含む。

第１の層が、ゲルマニウムと化合物を形成可能な遷移金属を含む層であれば、第１の層の表面に、ゲルマニウムを蒸着などで打ち込むことにより、第１の層の上に、第１の層に含まれる遷移金属との化合物を含む導電層を形成できる。また、第１の層が、ゲルマニウムと化合物を形成可能な遷移金属を含む層であれば、同じまたは類似の遷移金属を含む導電層と第１の層とは機械的および／または化学的な相違は小さい可能性が高く、機械的および／または化学的により安定した反射防止層および導電層を備えた光学物品を製造し易い。

反射防止層の典型的なものの１つは第１の層を含む多層膜である。本発明の製造方法は、さらに、導電層に重ねて反射防止層の多層膜の他の層を形成することを含んでもよい。

本発明の製造方法は、導電層が表面に形成された第１の層の上に、直にまたは他の層を介して防汚層を形成してもよい。導電層を含む反射防止層、または反射防止層の上に導電層を形成して、その上に防汚層を形成しても、光学物品のシート抵抗を下げることが可能となる。

本発明の他の態様の１つは、光学基材と、光学基材の上に直にまたは他の層を介して形成された反射防止層と、反射防止層に含まれる第１の層の表面に形成された透光性の導電層とを有する光学物品である。導電層は、ゲルマニウムを主成分とする金属、および／または、ゲルマニウムと遷移金属との化合物を含む。この光学物品においては、第１の層の表面に透光性の導電層を備えているので、反射防止層の光学的性能に与える影響を抑制しながら、帯電防止、ゴミ付着防止などの機能を付与できる。

反射防止層の典型的なものの１つは、多層膜であり、第１の層は、多層膜を構成する１つの層であってもよい。第１の層は、ゲルマニウムと化合物を形成可能な遷移金属を含む層であってもよい。

さらに、光学物品は、導電層が表面に形成された第１の層の上に、直にまたは他の層を介して形成された防汚層を有してもよい。

典型的な光学基材は、プラスチックレンズ基材である。光学物品の一形態は眼鏡レンズであり、本発明の他の態様の１つは、眼鏡レンズと、眼鏡レンズが装着されたフレームとを有する眼鏡である。

本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記の光学物品と、光学物品を通して画像を投影および／または取得する装置とを有するシステムである。投影する装置を含むシステムの典型的なものはプロジェクタである。光学物品の典型的なものは、投射用のレンズ、ダイクロイックプリズム、カバーガラスなどである。本発明を、画像形成装置の１つであるＬＣＤ（液晶デバイス）などのライトバルブあるいはそれらに含まれる素子に適用してもよい。光学物品を通して画像を取得する装置を含むシステムの典型的なものはカメラである。光学物品の典型的なものは、結像用のレンズ、カバーガラスなどである。本発明を、撮像装置の１つであるＣＣＤなどに適用してもよい。

本発明のさらに異なる他の態様の１つは、上記の光学物品と、光学物品を通してアクセスする媒体とを有するシステムである。このシステムの典型的なものは、記録媒体を内蔵し、表面の帯電性が低いことが要望されるＤＶＤなどの情報記録装置、美的表現を発揮する媒体を内蔵した装飾品などである。

反射防止層を含むレンズの構造を示す断面図。 反射防止層の製造に用いる蒸着装置を模式的に示す図。 反射防止層の成膜条件を示す図。 反射防止層の層構造および評価結果を示す図。 （Ａ）は、シート抵抗を測定する様子を示す断面図、（Ｂ）は平面図。 異なる反射防止層を含むレンズの構造を示す断面図。 図６に示した反射防止層の成膜条件を示す図。 図６に示した反射防止層の層構造および評価結果を示す図。 眼鏡の概要を示す図。 プロジェクタの概要を示す図。 デジタルカメラの概要を示す図。 記録媒体の概要を示す図。

図１に、本発明の実施形態のレンズの構成を、基材を中心とした一方の面の側の断面図により示している。レンズ１０（レンズサンプルともいう）は、光学基材としてのレンズ基材１と、レンズ基材１の表面に形成されたハードコート層２と、ハードコート層２の上に形成された透光性の反射防止層３と、反射防止層３の上に形成された防汚層４とを含む。

１． レンズの概要
１．１ レンズ基材
レンズ基材１は、特に限定されないが、（メタ）アクリル樹脂をはじめとしてスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリル樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ−３９）等のアリルカーボネート樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、イソシアネート化合物とジエチレングリコールなどのヒドロキシ化合物との反応で得られたウレタン樹脂、イソシアネート化合物とポリチオール化合物とを反応させたチオウレタン樹脂、分子内に１つ以上のジスルフィド結合を有する（チオ）エポキシ化合物を含有する重合性組成物を硬化して得られる透明樹脂等を例示することができる。レンズ基材１の屈折率は、たとえば、１．６４〜１．７５程度である。この実施形態においては、屈折率は上記の範囲でも、上記の範囲から上下に離れていても許容の範囲内である。

１．２ ハードコート層（プライマー層）
レンズ基材１の上に形成されるハードコート層２は、耐擦傷性を向上するものである。ハードコート層２に使用される材料として、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、アミノ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、スチレン系樹脂、シリコン系樹脂およびこれらの混合物もしくは共重合体等を挙げることができる。ハードコート層２の一例は、シリコン系樹脂であり、金属酸化物微粒子、シラン化合物からなるコーティング組成物を塗布し硬化させてハードコート層を形成できる。このコーティング組成物にはコロイダルシリカ、および多官能性エポキシ化合物等の成分を含めることができる。

金属酸化物微粒子の具体例は、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅、ＣｅＯ₂、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＷＯ₃、ＺｒＯ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂等の金属酸化物からなる微粒子または２種以上の金属の金属酸化物からなる複合微粒子である。これらの微粒子を、分散媒たとえば水、アルコール系もしくはその他の有機溶媒にコロイド状に分散させたものをコーティング組成物に混合できる。

レンズ基材１とハードコート層２との密着性を確保するために、レンズ基材１とハードコート層２との間にプライマー層を設けることができる。プライマー層は、高屈折率レンズ基材の欠点である耐衝撃性を改善するためにも有効である。プライマー層を形成するための樹脂としては、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、アミノ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、スチレン系樹脂、シリコン系樹脂およびこれらの混合物もしくは共重合体等が挙げられる。密着性を持たせるためのプライマー層としてはウレタン系樹脂およびポリエステル系樹脂が好適である。

ハードコート層２およびプライマー層の製造方法の典型的なものは、ディッピング法、スピンナー法、スプレー法、フロー法によりコーティング組成物を塗布し、その後、４０〜２００℃の温度で数時間加熱乾燥する方法である。

１．３ 反射防止層
ハードコート層２の上に形成される反射防止層３の典型的なものは無機系の反射防止層と有機系の反射防止層である。無機系の反射防止層は多層膜で構成され、例えば、屈折率が１．３〜１．６である低屈折率層と、屈折率が１．８〜２．６である高屈折率層とを交互に積層して形成することができる。層数としては、５層あるいは７層程度である。反射防止層を構成する各層に使用される無機物の例としては、ＳｉＯ₂、ＳｉＯ、ＴｉＯ₂、ＴｉＯ、Ｔｉ₂Ｏ₃、Ｔｉ₂Ｏ₅、Ａｌ₂Ｏ₃、ＴａＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、ＮｄＯ₂、ＮｂＯ、Ｎｂ₂Ｏ₃、ＮｂＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、ＣｅＯ₂、ＭｇＯ、ＳｎＯ₂、ＭｇＦ₂、ＷＯ₃、ＨｆＯ₂、Ｙ₂Ｏ₃、ＺｒＯ₂などが挙げられる。これらの無機物は単独で用いるかもしくは２種以上を混合して用いる。

反射防止層３を形成する方法としては、乾式法、例えば、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法などが挙げられる。真空蒸着法においては、蒸着中にイオンビームを同時に照射するイオンビームアシスト法を用いることができる。

有機系の反射防止層３の製造方法の１つは湿式法である。例えば、内部空洞を有するシリカ系微粒子（以下、「中空シリカ系微粒子」ともいう）と、有機ケイ素化合物とを含んだ反射防止層形成用のコーティング組成物を、ハードコート層、プライマー層と同様の方法でコーティングして形成することもできる。中空シリカ系微粒子を用いるのは、内部空洞内にシリカよりも屈折率が低い気体または溶媒が包含されることによって、空洞のないシリカ系微粒子に比べてより屈折率が低減し、結果的に、優れた反射防止効果を付与できるからである。中空シリカ系微粒子は、特開２００１−２３３６１１号公報に記載されている方法などで製造することができるが、平均粒子径が１〜１５０ｎｍの範囲にあり、かつ屈折率が１．１６〜１．３９の範囲にあるものを使用することができる。この有機系の反射防止層の層厚は、５０〜１５０ｎｍの範囲が好適である。この範囲より厚すぎたり薄すぎたりすると、十分な反射防止効果が得られないおそれがある。

１．４ 導電層
さらに、本発明の実施形態のレンズ１０においては、反射防止層３に含まれる少なくとも１つの層の表面にゲルマニウムを主成分とする金属、および／または、ゲルマニウムと遷移金属との化合物を備えた透光性の導電層３３が形成されている。図１に示すレンズ１０においては、最上層の低屈折率層３１（ＳｉＯ₂層ともいう）の下の高屈折率層３２（ＴｉＯ₂層またはＺｒＯ₂層ともいう）、すなわち、最上層の高屈折率層３２の表面に導電層３３が形成されている。

導電層３３の一例は、ゲルマニウムの金属の薄膜層である。また、導電層３３は、ゲルマニウムを含む化合物の薄膜層も使用できる。積層の対象となる層、この例では高屈折率層３２がゲルマニウムと化合物を形成可能な遷移金属を含む層（酸化物層）であれば、ゲルマニウムを、積層の下地となる高屈折率層３２の表面に打ち込むことにより、化合物を含む導電層３３を形成することができる。ゲルマニウムの化合物を蒸着して導電層３３を製造してもよい。

ゲルマニウムを含む化合物は、ゲルマニドなどと称される遷移金属ゲルマニウム化物である。ゲルマニドの例としては、ＴｉＧｅ、ＴｉＧｅ₂、Ｔｉ₅Ｇｅ₃、Ｔｉ₆Ｇｅ₅、Ｖ₃Ｇｅ、ＣｒＧｅ₂、Ｃｒ₃Ｇｅ₂、ＣｒＧｅ、Ｃｒ₃Ｇｅ、Ｃｒ₅Ｇｅ₃、Ｃｒ₁₁Ｇｅ₈、ＭｎＧｅ、Ｍｎ₅Ｇｅ₃、ＣｏＧｅ、ＣｏＧｅ₂、Ｃｏ₅Ｇｅ₇、ＮｉＧｅ、ＣｕＧｅ、Ｃｕ₃Ｇｅ、ＺｒＧｅ₂、ＺｒＧｅ、ＲｂＧｅ₄、ＮｂＧｅ₂、Ｎｂ₂Ｇｅ、Ｎｂ₃Ｇｅ、Ｎｂ₅Ｇｅ₃、Ｎｂ₃Ｇｅ₂、ＮｂＧｅ₂、Ｍｏ₃Ｇｅ、Ｍｏ₃Ｇｅ₂、Ｍｏ₅Ｇｅ₃、Ｍｏ₂Ｇｅ₃、ＭｏＧｅ₂、ＣｅＧｅ₄、ＲｈＧｅ、ＰｄＧｅ、ＡｇＧｅ、Ｈｆ₅Ｇｅ₃、ＨｆＧｅ、ＨｆＧｅ₂、ＴａＧｅ₂、ＰｔＧｅを挙げることができる。

１．５ 防汚層
反射防止層３の上に撥水膜、または親水性の防曇膜（防汚層）４を形成することが多い。防汚層４は、光学物品（レンズ）１０の表面の撥水撥油性能を向上させる目的で、反射防止層３の上に、フッ素を含有する有機ケイ素化合物からなる層を形成したものである。フッ素を含有する有機ケイ素化合物としては、例えば、特開２００５−３０１２０８号公報や特開２００６−１２６７８２号公報に記載されている含フッ素シラン化合物を好適に使用することができる。

含フッ素シラン化合物は、有機溶剤に溶解し、所定濃度に調整した撥水処理液（防汚層形成用のコーティング組成物）として用いることが好ましい。防汚層は、この撥水処理液（防汚層形成用のコーティング組成物）を反射防止層上に塗布することにより形成することができる。塗布方法としては、ディッピング法、スピンコート法などを用いることができる。なお、撥水処理液（防汚層形成用のコーティング組成物）を金属ペレットに充填した後、真空蒸着法などの乾式法を用いて、防汚層を形成することも可能である。

防汚層の層厚は、特に限定されないが、０．００１〜０．５μｍが適している。より好適なのは０．００１〜０．０３μｍである。防汚層の層厚が薄すぎると撥水撥油効果が乏しくなり、厚すぎると表面がべたつくので適していない。また、防汚層の厚さが０．０３μｍより厚くなると反射防止効果が低下する可能性がある。

２． サンプルの製造
２．１ 実施例１（サンプルＳ１）
２．１．１ レンズ基材の選択およびハードコート層の成膜
レンズ基材１としては、屈折率１．６７の眼鏡用のプラスチックレンズ基材（セイコーエプソン（株）製、商品名：セイコースーパーソブリン（ＳＳＶ））を用いた。

ハードコート層２を形成するための塗布液（コーティング液）を次のように調製した。エポキシ樹脂−シリカハイブリッド（商品名：コンポセラン（登録商標）Ｅ１０２（荒川化学工業（株）製））２０重量部に、酸無水物系硬化剤（商品名：硬化剤液（Ｃ２）（荒川化学工業（株）製））４．４６重量部を混合、攪拌して塗布液（コーティング液）を得た。このコーティング液を所定の厚さになるようにスピンコーターを用いてレンズ基材１の上に塗布してハードコート層２を成膜した。塗布後のレンズ基材を１２５℃で２時間焼成した。

２．１．２ 反射防止層の成膜
２．１．２．１ 蒸着装置
次に、図２に示す真空蒸着装置１００により無機系の反射防止層３を製造（成膜）した。例示した真空蒸着装置１００は電子ビーム蒸着装置であり、真空容器１１０、排気装置１２０およびガス供給装置１３０を備えている。真空容器１１０は、ハードコート層２までが形成されたレンズサンプル１０が載置されるサンプル支持台１１４と、サンプル支持台１１４にセットされたレンズサンプル１０を加熱するための基材加熱用ヒーター１１５と、熱電子を発生するフィラメント１１６とを備えており、電子銃（不図示）により熱電子を加速して蒸発源（るつぼ）１１２および１１３にセットされた蒸着材料に熱電子を照射し蒸発させ、レンズサンプル１０に材料を蒸着する。

さらに、この真空蒸着装置１００は、イオンアシスト蒸着を可能とするために、真空容器１１０の内部に導入したガスをイオン化して加速し、レンズサンプル１０に照射するためのイオン銃１１７を備えている。また、真空容器１１０には、残留した水分を除去するためのコールドトラップや、層厚を管理するための装置等をさらに設けることができる。層厚を管理する装置としては、例えば、反射型の光学膜厚計や水晶振動子膜厚計などがある。

真空容器１１０の内部は、排気装置１２０に含まれるターボ分子ポンプまたはクライオポンプ１２１および圧力調整バルブ１２２により高真空、たとえば１×１０^-4Ｐａに保持できる。一方、真空容器１１０の内部は、ガス供給装置１３０により所定のガス雰囲気することも可能である。たとえば、ガス容器１３１には、アルゴン（Ａｒ）、窒素（Ｎ₂）、酸素（Ｏ₂）などが用意される。ガスの流量は流量制御装置１３２により制御でき、真空容器１１０の内圧は圧力計１３５により制御できる。

基材加熱用ヒーター１１５は、例えば赤外線ランプであり、レンズサンプル１０を加熱することによりガス出しあるいは水分とばしを行い、レンズサンプル１０の表面に形成される膜の密着性を確保する。

したがって、この真空蒸着装置１００における主な蒸着条件は、蒸着材料、電子銃の加速電圧および電流値、イオンアシストの有無である。イオンアシストを利用する場合の条件は、イオンの種類（真空容器１１０の雰囲気）と、イオン銃１１７の電圧値および電流値とにより与えられる。以下において、特に記載しないかぎり、電子銃の加速電圧は５〜１０ｋＶの範囲、電流値は５０〜５００ｍＡの範囲の中で成膜レートなどをもとに選択される。また、イオンアシストを利用する場合は、イオン銃１１７が電圧値２００Ｖ〜１ｋＶの範囲、電流値が１００〜５００ｍＡの範囲で成膜レートなどをもとに選択される。

２．１．２．２ 低屈折率層および高屈折率層の成膜
ハードコート層２が形成されたレンズサンプル１０をアセトンにて洗浄し、真空容器１１０の内部にて約７０℃の加熱処理を行い、レンズサンプル１０に付着した水分を蒸発させる。次に、レンズサンプル１０の表面にイオンクリーニングを実施した。具体的には、イオン銃１１７を用いて酸素イオンビームを数百ｅＶのエネルギーでレンズサンプル１０の表面に照射し、レンズサンプル１０の表面に付着した有機物の除去を行った。この方法により、レンズサンプル１０の表面に形成する膜の付着力を強固なものとすることができる。なお、酸素イオンの代わりに不活性ガス、例えばＡｒ、キセノン（Ｘｅ）、Ｎ₂を用いて同様の処理を行うことができるし、酸素ラジカルや酸素プラズマを照射することもできる。

真空容器１１０の内部を十分に真空排気した後、電子ビーム真空蒸着法により、図１に示すように、低屈折率層３１として二酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）層、高屈折率層３２として酸化チタン（ＴｉＯ₂）層を交互に積層して反射防止層３を製造した。１層目、３層目、５層目および８層目が低屈折率層３１であり、二酸化ケイ素をイオンアシストは行わず真空蒸着することによりＳｉＯ₂層３１を成膜した。

２層目、４層目および第６層目が高屈折率層３２であり、酸化チタン（ＴｉＯ₂）を酸素ガスを導入しながらイオンアシスト蒸着を行い、ＴｉＯ₂層３２を成膜した。なお、７層目は、以下で説明するように導電層３３である。

図３に、ＳｉＯ₂層３１およびＴｉＯ₂層３２の各層の成膜条件および膜厚を示している。なお、このレンズサンプル１０では、ハードコート層２の屈折率が１．６５、ＳｉＯ₂層３１の屈折率が１．４６２、ＴｉＯ₂層３２の屈折率が２．４３である。

２．１．２．３ 導電層の成膜
この実施例１では、１層目から６層目まで積層した後、７層目（導電層３３）として、Ｇｅ（ゲルマニウム）を、以下の条件で蒸着した。すなわち、６層目（ＴｉＯ₂層３２）を成膜後、６層目を下側の層（第１の層）として、その上にＧｅ（ゲルマニウム）を真空蒸着により成膜し、７層目の導電層３３を形成した。導電層３３の上にさらに最表層（最上層）の低屈折率層３１を８層目として成膜した。
（導電層３３の成膜条件）
下側の層（第１の層）：ＴｉＯ₂、 蒸着源：金属Ｇｅ
成膜レート：０．１ｎｍ／ｓｅｃ、 蒸着時間：４０ｓｅｃ
イオンアシスト蒸着：無し

２．１．３ 防汚層の成膜
反射防止層３を形成した後、８層目であるＳｉＯ₂層３１の表面に酸素プラズマ処理を施し、蒸着装置内で、分子量の大きなフッ素含有有機ケイ素化合物を含む「ＫＹ−１３０」（商品名、信越化学工業（株）製）を含有させたペレット材料を蒸着源として、約５００℃で加熱し、ＫＹ−１３０を蒸発させて、防汚層４を成膜した。蒸着時間は、約３分間程度とした。酸素プラズマ処理を施すことにより最終のＳｉＯ₂層３１の表面にシラノール基を生成できるので、反射防止層３と防汚層４との化学的密着性（化学結合）を向上できる。蒸着終了後、真空蒸着装置１００からレンズサンプル１０を取り出し、反転して再び投入し、上記の工程を同じ手順で繰り返し、ゲルマニウム層を含む反射防止層３の成膜および防汚層４の成膜を行った。その後、レンズサンプル１０を真空蒸着装置１００から取り出した。

実施例１のサンプルＳ１は、プラスチックレンズであるレンズ基材１の両面にハードコート層２、ゲルマニウムを蒸着した導電層３３を層内に含む反射防止層３、および防汚層４を備えている。

２．２ 実施例２（サンプルＳ２）
実施例２として、レンズ基材１として透明な白板ガラス（Ｂ２７０）を採用し、このレンズ基材１の上に、ハードコート層２を成膜せず、レンズ基材１の上に直に、実施例１と同様の成膜条件で低屈折率層３１として二酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）層の１、３、５および８層と、高屈折率層３２として酸化チタン（ＴｉＯ₂）層の２、４および６層とを交互に積層して反射防止層３を製造した。さらに、７層目に導電層３３を実施例１と同じ条件で成膜した。また、反射防止層３の上に防汚層４を形成した。

２．３ 実施例３および４（レンズサンプルＳ３およびガラスサンプルＳ４）
プラスチックレンズをレンズ基材１として用いたサンプルＳ３と、白板ガラスをレンズ基材１として用いたサンプルＳ４とを、それぞれ実施例１および実施例２と同様に製造した。ただし、導電層３３の成膜条件を以下のように変更した。
（導電層３３の成膜条件）
下側の層（第１の層）：ＴｉＯ₂、 蒸着源：金属Ｇｅ
成膜レート：０．１ｎｍ／ｓｅｃ、 蒸着時間：１０ｓｅｃ
イオンアシスト蒸着：有り、 イオンのエネルギー：５００ｅＶ
（ガス種：アルゴン、ビーム電流：１５０ｍＡ、バイアス電流：２５０ｍＡ）

２．４ 実施例５および６（レンズサンプルＳ５およびガラスサンプルＳ６）
プラスチックレンズをレンズ基材１として用いたサンプルＳ５と、白板ガラスをレンズ基材１として用いたサンプルＳ６とを、それぞれ実施例１および実施例２と同様に製造した。ただし、導電層３３の成膜条件を以下のように変更した。
（導電層３３の成膜条件）
下側の層（第１の層）：ＴｉＯ₂、 蒸着源：金属Ｇｅ
成膜レート：０．１ｎｍ／ｓｅｃ、 蒸着時間：１０ｓｅｃ
イオンアシスト蒸着：有り、 イオンのエネルギー：８００ｅＶ
（ガス種：アルゴン、ビーム電流：１５０ｍＡ、バイアス電流：２５０ｍＡ）

２．５ 比較例１（サンプルＲ１）
上記の実施例により得られたレンズサンプルと比較するために、この比較例１では、プラスチックレンズをレンズ基材１として用いたサンプルＲ１を実施例１と同様に製造した。ただし、導電層は酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）とした。成膜条件は以下の通りである。また、１層目から６層目および８層目の各膜厚（ｎｍ）は、２８．４、６．７、２０４．３、２３．２、３５．７、２６．７、９９．５とした。
（導電層３３の成膜条件）
下側の層（第１の層）：ＴｉＯ₂、 蒸着源：ＩＴＯ
成膜レート：０．１ｎｍ／ｓｅｃ、 膜厚：２．５ｎｍ
イオンアシスト蒸着：有り、 イオンのエネルギー：５００ｅＶ
（ガス種：酸素、ビーム電流：２５０ｍＡ、バイアス電流：３５０ｍＡ）

２．６ 比較例２および３（レンズサンプルＲ２およびガラスサンプルＲ３）
プラスチックレンズをレンズ基材１として用いたサンプルＲ２と、白板ガラスをレンズ基材１として用いたサンプルＲ３とを、それぞれ実施例１および実施例２と同様に製造した。ただし、導電層３３は形成しなかった。

３． 上記サンプルＳ１〜Ｓ６およびＲ１〜Ｒ３の評価
上記により製造されたサンプルＳ１〜Ｓ６およびＲ１〜Ｒ３のシート抵抗および透明性について評価した。

３．１ シート抵抗の測定
図５（Ａ）および（Ｂ）に、各サンプルのシート抵抗を測定する様子を示している。この例では、測定対象、たとえば、レンズサンプル１０の表面１０Ａにリングプローブ６１を接触し、レンズサンプル１０の表面１０Ａのシート抵抗を測定した。測定装置６０は、三菱化学（株）製高抵抗抵抗率計ハイレスタＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０型を使用した。使用したリングプローブ６１は、ＵＲＳタイプであり、２つの電極を有し、外側のリング電極６１ａは外径１８ｍｍ、内径１０ｍｍであり、内側の円形電極６１ｂは直径７ｍｍである。それらの電極間に１０００Ｖ〜１０Ｖの電圧を印加し、各サンプルのシート抵抗を計測した。図４に、各サンプルの製造から２４時間経過後のシート抵抗の測定値を示している。

３．２ 透明性の観測
各サンプルを目視により透明性を評価した。図４に各サンプルの評価を示している。

３．３ 評価
まず、ゲルマニウムをイオンアシストなしで蒸着したサンプルＳ１およびＳ２については、透明ではあるが、薄茶色の若干の着色が認められた。それ以外のサンプルにおいては、ほとんど透明性の低下は見られなかった。したがって、ゲルマニウムを蒸着することにより得られた導電層３３は、光の透過性が高く、導電層３３は透光性（透明）があると言える。また、サンプルＳ１およびＳ２については、薄茶色の若干の着色が認められたこと、および、イオンアシストなしでゲルマニウムを蒸着したことより、第１の層（下側の層）であるＴｉＯ₂層３２の表面に、ゲルマニウムを主成分とする層が導電層３３として形成されている可能性が高いと判断される。

一方、ゲルマニウムを、イオンアシストを用いて蒸着したサンプルＳ３、Ｓ４、Ｓ５およびＳ６については、着色は認められなかった。これらのサンプルについては、下側の層（第１の層）であるＴｉＯ₂層３２の表面に、イオンアシスト蒸着により、ゲルマニウムを蒸着して打ち込むことにより、ゲルマニウム原子がミキシング効果により、ＴｉＯ₂層３２の表層領域においてチタンと化学反応しゲルマニド（ＴｉＧｅ）を形成している可能性が高いと考えられる。したがって、これらのサンプルＳ３〜Ｓ６の導電層３３は、ゲルマニウムと遷移金属であるチタンとが化学反応した化合物であるチタンゲルマニドを主成分とする層であると考えられる。導電層３３に含まれるチタンゲルマニドとしては、ＴｉＧｅ、ＴｉＧｅ₂、Ｔｉ₅Ｇｅ₃、Ｔｉ₆Ｇｅ₅のいずれか、または複数が含まれていると考えられる。

次に、導電層３３を形成していないサンプルＲ２およびＲ３のシート抵抗の測定値が５×１０13Ω／□であり、反射防止層３にＩＴＯ層を含めたレンズサンプルＲ１のシート抵抗の測定値は２×１０13Ω／□であるのに対し、サンプルＳ１〜Ｓ６のシート抵抗の測定値は５×１０9Ω／□〜４×１０11Ω／□となった。したがって、ゲルマニウムによる処理を行ったサンプルＳ１〜Ｓ６においては、シート抵抗の測定値が２桁〜４桁（１０ ² 〜１０⁴）程度低下した。

特に、導電層３３としてゲルマニドを主成分とする層が形成されていると予想されるサンプルＳ３〜Ｓ６については、着色も認められず、光学物品として重要な透明性にほとんど影響を与えずに、シート抵抗の測定値を５×１０⁹Ω／□〜４×１０¹¹Ω／□程度まで低下できている。

これらの結果より、反射防止層３の１つの層の表面をゲルマニウムにより処理することにより、レンズ、カバーガラスなどの光学物品のシート抵抗を低減できることが分かる。光学物品のシート抵抗を低減できることによる典型的な効果は、帯電防止および電磁波遮蔽である。たとえば、眼鏡用のレンズにおいて帯電防止性の有無の目安は、ごみの付着がみられにくくなるシート抵抗が１×１０¹²Ω／□以下であると考えられている。上記のサンプルＳ１〜Ｓ６は、上記の測定方法で測定されたシート抵抗が１×１０¹²Ω／□以下であり、優れた帯電防止性を備えていることが分かる。

さらに、ゲルマニウムは、真空蒸着時の蒸発温度が低く、蒸着しやすい物質である。反射防止層３の低屈折率層３１に多用されるシリコンと比較しても、さらに蒸発温度が低く蒸着しやすい。また、ゲルマニウムは、蒸着する際に加熱したときに溶融が容易で突沸が起きにくく、材料の反応性が高くないために蒸発が容易で、ハースも不問となる。したがって、ゲルマニウムを用いて導電層３３を成膜することは、反射防止層３の低屈折率層３１を成膜することとほとんど同様、または、さらに容易であり、金あるいは銀などの貴金属を用いて導電層を製造する場合と比較すると、製造上の容易さおよび経済的なメリットは大きいと考えられる。

また、ゲルマニウムおよびゲルマニドは、シリコンおよびシリサイドとほぼ同様に酸およびアルカリに対して安定しており、ＩＴＯ、銀などのように腐食による剥れが発生する可能性は少ない。したがって、ゲルマニウムを用いて成膜された導電層３３を含む反射防止層３を有する光学物品を提供することにより、帯電防止性能に優れ、さらに、耐久性および信頼性の高い光学物品を提供できると考えられる。

４． 他の実施例
４．１ 実施例７（サンプルＳ７）
上記の実施例１と同様にプラスチックレンズをレンズ基材１として、ハードコート層２を成膜した。さらに、低屈折率層３１および高屈折率層３２を成膜した。

ただし、図６に示すように、この実施例７においては、二酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）層を低屈折率層３１とし、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）層を高屈折率層３２として反射防止層３を成膜した。すなわち、１層目、３層目、６層目および８層目が低屈折率層３１であり、二酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）をイオンアシストは行わず真空蒸着することによりＳｉＯ₂層３１を成膜した。

２層目、４層目および７層目が高屈折率層３２であり、酸化ジルコニウムを蒸着することによりＺｒＯ₂層３２を成膜した。なお、５層目は、以下で説明するように導電層３３である。

図７に、ＳｉＯ₂層３１およびＺｒＯ₂層３２の各層の成膜条件および膜厚を示している。なお、このレンズサンプル１０では、ハードコート層２の屈折率が１．６５、ＳｉＯ₂層３１の屈折率が１．４６２、ＺｒＯ₂層３２の屈折率が２．０５８である。

この実施例７では、１層目から４層目まで積層した後、５層目（導電層３３）として、Ｇｅ（ゲルマニウム）を、以下の条件で蒸着した。すなわち、４層目（ＺｒＯ₂層３２）を成膜後、その４層目を下側の層（第１の層）としてＧｅ（ゲルマニウム）を真空蒸着により成膜し、４層目であるＺｒＯ₂層３２の上に導電層３３を５層目として形成した。この導電層３３の上に、さらに、６層目から８層目を成膜した。
（導電層３３の成膜条件）
下側の層（第１の層）：ＺｒＯ₂、ただし、ＴｉＯ_xの層を下地層として、下側の層（第１の層、４層目）の上に形成した後に、ゲルマニウムを蒸着した。
（下地層：蒸着源ＴｉＯ_x、真空蒸着（イオンアシストなし）、膜厚：２ｎｍ）
蒸着源：金属Ｇｅ
成膜レート：０．１２５ｎｍ／ｓｅｃ、 蒸着時間：１２ｓｅｃ
イオンアシスト蒸着：有り、 イオンのエネルギー：１０００ｅＶ
（ガス種：アルゴン、ビーム電流：１５０ｍＡ）
さらに、実施例１と同様に反射防止層３の上に防汚層４を成膜した。

４．２ 実施例８（サンプルＳ８）
実施例８として、実施例２と同様に、レンズ基材１として透明な白板ガラス（Ｂ２７０）を採用した。この実施例８では、レンズ基材１の上に、ハードコート層２を成膜せず（レンズ基材１の上に直に）、実施例７と同様の成膜条件で低屈折率層３１として二酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）層の１、３、６および８層目と、高屈折率層３２として酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）層の２、４および７層目とを交互に積層して反射防止層３を製造した。さらに、５層目に導電層３３を実施例７と同じ条件で成膜した。また、反射防止層３の上に防汚層４を形成した。

４．３ 実施例９および１０（レンズサンプルＳ９およびガラスサンプルＳ１０）
プラスチックレンズをレンズ基材１として用いたサンプルＳ９と、白板ガラスをレンズ基材１として用いたサンプルＳ１０とを、それぞれ実施例７および実施例８と同様に製造した。ただし、導電層３３の成膜条件を以下のように変更した。
（導電層３３の成膜条件）
下側の層（第１の層）：ＺｒＯ₂、ただし、ＴｉＯ_xの層を下地層として、下側の層（第１の層、４層目）の上に形成した後に、ゲルマニウムを蒸着した。
（下地層：蒸着源ＴｉＯ_x、真空蒸着（イオンアシストなし）、膜厚：１ｎｍ）
蒸着源：金属Ｇｅ
成膜レート：０．０６２５ｎｍ／ｓｅｃ、 蒸着時間：８ｓｅｃ
イオンアシスト蒸着：有り、 イオンのエネルギー：６００ｅＶ
（ガス種：アルゴン、ビーム電流：１５０ｍＡ）

４．４ 実施例１１および１２（レンズサンプルＳ１１およびガラスサンプルＳ１２）
プラスチックレンズをレンズ基材１として用いたサンプルＳ１１と、白板ガラスをレンズ基材１として用いたサンプルＳ１２とを、それぞれ実施例７および実施例８と同様に製造した。ただし、導電層３３の成膜条件を以下のように変更した。
（導電層３３の成膜条件）
下側の層（第１の層）：ＺｒＯ₂、ただし、ＴｉＯ_xの層を下地層として、下側の層（第１の層、４層目）の上に形成した後に、ゲルマニウムを蒸着した。
（下地層：蒸着源ＴｉＯ_x、真空蒸着（イオンアシストなし）、膜厚：１ｎｍ）
蒸着源：金属Ｇｅ
成膜レート：０．０２５ｎｍ／ｓｅｃ、 蒸着時間：８ｓｅｃ
イオンアシスト蒸着：有り、 イオンのエネルギー：６００ｅＶ
（ガス種：アルゴン、ビーム電流：１５０ｍＡ）

４．５ 実施例１３および１４（レンズサンプルＳ１３およびガラスサンプルＳ１４）
プラスチックレンズをレンズ基材１として用いたサンプルＳ１３と、白板ガラスをレンズ基材１として用いたサンプルＳ１４とを、それぞれ実施例７および実施例８と同様に製造した。ただし、導電層３３の成膜条件を以下のように変更した。
（導電層３３の成膜条件）
下側の層（第１の層）：ＺｒＯ₂、 蒸着源：金属Ｇｅ
成膜レート：０．０２５ｎｍ／ｓｅｃ、 蒸着時間：８ｓｅｃ
イオンアシスト蒸着：なし

４．６ 実施例１５および１６（レンズサンプルＳ１５およびガラスサンプルＳ１６）
プラスチックレンズをレンズ基材１として用いたサンプルＳ１５と、白板ガラスをレンズ基材１として用いたサンプルＳ１６とを、それぞれ実施例７および実施例８と同様に製造した。ただし、導電層３３の成膜条件を以下のように変更した。
（導電層３３の成膜条件）
下側の層（第１の層）：ＺｒＯ₂、 蒸着源：金属Ｇｅ
成膜レート：０．１２５ｎｍ／ｓｅｃ、 蒸着時間：８ｓｅｃ
イオンアシスト蒸着：有り、 イオンのエネルギー：８００ｅＶ
（ガス種：アルゴン、ビーム電流：１５０ｍＡ）

４．７ 比較例４（サンプルＲ４）
上記の実施例により得られたサンプルと比較するために、この比較例４では、ガラス基板をレンズ基材１として用いたサンプルＲ４を実施例７と同様に製造した。ただし、導電層３３は形成しなかった。すなわち、反射防止層３は５層目の導電層３３を含まない全体で７層構造であり、その他は図７に示した通りである。したがって、１層目から７層目の各膜厚（ｎｍ）は小数点以下を四捨五入すると、２８、８、２０８、３５、２１、５７、９５である。

５． 上記サンプルＳ７〜Ｓ１６およびＲ４の評価
上記により製造されたサンプルＳ７〜Ｓ１６およびＲ４のシート抵抗および吸収損失について評価した。シート抵抗は、上記３．１と同様に測定した。

吸収損失については、ガラスサンプルＳ１０、Ｓ１２、Ｓ１４およびＳ１６について測定し、ガラスサンプルＲ４の吸収損失と比較した。光吸収損失の測定には、日立製分光光度計Ｕ−４１００を使用した。分光光度計を用いて反射率と透過率を測定し、（Ａ）式にて６００ｎｍ付近の吸収率を算出した。
吸収率（吸収損失）＝１００％−透過率−反射率 ・・・・（Ａ）

シート抵抗の値と吸収率との測定値を図８に纏めて示している。まず、図８に、各サンプルの製造から２４時間経過後の測定値を示している。ただし、サンプルＳ１５およびＳ１６のシート抵抗は、サンプル製造直後のデータを示している。

まず、吸収損失の測定結果から分かるように、茶色の着色がみられたサンプルＳ８を除き、比較例のサンプルＲ４に対して吸収損失の増加はほとんど見られず、導電層３３を形成したことによる透光性（透明性、透過性）の悪化はほとんど見られなかった。したがって、これらの例においても、ゲルマニウムを蒸着することにより成膜された導電層３３は、光の透過性が高く、透光性（透明）であると言える。また、これらのサンプルで測定された光の吸収損失の増加は２％程度であり、眼鏡レンズとして特に支障はないレベルである。

シート抵抗の測定値においては、導電層を有しないガラスサンプルＲ４ではシート抵抗の測定値が５×１０¹⁴Ω／□なのに対し、ゲルマニウムを蒸着することにより成膜された導電層３３を含むサンプルではシート抵抗の測定値が４×１０¹³Ω／□より低い値に下がった。したがって、ゲルマニウムを蒸着することにより成膜された導電層３３を有する光学物品は、これらの例においても、導電性が高く、帯電防止性能を備えている。

ＴｉＯ_x層を下地層として形成した後にゲルマニウムをイオンアシスト蒸着法により蒸着したサンプルＳ７〜Ｓ１２においては、先に説明したようにゲルマニド（ＴｉＧｅ、ＺｒＧｅ）を含む導電層３３が成膜されていると考えられる。これらのサンプルＳ７〜Ｓ１２においては、シート抵抗の測定値が１×１０⁹Ω〜１×１０¹⁰Ω／□となり、４桁〜５桁（１０⁴〜１０⁵）程度、シート抵抗が低下するという結果が得られた。したがって、ＴｉＯ₂／ＳｉＯ₂系と同様に、ＺｒＯ₂／ＳｉＯ₂系の反射防止層においても、ゲルマニウムを蒸着することにより成膜される導電層３３を設けることにより、たとえば、眼鏡用のレンズにおいて帯電防止性の有無の目安とされるシート抵抗値が１×１０¹²Ω／□以下の光学物品を提供できることが分かる。

以上のように、ゲルマニウムを主成分とする層を反射防止層３に含めることにより、膜厚が数ｎｍあるいはそれ以下の薄膜であっても、シート抵抗が低下し、反射防止層３の光の透過性にほとんど影響を与えずに、帯電防止機能が得られることが分かった。さらに、ゲルマニウムをイオンアシスト蒸着などによりチタンなどの遷移金属を含む層に打ち込むことにより、シート抵抗をいっそう低下できることが分かった。ゲルマニウムをイオンアシスト蒸着などによりチタンなどの遷移金属を含む層に打ち込むことにより、ゲルマニド（金属間化合物）が形成できるためと考えられ、ゲルマニドの合成効率とシート抵抗の低下とはほぼ比例関係にある可能性がある。また、イオンアシストのエネルギーが高いほど、ゲルマニドの合成効率が向上すると考えられる。

さらに、ゲルマニウムおよびゲルマニドは、酸およびアルカリの侵食をほとんどうけず、上記の導電層３３も優れた耐薬品性を示すはずである。そして、上記の導電層３３を導入することにより、シート抵抗が１２乗以下となることが確認でき、帯電防止機能、特に、ごみの付着を防止するために望ましい帯電防止機能を備えた光学物品を製造できることが確認できた。

なお、上記では下地層としてＴｉＯ_xを用いる例で説明したが、ＴｉＯ₂を用いることも可能である。

なお、上記の実施例で示した反射防止層の層構造は幾つかの例にすぎず、本発明がそれらの層構造に限定されることはない。たとえば、７層以下、あるいは９層以上の反射防止層に適用することも可能であり、反射防止層に含まれる導電層は１つに限定されない。また、高屈折率層と低屈折率層の組み合わせは、ＴｉＯ₂／ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂／ＳｉＯ₂に限定されることはなく、Ｔａ₂Ｏ₅／ＳｉＯ₂、ＮｄＯ₂／ＳｉＯ₂、ＨｆＯ₂／ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃／ＳｉＯ₂などの系のいずれかの層の表面にゲルマニウムを含む導電層を形成することが可能である。

また、上記にて説明した無機系の反射防止層だけでなく、有機系の反射防止層にも本発明を適用することが可能である。たとえば、有機系の反射防止層に厚さ数ｎｍ程度のＴｉＯ_x層（或いはＴｉＯ₂層）を下地層として成膜した後にゲルマニウムをイオンアシスト蒸着により打ち込み、ゲルマニドを含む導電層を形成することが可能である。

図９に、ゲルマニウムを含む導電層を備えた眼鏡レンズとしてのレンズ１０と、そのレンズ１０が装着されたフレーム２０１とを含む眼鏡２００を示している。また、図１０に、ゲルマニウムを含む導電層を備えた投射レンズ２１１と、ゲルマニウムを含む導電層を備えたカバーガラス２１２と、投射レンズ２１１およびカバーガラス２１２とを通して投影する光を生成する画像形成装置、たとえばＬＣＤ２１３とを備えたプロジェクタ２１０を示している。また、図１１に、ゲルマニウムを含む導電層を備えた撮像レンズ２２１と、ゲルマニウムを含む導電層を備えたカバーガラス２２２と、撮像レンズ２２１およびカバーガラス２２２を通して画像を取得するための撮像装置、たとえばＣＣＤ２２３とを備えたデジタルカメラ２２０を示している。また、図１２に、ゲルマニウムを含む導電層を備えた透過層２３１と、光学的な方法により記録を読み書きできる記録層２３２とを備えた記録媒体、たとえばＤＶＤ２３０を示している。

本発明により、これらのシステムに適用できる光学物品、たとえば、レンズ、ガラス、プリズム、カバー層であって、ごみの付着を防止できる帯電防止機能を備えた光学物品を提供できる。また、上記に示したシステムは例示にすぎず、当業者が本発明を利用しうる光学物品およびシステムは、本発明に含まれるものである。

１ レンズ基材、２ ハードコート層、３ 反射防止層、４ 防汚層、１０ レンズサンプル。

Claims (8)

1. 光学基材に直にまたは他の層を介して形成された反射防止層を有する光学物品の製造方法であって、
   前記反射防止層に含まれる第１の層であってゲルマニウムと化合物を形成可能な遷移金属を含む層を形成することと、
   前記第１の層の表面にゲルマニウムを蒸着することにより透光性の導電層を形成することと、
   を有する、光学物品の製造方法。
2. 請求項１において、
   前記蒸着により、前記第１の層の表層領域にゲルマニウムが打ち込まれる、
   光学物品の製造方法。
3. 請求項１または請求項２において、
   前記蒸着は、イオンアシスト蒸着である、
   光学物品の製造方法。
4. 光学基材と、
   前記光学基材に直にまたは他の層を介して形成された、第１の層を含む反射防止層と、
   を有し、
   前記第１の層は、ゲルマニウムと化合物を形成可能な遷移金属を含み、
   前記第１の層の表面にゲルマニウムを蒸着することにより形成された透光性の導電層を有する、
   光学物品。
5. 請求項４において、
   前記第１の層の表層領域にゲルマニウムが打ち込まれている、
   光学物品。
6. 請求項４または請求項５において、
   前記反射防止層は多層膜であり、
   前記第１の層は、前記多層膜を構成する１つの層である、
   光学物品。
7. 請求項４ないし請求項６のいずれか１項において、
   前記導電層に直にまたは他の層を介して形成された防汚層をさらに有し、かつ、
   眼鏡レンズである、
   光学物品。
8. 請求項４ないし請求項７のいずれか１項において、
   前記光学基材は、眼鏡用のプラスチックレンズ基材であり、かつ、
   眼鏡レンズである、
   光学物品。

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