JP4793011B2 - 反射防止膜形成方法 - Google Patents
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Description
膜を蒸着する際、基材温度を100℃以上180℃以下とする光学薄膜の製造方法が開示されている。
本発明にかかる製造方法の実施の形態を図1に基づいて説明する。図1に示す真空蒸着装置の真空チャンバー1の下部には、蒸着材料5を入れる蒸着源4が備えられている。また、真空チャンバー1の上部には、基板2を保持する基板ホルダー3と、基板2を加熱する基板加熱用ヒータ6が備えられている。
この基板の第一面に屈折率の異なる材料の膜をYF3膜の下、もしくは上に反射率を制御する目的で1層、必要により2層以上蒸着することがある。この場合、多層膜の蒸着材料としては高屈折率材料のGe、中屈折率材料のZnS、ZnSe、低屈折率材料のY2O3、CeF3、Ce2O3などの中から適宜選択する。
Claims (2)
- Ge基板に金属フッ化物のYF3の薄膜を蒸着し反射防止膜を形成する反射防止膜形成方法であって、
前記基板の基板温度を150℃とし、前記基板の一方の基板面上にYF3の薄膜を形成する第1の工程と、
第1の工程の後に、前記基板の基板温度を100〜125℃とし、前記基板の他方の基板面上にYF3の薄膜を形成する第2の工程と、
を有することを特徴とする反射防止膜形成方法。 - Ge基板に金属フッ化物のYF3を含む薄膜を蒸着し反射防止膜を形成する反射防止膜形成方法であって、
前記基板の基板温度を150℃とし、前記基板の一方の基板面上に、ZnS、Ge、ZnS、YF3、ZnSの薄膜を順に形成する第1の工程と、
第1の工程の後に、前記基板の基板温度を100〜125℃とし、前記基板の他方の基板面上に、ZnS、Ge、ZnS、YF3、ZnSの薄膜を順に形成する第2の工程と、
を有することを特徴とする反射防止膜形成方法。
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