JPH08310840A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
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- JPH08310840A JPH08310840A JP7116823A JP11682395A JPH08310840A JP H08310840 A JPH08310840 A JP H08310840A JP 7116823 A JP7116823 A JP 7116823A JP 11682395 A JP11682395 A JP 11682395A JP H08310840 A JPH08310840 A JP H08310840A
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- chalcogenide glass
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- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 カルコゲナイドガラス或いはカルコゲナイド
ガラスファイバに対する付着力、耐環境性及び耐光性に
優れた反射防止膜を提供する。 【構成】 カルコゲナイドガラス基材表面またはカルコ
ゲナイドガラスファイバの端面に形成される反射防止膜
を、低屈折率層と高屈折率層との少なくとも２層から構
成し、低屈折率層はＣaＦ2とし、高屈折率層はＺnＳe、
ＺnＳ、カルコゲナイドガラスのうちの一つ又は二つ以
上よりなるものとした。
ガラスファイバに対する付着力、耐環境性及び耐光性に
優れた反射防止膜を提供する。 【構成】 カルコゲナイドガラス基材表面またはカルコ
ゲナイドガラスファイバの端面に形成される反射防止膜
を、低屈折率層と高屈折率層との少なくとも２層から構
成し、低屈折率層はＣaＦ2とし、高屈折率層はＺnＳe、
ＺnＳ、カルコゲナイドガラスのうちの一つ又は二つ以
上よりなるものとした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、カルコゲナイドガラス
基材表面若しくはカルコゲナイドガラスファイバの端面
に形成される反射防止膜に関する。
基材表面若しくはカルコゲナイドガラスファイバの端面
に形成される反射防止膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】カルコゲナイドガラスは機械的強度、耐
環境性、耐化学性などにすぐれた赤外透過材料であるの
で、赤外線応用システム光学系の窓材、レンズ材その他
への応用が期待されている。また、カルコゲナイドガラ
ス光ファイバは、ＫＲＳ−５（ＴlＢr−ＴlＩ）などの
結晶性ファイバと比較すると紡糸が容易であり、機械的
強度、可撓性、耐環境性に優れるという数々の長所を有
する。従ってカルコゲナイドガラスファイバは優れた赤
外線伝送路として、放射温度計、赤外分光分析、高エネ
ルギーレーザー光の伝送（金属加工や医療への応用）な
ど、種々の実用化検討がされている。
環境性、耐化学性などにすぐれた赤外透過材料であるの
で、赤外線応用システム光学系の窓材、レンズ材その他
への応用が期待されている。また、カルコゲナイドガラ
ス光ファイバは、ＫＲＳ−５（ＴlＢr−ＴlＩ）などの
結晶性ファイバと比較すると紡糸が容易であり、機械的
強度、可撓性、耐環境性に優れるという数々の長所を有
する。従ってカルコゲナイドガラスファイバは優れた赤
外線伝送路として、放射温度計、赤外分光分析、高エネ
ルギーレーザー光の伝送（金属加工や医療への応用）な
ど、種々の実用化検討がされている。
【０００３】しかし、カルコゲナイドガラスは以下の
（表１）に示すとおり屈折率が大きいので表面反射率
（多重反射率）が非常に大きくなる。尚、（表１）にお
けるカルコゲナイドガラスを構成する元素の添数字はat
m％を表わす。ただし、Ａs2Ｓ3はＡs40Ｓ60と同意であ
る。
（表１）に示すとおり屈折率が大きいので表面反射率
（多重反射率）が非常に大きくなる。尚、（表１）にお
けるカルコゲナイドガラスを構成する元素の添数字はat
m％を表わす。ただし、Ａs2Ｓ3はＡs40Ｓ60と同意であ
る。
【０００４】
【表１】
【０００５】上記の表面反射損失を無くすかあるいは低
減するためには、カルコゲナイドガラス表面あるいはカ
ルコゲナイドガラスファイバ端面に反射防止膜（ＡＲ
膜）を設ける必要がある。これによりカルコゲナイドガ
ラスおよびカルコゲナイドガラスファイバの透過率を大
幅に改善して、測定、分析の精度を向上することができ
る。
減するためには、カルコゲナイドガラス表面あるいはカ
ルコゲナイドガラスファイバ端面に反射防止膜（ＡＲ
膜）を設ける必要がある。これによりカルコゲナイドガ
ラスおよびカルコゲナイドガラスファイバの透過率を大
幅に改善して、測定、分析の精度を向上することができ
る。
【０００６】特に、カルコゲナイドガラスファイバを高
エネルギーレーザー光の伝送路として用いる場合、ファ
イバへのレーザー入射パワーを少しでも小さくしてファ
イバへの負担を軽減する必要がある。このためにファイ
バの入出射端面に反射防止膜を設けて伝送路の透過効率
を高くすることは非常に有効である。その場合、高エネ
ルギーレーザー光をレンズで絞ってファイバ端面に入射
させるため、入射端面は非常に高いエネルギー密度とな
る。従って、このエネルギー伝送路端面に形成する反射
防止膜は、高エネルギーレーザー光に対する耐光性が非
常に重要である。
エネルギーレーザー光の伝送路として用いる場合、ファ
イバへのレーザー入射パワーを少しでも小さくしてファ
イバへの負担を軽減する必要がある。このためにファイ
バの入出射端面に反射防止膜を設けて伝送路の透過効率
を高くすることは非常に有効である。その場合、高エネ
ルギーレーザー光をレンズで絞ってファイバ端面に入射
させるため、入射端面は非常に高いエネルギー密度とな
る。従って、このエネルギー伝送路端面に形成する反射
防止膜は、高エネルギーレーザー光に対する耐光性が非
常に重要である。
【０００７】このような、要求に応えるべく特開昭６４
−１５７０３号公報では、低屈折率層がＹＦ3からな
り、高屈折率層がＧe、ＺnＳ、ＺnＳeもしくはＡsＳe又
はそれらの交互層からなる赤外光用光学薄膜を提案して
いる。
−１５７０３号公報では、低屈折率層がＹＦ3からな
り、高屈折率層がＧe、ＺnＳ、ＺnＳeもしくはＡsＳe又
はそれらの交互層からなる赤外光用光学薄膜を提案して
いる。
【０００８】また、雑誌（光技術コンタクトＶｏｌ．２
５、Ｎｏ．１、１９８７）では、宮田らがＫＣl基板上
にＡsＳ／ＰbＦ2／ＡsＳからなる３層反射防止膜を設け
ること、およびＫＲＳ−５ファイバ上にＡsＳe／ＫＣl
／ＡsＳeなる３層反射防止膜を設けることを提案してい
る。
５、Ｎｏ．１、１９８７）では、宮田らがＫＣl基板上
にＡsＳ／ＰbＦ2／ＡsＳからなる３層反射防止膜を設け
ること、およびＫＲＳ−５ファイバ上にＡsＳe／ＫＣl
／ＡsＳeなる３層反射防止膜を設けることを提案してい
る。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】特開昭６４−１５７０
３号公報にあっては、１０μｍ帯用のみの検討であり、
ＣＯレーザー（５．３μｍ）や各種有機物の分光分析に
必要なより短波長用の光学薄膜については検討されてい
ない。またファイバ端面への薄膜形成についても述べら
れておらず、レーザー光に対する耐光性は全く不明であ
る。
３号公報にあっては、１０μｍ帯用のみの検討であり、
ＣＯレーザー（５．３μｍ）や各種有機物の分光分析に
必要なより短波長用の光学薄膜については検討されてい
ない。またファイバ端面への薄膜形成についても述べら
れておらず、レーザー光に対する耐光性は全く不明であ
る。
【００１０】また、雑誌（光技術コンタクト）に記載さ
れた先行例にあっては、カルコゲナイドガラス基材用の
反射防止膜は検討されていない。基材が変われば屈折
率、熱膨張係数、ぬれ性などが異なるため最適な膜材
質、多層膜構成も当然変わってくる。また、ＫＲＳ−５
ファイバ用ＡＲ膜におけるＫＣlは水に弱いため耐環境
性が悪いという欠点がある。
れた先行例にあっては、カルコゲナイドガラス基材用の
反射防止膜は検討されていない。基材が変われば屈折
率、熱膨張係数、ぬれ性などが異なるため最適な膜材
質、多層膜構成も当然変わってくる。また、ＫＲＳ−５
ファイバ用ＡＲ膜におけるＫＣlは水に弱いため耐環境
性が悪いという欠点がある。
【００１１】その他、いくつか赤外域の反射防止膜の提
案、報告はあるが、カルコゲナイドガラス用またはカル
コゲナイドガラスファイバ用としての報告は無く、技術
は未だ確立されていない。またハイパワーレーザーに対
する高い耐光性の報告例もない。
案、報告はあるが、カルコゲナイドガラス用またはカル
コゲナイドガラスファイバ用としての報告は無く、技術
は未だ確立されていない。またハイパワーレーザーに対
する高い耐光性の報告例もない。
【００１２】一般に薄膜は内部欠陥や不純物を多く含む
ため、レーザに対する吸収係数が大きく、高エネルギー
のレーザを入射すると大きな吸収・発熱が起こり膜が損
傷に至りやすい。この場合、膜厚に比例してレーザ光の
吸収量が増すので、薄膜の膜厚はできるだけ薄いほう
が、損傷に対して有利である。また膜厚が厚くなると、
成膜時の残留応力のため膜強度、付着力が弱くなりやす
く、この点からも膜厚はなるべく薄いほうがよい。
ため、レーザに対する吸収係数が大きく、高エネルギー
のレーザを入射すると大きな吸収・発熱が起こり膜が損
傷に至りやすい。この場合、膜厚に比例してレーザ光の
吸収量が増すので、薄膜の膜厚はできるだけ薄いほう
が、損傷に対して有利である。また膜厚が厚くなると、
成膜時の残留応力のため膜強度、付着力が弱くなりやす
く、この点からも膜厚はなるべく薄いほうがよい。
【００１３】また、反射防止膜を設計する場合、高屈折
率材料と低屈折率材料の適当なる組み合わせによる多層
膜構造とすることにより、単層膜（膜厚＝４分の１波長
（λ／４））の場合よりもトータルの膜厚を薄くするこ
とができる。
率材料と低屈折率材料の適当なる組み合わせによる多層
膜構造とすることにより、単層膜（膜厚＝４分の１波長
（λ／４））の場合よりもトータルの膜厚を薄くするこ
とができる。
【００１４】実際我々は、単層膜での検討も行ったが、
以下に述べる理由により良い結果は得られなかった。す
なわち、カルコゲナイドガラス用の反射防止膜を単層膜
で設計する場合、屈折率の制約により用いる材料はＣa
Ｆ2、ＹＦ3、ＰbＦ2などのフッ化物結晶が考えられる。
ところが、これらのλ／４単層膜では膜厚が比較的厚く
なってしまい、レーザー耐光性が低くなってしまう。さ
らに、一般的にフッ化物結晶は耐湿性が低い。我々の実
験でも、これらの単層膜が大気中の湿気により、時間と
ともにレーザー耐性が劣化してしまうことがわかった。
以下に述べる理由により良い結果は得られなかった。す
なわち、カルコゲナイドガラス用の反射防止膜を単層膜
で設計する場合、屈折率の制約により用いる材料はＣa
Ｆ2、ＹＦ3、ＰbＦ2などのフッ化物結晶が考えられる。
ところが、これらのλ／４単層膜では膜厚が比較的厚く
なってしまい、レーザー耐光性が低くなってしまう。さ
らに、一般的にフッ化物結晶は耐湿性が低い。我々の実
験でも、これらの単層膜が大気中の湿気により、時間と
ともにレーザー耐性が劣化してしまうことがわかった。
【００１５】これらの問題を解決するためには、多層膜
化してトータル膜厚を薄くし、また最表面膜を耐湿性の
良い材質とすることが有効と考えられた。また、レーザ
ー耐光性の高い反射防止膜を得るため、各材料の赤外域
における吸収係数、融点などの基本特性が重要である。
化してトータル膜厚を薄くし、また最表面膜を耐湿性の
良い材質とすることが有効と考えられた。また、レーザ
ー耐光性の高い反射防止膜を得るため、各材料の赤外域
における吸収係数、融点などの基本特性が重要である。
【００１６】本発明の目的は、膜付着力、耐環境性に優
れ、また耐光性の良いカルコゲナイドガラス用およびカ
ルコゲナイドガラスファイバ用の反射防止膜を提供する
ことにある。
れ、また耐光性の良いカルコゲナイドガラス用およびカ
ルコゲナイドガラスファイバ用の反射防止膜を提供する
ことにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明にあっては、カルコゲナイドガラス基材表面
またはカルコゲナイドガラスファイバの端面に形成され
る反射防止膜を、低屈折率層と高屈折率層との少なくと
も２層から構成し、低屈折率層はＣaＦ2とし、高屈折率
層はＺnＳe、ＺnＳ及びカルコゲナイドガラス（ＡsＳ
e、ＡsＳ、ＧeＳe、ＧeＳ、ＧeＳbＳe、ＧeＳbＳ、Ｇe
ＡsＳ）のうちの一つ又は二つ以上よりなるものとし
た。このような構成とすることで、ＣＯレーザー（波長
５．３μｍ）等のレーザ光及び波長が０．６〜１４μｍ
の光の反射防止に有効である。波長の範囲を０．６〜１
４μｍとしたのは、代表的カルコゲナイドガラス基材で
あるＡs2Ｓ3ガラスの短波長側透過限界が０．６μｍで
あり、また低屈折率層のＣaＦ2の長波長側透過限界が１
４μｍであるからである。
に、本発明にあっては、カルコゲナイドガラス基材表面
またはカルコゲナイドガラスファイバの端面に形成され
る反射防止膜を、低屈折率層と高屈折率層との少なくと
も２層から構成し、低屈折率層はＣaＦ2とし、高屈折率
層はＺnＳe、ＺnＳ及びカルコゲナイドガラス（ＡsＳ
e、ＡsＳ、ＧeＳe、ＧeＳ、ＧeＳbＳe、ＧeＳbＳ、Ｇe
ＡsＳ）のうちの一つ又は二つ以上よりなるものとし
た。このような構成とすることで、ＣＯレーザー（波長
５．３μｍ）等のレーザ光及び波長が０．６〜１４μｍ
の光の反射防止に有効である。波長の範囲を０．６〜１
４μｍとしたのは、代表的カルコゲナイドガラス基材で
あるＡs2Ｓ3ガラスの短波長側透過限界が０．６μｍで
あり、また低屈折率層のＣaＦ2の長波長側透過限界が１
４μｍであるからである。
【００１８】
【作用】低屈折率層がＣaＦ2からなり、高屈折率層がＺ
nＳe、ＺnＳ、ＡsＳ、ＡsＳe、ＧeＳe、ＧeＳ、ＧeＳb
Ｓe、ＧeＳbＳ、ＧeＡsＳのうちの一つ又は二つ以上よ
りなる多層膜をカルコゲナイドガラス基材あるいはカル
コゲナイドガラスファイバ端面に設けることにより、付
着力、耐環境性そしてレーザー耐光性に優れる赤外用反
射防止膜が得られる。
nＳe、ＺnＳ、ＡsＳ、ＡsＳe、ＧeＳe、ＧeＳ、ＧeＳb
Ｓe、ＧeＳbＳ、ＧeＡsＳのうちの一つ又は二つ以上よ
りなる多層膜をカルコゲナイドガラス基材あるいはカル
コゲナイドガラスファイバ端面に設けることにより、付
着力、耐環境性そしてレーザー耐光性に優れる赤外用反
射防止膜が得られる。
【００１９】
【実施例】次に本発明の方法を実施例に基づいて詳細に
説明する。 （実施例１）ＣＯレーザーパワー伝送用Ａs2Ｓ3ガラス
ファイバの反射防止膜として、種々の物質およびその組
み合わせ（多層化）を検討した。その中のＣaＦ2／Ｚn
Ｓe膜の例を以下に示す。（表２）にその概要を示す。
説明する。 （実施例１）ＣＯレーザーパワー伝送用Ａs2Ｓ3ガラス
ファイバの反射防止膜として、種々の物質およびその組
み合わせ（多層化）を検討した。その中のＣaＦ2／Ｚn
Ｓe膜の例を以下に示す。（表２）にその概要を示す。
【００２０】
【表２】
【００２１】基板として１０mmφ×４mmｔのＡs2Ｓ3ガ
ラスを用い、その両面を光学研磨した後、真空蒸着によ
りまず第１層目のＣaＦ2膜を基板温度１２０℃にて抵抗
加熱蒸着し、続いて第２層目のＺnＳe膜を同じく基板温
度１２０℃にて電子ビーム蒸着して、ＣaＦ2／ＺnＳeか
らなる２層反射防止膜を基板ガラス両面に施した。この
試料の透過スペクトルを分光光度計により測定した結果
を図１に示す。５．３μｍ（ＣＯレーザーの発振波長）
の透過率は反射防止膜のない場合の７２．６％に比べて
大幅に向上し、９８．０％とほとんど反射がないことが
わかる。
ラスを用い、その両面を光学研磨した後、真空蒸着によ
りまず第１層目のＣaＦ2膜を基板温度１２０℃にて抵抗
加熱蒸着し、続いて第２層目のＺnＳe膜を同じく基板温
度１２０℃にて電子ビーム蒸着して、ＣaＦ2／ＺnＳeか
らなる２層反射防止膜を基板ガラス両面に施した。この
試料の透過スペクトルを分光光度計により測定した結果
を図１に示す。５．３μｍ（ＣＯレーザーの発振波長）
の透過率は反射防止膜のない場合の７２．６％に比べて
大幅に向上し、９８．０％とほとんど反射がないことが
わかる。
【００２２】次にこの試料のＣＯレーザー耐光性を評価
した。直径３００μｍφに絞ったＣＯレーザーを膜表面
側より入射したところ、最大４８０Ｗの入射パワーでも
膜にダメージがなく、高いＣＯレーザー耐光性を有して
いた。また、膜の付着力、耐環境性も評価した結果、実
用上十分なレベルであった。
した。直径３００μｍφに絞ったＣＯレーザーを膜表面
側より入射したところ、最大４８０Ｗの入射パワーでも
膜にダメージがなく、高いＣＯレーザー耐光性を有して
いた。また、膜の付着力、耐環境性も評価した結果、実
用上十分なレベルであった。
【００２３】次に、この同じ反射防止膜を長さ１ｍ、コ
ア径１ｍｍφのＡs2Ｓ3ガラスファイバの両端面に成膜
し、反射防止膜付きファイバを作製した。この反射防止
膜付きファイバの片端よりＣＯレーザーを入射し、エネ
ルギー伝送実験を行った。その結果、最大入射パワー３
７０Ｗ、伝送パワー（出射パワー）３３０Ｗが得られ
た。また、この時の透過効率は８９．２％であるから、
損失分はほとんどファイバの透過損失であり、反射防止
膜が十分に機能していることも確認された。
ア径１ｍｍφのＡs2Ｓ3ガラスファイバの両端面に成膜
し、反射防止膜付きファイバを作製した。この反射防止
膜付きファイバの片端よりＣＯレーザーを入射し、エネ
ルギー伝送実験を行った。その結果、最大入射パワー３
７０Ｗ、伝送パワー（出射パワー）３３０Ｗが得られ
た。また、この時の透過効率は８９．２％であるから、
損失分はほとんどファイバの透過損失であり、反射防止
膜が十分に機能していることも確認された。
【００２４】以上の結果より、ＣaＦ2／ＺnＳeからなる
２層膜はカルコゲナイドガラス及びカルコゲナイドガラ
スファイバ用の優れた反射防止膜であることがわかる。
特に、ＣＯレーザーパワー伝送用のカルコゲナイドガラ
スファイバの反射防止膜として高い耐光性を有してい
る。
２層膜はカルコゲナイドガラス及びカルコゲナイドガラ
スファイバ用の優れた反射防止膜であることがわかる。
特に、ＣＯレーザーパワー伝送用のカルコゲナイドガラ
スファイバの反射防止膜として高い耐光性を有してい
る。
【００２５】（実施例２）つぎにＣaＦ2／ＺnＳ膜の例
を以下に示す。（表３）にその概要を示す。
を以下に示す。（表３）にその概要を示す。
【００２６】
【表３】
【００２７】基板として１０ｍｍφ×４ｍｍｔのＡs2Ｓ
3ガラスを用い、その両面を光学研磨した後、真空蒸着
によりまず第１層目のＣaＦ2膜 を基板温度１２０℃に
て抵抗加熱蒸着し、続いて第２層目のＺnＳ膜を基板温
度７０℃にて電子ビーム蒸着して、ＣaＦ2／ＺnＳの２
層反射防止膜を基板ガラス両面に施した。
3ガラスを用い、その両面を光学研磨した後、真空蒸着
によりまず第１層目のＣaＦ2膜 を基板温度１２０℃に
て抵抗加熱蒸着し、続いて第２層目のＺnＳ膜を基板温
度７０℃にて電子ビーム蒸着して、ＣaＦ2／ＺnＳの２
層反射防止膜を基板ガラス両面に施した。
【００２８】この試料の透過スペクトルを分光光度計に
より測定した結果を図２に示す。５．３μｍの透過率は
反射防止膜のない場合の７２．６％に比べて大幅に向上
し、９７．２％と反射が非常に小さいことが分る。
より測定した結果を図２に示す。５．３μｍの透過率は
反射防止膜のない場合の７２．６％に比べて大幅に向上
し、９７．２％と反射が非常に小さいことが分る。
【００２９】次にこの試料のＣＯレーザー耐光性を実施
例１と同様な方法で評価した。その結果、最大３２０Ｗ
の入射パワーでも膜にダメージがなく、高いＣＯレーザ
ー耐光性を有することがわかった。また、膜の付着力、
耐環境性も評価した結果、実用上十分なレベルであっ
た。以上の結果より、ＣaＦ2／ＺnＳからなる２層膜は
カルコゲナイドガラス及びカルコゲナイドガラスファイ
バ用の優れた反射防止膜であることが分る。
例１と同様な方法で評価した。その結果、最大３２０Ｗ
の入射パワーでも膜にダメージがなく、高いＣＯレーザ
ー耐光性を有することがわかった。また、膜の付着力、
耐環境性も評価した結果、実用上十分なレベルであっ
た。以上の結果より、ＣaＦ2／ＺnＳからなる２層膜は
カルコゲナイドガラス及びカルコゲナイドガラスファイ
バ用の優れた反射防止膜であることが分る。
【００３０】（実施例３）次に、光通信波長であるλ＝
１．５５μｍを設計波長として検討したＡＲ膜の例につ
いて説明する。（表４）にＣaＦ2／Ａs2Ｓ3からなる膜
の例を示す。
１．５５μｍを設計波長として検討したＡＲ膜の例につ
いて説明する。（表４）にＣaＦ2／Ａs2Ｓ3からなる膜
の例を示す。
【００３１】
【表４】
【００３２】基板として１０ｍｍφ×４ｍｍｔのＡs2Ｓ
3ガラスの両面を光学研磨した後、真空蒸着によりまず
第１層目のＣaＦ2膜を基板温度１２０℃にて電子ビーム
蒸着し、続いて第２層目のＡs2Ｓ3膜を基板温度８０℃
にて抵抗加熱蒸着して、ＣaＦ2／Ａs2Ｓ3からなる２層
反射防止膜を基板ガラスの両面に施した。
3ガラスの両面を光学研磨した後、真空蒸着によりまず
第１層目のＣaＦ2膜を基板温度１２０℃にて電子ビーム
蒸着し、続いて第２層目のＡs2Ｓ3膜を基板温度８０℃
にて抵抗加熱蒸着して、ＣaＦ2／Ａs2Ｓ3からなる２層
反射防止膜を基板ガラスの両面に施した。
【００３３】この試料の透過スペクトルを分光光度計に
より測定した結果を図３に示す。１．５５μｍの透過率
は反射防止膜のない場合の７２．２％に比べて大幅に向
上し、９８．３％と反射が非常に小さいことがわかっ
た。また、膜の付着力、耐環境性も評価した結果、実用
上十分なレベルであった。以上の結果より、ＣaＦ2／Ａ
s2Ｓ3からなる２層膜はカルコゲナイドガラス及びカル
コゲナイドガラスファイバ用の優れた反射防止膜である
ことがわかる。
より測定した結果を図３に示す。１．５５μｍの透過率
は反射防止膜のない場合の７２．２％に比べて大幅に向
上し、９８．３％と反射が非常に小さいことがわかっ
た。また、膜の付着力、耐環境性も評価した結果、実用
上十分なレベルであった。以上の結果より、ＣaＦ2／Ａ
s2Ｓ3からなる２層膜はカルコゲナイドガラス及びカル
コゲナイドガラスファイバ用の優れた反射防止膜である
ことがわかる。
【００３４】（実施例４）基板にＧeＡsＳeガラスを用
い、設計波長＝８．０μｍとしたＡＲ膜の例について説
明する。（表５）に概要を示す。
い、設計波長＝８．０μｍとしたＡＲ膜の例について説
明する。（表５）に概要を示す。
【００３５】
【表５】
【００３６】１０ｍｍφ×４ｍｍｔのＧeＡsＳeガラス
の両面を光学研磨した後、真空蒸着によりまず第１層目
のＣaＦ2 膜を基板温度１２０℃にて電子ビーム蒸着
し、続いて第２層目のＧeＳe膜を基板温度１００℃にて
抵抗加熱蒸着し、ＣaＦ2／ＧeSeからなる２層反射防止
膜を基板ガラス両面に施した。
の両面を光学研磨した後、真空蒸着によりまず第１層目
のＣaＦ2 膜を基板温度１２０℃にて電子ビーム蒸着
し、続いて第２層目のＧeＳe膜を基板温度１００℃にて
抵抗加熱蒸着し、ＣaＦ2／ＧeSeからなる２層反射防止
膜を基板ガラス両面に施した。
【００３７】この試料の透過スペクトルを分光光度計に
より測定した結果を図４に示す。この図から分るよう
に、波長８．０μｍの赤外光の透過率は反射防止膜のな
いときの６８．８％に比べ大巾に向上し、９８．５％で
あった。また、膜の付着力、耐環境性も評価した結果、
実用上十分なレベルであった。以上の結果より、ＣaＦ2
/ＧeＳeからなる２層膜はカルコゲナイドガラス及びカ
ルコゲナイドガラスファイバ用の優れた反射防止膜であ
ることがわかる。
より測定した結果を図４に示す。この図から分るよう
に、波長８．０μｍの赤外光の透過率は反射防止膜のな
いときの６８．８％に比べ大巾に向上し、９８．５％で
あった。また、膜の付着力、耐環境性も評価した結果、
実用上十分なレベルであった。以上の結果より、ＣaＦ2
/ＧeＳeからなる２層膜はカルコゲナイドガラス及びカ
ルコゲナイドガラスファイバ用の優れた反射防止膜であ
ることがわかる。
【００３８】（実施例５）次に、３層反射防止膜の実施
例について説明する。基板にＧeＳeＴｅガラスを用い、
設計波長＝８．０μｍとした。（表６）に概要を示す。
例について説明する。基板にＧeＳeＴｅガラスを用い、
設計波長＝８．０μｍとした。（表６）に概要を示す。
【００３９】
【表６】
【００４０】１０ｍｍφ×４ｍｍｔのＧeＳeＴeガラス
の両面を光学研磨した後、真空蒸着によりまず第１層目
のＺnＳ膜を基板温度７０℃にて電子ビーム蒸着し、続
いて第２層目のＣaＦ2膜を基板温度１２０℃にて抵抗加
熱蒸着し、さらに第３層目のＺnＳ膜を基板温度７０℃
にて電子ビーム蒸着し、ＺnＳ／ＣaＦ2／ＺnＳからなる
３層反射防止膜を基板ガラス両面に施した。
の両面を光学研磨した後、真空蒸着によりまず第１層目
のＺnＳ膜を基板温度７０℃にて電子ビーム蒸着し、続
いて第２層目のＣaＦ2膜を基板温度１２０℃にて抵抗加
熱蒸着し、さらに第３層目のＺnＳ膜を基板温度７０℃
にて電子ビーム蒸着し、ＺnＳ／ＣaＦ2／ＺnＳからなる
３層反射防止膜を基板ガラス両面に施した。
【００４１】この試料の透過スペクトルを分光光度計に
より測定した結果を図５に示す。この図から分るよう
に、波長８．０μｍの赤外光の透過率は反射防止膜のな
いときの６１．０％に比べ大巾に向上し、９９．１％で
あった。また、膜の付着力、耐環境性も評価した結果、
実用上十分なレベルであった。以上の結果より、ＺnＳ
／ＣaＦ2／ＺnＳからなる３層膜はカルコゲナイドガラ
ス及びカルコゲナイドガラスファイバ用の優れた反射防
止膜であることがわかる。
より測定した結果を図５に示す。この図から分るよう
に、波長８．０μｍの赤外光の透過率は反射防止膜のな
いときの６１．０％に比べ大巾に向上し、９９．１％で
あった。また、膜の付着力、耐環境性も評価した結果、
実用上十分なレベルであった。以上の結果より、ＺnＳ
／ＣaＦ2／ＺnＳからなる３層膜はカルコゲナイドガラ
ス及びカルコゲナイドガラスファイバ用の優れた反射防
止膜であることがわかる。
【００４２】
【発明の効果】以上に示した通り、本発明にあってはカ
ルコゲナイドガラス或いはカルコゲナイドガラスファイ
バ上に、ＣaＦ2からなる低屈折率層と、ＺnＳe、Ｚn
Ｓ、ＡsＳe、ＡsＳ、ＧeＳe、ＧeＳ、ＧeＳbＳe、ＧeＳ
bＳ、ＧeＡsＳのうちの一つ又は二つ以上よりなる高屈
折率層との少なくとも２層から構成される反射防止膜を
形成したので、表面反射損失を著しく低減することがで
き、また赤外光を効率良く透過することが可能となる。
したがって、カルコゲナイドガラスファイバを用いた高
エネルギーレーザーの伝送が可能となる。
ルコゲナイドガラス或いはカルコゲナイドガラスファイ
バ上に、ＣaＦ2からなる低屈折率層と、ＺnＳe、Ｚn
Ｓ、ＡsＳe、ＡsＳ、ＧeＳe、ＧeＳ、ＧeＳbＳe、ＧeＳ
bＳ、ＧeＡsＳのうちの一つ又は二つ以上よりなる高屈
折率層との少なくとも２層から構成される反射防止膜を
形成したので、表面反射損失を著しく低減することがで
き、また赤外光を効率良く透過することが可能となる。
したがって、カルコゲナイドガラスファイバを用いた高
エネルギーレーザーの伝送が可能となる。
【図１】ＣaＦ2／ＺnＳeからなる２層反射防止膜を設け
たＡs2Ｓ3ガラスの透過スペクトル
たＡs2Ｓ3ガラスの透過スペクトル
【図２】ＣaＦ2／ＺnＳからなる２層反射防止膜を設け
たＡs2Ｓ3ガラスの透過スペクトル
たＡs2Ｓ3ガラスの透過スペクトル
【図３】ＣaＦ2／Ａs2Ｓ3からなる２層反射防止膜を設
けたＡs2Ｓ3ガラスの透過スペクトル
けたＡs2Ｓ3ガラスの透過スペクトル
【図４】ＣaＦ2／ＧeＳeからなる２層反射防止膜を設け
たＧeＡsＳeガラスの透過スペクトル
たＧeＡsＳeガラスの透過スペクトル
【図５】ＺnＳ／ＣaＦ2／ＺnＳからなる３層反射防止膜
を設けたＧeＳeＴeガラスの透過スペクトル
を設けたＧeＳeＴeガラスの透過スペクトル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山下 俊晴 東京都新宿区中落合２丁目７番５号 ホー ヤ株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 カルコゲナイドガラス基材表面またはカ
ルコゲナイドガラスファイバの端面に形成される反射防
止膜において、この反射膜は低屈折率層と高屈折率層と
の少なくとも２層から構成され、前記低屈折率層はＣa
Ｆ2からなり、前記高屈折率層はＺnＳe、ＺnＳ及びカル
コゲナイドガラスのうちの一つ又は二つ以上よりなるこ
とを特徴とする反射防止膜。 - 【請求項２】 請求項１に記載の反射防止膜において、
この反射防止膜は波長が０．６〜１４μｍ以下の光線が
入射する面に形成されることを特徴とする反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7116823A JPH08310840A (ja) | 1995-05-16 | 1995-05-16 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7116823A JPH08310840A (ja) | 1995-05-16 | 1995-05-16 | 反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08310840A true JPH08310840A (ja) | 1996-11-26 |
Family
ID=14696518
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7116823A Pending JPH08310840A (ja) | 1995-05-16 | 1995-05-16 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08310840A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007212948A (ja) * | 2006-02-13 | 2007-08-23 | Mitsubishi Electric Corp | 反射防止膜形成方法及び、反射防止膜付き基板 |
| JP2007226072A (ja) * | 2006-02-27 | 2007-09-06 | National Institute Of Information & Communication Technology | 光学デバイス |
| JP2015501001A (ja) * | 2011-05-31 | 2015-01-08 | コーニング インコーポレイテッド | 赤外光反射防止膜用耐久ＭｇＯ−ＭｇＦ２複合膜 |
| JP2019048752A (ja) * | 2017-09-12 | 2019-03-28 | 日本電気硝子株式会社 | カルコゲナイドガラス材 |
-
1995
- 1995-05-16 JP JP7116823A patent/JPH08310840A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007212948A (ja) * | 2006-02-13 | 2007-08-23 | Mitsubishi Electric Corp | 反射防止膜形成方法及び、反射防止膜付き基板 |
| JP2007226072A (ja) * | 2006-02-27 | 2007-09-06 | National Institute Of Information & Communication Technology | 光学デバイス |
| JP2015501001A (ja) * | 2011-05-31 | 2015-01-08 | コーニング インコーポレイテッド | 赤外光反射防止膜用耐久ＭｇＯ−ＭｇＦ２複合膜 |
| US9963773B2 (en) | 2011-05-31 | 2018-05-08 | Corning Incorporated | Durable MgO—MgF2 composite film for infrared anti-reflection coatings |
| JP2019048752A (ja) * | 2017-09-12 | 2019-03-28 | 日本電気硝子株式会社 | カルコゲナイドガラス材 |
| US11643357B2 (en) | 2017-09-12 | 2023-05-09 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Chalcogenide glass material |
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