JP2010186160A5 - - Google Patents

Description

２．６ 考察
図４に測定結果を示している。反射防止層３にシリサイド層を含めたレンズサンプルＳ１およびＳ２のシート抵抗は７×１０9[Ω／□]および１×１０10[Ω／□]であった。反射防止層３にＳｉ（金属シリコン）層を含めたレンズサンプルＲ１および反射防止層３にＩＴＯ層を含めたレンズサンプルＲ２のシート抵抗は９×１０12[Ω／□]および２×１０12[Ω／□]であった。レンズサンプルＳ１およびＳ２のシート抵抗は、レンズサンプルＲ１およびＲ２のシート抵抗と比較して、２桁〜３桁（１０2〜１０3）程度小さくなる。すなわち、シート抵抗が１／１０2〜１／１０3になる。したがって、シリサイド層３３を含めることにより反射防止層３のシート抵抗を大幅に低減でき、３ｎｍ程度以下、さらには、１ｎｍ程度の厚みのシリサイド層３３が反射防止層３を含めた光学基材の表面の導電性を向上することに有効であることが分かった。

Claims (7)

1. 光学基材に直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成することと、
   前記第１の層の表面に、シリサイドを含む透光性薄膜を形成することと、
   を有する、光学物品の製造方法。
2. 請求項１において、
   前記シリサイドを含む透光性薄膜を形成することは、前記第１の層の表面にシリコンおよび金属を蒸着することを含む、
   光学物品の製造方法。
3. 請求項１において、
   前記シリサイドを含む透光性薄膜を形成することは、前記第１の層の表面に遷移金属ケイ素化物を蒸着することを含む、光学物品の製造方法。
4. 請求項１において、
   前記第１の層は金属酸化物を含み、
   前記シリサイドを含む透光性薄膜を形成することは、前記第１の層の表面にシリコンを打ち込むことを含む、光学物品の製造方法。
5. 光学基材と、
   前記光学基材に直にまたは他の層を介して形成された透光性の第１の層と、
   前記第１の層の表面に形成された、シリサイドを含む透光性薄膜と、
   を有する、光学物品。
6. 請求項５において、
   前記第１の層は多層構造の反射防止層に含まれる、
   光学物品。
7. 請求項５または請求項６において、
   前記光学基材はプラスチックレンズ基材である、
   光学物品。