TW201743177A - 附透明電極之壓電膜及壓力感測器 - Google Patents

附透明電極之壓電膜及壓力感測器 Download PDF

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Abstract

本發明之課題在於實現一種霧度值較小且全光線透過率較高之附透明電極之壓電膜。 本發明之附透明電極之壓電膜1具備:壓電膜13,其包含第1基材膜11與具有壓電性之塗層12之積層體;及第1透明電極14,其積層於具有壓電性之塗層12。具有壓電性之塗層12包含氟樹脂。氟樹脂係偏二氟乙烯之聚合物、或(偏二氟乙烯、三氟乙烯、三氟氯乙烯)中之2種以上之共聚物。具有壓電性之塗層12係將氟樹脂之溶液塗佈於第1基材膜11並加以乾燥而獲得。

Description

附透明電極之壓電膜及壓力感測器
本發明係關於一種附透明電極之壓電膜及壓力感測器。
一般而言,於觸控面板中,會檢測觸碰觸控面板之表面之手指或筆於表面上之二維位置(以下,將「手指或筆」簡稱為「手指」,將手指或筆於觸控面板之表面上之二維位置稱為「手指之XY座標」)。於該情形時,無法檢測出手指觸碰壓力(以下,關於手指觸碰壓力之大小,取Z軸方向者,且稱為「手指之Z座標」)。即,不管手指觸碰壓力(手指之Z座標)之大小如何,所檢測者僅為手指觸碰位置之XY座標。 但根據觸控面板中所使用之應用軟體不同,有亦需識別手指觸碰壓力(手指之Z座標)之情形。於普通靜電電容式觸控面板中,藉由用手指觸碰,所觸碰之位置得以選擇,同時位於所觸碰之位置之命令得以執行。於靜電電容式觸控面板之感度非常高之情形時,手指只要接近靜電電容式觸控面板(即便手指未觸碰到面板),最接近手指之位置即被選擇,同時位於該位置之命令被執行。但例如於不允許在工作機械之操作面板等上執行錯誤命令之情形時,較理想為將選擇與執行分離。即,命令會藉由用手指觸碰(或藉由將手指靠近面板)而得以選擇,但僅僅如此並不會執行命令,只有繼而用手指施加壓力,命令才會被執行,藉此防止誤動作,因此較為理想。 亦可檢測此種手指觸碰壓力(手指之Z座標)之觸控面板例如於專利文獻1(日本專利特開2010-26938)中有所記載。於專利文獻1之觸控面板中,使用在含有聚偏二氟乙烯-四氟乙烯共聚物之壓電體層之兩面積層透明電極而成之積層體。含有聚偏二氟乙烯-四氟乙烯共聚物之壓電體層之厚度為20 μm~300 μm。 根據記載,專利文獻1之含有聚偏二氟乙烯-四氟乙烯共聚物之壓電體層係利用流延法或擠壓法而製造,故而可認為是獨立膜(不積層於其他膜上之膜)。於專利文獻1之記載中,含有聚偏二氟乙烯-四氟乙烯共聚物之壓電體層之霧度值(haze value)為5%~7%,全光線透過率為95%。 但專利文獻1之實施例之霧度值、全光線透過率係被積層透明電極之前之含有聚偏二氟乙烯-四氟乙烯共聚物的壓電體層單體之值。於在含有聚偏二氟乙烯-四氟乙烯共聚物之壓電體層之兩面積層透明電極而成之積層體中,認為全光線透過率降低,但未記載其測定值。 根據本案發明者之實驗,位於觸控面板背面之顯示器之圖像視認性至少會受到霧度值與全光線透過率之影響。於專利文獻1之在含有聚偏二氟乙烯-四氟乙烯共聚物之壓電體層之兩面積層透明電極而成之積層體中,有位於觸控面板背面之顯示器之圖像視認性因霧度值與全光線透過率中任一者或兩者而降低之虞。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本專利特開2010-26938號公報
[發明所欲解決之問題] 根據本案發明者之實驗,就位於觸控面板背面之顯示器之圖像視認性之降低而言,霧度值之影響大於全光線透過率之影響。因此,本發明之目的在於實現霧度值較小進而全光線透過率較高之附透明電極之壓電膜。 [解決問題之技術手段] (1)本發明之附透明電極之壓電膜具備:壓電膜,其包含第1基材膜與具有壓電性之塗層之積層體;及至少1層第1透明電極,其設於具有壓電性之塗層之與第1基材膜呈相反側之表面。 (2)本發明之附透明電極之壓電膜進而於第1基材膜之與具有壓電性之塗層呈相反側之表面具備至少1層第2透明電極。 (3)本發明之附透明電極之壓電膜進而於第1基材膜之與具有壓電性之塗層呈相反側之表面,進而具備依如下順序而設之至少1層透明黏著層、至少1層第2透明電極、及至少1層第2基材膜。 (4)本發明之附透明電極之壓電膜進而於第2透明電極與第2基材膜之間具備至少1層底塗層、光學調整層、及抗黏連層中之任一者。 (5)本發明之附透明電極之壓電膜進而於具有壓電性之塗層與第1透明電極之間具備至少1層底塗層、光學調整層、及抗黏連層中之任一者。 (6)本發明之附透明電極之壓電膜進而係具有壓電性之塗層之厚度為0.5~10 μm,光學調整層之厚度為80~160 nm,第1透明電極之厚度為20 nm以上。 (7)本發明之附透明電極之壓電膜進而係具有壓電性之塗層之折射率為1.40~1.50,光學調整層之折射率為1.50~1.70,第1透明電極之折射率為1.90~2.10。 (8)本發明之附透明電極之壓電膜進而於第1基材膜與具有壓電性之塗層之間具備至少1層底塗層、光學調整層、及抗黏連層中之任一者。 (9)本發明之附透明電極之壓電膜進而具備至少1層抗黏連層,該抗黏連層設於第1基材膜或第2基材膜之與具有壓電性之塗層呈相反側之表面。 (10)本發明之附透明電極之壓電膜具備:壓電膜,其包含第1基材膜與具有壓電性之塗層之積層體;及至少1層第1透明電極,其設於第1基材膜之與具有壓電性之塗層呈相反側之表面。 (11)本發明之附透明電極之壓電膜進而於具有壓電性之塗層之與第1基材膜呈相反側之表面具備至少1層第2透明電極。 (12)本發明之附透明電極之壓電膜進而於具有壓電性之塗層之與第1基材膜呈相反側之表面,進而具備依如下順序而設之至少1層透明黏著層、至少1層第2透明電極、及至少1層第2基材膜。 (13)本發明之附透明電極之壓電膜進而於第2透明電極與第2基材膜之間具備至少1層底塗層、光學調整層、及抗黏連層中之任一者。 (14)本發明之附透明電極之壓電膜進而於第1基材膜與具有壓電性之塗層之間具備至少1層底塗層、光學調整層、及抗黏連層中之任一者。 (15)本發明之附透明電極之壓電膜進而於第1基材膜與第1透明電極之間具備至少1層底塗層、光學調整層、及抗黏連層中之任一者。 (16)本發明之附透明電極之壓電膜進而於第2基材膜之與第2透明電極呈相反側之表面具備至少1層抗黏連層。 (17)於本發明之附透明電極之壓電膜中,具有壓電性之塗層包含氟樹脂。 (18)於本發明之附透明電極之壓電膜中,氟樹脂係偏二氟乙烯之聚合物、或(偏二氟乙烯、三氟乙烯、三氟氯乙烯)中之2種以上之共聚物。 (19)於本發明之附透明電極之壓電膜中,氟樹脂係偏二氟乙烯與三氟乙烯之共聚物,且共聚物中所含有之偏二氟乙烯與三氟乙烯之莫耳比於整體計為100時,係為(50~85):(50~15)之範圍。 (20)於本發明之附透明電極之壓電膜中,氟樹脂係偏二氟乙烯與三氟乙烯及三氟氯乙烯之共聚物,且共聚物中所含有之偏二氟乙烯與三氟乙烯及三氟氯乙烯之莫耳比於整體計為100時,係為(63~65):(27~29):(10~6)之範圍。 (21)於本發明之附透明電極之壓電膜中,具有壓電性之塗層係將氟樹脂之溶液塗佈於第1基材膜並加以乾燥而獲得之塗層。 (22)於本發明之附透明電極之壓電膜中,具有壓電性之塗層之厚度為0.5 μm~20 μm。 (23)於本發明之附透明電極之壓電膜中,第1透明電極及第2透明電極中之任一者或兩者經過圖案化。 (24)於本發明之附透明電極之壓電膜中,第1透明電極及第2透明電極中之任一者或兩者包含銦。 (25)於本發明之附透明電極之壓電膜中,第1透明電極及第2透明電極中之任一者或兩者包含銦錫氧化物(Indium Tin Oxide:ITO)。 (26)於本發明之附透明電極之壓電膜中,第1透明電極及第2透明電極中之任一者或兩者之厚度為15 nm~50 nm。 (27)於本發明之附透明電極之壓電膜中,第1透明電極及第2透明電極中之任一者或兩者為結晶質。 (28)於本發明之附透明電極之壓電膜中,基材膜之材料選自聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚烯烴、聚環烯烴、環烯烴共聚物、聚碳酸酯、聚醚碸、聚芳酯、聚醯亞胺、聚醯胺、聚苯乙烯、聚降冰片烯中之至少1種。 (29)於本發明之附透明電極之壓電膜中,霧度值為5%以下。 (30)於本發明之附透明電極之壓電膜中,全光線透過率為82%以上。 (31)本發明之壓力感測器具備上述附透明電極之壓電膜。 [發明之效果] 於本發明之附透明電極之壓電膜中,壓電體層係藉由塗佈而形成,因此壓電體層之厚度較先前之由獨立膜構成之壓電體層薄。故而,壓電體層所致之霧度值之上升與全光線透過率之降低較由獨立膜構成之壓電體膜更少。藉由該效果,霧度值較小進而全光線透過率較高之附透明電極之壓電膜得以實現。若將本發明之附透明電極之壓電膜用作觸控面板之Z座標檢測用壓電膜,則可實現位於觸控面板背面之顯示器之視認性良好且具有Z座標(手指之按壓力)檢測功能之觸控面板。
[附透明電極之壓電膜之基本構成] 圖1表示本發明之附透明電極之壓電膜的第1例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜101包含由第1基材膜11與具有壓電性之塗層12之積層體構成之壓電膜13。於具有壓電性之塗層12積層有至少1層第1透明電極14。所謂至少1層第1透明電極14係指第1透明電極14亦可為2層以上之多層膜。第1透明電極14亦可經過圖案化。於第1基材膜11與具有壓電性之塗層12之間,亦可積層有未圖示之易接著層(關於易接著層,於以後之例中共通)。 圖2表示本發明之附透明電極之壓電膜的第2例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜102係於本發明之附透明電極之壓電膜101之與具有壓電性之塗層12呈相反側之表面,積層有至少1層第2透明電極15者。所謂至少1層第2透明電極15係指第2透明電極15亦可為2層以上之多層膜。第2透明電極15亦可經過圖案化。於第1基材膜11與第2透明電極15之間,亦可具備至少1層透明黏著層。所謂至少1層透明黏著層係指透明黏著層亦可為2層以上之多層膜。 圖3表示本發明之附透明電極之壓電膜的第3例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜103係於本發明之附透明電極之壓電膜101之第1基材膜11的與具有壓電性之塗層12呈相反側之表面,進而積層有至少1層透明黏著層21、至少1層第2透明電極15、至少1層第2基材膜17者。所謂至少1層透明黏著層21係指透明黏著層21亦可為2層以上之多層膜。所謂至少1層第2透明電極15係指第2透明電極15亦可為2層以上之多層膜。所謂至少1層第2基材膜17係指第2基材膜17亦可為2層以上之多層膜。 圖4表示本發明之附透明電極之壓電膜的第4例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜104係於本發明之附透明電極之壓電膜103之第2透明電極15與第2基材膜17之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。底塗層18(或增黏塗層)具有提高附透明電極之壓電膜之各層間之密接性的功能。光學調整層19(Index matching layer)(亦稱為折射率調整層)具有調整附透明電極之壓電膜之光反射率的功能。光學調整層19亦可為2層以上之多層膜。抗黏連層20具有防止堆積、或捲繞之附透明電極之壓電膜彼此壓接(黏連)的功能。抗黏連層20亦可為2層以上之多層膜。 圖5表示本發明之附透明電極之壓電膜的第5例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜105係於本發明之附透明電極之壓電膜101之具有壓電性之塗層12與第1透明電極14之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 例如對在圖5中使用光學調整層19之情形進行說明。作為具有壓電性之塗層12之厚度可列舉0.5~10 μm為一例,作為光學調整層19之厚度可列舉80~160 nm為一例,作為第1透明電極14之厚度可列舉20 nm以上為一例。又,作為具有壓電性之塗層12之折射率可列舉1.40~1.50為一例,作為光學調整層19之折射率可列舉1.50~1.70為一例,作為第1透明電極14之折射率可列舉1.90~2.10為一例。又,將基材膜11之厚度設定為2~100 μm,並將折射率設定為1.50~1.70。藉由設定為以上厚度與折射率,第1透明電極14與光學調整層19之反射率差成為2.0%以下,美觀度變佳。 再者,於圖2之壓電膜102中,亦可於基材膜11與第2透明電極15之間積層底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層。 圖6表示本發明之附透明電極之壓電膜的第6例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜106係於本發明之附透明電極之壓電膜102之具有壓電性之塗層12與第1透明電極14之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 圖7表示本發明之附透明電極之壓電膜的第7例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜107係於本發明之附透明電極之壓電膜103之具有壓電性之塗層12與第1透明電極14之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 圖8表示本發明之附透明電極之壓電膜的第8例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜108係於本發明之附透明電極之壓電膜104之具有壓電性之塗層12與第1透明電極14之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 圖9表示本發明之附透明電極之壓電膜的第9例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜109係於本發明之附透明電極之壓電膜101之第1基材膜11與具有壓電性之塗層12之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 圖10表示本發明之附透明電極之壓電膜的第10例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜110係於本發明之附透明電極之壓電膜102之第1基材膜11與具有壓電性之塗層12之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 圖11表示本發明之附透明電極之壓電膜的第11例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜111係於本發明之附透明電極之壓電膜103之第1基材膜11與具有壓電性之塗層12之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 圖12表示本發明之附透明電極之壓電膜的第12例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜112係於本發明之附透明電極之壓電膜104之第1基材膜11與具有壓電性之塗層12之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 圖13表示本發明之附透明電極之壓電膜的第13例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜113係於本發明之附透明電極之壓電膜105之第1基材膜11與具有壓電性之塗層12之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 圖14表示本發明之附透明電極之壓電膜的第14例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜114係於本發明之附透明電極之壓電膜106之第1基材膜11與具有壓電性之塗層12之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 圖15表示本發明之附透明電極之壓電膜的第15例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜115係於本發明之附透明電極之壓電膜107之第1基材膜11與具有壓電性之塗層12之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 圖16表示本發明之附透明電極之壓電膜的第16例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜116係於本發明之附透明電極之壓電膜108之第1基材膜11與具有壓電性之塗層12之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 圖17表示本發明之附透明電極之壓電膜的第17例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜117係於本發明之附透明電極之壓電膜101之第1基材膜11的與具有壓電性之塗層12呈相反側之表面積層有至少1層抗黏連層20者。 圖18表示本發明之附透明電極之壓電膜的第18例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜118係於本發明之附透明電極之壓電膜103之第2基材膜17的與具有壓電性之塗層12呈相反側之表面積層有至少1層抗黏連層20者。 圖19表示本發明之附透明電極之壓電膜的第19例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜119係於本發明之附透明電極之壓電膜104之第2基材膜17的與具有壓電性之塗層12呈相反側之表面積層有至少1層抗黏連層20者。 圖20表示本發明之附透明電極之壓電膜的第20例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜120係於本發明之附透明電極之壓電膜105之第1基材膜11的與具有壓電性之塗層12呈相反側之表面積層有至少1層抗黏連層20者。 圖21表示本發明之附透明電極之壓電膜的第21例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜121係於本發明之附透明電極之壓電膜107之第2基材膜17的與具有壓電性之塗層12呈相反側之表面積層有至少1層抗黏連層20者。 圖22表示本發明之附透明電極之壓電膜的第22例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜122係於本發明之附透明電極之壓電膜108之第2基材膜17的與具有壓電性之塗層12呈相反側之表面積層有至少1層抗黏連層20者。 圖23表示本發明之附透明電極之壓電膜的第23例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜123具備包含第1基材膜11與具有壓電性之塗層12之積層體之壓電膜13。於第1基材膜11之與具有壓電性之塗層12呈相反側之表面,積層有至少1層第1透明電極14。 圖24表示本發明之附透明電極之壓電膜的第24例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜124係於本發明之附透明電極之壓電膜123之具有壓電性之塗層12的與第1基材膜11呈相反側之表面,積層有至少1層第2透明電極15者。 圖25表示本發明之附透明電極之壓電膜的第25例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜125係於本發明之附透明電極之壓電膜123之具有壓電性之塗層12的與第1基材膜11呈相反側之表面,進而積層有至少1層透明黏著層21、至少1層第2透明電極15、至少1層第2基材膜17者。 圖26表示本發明之附透明電極之壓電膜的第26例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜126係於本發明之附透明電極之壓電膜125之第2透明電極15與第2基材膜17之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 圖27表示本發明之附透明電極之壓電膜的第27例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜127係於本發明之附透明電極之壓電膜123之第1基材膜11與具有壓電性之塗層12之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 圖28表示本發明之附透明電極之壓電膜的第28例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜128係於本發明之附透明電極之壓電膜124之第1基材膜11與具有壓電性之塗層12之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 圖29表示本發明之附透明電極之壓電膜的第29例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜129係於本發明之附透明電極之壓電膜125之第1基材膜11與具有壓電性之塗層12之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 圖30表示本發明之附透明電極之壓電膜的第30例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜130係於本發明之附透明電極之壓電膜126之第1基材膜11與具有壓電性之塗層12之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 圖31表示本發明之附透明電極之壓電膜的第31例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜131係於本發明之附透明電極之壓電膜123之第1基材膜11與第1透明電極14之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 圖32表示本發明之附透明電極之壓電膜的第32例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜132係於本發明之附透明電極之壓電膜124之第1基材膜11與第1透明電極14之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 圖33表示本發明之附透明電極之壓電膜的第33例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜133係於本發明之附透明電極之壓電膜125之第1基材膜11與第1透明電極14之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 圖34表示本發明之附透明電極之壓電膜的第34例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜134係於本發明之附透明電極之壓電膜126之第1基材膜11與第1透明電極14之間,積層有底塗層18、光學調整層19、及抗黏連層20中任一者之至少1層者。 圖35表示本發明之附透明電極之壓電膜的第35例之模式圖。本發明之附透明電極之壓電膜135係於本發明之附透明電極之壓電膜125之第2基材膜17的與第2透明電極15呈相反側之表面積層有至少1層抗黏連層20者。 [基材膜] 第1基材膜11及第2基材膜17例如由聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚烯烴、聚環烯烴、環烯烴共聚物、聚碳酸酯、聚醚碸、聚芳酯、聚醯亞胺、聚醯胺、聚苯乙烯、聚降冰片烯等高分子膜構成。第1基材膜11及第2基材膜17之材料並不限定於其等,較佳為透明性、耐熱性、及機械特性優異之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)。 第1基材膜11及第2基材膜17之厚度較佳為10 μm~200 μm,但並不限定於此。其中,若第1基材膜11及第2基材膜17之厚度未達10 μm,則有難以操作之虞。又,若第1基材膜11及第2基材膜17之厚度超過200 μm,則有難以將附透明電極之壓電膜(101~135)捲繞成卷之虞。又,若第1基材膜11及第2基材膜17之厚度超過200 μm,則有將附透明電極之壓電膜(101~135)安裝於觸控面板等時厚度變得過厚之虞。 [具有壓電性之塗層] 具有壓電性之塗層12之材料只要是能呈薄膜狀塗佈於第1基材膜11之表面且塗佈後之薄膜具有壓電性者,便不特別限定。具有壓電性之塗層12較理想為即便未施以極化(分極處理)亦表現出壓電性者,但亦可為於極化後表現出壓電性者。 作為極化(分極處理),有非接觸式之極化與接觸式之極化。於非接觸式之極化中,例如,藉由對塗層12實施電暈放電處理而使塗層12分極。於接觸式之極化中,例如,以2張金屬板夾住塗層12,並於2張金屬板之間施加電壓而使塗層12分極。 具有壓電性之塗層12例如係以如下方式獲得:使具有壓電性之塗層12之材料溶解於溶媒中製成溶液,藉由棒式塗佈機或凹版塗佈機等已知之塗佈裝置於基材膜之表面薄薄地且均勻地進行塗佈,其後使其乾燥。 [具有壓電性之塗層之材料] 作為具有壓電性之塗層12之材料,例如可較佳地使用包含氟樹脂之材料。若具體地例示包含氟樹脂之材料,則可列舉偏二氟乙烯之聚合物、偏二氟乙烯與三氟乙烯之共聚物、偏二氟乙烯與三氟乙烯及三氟氯乙烯之共聚物、六氟丙烯與偏二氟乙烯之共聚物、全氟乙烯醚與偏二氟乙烯之共聚物、四氟乙烯與偏二氟乙烯之共聚物、六氟環氧丙烷與偏二氟乙烯之共聚物、六氟丙烯與四氟乙烯及偏二氟乙烯之共聚物。該等聚合物既可單獨使用亦可形成混合體而使用。 包含氟樹脂之材料較佳為偏二氟乙烯與三氟乙烯之共聚物、或偏二氟乙烯與三氟乙烯及三氟氯乙烯之共聚物。將偏二氟乙烯與三氟乙烯之共聚物稱為二元系共聚物。將偏二氟乙烯與三氟乙烯及三氟氯乙烯之共聚物稱為三元系共聚物。 於將偏二氟乙烯與三氟乙烯之共聚物(二元系共聚物)用作具有壓電性之塗層12之材料之情形時,偏二氟乙烯與三氟乙烯之莫耳比當整體計為100時,適宜為(50~85):(50~15)之範圍。 又,於將偏二氟乙烯與三氟乙烯及三氟氯乙烯之共聚物(三元系共聚物)用作具有壓電性之塗層12之材料之情形時,偏二氟乙烯與三氟乙烯及三氟氯乙烯之莫耳比當整體計為100時,適宜為(63~65):(27~29):(10~6)之範圍。 [具有壓電性之塗層之厚度] 對於具有壓電性之塗層12之厚度並不限定,考慮到下述光學特性,較佳為0.5 μm~20 μm,更佳為0.5 μm~10 μm,進而更佳為0.5 μm~5 μm。若具有壓電性之塗層12之厚度未達0.5 μm,則所形成之膜有變得不完善之虞。若具有壓電性之塗層12之厚度超過20 μm,則有光學特性(霧度值及全光線透過率)變得不合適之虞。 [透明電極] 第1透明電極14及第2透明電極15只要為於可見光區域(380 nm~780 nm)具有透光性且具有導電性者,則其構成及材料便不特別限定。第1透明電極14及第2透明電極15例如為以金屬之導電性氧化物(例如氧化銦)為主成分之透明薄膜、或以含有主金屬(例如銦)與1種以上雜質金屬(例如錫)之複合金屬氧化物為主成分之透明薄膜。 作為第1透明電極14及第2透明電極15,例如,可使用氧化銦、銦錫氧化物(ITO:Indium Tin Oxide)、銦鋅氧化物(IZO:Indium Zinc Oxide)、銦鎵鋅氧化物(IGZO:Indium Gallium Zinc Oxide)等銦系複合氧化物,但自低比電阻及透過色相之觀點而言,尤佳為銦錫氧化物(ITO)。 銦系複合氧化物具有於可見光區域透過率高達80%以上且每單位面積之表面電阻值低至30 Ω/□~1000 Ω/□(ohmsper square,每平方歐姆值)之特徵。銦系複合氧化物之每單位面積之表面電阻值較佳為300 Ω/□以下,更佳為150 Ω/□以下。 第1透明電極14及第2透明電極15中亦可進而包含鈦Ti、鎂Mg、鋁Al、金Au、銀Ag、銅Cu等雜質金屬元素。第1透明電極14及第2透明電極15係藉由濺鍍法、真空蒸鍍法等而形成,但製法並不限定於此。 於第1透明電極14及第2透明電極15係以銦錫氧化物(ITO)形成之情形時,銦錫氧化物(ITO)中之氧化錫(SnO2 )之含量相對於氧化銦(In2 O3 )與氧化錫(SnO2 )之合計量,較佳為0.5重量%~15重量%,更佳為3重量%~15重量%,進而更佳為5重量%~13重量%。若氧化錫(SnO2 )未達0.5重量%,則有第1透明電極14及第2透明電極15之表面電阻值變高之虞。若氧化錫(SnO2 )超過15重量%,則有第1透明電極14及第2透明電極15之面內的表面電阻值之均勻性受損之虞。 以低溫形成之例如由銦錫氧化物(ITO)構成之第1透明電極14及第2透明電極15係非晶質,藉由對其進行加熱處理可將其自非晶質轉化為結晶質。第1透明電極14及第2透明電極15若轉化為結晶質則其表面電阻值變低。因此,第1透明電極14及第2透明電極15較理想為結晶質。使第1透明電極14及第2透明電極15轉化為結晶質時之熱處理條件適宜為80℃~200℃,但自生產性之觀點而言,較佳為140℃以下且30分鐘以下。 第1透明電極14及第2透明電極15之厚度較佳為15 nm~50 nm。若第1透明電極14及第2透明電極15之厚度低於15 nm,則有第1透明電極14及第2透明電極15之表面電阻值上升之虞。若第1透明電極14及第2透明電極15之厚度超過50 nm,則有第1透明電極14及第2透明電極15因全光線透過率之降低或內部應力之上升而發生龜裂之擔憂。第1透明電極14及第2透明電極15亦可為由2層以上透明導電膜積層而成之積層膜。 第1透明電極14及第2透明電極15亦可為聚乙二氧基噻吩(PEDOT:PSS,Poly(3,4-ethylenedioxythiophene):poly(styrenesulfonate) (seefigure),摻聚苯乙烯磺酸:聚(3,4-亞乙二氧基噻吩))、聚吡咯、聚苯胺等導電性高分子之薄膜。又,第1透明電極14及第2透明電極15亦可為線徑為5 μm~10 μm左右之銀或銅之極細金屬線呈網眼狀形成於透明膜上而成之導電性極細網。或者,第1透明電極14及第2透明電極15亦可為包含碳奈米纖維、銀奈米線、石墨烯等之薄膜。 [透明黏著層] 透明黏著層21較佳為由光學透明黏著劑構成。例如,可使用光學透明黏著劑之片材形成透明黏著層21。亦可使用透明接著層代替透明黏著層21。於該情形時,透明接著層較佳為由光學透明接著劑構成。例如,可塗佈液狀之光學透明接著劑,並照射紫外線使其硬化,而形成透明接著層。透明黏著層21或透明接著層之折射率較理想為積層於其兩側之材料各自之折射率之中間值。藉由如此選擇透明黏著層21或透明接著層之折射率,可抑制光於透明黏著層21或透明接著層與積層於其兩側之材料之界面上的反射。 [附透明電極之壓電膜之光學特性] 一般而言,即便霧度值增大,由於光不被吸收而會散射,故而全光線透過率亦不會降低。但即便全光線透過率不降低,隨著霧度值增大,顯示器之圖像視認性亦會降低。因此,僅根據全光線透過率之值,並無法判斷顯示器之圖像視認性。根據本案發明者之實驗,為清晰視認位於附透明電極之壓電膜背面之顯示器之圖像,附透明電極之壓電膜之霧度值較佳為5%以下,更佳為4%以下,進而更佳為3%以下,尤佳為2%以下,最佳為1%以下。附透明電極之壓電膜之全光線透過率較佳為82%以上,更佳為85%以上,進而更佳為86%以上,尤佳為88%以上。於附透明電極之壓電膜之霧度值超過5%之情形時、或全光線透過率未達82%之情形時,有顯示器之圖像變得無法清晰視認之虞。 [實施例] [實施例1] [壓電膜] 實施例1之附透明電極之壓電膜包含本發明之附透明電極之壓電膜的第2例(102)之構成。實施例1之附透明電極之壓電膜中包含之壓電膜13係於第1基材膜11(聚對苯二甲酸乙二酯膜)之表面首先形成未圖示之易接著層,其次塗佈偏二氟乙烯與三氟乙烯之共聚物(二元系共聚物)之溶液所製作而成。第1基材膜11(聚對苯二甲酸乙二酯膜)之厚度為23 μm。 製作具有壓電性之塗層12時,首先,將偏二氟乙烯與三氟乙烯之共聚物(二元系共聚物)藉由超音波溶解於常溫之甲基乙基酮中,製作出偏二氟乙烯與三氟乙烯之共聚物(二元系共聚物)之溶液。偏二氟乙烯與三氟乙烯之共聚物(二元系共聚物)中所含有之偏二氟乙烯與三氟乙烯之莫耳比為75/25。 其次,將偏二氟乙烯與三氟乙烯之共聚物(二元系共聚物)之溶液藉由棒式塗佈機塗佈於第1基材膜11(聚對苯二甲酸乙二酯膜)之表面。其次,將第1基材膜11(聚對苯二甲酸乙二酯膜)及未乾燥之塗層以60℃、5分鐘之乾燥條件加以乾燥,而獲得具有壓電性之塗層12。乾燥後之具有壓電性之塗層12之厚度為5 μm。 [透明電極] 將積層有具有壓電性之塗層12之第1基材膜11(聚對苯二甲酸乙二酯膜)安置於濺鍍裝置,藉由濺鍍法,將厚度為25 nm、由銦錫氧化物(ITO)構成之第1透明電極14成膜於具有壓電性之塗層12之表面。此時,設定氬氣:氧氣之壓力比為99:1且總氣壓為0.3 Pa之濺鍍環境,通入電力密度為1.0 W/cm2 之電力,對由10重量%之氧化錫與90重量%之氧化銦之燒結體構成之銦錫氧化物靶進行濺鍍,而成膜第1透明電極14。 其次,於第1基材膜11(聚對苯二甲酸乙二酯膜)之表面,以與第1透明電極14相同之成膜條件成膜第2透明電極15。以此方式製作出附透明電極之壓電膜。於該階段,第1透明電極14及第2透明電極15為非晶質。 [透明電極之結晶化] 對於第1透明電極14及第2透明電極15為非晶質之附透明電極之壓電膜利用加熱烘箱內以80℃加熱12小時,進行第1透明電極14及第2透明電極15之結晶化處理,而獲得第1透明電極14及第2透明電極15為結晶質之附透明電極之壓電膜。結晶化後之第1透明電極14及第2透明電極15之表面電阻值分別為150 Ω/□。 [實施例2] 實施例2之附透明電極之壓電膜包含本發明之附透明電極之壓電膜的第1例(101)之構成。實施例2之附透明電極之壓電膜中包含之壓電膜13係以與實施例1之附透明電極之壓電膜中包含之壓電膜13相同之方式製作而成。實施例2之附透明電極之壓電膜中包含之第1透明電極14係以與實施例1之附透明電極之壓電膜中包含之第1透明電極14相同之方式成膜,並實施至將第1透明電極14結晶化之步驟為止。 [實施例3] 實施例3之附透明電極之壓電膜包含本發明之附透明電極之壓電膜的第23例(123)之構成。實施例3之附透明電極之壓電膜中包含之壓電膜13係以與實施例1之附透明電極之壓電膜中包含之壓電膜13相同之方式製作而成。實施例3之附透明電極之壓電膜中包含之第1透明電極14係以與實施例1之附透明電極之壓電膜中包含之第1透明電極14相同之方式成膜,並實施至將第1透明電極14結晶化之步驟為止。 [實施例4] 實施例4之附透明電極之壓電膜包含本發明之附透明電極之壓電膜的第2例(102)之構成。實施例4之附透明電極之壓電膜係以除具有壓電性之塗層12之厚度為1 μm以外,其他與實施例1相同之方式製作而成。 [實施例5] 實施例5之附透明電極之壓電膜包含本發明之附透明電極之壓電膜的第2例(102)之構成。實施例5之附透明電極之壓電膜係以除具有壓電性之塗層12之厚度為10 μm以外,其他與實施例1之附透明電極之壓電膜相同之方式製作而成。 [實施例6] 實施例6之附透明電極之壓電膜包含本發明之附透明電極之壓電膜的第2例(102)之構成。實施例6之附透明電極之壓電膜係以除具有壓電性之塗層12之厚度為20 μm以外,其他與實施例1之附透明電極之壓電膜相同之方式製作而成。 [實施例7] 實施例7之附透明電極之壓電膜包含本發明之附透明電極之壓電膜的第25例(125)之構成。實施例7之附透明電極之壓電膜中包含之第1透明電極14、第1基材膜11、具有壓電性之塗層12係以與實施例1之附透明電極之壓電膜中包含之第1透明電極14、第1基材膜11、具有壓電性之塗層12相同之方式製作而成,並實施至將第1透明電極14結晶化之步驟為止。 實施例7之附透明電極之壓電膜中包含之第2透明電極15、第2基材膜17係以與實施例1之附透明電極之壓電膜中包含之第1透明電極14、第1基材膜11相同之方式製作而成,並實施至將第2透明電極15結晶化之步驟為止。 最後,使用透明黏著層21將具有壓電性之塗層12與第2透明電極15貼合並加以固定。藉此,獲得由第1透明電極14、第1基材膜11、具有壓電性之塗層12、透明黏著層21、第2透明電極15、第2基材膜17依序積層而成之、實施例7之附透明電極之壓電膜。作為透明黏著層21,使用丙烯酸系黏著劑(日東電工株式會公司製造)。 [實施例8] 實施例8之附透明電極之壓電膜包含本發明之附透明電極之壓電膜的第3例(103)之構成。實施例8之附透明電極之壓電膜中包含之第1透明電極14、具有壓電性之塗層12、第1基材膜11係以與實施例1之附透明電極之壓電膜中包含之第1透明電極14、具有壓電性之塗層12、第1基材膜11相同之方式製作而成。 實施例8之附透明電極之壓電膜中包含之第2透明電極15、第2基材膜17係以與實施例1之附透明電極之壓電膜中包含之第1透明電極14、第1基材膜11相同之方式製作而成,並實施至將第2透明電極15結晶化之步驟為止。 最後,使用透明黏著層21將第1基材膜11與第2透明電極15貼合並加以固定。藉此,獲得由第1透明電極14、具有壓電性之塗層12、第1基材膜11、透明黏著層21、第2透明電極15、第2基材膜17依序積層而成之、實施例8之附透明電極之壓電膜。作為透明黏著層21,使用丙烯酸系黏著劑(日東電工株式會公司製造)。 [實施例9] 實施例9之附透明電極之壓電膜包含本發明之附透明電極之壓電膜的第2例(102)之構成。實施例9之附透明電極之壓電膜係以除第1透明電極14及第2透明電極15未經結晶化處理故而為非晶質、及厚度分別為20 nm以外,其他與實施例1之附透明電極之壓電膜相同之方式製作而成。 [實施例10] 實施例10之附透明電極之壓電膜包含本發明之附透明電極之壓電膜的第2例(102)之構成。實施例10之附透明電極之壓電膜係以除第1透明電極14及第2透明電極15之厚度分別為40 nm以外,其他與實施例1之附透明電極之壓電膜相同之方式製作而成。 [實施例11] 實施例11之附透明電極之壓電膜包含本發明之附透明電極之壓電膜的第2例(102)之構成。實施例11之附透明電極之壓電膜係以除第1透明電極14及第2透明電極15未經結晶化處理故而為非晶質以外,其他與實施例1之附透明電極之壓電膜相同之方式製作而成。 [實施例12] 實施例12之附透明電極之壓電膜包含本發明之附透明電極之壓電膜的第2例(102)之構成。實施例12之附透明電極之壓電膜係以除具有壓電性之塗層12之材料為偏二氟乙烯與三氟乙烯及三氟氯乙烯之共聚物(三元系共聚物)以外,其他與實施例1之附透明電極之壓電膜相同之方式製作而成。 製作具有壓電性之塗層12時,首先,將偏二氟乙烯與三氟乙烯及三氟氯乙烯之共聚物(三元系共聚物)藉由超音波溶解於常溫之甲基異丁基酮中,製作出偏二氟乙烯與三氟乙烯及三氟氯乙烯之共聚物(三元系共聚物)之溶液。偏二氟乙烯與三氟乙烯及三氟氯乙烯之共聚物(三元系共聚物)中所含有之偏二氟乙烯與三氟乙烯及三氟氯乙烯之莫耳比為64.2/27.1/8.7。 其次,將偏二氟乙烯與三氟乙烯及三氟氯乙烯之共聚物(三元系共聚物)之溶液藉由棒式塗佈機塗佈於第1基材膜11(聚對苯二甲酸乙二酯膜)之表面。其次,將第1基材膜11(聚對苯二甲酸乙二酯膜)及未乾燥之塗層以60℃、5分鐘之乾燥條件加以乾燥,而獲得具有壓電性之塗層12。乾燥後之具有壓電性之塗層12之厚度為1 μm。 [實施例13] 實施例13之附透明電極之壓電膜包含本發明之附透明電極之壓電膜的第2例(102)之構成。實施例13之附透明電極之壓電膜係以除具有壓電性之塗層12之厚度為5 μm以外,其他與實施例12之附透明電極之壓電膜相同之方式製作而成。 [實施例14] 實施例14之附透明電極之壓電膜包含本發明之附透明電極之壓電膜的第2例(102)之構成。實施例14之附透明電極之壓電膜係以除具有壓電性之塗層12之厚度為10 μm以外,其他與實施例12之附透明電極之壓電膜相同之方式製作而成。 [比較例1] 比較例1之附透明電極之壓電膜包含由第1透明電極夾持偏二氟乙烯之聚合物(聚偏二氟乙烯)之獨立膜之一面,由第2透明電極夾持另一面而將其等積層之構成。偏二氟乙烯之聚合物(聚偏二氟乙烯)之膜之厚度為40 μm。厚度為40 μm之偏二氟乙烯之聚合物(聚偏二氟乙烯)之膜係以如下方式製作:將偏二氟乙烯之聚合物(聚偏二氟乙烯)藉由超音波溶解於常溫之甲基異丁基酮中,將所得之溶液以乾燥後之厚度成為40 μm之方式塗佈於聚對苯二甲酸乙二酯膜之表面,乾燥後剝去聚對苯二甲酸乙二酯膜。比較例1之附透明電極之壓電膜中包含之第1透明電極及第2透明電極係以與實施例1之附透明電極之壓電膜中包含之第1透明電極14及第2透明電極15相同之方式製作而成。 [表1] 表1中表示出本發明之壓電膜之實施例與比較例之構成、具有壓電性之層之種類及莫耳比與厚度、第1及第2透明電極之狀態(結晶性)與厚度、無透明電極時與有透明電極時之全光線透過率、有透明電極時之霧度值。於表1中,VDF表示偏二氟乙烯,TrFE表示三氟乙烯,CTFE表示三氟氯乙烯。P( )表示共聚物。因此,「P(VDF-TrFE)」係指「偏二氟乙烯與三氟乙烯之共聚物」。又,「P(VDF-TrFE-CTFE)」係指「偏二氟乙烯與三氟乙烯及三氟氯乙烯之共聚物」。PVDF係指偏二氟乙烯之聚合物(聚偏二氟乙烯)。 對實施例1與實施例2加以比較,可知:於積層有第2透明電極15之情形時,全光線透過率變小,但霧度值不變。 對實施例2與實施例3加以比較,可知:即便具有壓電性之塗層12與第1基材膜11之積層順序顛倒,全光線透過率及霧度值亦不變。 對實施例1與實施例4加以比較,可知:即便具有壓電性之塗層12之厚度變為1/5,全光線透過率及霧度值亦不變。 對實施例1與實施例5加以比較,可知:即便具有壓電性之塗層12之厚度變為2倍,全光線透過率及霧度值亦不變。 對實施例1與實施例6加以比較,可知:於具有壓電性之塗層12之厚度變為4倍之情形時,全光線透過率不變,但霧度值變大。 對實施例1與實施例7加以比較,可知:即便將透明黏著層21與第2基材膜17積層,全光線透過率及霧度值亦不變。 對實施例7與實施例8加以比較,可知:即便第1基材膜11與具有壓電性之塗層12之積層順序顛倒,全光線透過率及霧度值亦不變。 對實施例1與實施例9加以比較,可知:厚度為25 nm之結晶質之第1透明電極14及第2透明電極15相較於厚度為20 nm之非晶質之第1透明電極14及第2透明電極15,全光線透過率更高,但霧度值等同。 對實施例1與實施例10加以比較,可知:於結晶質之第1透明電極14及第2透明電極15變厚時,全光線透過率降低,但霧度值不變。 對實施例10與實施例11加以比較,可知:厚度為40 nm之結晶質之第1透明電極14及第2透明電極15與厚度為25 nm之非晶質之第1透明電極14及第2透明電極15的全光線透過率及霧度值等同。 對實施例4與實施例12加以比較,可知:於具有壓電性之塗層12之厚度較薄之情形時,具有壓電性之塗層12為偏二氟乙烯與三氟乙烯及三氟氯乙烯之共聚物(三元系共聚物)時,與其為偏二氟乙烯與三氟乙烯之共聚物(二元系共聚物)時相比,全光線透過率及霧度值等同。 對實施例1與實施例13加以比較,可知:於具有壓電性之塗層12之厚度不薄之情形時,具有壓電性之塗層12為偏二氟乙烯與三氟乙烯及三氟氯乙烯之共聚物(三元系共聚物)時,與其為偏二氟乙烯與三氟乙烯之共聚物(二元系共聚物)時相比,全光線透過率不變,但霧度值變大。 對實施例5與實施例14加以比較,可知:於具有壓電性之塗層12之厚度較厚之情形時,具有壓電性之塗層12為偏二氟乙烯與三氟乙烯及三氟氯乙烯之共聚物(三元系共聚物)時,與其為偏二氟乙烯與三氟乙烯之共聚物(二元系共聚物)時相比,全光線透過率不變,但霧度值變大。 對實施例12~實施例14加以比較,可知:具有壓電性之塗層12為偏二氟乙烯與三氟乙烯及三氟氯乙烯之共聚物(三元系共聚物)時,隨著具有壓電性之塗層12變厚,全光線透過率不變,霧度值變大。但實施例12~實施例14之全光線透過率及霧度值係無任何問題之位準。 對實施例1、實施例4、實施例5加以比較,可知:具有壓電性之塗層12為偏二氟乙烯與三氟乙烯之共聚物(二元系共聚物)時,即便具有壓電性之塗層12變厚,全光線透過率及霧度值亦不變。 對實施例1、實施例4、實施例5、實施例9~實施例11、比較例1加以比較,可知:使用偏二氟乙烯之聚合物(聚偏二氟乙烯)之獨立膜的附透明電極之壓電膜與使用具有壓電性之塗層12的附透明電極之壓電膜相比,全光線透過率為相同程度,但霧度值明顯較大。自比較例1可知:即便霧度值變大,全光線透過率亦未必降低。 [測定方法] [厚度] 未達1 μm之膜之厚度係使用穿透式電子顯微鏡(日立製作所製造之H-7650)觀察剖面而測定。超過1 μm之膜或薄膜之厚度係使用膜厚計(Peacock公司製造之數位度盤規DG-205)而測定。 [霧度值、全光線透過率] 霧度值、全光線透過率係使用直讀式霧度電腦(Direct Reading Haze Computer,Suga Test Instruments公司製造之HGM-ZDP)而測定。 [實施例15~20] 又,於圖5中,測定出具有壓電性之塗層12、光學調整層19、第1透明電極14之厚度及折射率。壓電膜13與上述實施例相同,係於PET膜塗佈有偏二氟乙烯與三氟乙烯之共聚物者。 光學調整層19如下表2所示,有折射率為1.54、1.62、1.7之情形。製造方法因折射率而異,故而針對每種折射率逐一進行說明。於折射率為1.54之情形時,在具有壓電性之塗層12之一面藉由三聚氰胺樹脂:醇酸樹脂:有機矽烷縮合物之重量比為2:2:1之熱硬化型樹脂(光之折射率n=1.54)而形成厚度為120 nm之光學調整層19。 於折射率為1.62之情形時,在具有壓電性之塗層12之一面使用凹版塗佈機塗佈含有47質量份紫外線硬化性樹脂、57質量份氧化氧化鋯粒子(中值粒徑為40 nm)及PGME(Propylene Glycol Monomethyl Ether,丙二醇單甲醚)之光學調整組成物(JSR公司製造,「Opstar Z7412」,固形物成分為12質量%),並於無風狀態(未達0.1 m/s)下立即以60℃進行1分鐘加熱乾燥。其後,藉由高壓水銀燈照射累計光量為250 mJ/cm2 之紫外線實施硬化處理。藉由該方法,將厚度為90、120、或150 nm且折射率為1.62之光學調整層19形成於具有壓電性之塗層12之上。 於折射率為1.7之情形時,製備在包含三聚氰胺樹脂、醇酸樹脂及有機矽烷縮合物之熱硬化型樹脂(以重量比計,三聚氰胺樹脂:醇酸樹脂:有機矽烷縮合物=2:2:1)中混合TiO2 (折射率=2.35)之微粒子而成之樹脂組成物。此時,以上述樹脂組成物之折射率成為1.70之方式調整TiO2 微粒子之混合量。然後,於具有壓電性之塗層12之上塗佈上述樹脂組成物,並使其硬化,而形成厚度為150 nm之光學調整層19(折射率為1.70)。 又,第1透明電極14係藉由濺鍍成膜銦錫氧化物而成。再者,雖於圖5中未加以圖示,但於第1基材膜11之與具有壓電性之塗層12相反之面形成有具有抗黏連功能之硬塗層。 將其結果示於表2中,「第1層」係具有壓電性之塗層12,「第2層」係光學調整層19,「第3層」係第1透明電極14。各實施例如上所述,具有壓電性之塗層12之厚度成為0.5~10 μm,光學調整層19之厚度成為80~160 nm,第1透明電極14之厚度成為20 nm以上。又,具有壓電性之塗層12之折射率成為1.40~1.50,光學調整層19之折射率成為1.50~1.70,第1透明電極14之折射率成為1.90~2.10。第1透明電極14與光學調整層19之反射率差為2%以下,美觀度較佳。 再者,視需要對第1透明電極14進行蝕刻使其成為所期望之電極等。獲得上述折射率時,光學調整層19之折射率係使用藉由蝕刻將第1透明電極14去掉後之部分。因此,藉由自各折射率求出空氣與第1透明電極14、空氣與光學調整層19之反射率,而求出反射率差。 [比較例2~3] 作為與實施例15~20相對之比較例,實施了無光學調整層19之情形(比較例2)及光學調整層19之折射率小於1.5之情形(比較例3)。於無光學調整層19之情形時,反射率差係第1透明電極14與具有壓電性之塗層12之差。反射率差大於2%,美觀度變差。 再者,折射率為1.46之情形時(比較例4)之光學調整層19係以如下方式製作而成:將矽溶膠(COLCOAT(股)製造,COLCOATP)以固形物成分濃度成為2%之方式藉由乙醇加以稀釋,藉由二氧化矽塗佈法將其塗佈於具有壓電性之塗層12之一面之上,其後以150℃進行2分鐘乾燥,使其硬化,形成厚度為120 nm之層(SiO2 膜,光之折射率為1.46),將其作為光學調整層19。於比較例中,其他構成之製造方法與實施例相同。 [表2] 因為於具有壓電性之塗層12之上具備第1透明電極14,故而有藉由透明電極14而呈現黃色或茶色從而有損美觀度之情形。可知:藉由如上述實施例般設置光學調整層19,並將透明電極14、光學調整層19、具有壓電性之塗層12之厚度及折射率以處於上述值之範圍內之方式加以調節,可如表2所示般縮小反射率差,而無損美觀度。可知:即便將於壓電膜13積層有光學調整層19及透明電極14之構成配置於顯示器之前表面,亦不易損害顯示器之美觀度。 [產業上之可利用性] 對於本發明之附透明電極之壓電膜之利用並不限制,其尤其合適用作觸控面板之Z座標(手指觸碰壓力)檢測用壓電膜。
101~135‧‧‧壓電膜
11‧‧‧第1基材膜
12‧‧‧具有壓電性之塗層
13‧‧‧壓電膜
14‧‧‧第1透明電極
15‧‧‧第2透明電極
17‧‧‧第2基材膜
18‧‧‧底塗層
19‧‧‧光學調整層
20‧‧‧抗黏連層
21‧‧‧透明黏著層
圖1係本發明之附透明電極之壓電膜的第1例之模式圖。 圖2係本發明之附透明電極之壓電膜的第2例之模式圖。 圖3係本發明之附透明電極之壓電膜的第3例之模式圖。 圖4係本發明之附透明電極之壓電膜的第4例之模式圖。 圖5係本發明之附透明電極之壓電膜的第5例之模式圖。 圖6係本發明之附透明電極之壓電膜的第6例之模式圖。 圖7係本發明之附透明電極之壓電膜的第7例之模式圖。 圖8係本發明之附透明電極之壓電膜的第8例之模式圖。 圖9係本發明之附透明電極之壓電膜的第9例之模式圖。 圖10係本發明之附透明電極之壓電膜的第10例之模式圖。 圖11係本發明之附透明電極之壓電膜的第11例之模式圖。 圖12係本發明之附透明電極之壓電膜的第12例之模式圖。 圖13係本發明之附透明電極之壓電膜的第13例之模式圖。 圖14係本發明之附透明電極之壓電膜的第14例之模式圖。 圖15係本發明之附透明電極之壓電膜的第15例之模式圖。 圖16係本發明之附透明電極之壓電膜的第16例之模式圖。 圖17係本發明之附透明電極之壓電膜的第17例之模式圖。 圖18係本發明之附透明電極之壓電膜的第18例之模式圖。 圖19係本發明之附透明電極之壓電膜的第19例之模式圖。 圖20係本發明之附透明電極之壓電膜的第20例之模式圖。 圖21係本發明之附透明電極之壓電膜的第21例之模式圖。 圖22係本發明之附透明電極之壓電膜的第22例之模式圖。 圖23係本發明之附透明電極之壓電膜的第23例之模式圖。 圖24係本發明之附透明電極之壓電膜的第24例之模式圖。 圖25係本發明之附透明電極之壓電膜的第25例之模式圖。 圖26係本發明之附透明電極之壓電膜的第26例之模式圖。 圖27係本發明之附透明電極之壓電膜的第27例之模式圖。 圖28係本發明之附透明電極之壓電膜的第28例之模式圖。 圖29係本發明之附透明電極之壓電膜的第29例之模式圖 圖30係本發明之附透明電極之壓電膜的第30例之模式圖。 圖31係本發明之附透明電極之壓電膜的第31例之模式圖。 圖32係本發明之附透明電極之壓電膜的第32例之模式圖。 圖33係本發明之附透明電極之壓電膜的第33例之模式圖。 圖34係本發明之附透明電極之壓電膜的第34例之模式圖。 圖35係本發明之附透明電極之壓電膜的第35例之模式圖。
101‧‧‧壓電膜
11‧‧‧第1基材膜
12‧‧‧具有壓電性之塗層
13‧‧‧壓電膜
14‧‧‧第1透明電極

Claims (31)

  1. 一種附透明電極之壓電膜,其具備: 壓電膜,其包含第1基材膜與具有壓電性之塗層之積層體;及 至少1層第1透明電極,其設於上述具有壓電性之塗層之與上述第1基材膜呈相反側之表面。
  2. 如請求項1之附透明電極之壓電膜,其中於上述第1基材膜之與上述具有壓電性之塗層呈相反側之表面具備至少1層第2透明電極。
  3. 如請求項1之附透明電極之壓電膜,其中於上述第1基材膜之與上述具有壓電性之塗層呈相反側之表面,進而具備依如下順序而設之至少1層透明黏著層、至少1層第2透明電極、及至少1層第2基材膜。
  4. 如請求項3之附透明電極之壓電膜,其中於上述第2透明電極與上述第2基材膜之間具備至少1層底塗層、光學調整層、及抗黏連層中之任一者。
  5. 如請求項1之附透明電極之壓電膜,其中於上述具有壓電性之塗層與上述第1透明電極之間具備至少1層底塗層、光學調整層、及抗黏連層中之任一者。
  6. 如請求項5之壓電膜,其中上述具有壓電性之塗層之厚度為0.5~10 μm,光學調整層之厚度為80~160 nm,第1透明電極之厚度為20 nm以上。
  7. 如請求項5之壓電膜,其中上述具有壓電性之塗層之折射率為1.40~1.50,光學調整層之折射率為1.50~1.70,第1透明電極之折射率為1.90~2.10。
  8. 如請求項1之附透明電極之壓電膜,其中於上述第1基材膜與上述具有壓電性之塗層之間具備至少1層底塗層、光學調整層、及抗黏連層中之任一者。
  9. 如請求項1之附透明電極之壓電膜,其具備至少1層抗黏連層,該抗黏連層設於上述第1基材膜或第2基材膜之與上述具有壓電性之塗層呈相反側之表面。
  10. 一種附透明電極之壓電膜,其具備: 壓電膜,其包含第1基材膜與具有壓電性之塗層之積層體;及 至少1層第1透明電極,其設於上述第1基材膜之與上述具有壓電性之塗層呈相反側之表面。
  11. 如請求項10之附透明電極之壓電膜,其中於上述具有壓電性之塗層之與上述第1基材膜呈相反側之表面具備至少1層第2透明電極。
  12. 如請求項10之附透明電極之壓電膜,其中於上述具有壓電性之塗層之與上述第1基材膜呈相反側之表面,進而具備依如下順序而設之至少1層透明黏著層、至少1層第2透明電極、及至少1層第2基材膜。
  13. 如請求項12之附透明電極之壓電膜,其中於上述第2透明電極與上述第2基材膜之間具備至少1層底塗層、光學調整層、及抗黏連層中之任一者。
  14. 如請求項10之附透明電極之壓電膜,其中於上述第1基材膜與上述具有壓電性之塗層之間具備至少1層底塗層、光學調整層、及抗黏連層中之任一者。
  15. 如請求項10之附透明電極之壓電膜,其中於上述第1基材膜與上述第1透明電極之間具備至少1層底塗層、光學調整層、及抗黏連層中之任一者。
  16. 如請求項12之附透明電極之壓電膜,其中於上述第2基材膜之與上述第2透明電極呈相反側之表面具備至少1層抗黏連層。
  17. 如請求項1之附透明電極之壓電膜,其中上述具有壓電性之塗層包含氟樹脂。
  18. 如請求項17之附透明電極之壓電膜,其中上述氟樹脂係偏二氟乙烯之聚合物、或(偏二氟乙烯、三氟乙烯、三氟氯乙烯)中之2種以上之共聚物。
  19. 如請求項18之附透明電極之壓電膜,其中上述氟樹脂係偏二氟乙烯與三氟乙烯之共聚物,且上述共聚物中所含有之上述偏二氟乙烯與上述三氟乙烯之莫耳比於整體計為100時,係為(50~85):(50~15)之範圍。
  20. 如請求項18之附透明電極之壓電膜,其中上述氟樹脂係偏二氟乙烯與三氟乙烯及三氟氯乙烯之共聚物,且上述共聚物中所含有之上述偏二氟乙烯與上述三氟乙烯及上述三氟氯乙烯之莫耳比於整體計為100時,係為(63~65):(27~29):(10~6)之範圍。
  21. 如請求項18之附透明電極之壓電膜,其中上述具有壓電性之塗層係將上述氟樹脂之溶液塗佈於上述第1基材膜並加以乾燥而獲得之塗層。
  22. 如請求項1之壓電膜,其中上述具有壓電性之塗層之厚度為0.5 μm~20 μm。
  23. 如請求項1之附透明電極之壓電膜,其中上述第1透明電極及上述第2透明電極中之任一者或兩者經過圖案化。
  24. 如請求項1之附透明電極之壓電膜,其中上述第1透明電極及上述第2透明電極中之任一者或兩者包含銦。
  25. 如請求項1之附透明電極之壓電膜,其中上述第1透明電極及上述第2透明電極中之任一者或兩者包含銦錫氧化物(Indium Tin Oxide:ITO)。
  26. 如請求項25之附透明電極之壓電膜,其中上述第1透明電極及上述第2透明電極中之任一者或兩者之厚度為15 nm~50 nm。
  27. 如請求項24之附透明電極之壓電膜,其中上述第1透明電極及上述第2透明電極中之任一者或兩者為結晶質。
  28. 如請求項1之附透明電極之壓電膜,其中上述基材膜之材料選自聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚烯烴、聚環烯烴、環烯烴共聚物、聚碳酸酯、聚醚碸、聚芳酯、聚醯亞胺、聚醯胺、聚苯乙烯、聚降冰片烯中之至少1種。
  29. 如請求項1之附透明電極之壓電膜,其霧度值為5%以下。
  30. 如請求項1之附透明電極之壓電膜,其全光線透過率為82%以上。
  31. 一種壓力感測器,其具備如請求項1之附透明電極之壓電膜。
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