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  1. 基板上に互いに離間して形成された光吸収層と、
    前記光吸収層の一と他の前記光吸収層との間に形成された隔壁層と、
    前記光吸収層及び前記隔壁層上にそれぞれ分離形成された材料層と、を有し、
    前記隔壁層は、逆テーパ形状であり、
    前記隔壁層の膜厚は、前記光吸収層の膜厚及び前記材料層の膜厚との合計よりも厚いことを特徴とする成膜用基板。
  2. 基板上に互いに離間して形成された光吸収層と、
    前記光吸収層の一と他の前記光吸収層との間に形成された隔壁層と、
    前記光吸収層及び前記隔壁層上にそれぞれ分離形成された反射層と、
    前記反射層上にそれぞれ分離形成された材料層と、を有し、
    前記隔壁層は、逆テーパ形状であり、
    前記隔壁層の膜厚は、前記光吸収層の膜厚及び前記材料層の膜厚との合計よりも厚いことを特徴とする成膜用基板。
  3. 互いに離間して形成された光吸収層と、
    前記光吸収層の一と他の前記光吸収層との間に形成された、逆テーパ形状の隔壁層と、
    前記光吸収層及び前記隔壁層上にそれぞれ分離形成された材料層と、を少なくとも有する第1の基板の一方の面と、
    第2の基板の被成膜面と、を対向させ、
    前記第1の基板の他方の面側から光を照射し、
    前記光吸収層と重なる領域の前記材料層を選択的に加熱し、
    前記光吸収層と重なる領域の材料層を前記第2の基板の被成膜面に蒸着させることを特徴とする発光装置の作製方法。
  4. 互いに離間して形成された光吸収層と、
    前記光吸収層の一と他の前記光吸収層との間に形成された、逆テーパ形状の隔壁層と、
    前記光吸収層及び前記隔壁層上にそれぞれ分離形成された反射層と、
    前記反射層を介して、前記光吸収層と前記隔壁層上にそれぞれ分離形成された材料層と、を少なくとも有する第1の基板の一方の面と、
    第2の基板の被成膜面と、を対向させ、
    前記第1の基板の他方の面側から光を照射し、
    前記光吸収層と重なる領域の前記材料層を選択的に加熱し、
    前記光吸収層と重なる領域の材料層を前記第2の基板の被成膜面に蒸着させることを特徴とする発光装置の作製方法。
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